JP7340039B2 - 工業用プラントの冷却回路中の有機成分を分解するための方法、及び工業的プラントのための冷却回路 - Google Patents
工業用プラントの冷却回路中の有機成分を分解するための方法、及び工業的プラントのための冷却回路 Download PDFInfo
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Description
冷却回路中にバクテリアを添加するステップ、但し、前記バクテリアは、冷却回路中に存在する有機成分を分解するのに適したものである、及び
冷却回路の冷却塔中に発生したエアロゾルを殺菌するステップ、
を含む方法によって解決される。
工業用プラントへの熱工学的結合、及び
冷却回路中の冷媒を冷却するための冷却塔、
を含む、工業用プラント、特に冶金工業用のプラントのための冷却回路であって、
前記冷却回路が、有機成分を分解するためのバクテリアを含み、及び前記冷却塔が、冷却塔中に生じるエアロゾルの殺菌のための装置を有することを特徴とする前記冷却塔によって解決される。
本願は特許請求の範囲に記載の発明に係るものであるが、本願の開示は以下も包含する:
1. 工業用プラント(2)、特に冶金工業のプラントの冷却回路(1)中の有機成分を分解する方法であって、次のステップ:
冷却回路(1)中にバクテリアを添加するステップ、但し、前記バクテリアは、冷却回路(1)中に存在する有機成分を分解するのに適したものである、及び
冷却回路(1)の冷却塔(4)中に発生したエアロゾルを殺菌するステップ、
を含む、前記方法。
2. 前記殺菌が、局所的に作用する化学的殺菌剤の添加を含む、前記1.に記載の方法。
3. 冷却塔の通過の後に、冷媒回路(1)から過剰の化学的殺菌剤を除去するステップを含む、前記2.に記載の方法。
4. 冷却塔(4)中に発生したエアロゾルの加熱及び殺菌のために、≧70℃の温度を有する蒸気を冷却回路(1)の冷却塔(4)中に通すステップを含む、前記1.に記載の方法。
5. 異なる環境要求、特に嫌気性、無酸素性及び/または好気性要求を有するバクテリアを冷却回路(1)に加える、前記1.~4.のいずれか一つに記載の方法。
6. 栄養素、特に添加されたバクテリアのための栄養素を、冷却回路(1)に加えるステップを更に含む、前記1.~5.のいずれか一つに記載の方法。
7. 添加されるバクテリアと、添加される栄養素との間の比率を経時的に適応させるステップ、特に該方法の使用時間にわたっての、添加されるバクテリアの減少、及び添加される栄養素の増加を含む、前記6.に記載の方法。
8. バクテリア及び/または殺菌剤を添加するステップが、規則的または非規則的な間隔で繰り返される、前記1.~7.のいずれか一つに記載の方法。
9. 繰り返しの間隔を、該方法の使用時間の経過とともに長くする、前記5.に記載の方法。
10. 冷却回路(1)からサンプルを採取し、そしてレジオネラ属菌の濃度を決定するステップを含む、前記1.~9.のいずれか一つに記載の方法。
11. サンプルの採取が定期的にまたは不定期的に繰り返され、この際、サンプルの各採取間の間隔は、好ましくは、該方法の使用時間の経過にともなって長くする、前記10.に記載の方法。
12. 冬季に開始される、前記1.~11.のいずれか一つに記載の方法。
13. バクテリア及び/または栄養素がグラニュールの形態で提供され、この際、グラニュールは、冷却回路(1)に添加する前に、水中に溶解する、前記1.~12.のいずれか一つに記載の方法。
14. グラニュールが、凍結乾燥されたバクテリアを含む、前記13.に記載の方法。
15. 工業用プラント(2)への熱工学的結合部(3)、及び
冷却回路(1)中の冷媒(8)を冷却するための冷却塔(4)、
を含む、工業用プラント(2)、特に冶金工業のプラントのための冷却回路(1)であって、
前記冷却回路(1)が、有機成分を分解するためのバクテリアを含み、及び
前記冷却塔(4)が、冷却塔(4)中に生じるエアロゾルの殺菌のための装置を有する、ことを特徴とする前記冷却回路(1)。
16. 冷却塔(4)中に生じたエアロゾルの殺菌のための装置が、化学的殺菌剤のための分配装置として構成される、前記15.に記載の冷却回路(1)。
17. 過剰の化学的殺菌剤を除去するための装置が、冷却回路(1)中に、冷却塔通過後に配置される、前記16.に記載の冷却回路(1)。
18. 冷却塔(4)中に生じるエアロゾルの殺菌のための装置が、≧70℃の温度を有する蒸気を発生するための蒸気発生ユニット(9)として構成される、前記15.に記載の冷却回路(1)。
19. 冷却回路(1)にバクテリア及び/または栄養素を供給するための少なくとも一つの計量供給装置(10)を更に含む、前記1.~18.のいずれか一つに記載の冷却回路(1)。
20. 沈降槽(5)、清澄槽(6)及び/またはフィルター(7)を更に含む、前記1.~19.のいずれか一つに記載の冷却回路(1)。
21. 前記1.~14.のいずれか一つに記載の方法を実施するように冷却回路(1)が構成されている、前記15.~20.のいずれか一つに記載の冷却回路(1)。
2.工業用プラント
3.熱結合部
4.冷却塔
5.沈降槽
6.清澄槽
7.フィルター
8.冷媒
9.蒸気発生装置
10.計量供給装置
11.堆積物
Claims (27)
- 工業用プラント(2)の冷却回路(1)中の有機成分を分解する方法であって、次のステップ:
冷却回路(1)中にバクテリアを添加するステップ、但し、前記バクテリアは、冷却回路(1)中に存在する有機成分を分解するのに適したものである、及び
冷却回路(1)の冷却塔(4)中に発生したエアロゾルを殺菌するステップ、
を含む、前記方法。 - 前記殺菌が、局所的に作用する化学的殺菌剤の添加を含む、請求項1に記載の方法。
- 冷却塔の通過の後に、冷媒回路(1)から過剰の化学的殺菌剤を除去するステップを含む、請求項2に記載の方法。
- 冷却塔(4)中に発生したエアロゾルの加熱及び殺菌のために、≧70℃の温度を有する蒸気を冷却回路(1)の冷却塔(4)中に通すステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 異なる環境要求を有するバクテリアを冷却回路(1)に加える、請求項1~4のいずれか一つに記載の方法。
- 嫌気性、無酸素性及び/または好気性環境要求を有するバクテリアを冷却回路(1)に加える、請求項1~4のいずれか一つに記載の方法。
- 栄養素を、冷却回路(1)に加えるステップを更に含む、請求項1~6のいずれか一つに記載の方法。
- 添加されたバクテリアのための栄養素を、冷却回路(1)に加えるステップを更に含む、請求項1~6のいずれか一つに記載の方法。
- 添加されるバクテリアと、添加される栄養素との間の比率を経時的に適応させるステップを含む、請求項7または8に記載の方法。
- 該方法の使用時間にわたっての、添加されるバクテリアの減少、及び添加される栄養素の増加を含む、請求項7または8に記載の方法。
- バクテリア及び/または殺菌剤を添加するステップが、規則的または非規則的な間隔で繰り返される、請求項1~10のいずれか一つに記載の方法。
- 繰り返しの間隔を、該方法の使用時間の経過とともに長くする、請求項5または6に記載の方法。
- 冷却回路(1)からサンプルを採取し、そしてレジオネラ属菌の濃度を決定するステップを含む、請求項1~12のいずれか一つに記載の方法。
- サンプルの採取が定期的にまたは不定期的に繰り返される、請求項13に記載の方法。
- サンプルの各採取間の間隔は、該方法の使用時間の経過にともなって長くする、請求項14に記載の方法。
- 冬季に開始される、請求項1~15のいずれか一つに記載の方法。
- バクテリア及び/または栄養素がグラニュールの形態で提供され、この際、グラニュールは、冷却回路(1)に添加する前に、水中に溶解する、請求項1~16のいずれか一つに記載の方法。
- グラニュールが、凍結乾燥されたバクテリアを含む、請求項17に記載の方法。
- 工業用プラント(2)が冶金工業のプラントである、請求項1~18のいずれか一つに記載の方法。
- 工業用プラント(2)への熱工学的結合部(3)、及び
冷却回路(1)中の冷媒(8)を冷却するための冷却塔(4)、
を含む、工業用プラント(2)のための冷却回路(1)であって、
前記冷却回路(1)が、有機成分を分解するためのバクテリアを含み、及び
前記冷却塔(4)が、冷却塔(4)中に生じるエアロゾルの殺菌のための装置を有する、ことを特徴とする前記冷却回路(1)。 - 冷却塔(4)中に生じたエアロゾルの殺菌のための装置が、化学的殺菌剤のための分配装置として構成される、請求項20に記載の冷却回路(1)。
- 過剰の化学的殺菌剤を除去するための装置が、冷却回路(1)中に、冷却塔通過後に配置される、請求項21に記載の冷却回路(1)。
- 冷却塔(4)中に生じるエアロゾルの殺菌のための装置が、≧70℃の温度を有する蒸気を発生するための蒸気発生ユニット(9)として構成される、請求項20に記載の冷却回路(1)。
- 冷却回路(1)にバクテリア及び/または栄養素を供給するための少なくとも一つの計量供給装置(10)を更に含む、請求項1~23のいずれか一つに記載の冷却回路(1)。
- 沈降槽(5)、清澄槽(6)及び/またはフィルター(7)を更に含む、請求項1~24のいずれか一つに記載の冷却回路(1)。
- 請求項1~19のいずれか一つに記載の方法を実施するように冷却回路(1)が構成されている、請求項20~25のいずれか一つに記載の冷却回路(1)。
- 工業用プラント(2)が冶金工業のプラントである、請求項20~26のいずれか一つ記載の冷却回路(1)。
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