JPH0214116B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は、食品、医薬品等の製造に使用する無
菌水の製造装置の殺菌方法に関する。 食品や医薬品等の製造に使用する水は、微粒子
数、イオン濃度、有機物量等に関しては、電子工
業で使用する超純水に比べて、それ程厳しい水質
は要求されないが、菌に関しては無菌であること
が望まれている。特に、医薬品工場で使用される
注射用蒸留水は、菌のほか、パイロジエン（発熱
性物質）も含んではならないと日本薬局方で定め
られている。 無菌水は、通常、蒸溜法で製造されているが、
蒸溜法ではエネルギー消費量が大きいばかりでな
く、飛沫や泡沫が水蒸気中に含まれることにより
蒸溜水が汚染される可能性があつた。そのため、
最近、膜分離法が用いられているようになつてき
ており、一般的には市水を活性炭及びイオン交換
樹脂に通水し、有機物及び各種イオンを除去した
後、貯水し、更にカートリツジフイルタ及び限外
過膜（UF）を通し、生菌やパイロジエンを除
去する方法で製造されるようになつた。 従来の技術 前記のような、活性炭吸着塔、イオン交換樹脂
塔、貯水槽、カートリツジフイルタ及び限外過
膜から成る無菌水製造装置を用いる場合には、維
持管理時の汚染やユースポイントからの二次汚染
が生じない限り、無菌水を得ることができるが、
安全のため、定期的に貯水槽及びそれ以降の装置
80〜90℃の温水で滅菌しているのが現状である。
一般の細菌は、この条件で殺菌することができる
が、胞子形成菌は残存し、冷却後、再び繁殖する
ことが考えられる。 そのため、100℃以上の過熱蒸気で滅菌する方
法やオゾンによる滅菌方法が検討されている。し
かしながら、このような滅菌方法では蒸気発生装
置やオゾナイザーが必要となり、設備が大型化す
るという欠点があつた。また、薬注による殺菌方
法として、塩素、界面活性剤、酸、アルカリ剤等
を用いる方法があるが、殺菌後、これらの殺菌剤
が用水中に混入しないように完全に除去する必要
があり、洗浄水を多量に使用しなければならない
という欠点があつた。 更に、過酸化水素水を殺菌剤として用いること
が知られている。 発明が解決しようとする問題点 過酸化水素は、H₂OとO₂に分解するので、特
に有害物が残存することはないが、常温での過酸
化水素では殺菌力が弱く、完全殺菌を行うには、
不充分であり、また、試薬中には安定剤が含まれ
ているので、加温しても充分に分解することがで
きなかつた。 また、貯水槽以降のカートリツジフイルタ、限
外過膜、ユースポイント及び配管については、
従来前記のような殺菌が行われたが、市水中の有
機物や塩素を除去する活性炭吸着塔については、
菌の温床となつているにもかかわらず、殺菌は現
在行われておらず、装置内の菌の発生源となつて
いる。 従つて、本発明は、前記従来技術の欠点を解消
し、多大な設備を付加することなく、過酸化水素
で効率よく、無菌水製造装置を殺菌することがで
き、残存過酸化水素を完全に分解することができ
る方法を提供することを目的とする。 問題点を解決するための手段 本発明による無菌水製造装置の殺菌方法は、80
℃以上の温水中に0.5重量％以上の過酸化水素を
含む溶液を通過させることにより機器及び配管内
を殺菌し、通過した過酸化水素溶液を冷却した
後、活性炭と接触させて溶液中に残存する過酸化
水素を分解させ、更に紫外線を照射して過酸化水
素を分解除去することを特徴とする。 効果的に殺菌を行うのに適当な過酸化水素の濃
度と温度を検討するため、種々の過酸化水素濃度
及び温度で殺菌実験を行い、殺菌した水をメンプ
ランフイルターで過し、水１ml中の菌数を数え
た。その結果を下記の第１表に示す。

【表】 単位：個／ml
この表から明らかなとおり、過酸化水素濃度を
0.5重量％以上、好ましくは1.0重量％とし、温度
を80℃以上にすることにより効果的に殺菌を行う
ことができる。 次に、図面に基づいて本発明を詳述する。 第１図は、本発明の一実施態様を示すフローシ
ートである。無菌水を製造する場合には、市水を
活性炭吸着塔１に通し、有機物、塩素等を除去し
た後、イオン交換塔２で脱塩し、紫外線殺菌装置
３を有する貯水槽４に貯留する。この貯留水をカ
ートリツジフイルタ５に通水し、粒子を除去した
後、限外過モジユール６で更に小さな粒子、
菌、パイロジエン等を除去する。こうして得られ
る水は無菌であり、用水としてユースポイントか
ら取り出し、利用することができる。 この無菌水製造装置を殺菌する場合には、貯水
槽内の水をヒータ９で80℃以上に加温し、過酸化
水素貯槽８から過酸化水素溶液を貯水槽４へ導入
し、貯水槽４内で混合し、過酸化水素濃度を0.5
重量％以上にした後、カートリツジフイルタ５、
限外過モジユール６へと導通し、再び管路１
０，１１を経て、貯水槽４に戻す。この方法で機
器及び配管を30分〜２時間程度殺菌した後、上記
と同一の経路によつて循環させ、水を熱交換器７
で冷却した後、管路１２を経て活性炭吸着塔１へ
導き、残存する過酸化水素を分解させる。活性炭
吸着塔１内は一部、市水中の塩素で殺菌されてい
るが、菌の増殖を防止できず、菌の温床となつて
いるので、初期の活性炭吸着塔通水液は、管路１
３から排液する。通常、SV5〜10の流速で、10〜
20分排液した後、通水液をすべて管路１４，１１
を経て貯水槽４に導入し、紫外線を照射すること
により、なお残存する過酸化水素を分解する。紫
外線は、過酸化水素の分解時に照射するだけでな
く、常時貯水槽内殺菌用として設け、照射してお
くのが好ましい。 SV10の条件で通水した活性炭吸着塔における
過酸化水素の分解率を測定し、結果を第２図に示
す。この図から明らかとなつており、活性炭だけ
では過酸化水素の分解は完全でない。 従つて、本発明においては、更に紫外線照射に
より過酸化水素を分解する。紫外線の照射線量と
過酸化水素の分解率との関係を調べ、結果を第３
図に示す。第３図から明らかなとおり、紫外線照
射により、残存過酸化水素はほとんど完全に分解
される。 更に、活性炭吸着塔と貯水槽との間にカートリ
ツジフイルタを設け、活性炭吸着塔からの微粒子
を除去するのが好ましい。 作 用 本発明方法においては、過酸化水素と温水との
相乗効果により効率よく殺菌が行われ、装置内を
無菌状態にすることができる。活性炭は残存する
過酸化水素を分解する作用を有する。また紫外線
は過酸化水素を分解する作用及び殺菌作用を示
す。 実施例 次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 実施例 １ 第１図に示した無菌水製造装置に市水を滅菌せ
ずに約２週間通水し、ユースポイントでの分析で
細菌が２個／ml、真菌が３個／mlになつたとき、
殺菌を本発明方法、過熱蒸気殺菌法、オゾン殺菌
法によりそれぞれ行つた。なお、殺菌後の菌の分
析を、メンブランフイルタで行つた。その結果、
第２表に示すように、本発明方法において過酸化
水素濃度を0.5％まで高めると、過熱蒸気法と同
等以上の効果が達成された。 オゾン殺菌の場合にも、過酸化水素と同様に加
温した場合に、酸化促進による相乗効果が考えら
れるが、溶解度が小さくなるため、加温との併用
は困難である。 なお、本発明方法において残存する過酸化水素
の濃度は、分解後、ユースポイントで0.1〜1.0
mg／であり、本発明方法の有効性が明らかにな
つた。

【表】 発明の効果 本発明は、多大な設備を付加することなく、効
果的に殺菌を行うことができ、少ないエネルギー
で殺菌率を向上させることができ、更に活性炭吸
着塔内も殺菌することができる。また、本発明方
法によれば、殺菌処理後に過酸化水素がほとんど
残存しない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施態様を示すフローシー
ト、第２図は過酸化水素の濃度と分解率との関係
図、第３図は紫外線照射線量と過酸化水素の分解
率との関係図である。 １……活性炭吸着塔、２……イオン交換樹脂
塔、３……紫外線殺菌装置、４……貯水槽、５…
…カートリツジフイルタ、６……限外過モジユ
ール、８……過酸化水素貯槽。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 80℃以上の温水中に0.5重量％以上の過酸化
   水素を含む溶液を通過させることにより機器及び
   配管内を殺菌し、通過した過酸化水素溶液を冷却
   した後、活性炭と接触させて溶液中に残存する過
   酸化水素を分解させ、更に紫外線を照射して過酸
   化水素を分解除去することを特徴とする無菌水製
   造装置の殺菌方法。 ２ 活性炭吸着塔、イオン交換樹脂塔、貯水槽、
   カートリツジフイルタ及び限外過膜から成る無
   菌水製造装置を殺菌するため、貯水槽に80℃以上
   の温水中に0.5重量％以上の過酸化水素を含む溶
   液を満たして貯水槽を殺菌した後、過酸化水素溶
   液をカートリツジフイルタ及び限外過膜に順次
   通過させ、冷却後、活性炭充填塔に通水し、初期
   通水液を排液した後、再び貯水槽に導入し、ここ
   で紫外線を照射する特許請求の範囲第１項記載の
   殺菌方法。