JP2727008B2 - 静菌化水の製造方法 - Google Patents
静菌化水の製造方法Info
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- JP2727008B2 JP2727008B2 JP1023542A JP2354289A JP2727008B2 JP 2727008 B2 JP2727008 B2 JP 2727008B2 JP 1023542 A JP1023542 A JP 1023542A JP 2354289 A JP2354289 A JP 2354289A JP 2727008 B2 JP2727008 B2 JP 2727008B2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、各種保存水中の微生物の繁殖を阻止でき
るようにした静菌化水の製造方法に関する。この発明の
実施により製造された水の用途としては、スプレー式の
化粧水、密封容器入りの飲用保存水等を挙げることがで
きる。
るようにした静菌化水の製造方法に関する。この発明の
実施により製造された水の用途としては、スプレー式の
化粧水、密封容器入りの飲用保存水等を挙げることがで
きる。
［従来の技術］ 従来天然のミネラルウォーターあるいは人工的な純水
を内容物とする容器入りの水スプレーが例えば化粧水と
して市販されている。これらは一般的には噴射剤（プロ
ペラント）として窒素が用いられることが多く、また、
この種の製品は内容物の純粋性が要求されるため、内容
物の水に対し防腐剤あるいは殺菌剤を残留させたり混入
することを避けるのが普通である。いっぽう、その水質
は長期間に亘って安定していなければならず、特に、微
生物による汚染、微生物の繁殖による水質の劣化を防止
しなければならない。
を内容物とする容器入りの水スプレーが例えば化粧水と
して市販されている。これらは一般的には噴射剤（プロ
ペラント）として窒素が用いられることが多く、また、
この種の製品は内容物の純粋性が要求されるため、内容
物の水に対し防腐剤あるいは殺菌剤を残留させたり混入
することを避けるのが普通である。いっぽう、その水質
は長期間に亘って安定していなければならず、特に、微
生物による汚染、微生物の繁殖による水質の劣化を防止
しなければならない。
このような状況下に、従来の密封容器入りの化粧水に
おいては、次に示すような微生物の汚染対策が採られて
いる。
おいては、次に示すような微生物の汚染対策が採られて
いる。
ア．原料水については、加熱殺菌、紫外線殺菌、薬剤殺
菌、フィルターによる殺菌等を行う。
菌、フィルターによる殺菌等を行う。
イ．容器については、加熱殺菌、紫外線殺菌、薬剤殺
菌、各種の洗浄を行う。
菌、各種の洗浄を行う。
ウ．内容物の充填、噴射剤（プロペラント）の充填等の
工程において、無菌的な操作を行うが、その場を無菌的
環境として、微生物による二次的な汚染を防ぐ。
工程において、無菌的な操作を行うが、その場を無菌的
環境として、微生物による二次的な汚染を防ぐ。
エ．内容物及び噴射剤を容器に封入した製品を容器ごと
再度加熱殺菌を行う。
再度加熱殺菌を行う。
しかしながら、前述の汚染対策によれば、次に示すよ
うな問題点もあり、決め手となるような微生物の汚染対
策は確立されていない。
うな問題点もあり、決め手となるような微生物の汚染対
策は確立されていない。
カ．薬剤処理は、製品中に薬剤が混入したり残留したり
する恐れがある。
する恐れがある。
キ．製造工程の無菌化は、設備費用並びに操業費用が非
常に高くなり、経済的に不利であり、かつ、完全な無菌
化は達成しがたい。
常に高くなり、経済的に不利であり、かつ、完全な無菌
化は達成しがたい。
ク．製品の容器全体としての加熱殺菌は、スプレー商品
のように容器の一部にゴム、プラスチック等の高分子材
料が使用されている場合、加熱により内容物に対し有機
物が溶出し、異臭、変色、変質等の問題発生の原因とな
る。
のように容器の一部にゴム、プラスチック等の高分子材
料が使用されている場合、加熱により内容物に対し有機
物が溶出し、異臭、変色、変質等の問題発生の原因とな
る。
［発明が解決しようとする課題］ この発明の静菌化水の製造方法は、上述の問題点を悉
く排除し、製品の水質を長期間に亘って良好に保持でき
るようにすることを目的として提案されたものである。
く排除し、製品の水質を長期間に亘って良好に保持でき
るようにすることを目的として提案されたものである。
［課題を解決するための手段］ この発明の静菌化水の製造方法は、原料水を85℃以上
で30分以上加熱し、除菌フィルター装置を通過させた
後、その原料水を密封容器内で加圧下酸素又は酸素と不
活性ガスとの混合ガスに接触させ、水中に酸素分を20pp
m以上溶存させその溶存状態を保持させるようにしたこ
とを特徴とするものである。また、第２の発明は、前記
第１の発明において、原料水を85℃以上で30分以上加熱
した後、その原料水を50℃以下に冷却することを特徴と
する。
で30分以上加熱し、除菌フィルター装置を通過させた
後、その原料水を密封容器内で加圧下酸素又は酸素と不
活性ガスとの混合ガスに接触させ、水中に酸素分を20pp
m以上溶存させその溶存状態を保持させるようにしたこ
とを特徴とするものである。また、第２の発明は、前記
第１の発明において、原料水を85℃以上で30分以上加熱
した後、その原料水を50℃以下に冷却することを特徴と
する。
以下図面に示す実施例に基づいてこの発明を説明す
る。図面はスプレー式化粧水の製造工程を示している。
る。図面はスプレー式化粧水の製造工程を示している。
１は原料水のタンクを兼ねる加熱槽、1aは加熱槽１内
に設けられたスチームの導通管である。天然のミネラル
ウォーター、水の純化装置で製造された純水その他の原
料水は、加熱槽１内で85℃以上で30分以上加熱殺菌され
る。
に設けられたスチームの導通管である。天然のミネラル
ウォーター、水の純化装置で製造された純水その他の原
料水は、加熱槽１内で85℃以上で30分以上加熱殺菌され
る。
加熱殺菌後の原料水は、必要に応じて設けられるポン
プ２並びに冷却槽３を経て、除菌フィルター装置４に送
給される。前記のポンプ２は、後の工程で圧力が必要な
場合に設けられるもので、ここで原料水が適当に加圧さ
れる。また、冷却槽３では、加熱された原料水を50℃以
下の適当な温度に冷却する。3aは冷却槽３内に設けた冷
却水の導通管である。冷却槽３は、原料水を高温のまま
で密封容器に注入すると、密封容器自体から有害な有機
物が溶出することがあるために、その溶出を防ぐ目的で
設けたものである。すなわち、製造の対象がスプレー商
品のように密封容器の一部又は全部がゴム、プラスチッ
ク等の高分子材料で作られている場合、内容物である原
料水が50℃を越える高温であると、有機物が溶出するこ
とがあり、前記の冷却槽３の設置は、その溶出を防止す
ることを目的としている。従って、容器から有機物の溶
出の恐れがない場合には、冷却槽３は必ずしも設けるこ
とを要しない。
プ２並びに冷却槽３を経て、除菌フィルター装置４に送
給される。前記のポンプ２は、後の工程で圧力が必要な
場合に設けられるもので、ここで原料水が適当に加圧さ
れる。また、冷却槽３では、加熱された原料水を50℃以
下の適当な温度に冷却する。3aは冷却槽３内に設けた冷
却水の導通管である。冷却槽３は、原料水を高温のまま
で密封容器に注入すると、密封容器自体から有害な有機
物が溶出することがあるために、その溶出を防ぐ目的で
設けたものである。すなわち、製造の対象がスプレー商
品のように密封容器の一部又は全部がゴム、プラスチッ
ク等の高分子材料で作られている場合、内容物である原
料水が50℃を越える高温であると、有機物が溶出するこ
とがあり、前記の冷却槽３の設置は、その溶出を防止す
ることを目的としている。従って、容器から有機物の溶
出の恐れがない場合には、冷却槽３は必ずしも設けるこ
とを要しない。
除菌フィルター装置４では、例えば0.1〜0.2mμのフ
ィルターを用いかなり微細の雑菌類又は有機物等の固形
物を除去する。
ィルターを用いかなり微細の雑菌類又は有機物等の固形
物を除去する。
５は液充填機で、除菌フィルター装置４通過後の原料
水を容器に充填する。次いでバルブクリンパー６で前記
容器に対しバルブを装着し、更に、ガス充填機７でその
容器に酸素又は酸素と不活性ガスとの混合ガスを加圧状
態で充填し、製品としての静菌化水に形成する。前記の
不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、炭素ガス等を使
用することができる。製品の密封容器内では、水と酸素
又は酸素を含む混合ガスとは接触状態にあるものとし、
該容器内の圧力は、酸素分の圧力が常温で0.5atm以上と
なるようにする。換言すれば、製品水の溶存酸素濃度が
20ppm以上となるように、酸素又は酸素を含む混合ガス
を加圧下に充填することになる。なお、製品がスプレー
式化粧水である場合、前記の酸素又は酸素を含む混合ガ
スは、噴射剤（プロペラント）として作用する。従っ
て、スプレー式化粧水において噴射剤としても作用する
気相は、可及的内容物の全量を使用することができるよ
うに、換言すれば、使用の最終段階においても十分な圧
力が保持できるように、安全基準の35℃で8kg/cm2Ｇ以
下で可及的高圧とすることが望ましい。
水を容器に充填する。次いでバルブクリンパー６で前記
容器に対しバルブを装着し、更に、ガス充填機７でその
容器に酸素又は酸素と不活性ガスとの混合ガスを加圧状
態で充填し、製品としての静菌化水に形成する。前記の
不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、炭素ガス等を使
用することができる。製品の密封容器内では、水と酸素
又は酸素を含む混合ガスとは接触状態にあるものとし、
該容器内の圧力は、酸素分の圧力が常温で0.5atm以上と
なるようにする。換言すれば、製品水の溶存酸素濃度が
20ppm以上となるように、酸素又は酸素を含む混合ガス
を加圧下に充填することになる。なお、製品がスプレー
式化粧水である場合、前記の酸素又は酸素を含む混合ガ
スは、噴射剤（プロペラント）として作用する。従っ
て、スプレー式化粧水において噴射剤としても作用する
気相は、可及的内容物の全量を使用することができるよ
うに、換言すれば、使用の最終段階においても十分な圧
力が保持できるように、安全基準の35℃で8kg/cm2Ｇ以
下で可及的高圧とすることが望ましい。
図示の製造工程によれば、製品の製造開始前に加熱槽
１の温度を95℃程度とし、高温加熱された原料水を液充
填機６に至るまでの配管並びに機器類に予め流通させる
ことにより、その配管系の一切を加熱殺菌させ得る利点
がある。
１の温度を95℃程度とし、高温加熱された原料水を液充
填機６に至るまでの配管並びに機器類に予め流通させる
ことにより、その配管系の一切を加熱殺菌させ得る利点
がある。
［作用］ 以上の製造方法で製造した静菌化水を２週間35℃で保
管後、日本薬局法常水基準で一般細菌、大腸菌群を検査
した結果によれば、一般細菌については30/ml以下（検
出限界以下）で、大腸菌群は陰性であった。
管後、日本薬局法常水基準で一般細菌、大腸菌群を検査
した結果によれば、一般細菌については30/ml以下（検
出限界以下）で、大腸菌群は陰性であった。
また、保管期間を室温（約５℃〜35℃）で１年とした
製品について前記と同様に分析した結果によれば、前記
同様一般細菌30/ml以下で、大腸菌は陰性であった。
製品について前記と同様に分析した結果によれば、前記
同様一般細菌30/ml以下で、大腸菌は陰性であった。
更に、溶存酸素の殺菌作用又は静菌作用に関し、一般
細菌で汚染させたミネラルウォーター（一般細菌2.9×1
05/ml）を試料水とし、また、その試料水に接触させる
気体の種類並びに圧力を変えて試験した結果を次表に示
した。
細菌で汚染させたミネラルウォーター（一般細菌2.9×1
05/ml）を試料水とし、また、その試料水に接触させる
気体の種類並びに圧力を変えて試験した結果を次表に示
した。
［発明の効果］ 以上に説明したこの発明の製造方法によれば、前述の
試験結果に示されている通り、微生物による汚染を確実
に阻止でき、長期に亘り良質な状態を保持できる水を提
供するところとし、また、その製造においては特別な設
備を要しない上、製造コストも低廉であるなどの効果を
奏する。
試験結果に示されている通り、微生物による汚染を確実
に阻止でき、長期に亘り良質な状態を保持できる水を提
供するところとし、また、その製造においては特別な設
備を要しない上、製造コストも低廉であるなどの効果を
奏する。
なお、気相に炭酸ガスを混入させたものは、酸素のみ
ではなく、炭酸ガス自体も殺菌作用並びに静菌作用を呈
するので、製品の化粧水又は保存水等について、微生物
による汚染を阻止するに更に効果的である。
ではなく、炭酸ガス自体も殺菌作用並びに静菌作用を呈
するので、製品の化粧水又は保存水等について、微生物
による汚染を阻止するに更に効果的である。
図面はこの発明の静菌化水の製造方法の実施例における
製造工程である。 １……加熱槽、２……ポンプ、３……冷却槽、４……除
菌フィルター装置、５……液充填機、６……バルブクリ
ンパー、７……ガス充填機
製造工程である。 １……加熱槽、２……ポンプ、３……冷却槽、４……除
菌フィルター装置、５……液充填機、６……バルブクリ
ンパー、７……ガス充填機
Claims (2)
- 【請求項１】原料水を85℃以上で30分以上加熱し、除菌
フィルター装置を通過させた後、その原料水を密封容器
内で加圧下酸素又は酸素と不活性ガスとの混合ガスに接
触させ、水中に酸素分を20ppm以上溶存させその溶存状
態を保持させるようにしたことを特徴とする静菌化水の
製造方法。 - 【請求項２】原料水を85℃以上で30分以上加熱した後、
その原料水を50℃以下に冷却することを特徴とする請求
項１記載の静菌化水の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1023542A JP2727008B2 (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 静菌化水の製造方法 |
| EP90402184A EP0469211B1 (en) | 1989-02-01 | 1990-07-30 | Bacteriostatic water and method for producing the same |
| US07/560,044 US5139676A (en) | 1989-02-01 | 1990-07-30 | Bacteriostatic water and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1023542A JP2727008B2 (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 静菌化水の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02203982A JPH02203982A (ja) | 1990-08-13 |
| JP2727008B2 true JP2727008B2 (ja) | 1998-03-11 |
Family
ID=12113358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1023542A Expired - Lifetime JP2727008B2 (ja) | 1989-02-01 | 1989-02-01 | 静菌化水の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5139676A (ja) |
| EP (1) | EP0469211B1 (ja) |
| JP (1) | JP2727008B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2727008B2 (ja) * | 1989-02-01 | 1998-03-11 | 日本酸素株式会社 | 静菌化水の製造方法 |
| JPH0479994U (ja) * | 1990-11-22 | 1992-07-13 | ||
| JP3387526B2 (ja) * | 1992-07-24 | 2003-03-17 | サントリー株式会社 | 飲料水のディスペンサ |
| AU4914793A (en) * | 1992-10-20 | 1994-05-05 | Australian Warm Water Systems Pty. Ltd. | Water treatment apparatus |
| DE4339494A1 (de) * | 1993-11-19 | 1995-05-24 | Tegut Theo Gutberlet Stiftung | Verfahren zum Genießbar- und/oder Haltbarmachen einer Fl}ssigkeit |
| US5628897A (en) * | 1995-07-21 | 1997-05-13 | Phelan; John J. | Heated filter chamber with supporting collection chamber |
| FI103106B (fi) * | 1997-11-12 | 1999-04-30 | Steris Europe Inc | Menetelmä ja laite puhtaan veden tuottamiseksi |
| US6514406B1 (en) | 2000-10-24 | 2003-02-04 | James E. Katehis | Water treatment apparatus |
| US7179418B2 (en) * | 2001-06-13 | 2007-02-20 | Quikwater, Inc. | Device and method for minimizing pathogens in heated water |
| DE10342449A1 (de) * | 2003-09-13 | 2005-04-07 | Beiersdorf Ag | Verwendung von Sauerstoff in kosmetischen oder dermatologischen Zubereitungen |
| US20070166344A1 (en) * | 2006-01-18 | 2007-07-19 | Xin Qu | Non-leaching surface-active film compositions for microbial adhesion prevention |
| CA2759251C (en) | 2009-04-23 | 2017-01-03 | Concert Pharmaceuticals, Inc. | 4-hydroxybutyric acid analogs |
| ES2804540T3 (es) * | 2011-02-14 | 2021-02-08 | Concert Pharmaceuticals Inc | Análogos deuterados de ácido 4hidroxibutírico |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3843521A (en) * | 1972-08-14 | 1974-10-22 | Inca One Corp | Domestic water purification method and system |
| JPS6161689A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-29 | Hitachi Ltd | 純水製造装置 |
| JPH0714511B2 (ja) * | 1984-10-27 | 1995-02-22 | 株式会社東芝 | 半導体製造ライン用純水製造装置 |
| DE3603900A1 (de) * | 1985-02-13 | 1986-08-21 | Mitsubishi Denki K.K., Tokio/Tokyo | Trinkwasserreinigungseinrichtung |
| EP0254519A3 (en) * | 1986-07-19 | 1988-05-25 | Nitta Gelatin Inc. | Method for preparation of ultrapurified water |
| JP2727008B2 (ja) * | 1989-02-01 | 1998-03-11 | 日本酸素株式会社 | 静菌化水の製造方法 |
-
1989
- 1989-02-01 JP JP1023542A patent/JP2727008B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-07-30 EP EP90402184A patent/EP0469211B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-30 US US07/560,044 patent/US5139676A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02203982A (ja) | 1990-08-13 |
| EP0469211A1 (en) | 1992-02-05 |
| EP0469211B1 (en) | 1994-03-16 |
| US5139676A (en) | 1992-08-18 |
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