JPH0212636B2 - - Google Patents
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- JPH0212636B2 JPH0212636B2 JP16320784A JP16320784A JPH0212636B2 JP H0212636 B2 JPH0212636 B2 JP H0212636B2 JP 16320784 A JP16320784 A JP 16320784A JP 16320784 A JP16320784 A JP 16320784A JP H0212636 B2 JPH0212636 B2 JP H0212636B2
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- ion exchange
- exchange resin
- water
- pressure
- sterilization
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Landscapes
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する分野〕
この発明は、イオン交換樹脂塔の殺菌装置に関
する。
する。
イオン交換樹脂塔は、純水など脱塩水の製造に
使われる。近年、半導体製造や、医薬品製造用に
超純水や無菌水が使用され、特に、非再生型のイ
オン交換樹脂塔は、その製造設備に欠かせないも
のとなつている。一般に、イオン交換樹脂塔は再
生時に酸やアルカリを使用するため、これらの薬
剤による殺菌は可能であるが、非再生型のイオン
交換樹脂塔は、イオン負荷量の少ない純水に対し
て使用するため1年以上の長きにわたつて再生を
行わない場合が多い。そのため、イオン交換樹脂
塔内部で菌が繁殖し、長時間の使用により増殖し
た菌がイオン交換処理水中に流出し、処理水中の
生菌数が被処理水中の菌濃度よりも高くなる。こ
の処理水中の生菌は、製品の性能や品質に影響す
るので、限外過膜などのフイルタで除菌してい
るが、この生菌は、フイルタの抵抗物となるた
め、フイルタの寿命を縮め、フイルタの交換頻度
が増加することとなる。
使われる。近年、半導体製造や、医薬品製造用に
超純水や無菌水が使用され、特に、非再生型のイ
オン交換樹脂塔は、その製造設備に欠かせないも
のとなつている。一般に、イオン交換樹脂塔は再
生時に酸やアルカリを使用するため、これらの薬
剤による殺菌は可能であるが、非再生型のイオン
交換樹脂塔は、イオン負荷量の少ない純水に対し
て使用するため1年以上の長きにわたつて再生を
行わない場合が多い。そのため、イオン交換樹脂
塔内部で菌が繁殖し、長時間の使用により増殖し
た菌がイオン交換処理水中に流出し、処理水中の
生菌数が被処理水中の菌濃度よりも高くなる。こ
の処理水中の生菌は、製品の性能や品質に影響す
るので、限外過膜などのフイルタで除菌してい
るが、この生菌は、フイルタの抵抗物となるた
め、フイルタの寿命を縮め、フイルタの交換頻度
が増加することとなる。
このため、イオン交換樹脂を定期的に殺菌する
ことが必要となる。殺菌方法としては、酸化、還
元剤、有機系の殺菌剤などの薬剤、あるいはオゾ
ンなどの殺菌ガスを用いた方法があるが、これら
は、イオン交換樹脂の劣化を促進するので使用で
きず、熱を用いる方法のみが使用可能である。
ことが必要となる。殺菌方法としては、酸化、還
元剤、有機系の殺菌剤などの薬剤、あるいはオゾ
ンなどの殺菌ガスを用いた方法があるが、これら
は、イオン交換樹脂の劣化を促進するので使用で
きず、熱を用いる方法のみが使用可能である。
しかし、温水を通水して殺菌する場合、水温の
上昇にともない溶存ガスの溶解度が減少するた
め、ガスがイオン交換樹脂層内に発生する。この
ガスは、イオン交換樹脂の表面に付着し、被処理
水とイオン交換樹脂との接触機会を減少させ、見
かけ上、イオン交換樹脂のイオン交換能を大幅に
低下させるという問題があつた。
上昇にともない溶存ガスの溶解度が減少するた
め、ガスがイオン交換樹脂層内に発生する。この
ガスは、イオン交換樹脂の表面に付着し、被処理
水とイオン交換樹脂との接触機会を減少させ、見
かけ上、イオン交換樹脂のイオン交換能を大幅に
低下させるという問題があつた。
この発明の目的は、前記従来技術の欠点を解消
し、処理水中の生菌数を少なく維持できるイオン
交換樹脂塔の殺菌装置を提供することにある。
し、処理水中の生菌数を少なく維持できるイオン
交換樹脂塔の殺菌装置を提供することにある。
この発明は、非再生型イオン交換樹脂塔の温水
殺菌時に樹脂塔内に発生する気泡を解消する手段
として、加温貯槽、圧力調整弁および加圧ポンプ
によつて構成される循環ラインを付設し、加圧温
水によつて殺菌するように構成したものである。
殺菌時に樹脂塔内に発生する気泡を解消する手段
として、加温貯槽、圧力調整弁および加圧ポンプ
によつて構成される循環ラインを付設し、加圧温
水によつて殺菌するように構成したものである。
第1図はこの発明に係るイオン交換樹脂塔の殺
菌装置の1実施例のフローシートを示す。処理前
の被処理水ライン1と処理済の処理水ライン2と
の間に加温貯槽3、圧力調整弁4および加圧ポン
プ5からなる循環ライン12を付設した。
菌装置の1実施例のフローシートを示す。処理前
の被処理水ライン1と処理済の処理水ライン2と
の間に加温貯槽3、圧力調整弁4および加圧ポン
プ5からなる循環ライン12を付設した。
イオン交換樹脂塔6の殺菌時には、バルブ7,
8を閉め、9,10を開け、加圧ポンプ5を動か
し、水を循環する。ヒータ11は、加圧ポンプ5
始動後、徐々に加温するようにする。
8を閉め、9,10を開け、加圧ポンプ5を動か
し、水を循環する。ヒータ11は、加圧ポンプ5
始動後、徐々に加温するようにする。
加圧ポンプ5の圧力は、通常のイオン交換樹脂
塔6での通水圧力の2〜3倍すなわち2〜10Kg/
cm2となるように設定する。加温殺菌の温度は、55
℃以上で効果があるが70℃以上であると、イオン
交換樹脂特にアニオン交換樹脂が劣化するため、
55〜70℃が好ましい。通常の通水圧力は、イオン
交換処理の後段での処理およびユースポイントで
の圧力保持のため、2〜3Kg/cm2となつている。
被処理水はイオン交換処理の前段で脱炭酸、脱溶
存酸素を行つているため、溶存ガスは純水貯槽の
密封に用いられる窒素ガスのみである。2Kg/cm2
の圧力下での窒素ガスの飽和溶解量は、20℃にお
いて38mg/である。
塔6での通水圧力の2〜3倍すなわち2〜10Kg/
cm2となるように設定する。加温殺菌の温度は、55
℃以上で効果があるが70℃以上であると、イオン
交換樹脂特にアニオン交換樹脂が劣化するため、
55〜70℃が好ましい。通常の通水圧力は、イオン
交換処理の後段での処理およびユースポイントで
の圧力保持のため、2〜3Kg/cm2となつている。
被処理水はイオン交換処理の前段で脱炭酸、脱溶
存酸素を行つているため、溶存ガスは純水貯槽の
密封に用いられる窒素ガスのみである。2Kg/cm2
の圧力下での窒素ガスの飽和溶解量は、20℃にお
いて38mg/である。
液温度60℃での窒素ガスの飽和溶解量は、21
mg/であるため、2Kg/cm2の圧力では、17mg/
がガスとして発生することになる。このガスを
発生させないためには、4Kg/cm2以上の圧力状態
で保持すれば、窒素ガスを溶解状態で保持できる
ため循環水中で気泡の発生はなく加温殺菌が可能
となる。
mg/であるため、2Kg/cm2の圧力では、17mg/
がガスとして発生することになる。このガスを
発生させないためには、4Kg/cm2以上の圧力状態
で保持すれば、窒素ガスを溶解状態で保持できる
ため循環水中で気泡の発生はなく加温殺菌が可能
となる。
加温水の通水時間は60℃で30分以上が必要であ
る。殺菌間隔は1週間に1回程度が好ましいが、
菌繁殖の少ない場合には月1回ないし2ケ月に1
回でもよい。しかし、殺菌を繰り返すことで殺菌
間隔を伸ばすことも可能である。第2図はこの発
明の効果を示す。第2図は、混床イオン交換樹脂
2に60℃の温水を6Kg/cm2の加圧状態で30分間
通水する殺菌操作を行つたもので、本法によりイ
オン交換処理中の生菌数を大巾に減少させること
ができた。
る。殺菌間隔は1週間に1回程度が好ましいが、
菌繁殖の少ない場合には月1回ないし2ケ月に1
回でもよい。しかし、殺菌を繰り返すことで殺菌
間隔を伸ばすことも可能である。第2図はこの発
明の効果を示す。第2図は、混床イオン交換樹脂
2に60℃の温水を6Kg/cm2の加圧状態で30分間
通水する殺菌操作を行つたもので、本法によりイ
オン交換処理中の生菌数を大巾に減少させること
ができた。
この発明は、イオン交換樹脂塔の被処理水ライ
ンと処理水ラインとの間に、加温貯槽、圧力調整
弁および加圧ポンプからなる循環ラインを付設し
たから、非再生型のイオン交換樹脂の加温殺菌時
の気泡発生を防止する効果がある。
ンと処理水ラインとの間に、加温貯槽、圧力調整
弁および加圧ポンプからなる循環ラインを付設し
たから、非再生型のイオン交換樹脂の加温殺菌時
の気泡発生を防止する効果がある。
第1図は、この発明に係るイオン交換樹脂塔の
殺菌装置の1実施例のフローシート、第2図は、
この発明の効果を示す処理水中の生菌数の経時変
化図である。 1……被処理水ライン、2……処理水ライン、
3……加温貯槽、4……圧力調整弁、5……加圧
ポンプ、6……イオン交換樹脂塔、7,8,9,
10………バルブ、11……ヒータ、12……循
環ライン。
殺菌装置の1実施例のフローシート、第2図は、
この発明の効果を示す処理水中の生菌数の経時変
化図である。 1……被処理水ライン、2……処理水ライン、
3……加温貯槽、4……圧力調整弁、5……加圧
ポンプ、6……イオン交換樹脂塔、7,8,9,
10………バルブ、11……ヒータ、12……循
環ライン。
Claims (1)
- 1 イオン交換樹脂塔の被処理水ラインと処理水
ラインとの間に、加温貯槽、圧力調整弁および、
加圧ポンプからなる循環ラインを付設したことを
特徴とするイオン交換樹脂塔の殺菌装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16320784A JPS6142395A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | イオン交換樹脂塔の殺菌装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16320784A JPS6142395A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | イオン交換樹脂塔の殺菌装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6142395A JPS6142395A (ja) | 1986-02-28 |
JPH0212636B2 true JPH0212636B2 (ja) | 1990-03-22 |
Family
ID=15769321
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16320784A Granted JPS6142395A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | イオン交換樹脂塔の殺菌装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6142395A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5518626A (en) * | 1993-12-23 | 1996-05-21 | United Technologies Corporation | Process employing thermally sterilizable aqueous polishing agents |
US5525237A (en) * | 1993-12-23 | 1996-06-11 | United Technologies Corporation | Process for removing free and dissolved CO2 from aqueous solutions |
DE10010739A1 (de) * | 2000-03-04 | 2001-09-06 | Karl Spiegl Gmbh | Ionentauscheranlage |
JP2011218311A (ja) * | 2010-04-12 | 2011-11-04 | Toshiba Corp | イオン交換装置の水供給装置及びこれを備える蒸気タービンプラント、並びにイオン交換装置の水供給方法 |
JP5739687B2 (ja) * | 2011-02-15 | 2015-06-24 | オルガノ株式会社 | アルコールの精製方法、装置及びシステム |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP16320784A patent/JPS6142395A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6142395A (ja) | 1986-02-28 |
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