JPH02111528A - 三次元形状の形成方法 - Google Patents

三次元形状の形成方法

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JPH02111528A
JPH02111528A JP63263781A JP26378188A JPH02111528A JP H02111528 A JPH02111528 A JP H02111528A JP 63263781 A JP63263781 A JP 63263781A JP 26378188 A JP26378188 A JP 26378188A JP H02111528 A JPH02111528 A JP H02111528A
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semi
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良光 中村
Shokichi Kuribayashi
栗林 昭吉
Shinobu Ikeno
池野 忍
Shungo Ozawa
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    • B29C64/124Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、光硬化成形方法および装置に関し、光の照
射によって硬化する光硬化性樹脂を用いて、立体的な三
次元形状を有する物品を成形製造する方法に関するもの
である。
〔従来の技術〕
光硬化性樹脂を用いて三次元形状を成形する方法は、複
雑な三次元形状を、成形型や特別な加工工具等を用いる
ことなく、簡単かつ正確に形成することができる方法と
して、各種の製品モデルや立体模型の装造等に利用する
ことが考えられており、例えば、特開昭62−3596
6号公報等に開示されている。
第7図は、従来の一般的な、光硬化性樹脂を用いた三次
元形状の形成方法の一例を示しており、光硬化性樹脂液
2を収容した樹脂液槽1に昇降自在な成形台5が設けら
れ、樹脂液槽1の上方にはレンズ30等の光学系等から
なる光ビーム照射機構が設けられている。光硬化性樹脂
液2の液面に光ビーム3を照射すると、光ビーム3の焦
点位置近傍の液面から一定厚みまでの光硬化性樹脂液2
が硬化して光硬化層40が形成される。光硬化層40は
成形台5に載せられた状態になっているので、成形台5
を下降させれば、光硬化N40は液面下に沈み、光硬化
層40の上が未硬化の光硬化性樹脂液2で覆われる。そ
の後、前記同様に光硬化性樹脂液2の液面に光ビーム3
を照射すると、第2層の光硬化層4が形成される。この
ような、光ビーム3の照射による光硬化層40の形成、
および、成形台5の下降による光硬化層40の上への新
たな光硬化性樹脂液2の供給とを繰り返すことによって
、複数層の光硬化層40が積層された三次元形状を有す
る成形品4が成形される。
上記のような光硬化性樹脂を用いた三次元形状の形成方
法において、三次元形状を有する成形品の形状精度を高
めるには、光硬化層を形成するための光ビームの浸透深
さや移動範囲等を、コンピュータ等を用いて正確に制御
するようにしている〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、上記のように光ビームの照射を精密に制御し
ても、光ビームによって光硬化される光硬化性樹脂が硬
化時に収縮変形を起こすと、形成される光硬化層の形状
精度が悪くなり、この光硬化層を積み重ねて形成される
三次元形状を有する成形品の形状精度も悪くなるという
問題があった。また、硬化時の収縮応力が残留応力とし
て光硬化層に残っていると、硬化後に徐々に残留応力が
解放されて、光硬化層もしくは成形品の経時的な変形を
起こす問題もある。
従来の三次元形状の形成方法では、作業能率を高めるた
めに、硬化作用の強い光ビームを迅速に移動させながら
光硬化性樹脂に照射して、光硬化性樹脂を急速に硬化さ
せていたが、このように硬化作用の強い光ビームで急速
に硬化を行うと、硬化収縮量が大きくなり残留応力も発
生し易くなる。すなわち、硬化をゆっくり行った場合に
は、光ビームの照射中、硬化収縮量を補うように周囲の
樹脂液が供給されながら硬化が進行するので、全体とし
ての硬化収縮は少なく、また、硬化の進行中に収縮応力
が解放されるので、残留応力の発生も少なくなる。とこ
ろが、硬化が急速であると、硬化収縮グを補う樹脂液の
供給が間に合わず、大きな硬化収縮が残り、また、収縮
応力が解放される前に硬化が完了するので、残留応力が
発生することになるのである。さらに、光ビームの照射
位置を移動させながら光硬化層を形成すると、先に硬化
した部分と後で硬化する部分との硬化収縮のずれによっ
て、局部的な変形や残留応力の偏在が生じ、結果として
、形成された成形品に局部的に大きな歪みや残留応力の
不均一が生じる可能性が高くなる。
そこで、この発明の課題は、上記のような光硬化性樹脂
を用いる三次元形状の形成方法において、形状精度に優
れ、残留応力による経時的な変形や強度低下のない、高
品質の成形品を得ることができ、しかも、作業能率も高
い方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題を解決する、この発明のうち、請求項1記載の
三次元形状の形成方法は、光硬化性樹脂に光を照射して
光硬化層を形成し、この光硬化層を複数層積み重ねて、
所望の三次元形状を形成する方法において、三次元形状
を構成する複数層の光硬化層に、最終段階まで硬化させ
た本硬化部と途中段階まで硬化させた半硬化部とを分割
形成した後、三次元形状全体の半硬化部を最終段階まで
硬化させるようにしている。
請求項2記載の三次元形状の形成方法は、請求項1記載
の方法の実施に際し、光硬化性樹脂に照射する光として
、複数の光ビームを用い1、光硬化層のうち、三次元形
状の外表面になる部分には最終段階まで硬化させる本硬
化用光ビームを照射して本硬化部を形成し、三次元形状
の内方になる部分には途中段階まで硬化させる半硬化用
光ビームを照射して半硬化部を形成するようにしている
請求項3記載の三次元形状の形成方法は、光硬化性樹脂
に光を照射して光硬化層を形成し、この光硬化層を複数
層積み重ねて、所望の三次元形状を形成する方法におい
て、光硬化性樹脂を途中段階まで硬化させて半硬化部を
形成する半硬化用光ビームと最終段階まで硬化させる本
硬化用光ビームとを、順次照射しながら光硬化層を形成
するようにしている。
〔作   用〕
請求項1記載の発明によれば、光硬化性樹脂を途中段階
まで硬化させた半硬化部は、半硬化部を構成する樹脂の
移動は抑制されるが、ある程度の変形は可能であるので
、本硬化部の硬化収縮による変形および収縮応力を吸収
することができる。
したがって、まず、三次元形状の骨格もしくは外殻とな
る部分に本硬化部を形成しておけば、三次元形状を正確
に形成できるとともに、この部分的な本硬化部による硬
化収縮量や収縮応力は比較的小さく、前記したように、
半硬化部によって吸収することができる。その後、半硬
化部を最終段階まで硬化させるときの硬化収縮は、光硬
化性樹脂を一度に最終段階まで硬化させるのに比べれば
はるかに小さく、また、既に硬化完了した本硬化部に影
響を与えることはないので、最終的に形成された三次元
形状は、形状精度が高く残留応力による経時的な変形や
強度低下の心配もない。すなわち、三次元形状全体を、
−度に本硬化させるのでなく、1部は半硬化の状態を経
させた後、半硬化部の全体を本硬化させることによって
、硬化収縮を抑えるとともに収縮応力を解放することが
できることになる。
請求項2記載の発明によれば、三次元形状の外表面を最
終段階まで硬化させた本硬化部とすることによって、三
次元形状の外形を正確に形成することができるとともに
、三次元形状の内方を半硬化部とすることによって、硬
化収縮および収縮応力を抑制することができる。その後
、内方の半硬化部を最終段階まで硬化させるときには、
半硬化状態からの硬化なので硬化収縮が少ないとともに
、外表面が既に硬化完了した本硬化部によって規制され
ているので硬化収縮が抑えられる。
請求項3記載の発明によれば、光ビームを移動しながら
照射するときに、まず、半硬化用光ビームによって半硬
化部が形成されると、その部分の光硬化性樹脂の移動が
抑制され、ついで、本硬化用光ビームによって移動が抑
制された半硬化部を最終段階まで硬化させるので、半硬
化部がそれ以上の硬化収縮を起こすことはなく、残留応
力が残る心配もなくなる。このように、半硬化状態を経
て本硬化状態まで硬化され、硬化収縮や残留応力のない
硬化部分を、光ビームの移動とともに、順次拡げていっ
て光硬化層を形成するので、光硬化層全体に硬化収縮や
残留応力が残らない。特に、光ビームの移動範囲の初め
の部分と後の部分で、硬化収縮や収縮応力に差が出るこ
とがなくなるので、光硬化層全体に不均一な収縮変形ま
たは残留応力による変形が生じない。
〔実 施 例〕
ついで、この発明を、実施例を示す図面を参照しながら
、以下に詳しく説明する。
第1図は、この発明で用いる三次元形状形成装置の概略
構造を示しており、前記した従来例と同様に、光硬化性
樹脂液2を蓄える樹脂液槽l、形成された光硬化層40
を載せる成形台5を備えており、成形台5は昇降アーム
50に支持されて、上下に昇降自在に設けられている。
樹脂液槽1の上方には、光ビーム3を発生する紫外線レ
ーザー等の発生装置(図示せず)や集光レンズ30等か
らなる光照射機構が設けられており、樹脂液槽1の光硬
化性樹脂液2の液面付近に焦点を結ふように光ビーム3
が照射される。これらの基本的な構造については、光硬
化性樹脂を用いる通常の三次元形状の形成装置と同様で
ある。
上記のような装置を用いる、この発明にががる三次元形
状の形成方法も、基本的には従来の方法と同様であり、
成形台5と液面との間に光ビーム3を照射して光硬化性
樹脂液3を硬化させ、光ビーム3を移動させることによ
って所定パターンの光硬化層40を形成した後、成形台
5と光硬化層40を降下させ、再び光硬化層40と液面
の間の光硬化性樹脂液2を硬化させて、次層の光硬化層
40を形成するという工程を繰り返し、複数層の光硬化
層40が積み重ねられた三次元形状を有する成形品4を
成形するものである。
但し、従来の三次元形状の形成方法では、光硬化性樹脂
液2に光ビーム3を照射したときに、最終段階まで硬化
完了させるようにしていたが、この発明にかかる方法で
は、第2図および第3図に示すように、従来と同様に最
終段階まで硬化させる本硬化部4aと、途中段階まで硬
化させる半硬化部4bとを分割形成する。本硬化部4a
と半硬化部4aとの違いは、照射された光ビーム3の硬
化作用を変えることによって生じる。光ビーム3の硬化
作用を変えるには、例えば、レーザー発生装置で発生す
るレーザー光の強度、集光レンズ30による集光径の大
きさ、照射時間、照射する光の波長成分等を調整すれば
よい。最も簡単には、光ビーム3の移動速度を調整すれ
ば、移動速度が速ければ、硬化作用が少なくて半硬化部
4bが形成され、移動速度を遅くすれば、硬化作用が十
分に行われて本硬化部4aが形成される。なお、同じ光
ビーム3で、上記のような照射条件を変えることによっ
て、本硬化部4aと半硬化部4bの何れにも対応させる
ほか、照射条件すなわち硬化作用の異なる複数種の光ビ
ーム3を別々に照射して、本硬化部4aと半硬化部4b
とを形成することもできる。
第2図および第3図は、本硬化部4aと半硬化部4bと
の分割パターンを示しており、そのうち第2図は光硬化
層40の垂直断面の分割パターンを示している。第2図
(a)は、1層の光硬化層40を、水平方向で本硬化部
4aと半硬化部4bとに分割して形成した場合であり、
第2図(b)は、1層の光硬化層40を、垂直方向で本
硬化部4aと半硬化部4bとに分割して形成した場合で
ある。つぎに、第3図は、光硬化層40の水平方向にお
ける分割パターンを示している。第3図(a)は、光硬
化層40の外表面部分と中心部分に帯状の本硬化部4a
を設け、その間を半硬化部4bにしている。第3図(b
)は、本硬化化部4aを格子状に設け、その間を半硬化
部4bにしている。第3図(C)は、本硬化部4aの中
にスポット状の半硬化部4bを並べている。
このような、本硬化部4aと半硬化部4bとの分割パタ
ーンは、前記したように硬化作用の異なる光ビーム3を
分割パターンにしたがって走査すればよい。例えば、第
2図(blに示す分割パターンの場合、硬化作用の弱い
半硬化用の光ビーム3で層状の半硬化部4bを形成した
後、その上に、硬化作用の強い本硬化用の光ビーム3で
、同じく層状の本硬化部4aを重ねて形成すればよい。
また、第3図(C)に示す分割パターンの場合、光硬化
層40の外表面部分に通常の光ビーム3で帯状の本硬化
部4aを形成した後、その内方部分では、中心が比較的
弱(外周が強い硬化作用を示すドーナツ状のエネルギー
分布ををする光ビーム3で、中心には半硬化部4bを外
周には本硬化部4aを形成し、この光ビーム3をパルス
的に照射しながら移動させることによって、本硬化部4
aの中にスポット状の半硬化部4bを形成している。な
お、本硬化部4aと半硬化部4bの分割パターンは、図
示した実施例以外にも任意の分割パターンで実施するこ
とができる。但し、三次元形状を正確に形成するととも
に硬化収縮や残留応力の発生を抑えるには、三次元形状
の外表面になる部分や、:次元形状の骨格となる部分を
比較的狭い幅で本硬化部4aに形成し、その間を半硬化
部4bで埋めるようにしておくのが好ましい。
上記のようCコして、本硬化部4aと半硬化部4bとが
分割形成された複数層の光硬化層40からなる三次元形
状を有する成形品4は、樹脂液槽1から取り出した後、
成形品4の全体を、光硬化性樹脂に対して光硬化作用の
ある紫外線を出すキセノンランプ等で光を照射して、半
硬化部4b全体を本硬化部4aと同じ最終段階まで硬化
させれば、成形品4全体が硬化して三次元形状の形成が
完了する。
つぎに、第4図および第5図は、本硬化部4aと半硬化
部4bの形成方法の別の実施例を示している。三次元形
状の形成装置は、前記した第1図の実施例とほぼ同じも
のであるが、光ビーム3の照射機構として、He−Cd
レーザー等の光を照射するとともに、比較的集光径が小
さく精密な硬化形状が得られる本硬化用の光ビーム3a
と、比較的集光径が大きく硬化能率の高い半硬化用の光
ビーム3bを、選択して照射できるようにしている。こ
の光ビーム3aと3bとの違いは、集光径の相違ととも
に、光の強度や光ビームの移動速度等の照射条件によっ
ても設定できる。
第5図に示すように、精密本硬化用の光ビーム3aで、
光硬化層40のうち三次元形状の外表面になる部分を帯
状に照射して本硬化部4aを形成し、半硬化用の光ビー
ム3bを、本硬化部4aの内方を縦横に走査しながら照
射して半硬化部4bを形成している。このようにして、
本硬化部4aと半硬化部4bが分割形成された三次元形
状を有する成形品4を形成した後、半硬化部4bの全体
を最終段階まで硬化する工程は、前記実施例と同様であ
る。
上記した実施例では、精密本硬化用光ビーム3aは、集
光径を小さく移動速度も遅くして、三次元形状の外表面
を正確かつ十分な硬化度まで硬化して本硬化部4aを形
成するとともに、半硬化用光ビーム3bは集光径を大き
く移動速度も速くして、三次元形状の内方を効率良く迅
速に硬化して半硬化部4bを形成することができる。図
示した実施例では、光ビーム3aと3bを、同じ集光レ
ンズ30すなわち光照射機構から照射しているが、別々
の光照射機構を用いたり、光ビーム3aと3bで違うレ
ーザー光を用いることもできる。
つぎに、第6図に示す実施例は、上記第4図に示した実
施例と同様の装置を用い、少し異なる方法で三次元形状
を形成する。この実施例でも、本硬化用光ビーム3aと
半硬化用光ビーム3bを用いるが、本硬化部と半硬化部
とを分割形成するのでなく、同じ個所に、半硬化用光ビ
ーム3bと本硬化用光ビーム3aとを順次照射するよう
にしている。本硬化用光ビーム3aとしては、通常のH
e−Cdレーザー等が用いられ、半硬化用光ビーム3b
としては、光硬化性樹脂2に対して加熱硬化作用のある
YAGレーザーやCOz レーザー等が用いられる。
上記のような2種の光ビーム3aと3bを順次照射する
と、その部分の光硬化性樹脂2は、まず、半硬化用光ビ
ーム3bによって、樹脂2の移動を抑制できる程度に硬
化されて半硬化部4bが形成された後、本硬化用光ビー
ム3aによって最終段階まで硬化される。本硬化用光ビ
ーム3aを半硬化部4bに確実に照射するためには、本
硬化用光ビーム3aの集光径は、半硬化用光ビーム3b
よりも少し小さめに設定するのが好ましい。この場合、
本硬化用光ビーム3aの外側で硬化されずに残る半硬化
部4bは、三次元形状が形成された後、溶解除去すれば
よい。図示した実施例では、両光ビーム3aと3bが同
心状に照射されるので、半硬化用ビーム3bの照射と本
硬化用ビーム3aの照射タイミングを時間的にずらすこ
とによって、半硬化用ビーム3bが照射された後に、本
硬化用光ビーム3aが照射されるようにすればよい。半
硬化用光ビーム3bと本硬化用光ビーム3aの照射位置
を、走査方向の前後にずらせて設定しておけば、光ビー
ム3a、3bの移動に伴って、順次半硬化用光ビーム3
bおよび本硬化用光ビーム3aが照射できる。
上記実施例では、半硬化用光ビーム3bで、光硬化性樹
脂2の移動を抑制できる程度に半硬化させた状態では、
硬化収縮や残留応力はない。この状態で本硬化用光ビー
ム3aで最終段階まで硬化させれば、移動を抑制された
半硬化状態からの硬化であるので、あまり硬化収縮を起
こさず、残留応力が残ることもない。また、本硬化用光
ビーム3aの照射範囲そのままの正確な形状を有する三
次元形状を有する成形品4が形成できる。成形品4全体
に本硬化用光ビーム3aが照射されるので、前記実施例
のように、半硬化部全体を別工程で硬化させる必要はな
い。
〔発明の効果〕
以上に説明した、この発明のうち、請求項1記載の三次
元形状の形成方法によれば、三次元形状に、本硬化部と
半硬化部とを分割形成した後、全体の半硬化部を最終段
階まで硬化させるので、本硬化部と半硬化部とが分割形
成された段階では、本硬化部に生じる硬化収縮や収縮応
力を半硬化部で吸収することができる。その後、半硬化
部を硬化させれば、半硬化部から最終段階までの硬化に
よって発生する硬化収縮や収縮応力は小さいとともに、
既に硬化された本硬化部によって、半硬化部の硬化収縮
が抑えられるので、三次元形状全体の硬化収縮はほとん
どなくなり、予め設定した形状通りの正確な形状精度を
有する三次元形状が得られるとともに、形成された三次
元形状に残留応力が残る心配もなく、経時的に変形を生
したり強度低下を起こすことはない。
また、半硬化部の形成は、最終段階までの硬化を行うよ
りも短い時間で行えるとともに、その後に半硬化部全体
をまとめて最終段階まで硬化するので、全体の硬化時間
が短縮され、作業の能率化を図ることができる。
請求項2記載の三次元形状の形成方法によれば、請求項
1記載の上記効果に加え、正確な形状を必要とする三次
元形状の外表面を精密本硬化用光ビームで照射して本硬
化部を形成するとともに、それ以外の内方部分は半硬化
用光ビームで照射して能率的に半硬化部を形成するので
、形状精度と作業時間の短縮化とを、より向上させるこ
とができる。
請求項3記載の三次元形状の形成方法によれば、光硬化
性樹脂を半硬化用光ビームで半硬化した後、本硬化用光
ビームで最終段階まで硬化させるので、従来のように最
終段階まで一気に急速に硬化させる方法に比べ、半硬化
段階を経ることによって硬化収縮が少なくなり、収縮応
力を良好に解放することができる。すなわち、光硬化性
樹脂が半硬化した段階では、硬化収縮はほとんどないと
ともに、半硬化部はある程度の変形ができるので収縮応
力は容易に解放される。半硬化状態から最終段階まで硬
化させたときには、樹脂の移動が抑制された半硬化状態
から硬化するので、硬化収縮を起こし難く、また、半硬
化からの硬化であるので、硬化収縮を起こしたとしても
、その硬化収縮量は極めて小さいとともに、残留応力と
して残る可能性が少なくなるのである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例を示す三次元形状の形成装置
の全体構成図、第2図は本硬化部と半硬化部の分割パタ
ーンを示す縦断面図、第3図は別の分割パターンを示す
横断面図、第4図は別の実施例を示す三次元形状の形成
装置の全体構成図、第5図は光ビームの照射状態を示す
平面図、第6図はさらに別の実施例を示す要部拡大断面
図、第7図は従来例を示す概略構成図である。 ■・・・樹脂液槽 2・・・光硬化性樹脂液 3・・・
光ビーム 3a・・・本硬化用光ビーム 3b・・・半
硬化用光ビーム 4・・・成形品 40・・・光硬化層
 4a・・・本硬化部 4b・・・半硬化部 第4図 第6図 n 第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 光硬化性樹脂に光を照射して光硬化層を形成し、こ
    の光硬化層を複数層積み重ねて、所望の三次元形状を形
    成する方法において、三次元形状を構成する複数層の光
    硬化層に、光硬化性樹脂を最終段階まで硬化させた本硬
    化部と途中段階まで硬化させた半硬化部とを分割形成し
    た後、三次元形状全体の半硬化部を最終段階まで硬化さ
    せることを特徴とする三次元形状の形成方法。 2 光硬化性樹脂に照射する光として、複数の光ビーム
    を用い、光硬化層のうち、三次元形状の外表面になる部
    分には最終段階まで硬化させる本硬化用光ビームを照射
    して本硬化部を形成し、三次元形状の内方になる部分に
    は途中段階まで硬化させる半硬化用光ビームを照射して
    半硬化部を形成する請求項1記載の三次元形状の形成方
    法。 3 光硬化性樹脂に光を照射して光硬化層を形成し、こ
    の光硬化層を複数層積み重ねて、所望の三次元形状を形
    成する方法において、光硬化性樹脂を途中段階まで硬化
    させて半硬化部を形成する半硬化用光ビームと最終段階
    まで硬化させる本硬化用光ビームとを、順次照射しなが
    ら光硬化層を形成することを特徴とする三次元形状の形
    成方法。
JP63263781A 1988-10-19 1988-10-19 三次元形状の形成方法 Expired - Lifetime JPH0757532B2 (ja)

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