JPH0477465B2 - - Google Patents
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- JPH0477465B2 JPH0477465B2 JP63295817A JP29581788A JPH0477465B2 JP H0477465 B2 JPH0477465 B2 JP H0477465B2 JP 63295817 A JP63295817 A JP 63295817A JP 29581788 A JP29581788 A JP 29581788A JP H0477465 B2 JPH0477465 B2 JP H0477465B2
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- JP
- Japan
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- wafer
- wafers
- wafer cassette
- imaging
- absence
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Links
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- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 8
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 8
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
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- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はウエハー搬送・処理装置に関し、特に
ウエハーカセツトに収納されたウエハーの有検出
及び位置決めを正確に行い、しかも真空処理室や
プロセス処理室でウエハーの有無検出及び位置決
をするのに適したウエハー搬送・処理装置に関す
るものである。
ウエハーカセツトに収納されたウエハーの有検出
及び位置決めを正確に行い、しかも真空処理室や
プロセス処理室でウエハーの有無検出及び位置決
をするのに適したウエハー搬送・処理装置に関す
るものである。
従来、半導体集積回路製造工程において、ウエ
ハーはウエハーカセツトに収納され、各工程間で
受け渡される。ウエハー処理が真空処理室やプロ
セス処理室内で行われる場合には、真空あるいは
ガス等の環境に光センサや光源が適応せず破損す
るので、真空処理室やプロセス処理室の両側にビ
ユーポイント（のぞき穴）を設け、該室外から該
ビユーポイントを通して光源と光検出器を対向し
てもうけ、ウエハーによる光源光の遮断を検出し
てウエハーの有無を検出している。
ハーはウエハーカセツトに収納され、各工程間で
受け渡される。ウエハー処理が真空処理室やプロ
セス処理室内で行われる場合には、真空あるいは
ガス等の環境に光センサや光源が適応せず破損す
るので、真空処理室やプロセス処理室の両側にビ
ユーポイント（のぞき穴）を設け、該室外から該
ビユーポイントを通して光源と光検出器を対向し
てもうけ、ウエハーによる光源光の遮断を検出し
てウエハーの有無を検出している。
または、ウエハーのプロセス処理工程前に、光
源と光検出器とを対向して設けウエハーをエレベ
ータに乗せウエハー毎に該エレベータを上下さ
せ、ウエハーによる光源光の遮断を光検出器で検
出している。
源と光検出器とを対向して設けウエハーをエレベ
ータに乗せウエハー毎に該エレベータを上下さ
せ、ウエハーによる光源光の遮断を光検出器で検
出している。
また、ウエハーのプロセス処理工程前にはウエ
ハーの正確な位置決めが行われている。即ち、第
１１図に示す様にウエハーの位置決め位置の周囲
にピン１〜７を中心から等距離に配置し、該位置
にウエハーが搬送されるとウエハー９を回転させ
ながら該ピン１〜７を内方に移動させウエハー９
のオリエンテーシヨンフラツト１０前に設けられ
たピン１および２を微調整して該オリエンテーシ
ヨンフラツト１０を所定位置にピン１及び２で係
止し、ウエハー９の位置決めを行つている。
ハーの正確な位置決めが行われている。即ち、第
１１図に示す様にウエハーの位置決め位置の周囲
にピン１〜７を中心から等距離に配置し、該位置
にウエハーが搬送されるとウエハー９を回転させ
ながら該ピン１〜７を内方に移動させウエハー９
のオリエンテーシヨンフラツト１０前に設けられ
たピン１および２を微調整して該オリエンテーシ
ヨンフラツト１０を所定位置にピン１及び２で係
止し、ウエハー９の位置決めを行つている。
しかし、前者の場合には、光源光が該処理室内
で減衰したり、拡散したりして正確な検出ができ
ない欠点がある。
で減衰したり、拡散したりして正確な検出ができ
ない欠点がある。
また、後者の場合には処理工程内ではウエハー
の検出が行われずウエハーの処理工程に不備が生
じ、更にエレベータが必要なため装置が大型化す
る等の欠点がある。
の検出が行われずウエハーの処理工程に不備が生
じ、更にエレベータが必要なため装置が大型化す
る等の欠点がある。
また、上述の位置決め方法ではウエハーが破損
したり、ゴミが付着する欠点がある。
したり、ゴミが付着する欠点がある。
本発明はこの点を改良するもので、全ウエハー
の有無を同時に検出することができ、エレベータ
を必要とせず装置が大型化せず、しかも真空室や
ガス室におけるウエハー検出にも適したウエハー
搬送・処理装置を提供することを目的とする。
の有無を同時に検出することができ、エレベータ
を必要とせず装置が大型化せず、しかも真空室や
ガス室におけるウエハー検出にも適したウエハー
搬送・処理装置を提供することを目的とする。
本発明はカメラをウエハーカセツトに対向して
配置し、更にスリツト光源によりウエハーカセツ
ト内のウエハーにスリツト光を照射するように構
成した。
配置し、更にスリツト光源によりウエハーカセツ
ト内のウエハーにスリツト光を照射するように構
成した。
従つて、ウエハーカセツト内のウエハーからの
反射光がカメラで撮像され、この撮像画像から全
てのウエハーについて瞬時にウエハーの有無が判
別される。
反射光がカメラで撮像され、この撮像画像から全
てのウエハーについて瞬時にウエハーの有無が判
別される。
本発明の一実施例を図面の基づいて説明する。
第１図は本発明一実施例の配置の該略を説明す
るための平面図を示し、第２図は本発明一実施例
の配置の該略を説明するための側面図を示す。
るための平面図を示し、第２図は本発明一実施例
の配置の該略を説明するための側面図を示す。
即ち、第１図及び第２図において、処理前のウ
エハーが収納されたウエハーカセツト２１に対向
する位置にカメラ２２が配置され、処理後のウエ
ハーが収納されるべきウエハーカセツト２３の位
置に対向する位置にカメラ２４が配置される。ま
た、２５はウエハーを位置決めするためのセツタ
ーを示し、このセツター２５の上にはカメラ２６
が配置されている。また、２７はウエハーの処理
室を示し、２８および２９はそれぞれウエハー搬
送機構（ロボツトで構成される）を示す。また、
図中、３０はウエハーを示す。
エハーが収納されたウエハーカセツト２１に対向
する位置にカメラ２２が配置され、処理後のウエ
ハーが収納されるべきウエハーカセツト２３の位
置に対向する位置にカメラ２４が配置される。ま
た、２５はウエハーを位置決めするためのセツタ
ーを示し、このセツター２５の上にはカメラ２６
が配置されている。また、２７はウエハーの処理
室を示し、２８および２９はそれぞれウエハー搬
送機構（ロボツトで構成される）を示す。また、
図中、３０はウエハーを示す。
第３図は本発明一実施例のブロツク図を示す。
第３図で第１図および第２図と同一の符号はそれ
ぞれ第１図および第２図と同一のものを示す。第
３図において、前記カメラ２２および２４の出力
は座標演算回路３５に接続され、この座標演算回
路３５の出力はウエハー有無判別回路３６に接続
され、このウエハー有無判別回路３６の出力は記
憶回路３７に接続されている。この記憶回路３７
は制御回路３８と接続されている。また、前記カ
メラ２６の出力は座標演算回路３９に接続され、
この座標演算回路３９の出力は比較・補償回路４
０に接続されている。また、この比較・補償回路
４０には前記記憶回路３７の出力が接続されてい
る。また、この比較・補償回路４０の出力は位置
決め回路４１に接続され、この位置決め回路４１
の出力は前記セツター２５に接続されたセツター
駆動回路４２に接続され、このセツター駆動回路
４２は前記ウエハー搬送機構２９に接続されてい
る。このウエハー搬送機構２９と前記ウエハー搬
送機構２８は前記制御回路３８にそれぞれ接続さ
れている。
第３図で第１図および第２図と同一の符号はそれ
ぞれ第１図および第２図と同一のものを示す。第
３図において、前記カメラ２２および２４の出力
は座標演算回路３５に接続され、この座標演算回
路３５の出力はウエハー有無判別回路３６に接続
され、このウエハー有無判別回路３６の出力は記
憶回路３７に接続されている。この記憶回路３７
は制御回路３８と接続されている。また、前記カ
メラ２６の出力は座標演算回路３９に接続され、
この座標演算回路３９の出力は比較・補償回路４
０に接続されている。また、この比較・補償回路
４０には前記記憶回路３７の出力が接続されてい
る。また、この比較・補償回路４０の出力は位置
決め回路４１に接続され、この位置決め回路４１
の出力は前記セツター２５に接続されたセツター
駆動回路４２に接続され、このセツター駆動回路
４２は前記ウエハー搬送機構２９に接続されてい
る。このウエハー搬送機構２９と前記ウエハー搬
送機構２８は前記制御回路３８にそれぞれ接続さ
れている。
第４図は本発明一実施例にフローチヤートを示
す。
す。
この様に構成した本発明一実施例の特徴ある動
作を説明する。ウエハーカセツト２１の各スロツ
ト内には処理前のウエハーが複数枚収納されてお
り、この収納状態がカメラ（CCDカメラが適す
る）２２を用いて撮像される（第４図のブロツク
５０、以下単に「ブロツク」と言う）。この撮像
動作を第５図を用いて説明する。
作を説明する。ウエハーカセツト２１の各スロツ
ト内には処理前のウエハーが複数枚収納されてお
り、この収納状態がカメラ（CCDカメラが適す
る）２２を用いて撮像される（第４図のブロツク
５０、以下単に「ブロツク」と言う）。この撮像
動作を第５図を用いて説明する。
第５図はカメラ２２、ウエハーカセツト２１お
よびスリツト光源４３の配置を示す詳細図であ
る。カメラ２２の光軸がウエハーカセツト２１の
高さ方向の中間で且つウエハー３０にほぼ平行と
なる様にカメラ２２が配置される。スリツト光源
４３は照射方向がカメラ光軸と浅い角度で交差す
る様にカメラ２２の真上または真下に配置され
る。ウエハー３０の端部はウエハー下面から上面
への滑らかな曲面で形成されているので、スリツ
ト光源４３からの光はウエーハーカセツト２１内
に格納された全ての各ウエーハー３０に同時に照
射され、各々のウエーハー３０の端面のスリツト
光があたる点で反射し、カメラ２２には第６図に
示す様な全ての各ウエーハー３０からの反射光の
画像が撮像される。
よびスリツト光源４３の配置を示す詳細図であ
る。カメラ２２の光軸がウエハーカセツト２１の
高さ方向の中間で且つウエハー３０にほぼ平行と
なる様にカメラ２２が配置される。スリツト光源
４３は照射方向がカメラ光軸と浅い角度で交差す
る様にカメラ２２の真上または真下に配置され
る。ウエハー３０の端部はウエハー下面から上面
への滑らかな曲面で形成されているので、スリツ
ト光源４３からの光はウエーハーカセツト２１内
に格納された全ての各ウエーハー３０に同時に照
射され、各々のウエーハー３０の端面のスリツト
光があたる点で反射し、カメラ２２には第６図に
示す様な全ての各ウエーハー３０からの反射光の
画像が撮像される。
ここで、上述の如く光源にスリツト光源を用い
てウエハー端面の曲面にスリツト光を照射するの
で、カメラ２２には反射光が第６図に黒点（最も
明るい点を示す）で示す様にほぼ点状態で撮像さ
れる。また、ウエハー３０が収納されていない所
は反射光は無く第６図に示す様にウエハーの反射
光は撮像されない。
てウエハー端面の曲面にスリツト光を照射するの
で、カメラ２２には反射光が第６図に黒点（最も
明るい点を示す）で示す様にほぼ点状態で撮像さ
れる。また、ウエハー３０が収納されていない所
は反射光は無く第６図に示す様にウエハーの反射
光は撮像されない。
この撮像画像は座標演算回路３５に出力され、
座標演算回路３５でロボツトで構成されるウエハ
ー搬送機構２８がウエハーカセツト２１内のウエ
ハー３０を取り出すのに必要とされる移動座標が
各ウエハー３０毎に演算され、各ウエハー毎に該
演算座標値が付されたテーブルが形成される（ブ
ロツク５２）。ウエハー有無判別回路３６は前記
テーブルを読出し、ウエハーの座標値の有無によ
りウエハーの有無を判別し、座標値があればウエ
ハー有りと判別し（ブロツク５３のyes、５４）、
座標値が無ければ所定回数だけブロツク５０〜５
５を繰り返しこの後にウエハー無しを判別する
（ブロツク５３のno、５６）。また、このテーブ
ルは記憶回路３７に記憶される。
座標演算回路３５でロボツトで構成されるウエハ
ー搬送機構２８がウエハーカセツト２１内のウエ
ハー３０を取り出すのに必要とされる移動座標が
各ウエハー３０毎に演算され、各ウエハー毎に該
演算座標値が付されたテーブルが形成される（ブ
ロツク５２）。ウエハー有無判別回路３６は前記
テーブルを読出し、ウエハーの座標値の有無によ
りウエハーの有無を判別し、座標値があればウエ
ハー有りと判別し（ブロツク５３のyes、５４）、
座標値が無ければ所定回数だけブロツク５０〜５
５を繰り返しこの後にウエハー無しを判別する
（ブロツク５３のno、５６）。また、このテーブ
ルは記憶回路３７に記憶される。
ウエハーカセツト２１内のウエハー３０の収納
状態、即ちウエハーの有無が検出されると、ウエ
ハー３０が一枚づつウエハー位置決めの為にセツ
ター２５上に搬送される（ブロツク５８，５９）。
即ち、制御回路３８は前記座標値に基づいてウエ
ハー搬送機構２８がウエハーカセツト２１内に存
在するウエハー３０だけを直接アクセスし、セツ
ター２５上に搬送する様に制御する。
状態、即ちウエハーの有無が検出されると、ウエ
ハー３０が一枚づつウエハー位置決めの為にセツ
ター２５上に搬送される（ブロツク５８，５９）。
即ち、制御回路３８は前記座標値に基づいてウエ
ハー搬送機構２８がウエハーカセツト２１内に存
在するウエハー３０だけを直接アクセスし、セツ
ター２５上に搬送する様に制御する。
ウエハー３０がセツター２５上に置かれると、
カメラ２６がウエハー３０を撮像し、この撮像画
像は座標演算回路３９に送られ、座標演算回路３
９はこのウエハー３０の撮像画像から得られた座
標系からウエハー３０の中心o′、ロリエンテーシ
ヨンフラツト４４の両端のα′およびβ′の座標値を
演算する（ブロツク６０）。
カメラ２６がウエハー３０を撮像し、この撮像画
像は座標演算回路３９に送られ、座標演算回路３
９はこのウエハー３０の撮像画像から得られた座
標系からウエハー３０の中心o′、ロリエンテーシ
ヨンフラツト４４の両端のα′およびβ′の座標値を
演算する（ブロツク６０）。
即ち、第７図に示すようなカメラ２６からの撮
像画像が座標演算回路３９に入力され、座標演算
回路３９は撮像画像の座標系３４に基づいてこの
ウエハー撮像画像３３の中心o′、オリエンテーシ
ヨンフラツト４４の両端α′β′の座標値を演算す
る。ここで、第７図はウエハーのオリエンテーシ
ヨンフラツト４４が右に変位してセツター２５上
に置かれた例である。
像画像が座標演算回路３９に入力され、座標演算
回路３９は撮像画像の座標系３４に基づいてこの
ウエハー撮像画像３３の中心o′、オリエンテーシ
ヨンフラツト４４の両端α′β′の座標値を演算す
る。ここで、第７図はウエハーのオリエンテーシ
ヨンフラツト４４が右に変位してセツター２５上
に置かれた例である。
この座標値は比較・補償回路４０に送られ、前
記記憶回路３７に予め記憶されたウエハー位置決
め位置データと比較され補償され（ブロツク６
１，６２）る。位置決め回路４１はこの補償デー
タによりウエハー３０の位置決めを行う（ブロツ
ク６３）。
記記憶回路３７に予め記憶されたウエハー位置決
め位置データと比較され補償され（ブロツク６
１，６２）る。位置決め回路４１はこの補償デー
タによりウエハー３０の位置決めを行う（ブロツ
ク６３）。
この動作を第７図および第８図を用いて詳しく
説明する。第７図と第８図において同一の符号は
それぞれ同一のものを示す。第８図はウエハーの
位置決め位置を示すものであり、第８図中に実線
でウエハーの位置決め位置を示すウエハー基準位
置３１が示されている。このウエハー基準位置３
１は基準座標系３２で決定されており、前記記憶
回路３７にはウエハー基準位置３１の中心Ｏ、オ
リエンテーシヨンフラツト４４の両端α，βの基
準座標系における座標値が予め記憶されている。
前記比較・補償回路４０は入力された前記ウエハ
ー撮像画像３３の中心o′、オリエンテーシヨンフ
ラツト４４の両端α′β′の座標値を前記基準座標系
３２の座標値に変換する。これにより第８図に概
念的に示す様に前記ウエハー撮像画像３３の中心
o′はウエハー基準位置３１の中心Ｏと一致する。
この状態で、比較・補償回路４０はウエハー基準
位置３１のαとウエハー撮像画像のα′の差及びウ
エハー基準位置３１のβとウエハー撮像画像の
β′との差を演算し、このデータに基づいてセツタ
ー２５のウエハー回転角度Θを演算する。また、
比較・補償回路４０はウエハー基準位置３１のα
からのウエハー撮像画像のα′の変位方向により前
記回転角度Θの回転方向を決定する。第８図の場
合は、ウエハーのオリエンテーシヨンフラツト４
４が右方向に（第２象限）変位しており、前記回
転方向は右方向と決定される。また、この回転方
向の決定はウエハー基準位置３１のβとウエハー
撮像画像のβ′を用いても行える事は明らかであ
る。
説明する。第７図と第８図において同一の符号は
それぞれ同一のものを示す。第８図はウエハーの
位置決め位置を示すものであり、第８図中に実線
でウエハーの位置決め位置を示すウエハー基準位
置３１が示されている。このウエハー基準位置３
１は基準座標系３２で決定されており、前記記憶
回路３７にはウエハー基準位置３１の中心Ｏ、オ
リエンテーシヨンフラツト４４の両端α，βの基
準座標系における座標値が予め記憶されている。
前記比較・補償回路４０は入力された前記ウエハ
ー撮像画像３３の中心o′、オリエンテーシヨンフ
ラツト４４の両端α′β′の座標値を前記基準座標系
３２の座標値に変換する。これにより第８図に概
念的に示す様に前記ウエハー撮像画像３３の中心
o′はウエハー基準位置３１の中心Ｏと一致する。
この状態で、比較・補償回路４０はウエハー基準
位置３１のαとウエハー撮像画像のα′の差及びウ
エハー基準位置３１のβとウエハー撮像画像の
β′との差を演算し、このデータに基づいてセツタ
ー２５のウエハー回転角度Θを演算する。また、
比較・補償回路４０はウエハー基準位置３１のα
からのウエハー撮像画像のα′の変位方向により前
記回転角度Θの回転方向を決定する。第８図の場
合は、ウエハーのオリエンテーシヨンフラツト４
４が右方向に（第２象限）変位しており、前記回
転方向は右方向と決定される。また、この回転方
向の決定はウエハー基準位置３１のβとウエハー
撮像画像のβ′を用いても行える事は明らかであ
る。
第９図及び第１０図をウエハーがセツター２５
上に左方向に変位して置かれた例を示すもので、
第７図及び第８図と同一の符号は第７図及び第８
図とそれぞれ同一のものを示す。この場合も上述
の動作で回転角度Θと回転方向が決定されるが、
第８図の場合、ウエハーのオリエンテーシヨンフ
ラツト４４が左方向に（第４象限）変位してお
り、前記回転方向は左方向と決定される。
上に左方向に変位して置かれた例を示すもので、
第７図及び第８図と同一の符号は第７図及び第８
図とそれぞれ同一のものを示す。この場合も上述
の動作で回転角度Θと回転方向が決定されるが、
第８図の場合、ウエハーのオリエンテーシヨンフ
ラツト４４が左方向に（第４象限）変位してお
り、前記回転方向は左方向と決定される。
このウエハーを基準位置に位置決めする為の補
償データは位置決め回路４１に入力される。位置
決め回路４１はこのデータの基づいてセツター駆
動回路４２を駆動させ、セツター２５を回転角度
Θだけ前記回転方向に回転させ、ウエハーが基準
位置に位置決めされる（ブロツク６３）。
償データは位置決め回路４１に入力される。位置
決め回路４１はこのデータの基づいてセツター駆
動回路４２を駆動させ、セツター２５を回転角度
Θだけ前記回転方向に回転させ、ウエハーが基準
位置に位置決めされる（ブロツク６３）。
ウエハーが位置決めされると、ウエハー搬送機
構２９が動作し、位置決めされたウエハーをウエ
ハー処理室２７へ搬送する（ブロツク６４）。ウ
エハー処理室２７内でウエハーに必要な処理が施
され（ブロツク６５）、ウエハーへの処理が終了
するとウエハー搬送機構２９によりウエハーがウ
エハー処理室２７から処理済ウエハーを収納する
ウエハーカセツト２３へ搬送される（ブロツク６
６）。
構２９が動作し、位置決めされたウエハーをウエ
ハー処理室２７へ搬送する（ブロツク６４）。ウ
エハー処理室２７内でウエハーに必要な処理が施
され（ブロツク６５）、ウエハーへの処理が終了
するとウエハー搬送機構２９によりウエハーがウ
エハー処理室２７から処理済ウエハーを収納する
ウエハーカセツト２３へ搬送される（ブロツク６
６）。
この時、ウエハーカセツト２３内の空き状態が
カメラ２４により上述したウエハー有無検出動作
で説明したと同様な動作で検出され、ウエハーカ
セツト２３内の空きスロツトに収納される（ブロ
ツク６７）。また、ウエハーカセツト２３に収納
された処理済ウエハーが最後のウエハーかが判別
され、最後のウエハーでなければ上記ブロツク５
８にリタンして上述の動作が繰り返され、最後の
ウエハーであれば動作は終了する（ブロツク６
８） 〔効果〕 以上説明したように本発明によれば、ウエハー
カセツト内のウエハー有無検出をカメラの撮像画
像を用いて行う様に構成したので、ホトセンサー
やホトダイードを使用する必要が無く、ウエハー
の有無を全てのウエハーについて瞬時に行うこと
ができ、しかもエレベータ等を使用する必要が無
く装置を小型化することができ、更に、真空処理
室やプロセス処理室等でのウエハー有無検出にお
いても正確な検出を行うことができる等の優れた
効果を有する。
カメラ２４により上述したウエハー有無検出動作
で説明したと同様な動作で検出され、ウエハーカ
セツト２３内の空きスロツトに収納される（ブロ
ツク６７）。また、ウエハーカセツト２３に収納
された処理済ウエハーが最後のウエハーかが判別
され、最後のウエハーでなければ上記ブロツク５
８にリタンして上述の動作が繰り返され、最後の
ウエハーであれば動作は終了する（ブロツク６
８） 〔効果〕 以上説明したように本発明によれば、ウエハー
カセツト内のウエハー有無検出をカメラの撮像画
像を用いて行う様に構成したので、ホトセンサー
やホトダイードを使用する必要が無く、ウエハー
の有無を全てのウエハーについて瞬時に行うこと
ができ、しかもエレベータ等を使用する必要が無
く装置を小型化することができ、更に、真空処理
室やプロセス処理室等でのウエハー有無検出にお
いても正確な検出を行うことができる等の優れた
効果を有する。
第１図は本発明一実施例の配置状態の概略を示
す平面図。第２図は本一実施例の配置状態の概略
を示す側面図。第３図は本発明一実施例のブロツ
ク図。第４図ａおよび第４図ｂは本発明一実施例
のフローチヤート。第５図は撮像状態の説明図。
第６図は撮像画像の説明図。第７図および第９図
はセツター上のウエハーの撮像画像の説明図。第
８図および第１０図はウエハーの位置決めの説明
図。第１１図はウエハー位置決めの従来装置の説
明図。 ２１，２３……ウエハーカセツト、２２，２４
……カメラ、２５……セツター、２７……ウエハ
ー処理室、２８，２９……ウエハー搬送機構、３
０……ウエハー、３１……基準位置、３２……基
準座標系、３３……ウエハー撮像画像、３４……
撮像画像の座標系、３５，３９……座標演算回
路、３６……ウエハー有無判別回路、３７……記
憶回路、３８……制御回路、４０……比較・補償
回路、４１……位置決め回路、４２……セツター
駆動回路、４３……スリツト光源、４４……オリ
エンテーシヨンフラツト、４５……記憶回路。
す平面図。第２図は本一実施例の配置状態の概略
を示す側面図。第３図は本発明一実施例のブロツ
ク図。第４図ａおよび第４図ｂは本発明一実施例
のフローチヤート。第５図は撮像状態の説明図。
第６図は撮像画像の説明図。第７図および第９図
はセツター上のウエハーの撮像画像の説明図。第
８図および第１０図はウエハーの位置決めの説明
図。第１１図はウエハー位置決めの従来装置の説
明図。 ２１，２３……ウエハーカセツト、２２，２４
……カメラ、２５……セツター、２７……ウエハ
ー処理室、２８，２９……ウエハー搬送機構、３
０……ウエハー、３１……基準位置、３２……基
準座標系、３３……ウエハー撮像画像、３４……
撮像画像の座標系、３５，３９……座標演算回
路、３６……ウエハー有無判別回路、３７……記
憶回路、３８……制御回路、４０……比較・補償
回路、４１……位置決め回路、４２……セツター
駆動回路、４３……スリツト光源、４４……オリ
エンテーシヨンフラツト、４５……記憶回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ウエハーが収納されたウエハーカセツトと、 前記ウエハーカセツト内の全ての各々の前記ウ
エハーの端面部に同時に光を照射するための前記
ウエハーに対向して配置されたスリツト光源と、 前記ウエハーカセツト内の全ての前記各々のウ
エハーからの前記照射光に対する反射光を撮像す
るために前記ウエハーカセツトに対向して配置さ
れた撮像手段と、 前記撮像された各々の撮像画像データと前記ウ
エハーカセツト内の前記各々のウエハーの格納位
置とを対応させる手段と、 前記対応させる手段からの対応データと前記
各々の撮像データとに基づいて前記ウエハーカセ
ツト内の前記各々のウエハーの有無を判別する手
段と を備えたことを特徴とするウエハーの有無・傾き
判別装置。 ２ ウエハーが収納されたウエハーカセツトと、 前記ウエハーカセツト内の全ての各々の前記ウ
エハーの端面部に同時に光を照射するための前記
ウエハーに対向して配置されたスリツト光源と、 前記ウエハーカセツト内の全ての前記各々のウ
エハーからの前記照射光に対する反射光を撮像す
るために前記ウエハーカセツトに対向して配置さ
れた撮像手段と、 前記撮像された各々の撮像画像データと前記ウ
エハーカセツト内の前記各々のウエハーの格納位
置とを対応させる手段と、 前記対応させる手段からの対応データと前記
各々の撮像データとに基づいて前記ウエハーカセ
ツト内の前記各々のウエハーの傾きを判別する手
段と を備えたことを特徴とするウエハーの有無・傾き
判別装置。 ３ ウエハーが収納されたウエハーカセツトと、 前記ウエハーカセツト内の全ての各々の前記ウ
エハーの端面部に同時に光を照射するための前記
ウエハーに対向して配置されたスリツト光源と、 前記ウエハーカセツト内の全ての前記各々のウ
エハーからの前記照射光に対する反射光を撮像す
るために前記ウエハーカセツトに対向して配置さ
れた撮像手段と、 前記撮像された各々の撮像画像データと前記ウ
エハーカセツト内の前記各々のウエハーの格納位
置とを対応させる手段と、 前記対応させる手段からの対応データと前記
各々の撮像データとに基づいて前記ウエハーカセ
ツト内の前記各々のウエハーの傾きと有無とを判
別する手段と を備えたことを特徴とするウエハーの有無・傾き
判別装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63295817A JPH02142157A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | ウェハーの有無・傾き判別装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63295817A JPH02142157A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | ウェハーの有無・傾き判別装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2299678A Division JPH03163847A (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | ウェハーの位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02142157A JPH02142157A (ja) | 1990-05-31 |
| JPH0477465B2 true JPH0477465B2 (ja) | 1992-12-08 |
Family
ID=17825551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63295817A Granted JPH02142157A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | ウェハーの有無・傾き判別装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02142157A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5225691A (en) * | 1992-05-18 | 1993-07-06 | Avalon Engineering, Inc. | Semiconductor wafer cassette mapper with emitter and detector arrays for slot interrogation |
| US6636626B1 (en) | 1999-11-30 | 2003-10-21 | Wafermasters, Inc. | Wafer mapping apparatus and method |
| WO2003100725A1 (en) * | 2000-12-01 | 2003-12-04 | Wafermasters, Incorporated | Wafer mapping apparatus and method |
| JP4632590B2 (ja) * | 2001-08-30 | 2011-02-16 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板搬送システム及び基板処理装置 |
| JP7346839B2 (ja) * | 2019-02-15 | 2023-09-20 | Tdk株式会社 | ロードポート |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57109352A (en) * | 1980-12-26 | 1982-07-07 | Toshiba Corp | Position sensing apparatus |
| JPS59175740A (ja) * | 1983-03-25 | 1984-10-04 | Telmec Co Ltd | ウエハ検出装置 |
| JPS60157230A (ja) * | 1984-01-11 | 1985-08-17 | Telmec Co Ltd | 半導体ウエハ搬送方法 |
| JPS60257121A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-18 | Fujitsu Ltd | 半導体ウエハ検知方法 |
| JPS6171383A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-12 | Canon Inc | ウエハ位置検出装置 |
-
1988
- 1988-11-22 JP JP63295817A patent/JPH02142157A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57109352A (en) * | 1980-12-26 | 1982-07-07 | Toshiba Corp | Position sensing apparatus |
| JPS59175740A (ja) * | 1983-03-25 | 1984-10-04 | Telmec Co Ltd | ウエハ検出装置 |
| JPS60157230A (ja) * | 1984-01-11 | 1985-08-17 | Telmec Co Ltd | 半導体ウエハ搬送方法 |
| JPS60257121A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-18 | Fujitsu Ltd | 半導体ウエハ検知方法 |
| JPS6171383A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-12 | Canon Inc | ウエハ位置検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02142157A (ja) | 1990-05-31 |
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