JPH05154924A

JPH05154924A - 光硬化造形法における積層平板造形法

Info

Publication number: JPH05154924A
Application number: JP3348759A
Authority: JP
Inventors: Naoichiro Saito; 直一郎斉藤; Seiji Hayano; 誠治早野; Takashi Gi; 杰魏
Original assignee: SHIIMETSUTO KK
Current assignee: SHIIMETSUTO KK
Priority date: 1991-12-04
Filing date: 1991-12-04
Publication date: 1993-06-22
Anticipated expiration: 2010-10-11
Also published as: JPH0794149B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】反りを生じずに、設計に忠実な形状の積層平
板を造形することのできる光硬化造形法における積層平
板造形法を提供する。【構成】光硬化造形法で積層平板を造形する際に、離
隔的に照射することによって未硬化部分を残した層２を
形成する工程と、その上部層の硬化の際に前記未硬化部
分６を硬化させる工程とを有し、硬化に伴う歪みを相殺
しつつ積層された平板を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光硬化造形法に関するも
のであり、特に、反りを生じさせないで積層平板を造形
することができる光硬化造形法における積層平板造形法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】３次元のモデルないしは立体像を造形す
るために、光硬化造形法が用いられる。この光硬化造形
法では、通常、光を照射すると硬化する液状の樹脂の液
表面で立体像の最下断面に相当する領域に光を照射し
て、まず最下断面に相当する断面硬化層を形成する。そ
の後その上に未硬化の液状の樹脂を導入し、今度はその
直上断面に相当する領域に光を照射して断面硬化層を積
層していく。これを繰り返していくことにより、積層さ
れた立体像が造形される。このような技術で、例えば机
の天板等の平板を造形する場合には、図１０に示すよう
に、まず平板に相当する領域内の全域に光を照射し、平
板中の最下層２４を造形する。そのうえに未硬化の液状
樹脂を導入し再度全域２５を照射する。これを繰り返す
ことにより積層された平板が造形される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】光硬化造形法で、積層
平板を造形する場合に、図１１（ｃ）に示されるよう
に、積層平板の端部が上方に湾曲した形に歪みやすい。
この理由は次にように推定される。この光硬化造形法で
は、図１１（ａ）に例示するように、上部の断面硬化層
２５を下部の断面硬化層２４上に形成するばかりでな
く、上部硬化層２５を下部硬化層２４に一体化する必要
がある。このため、上部硬化層２５の造形のための照射
中に下部断面硬化層２４、特にその上表面側が重ねて照
射される。このため、図１１（ｂ）に示すように、一枚
の硬化層のうち、上側がより強固に硬化し、その分大き
く収縮しやすい。このような傾向が全部の層について作
用するため、積層された平板は、その両端側が上方に湾
曲（図１１（ｃ）参照）した意図しない歪んだ形状とな
りやすいと考えられる。そこで、本発明は、反りを生じ
ずに、設計に忠実な形状の積層平板を造形することので
きる光硬化造形法における積層平板造形法を提案するも
のである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記技術課題を解決する
ために、本発明では光硬化造形法で積層平板を造形する
際に、離隔的に照射することによって未硬化部分を残し
た層を形成する工程と、その上部層の硬化の際に前記未
硬化部分を硬化させる工程とを有し、硬化に伴う歪みを
相殺しつつ積層された平板を形成することを特徴とする
光硬化造形法における積層平板造形法を創作した。

【０００５】

【作用】上記方法によると、未硬化部分が残った層が介
在し、この未硬化部分が上部層の形成時に硬化されるた
めに、硬化にともなう収縮応力が相殺され、歪みの少な
い平板が形成される。

【０００６】

【実施例】以下、本発明の第１実施例として図３（ａ）
に示す積層平板１２を造形する場合を例として説明す
る。

【０００７】まず、最初に３次元のＣＡＤシステムを用
いて積層平板１２の３次元形状を設計する。この結果、
３次元ＣＡＤシステムによって積層平板１２の３次元の
形状情報が定義される。そして、この積層平板１２を一
定の厚みで水平にスライスした際の断面の形状が定義さ
れる。この断面形状に基づいて、液状樹脂の表面をレー
ザ光で照射していくことにより、積層面が形成されてい
くのである。光硬化造形法は、図２に例示されるように
液状の光硬化性樹脂８の表面に強力なレーザ光のビーム
９を照射することにより、照射された領域の樹脂８を硬
化させ、これを幾層にも積層することにより３次元の樹
脂硬化像を創成するものである。得られる形状はビーム
９の軌跡により決定される。

【０００８】すなわち、図２に模式的に示されるよう
に、槽内に満たされた光硬化性樹脂８の表面にレーザ光
９のスポットを当てて、スキャナ１０によってレーザ光
９を２次元的に移動することにより表面の一部が固体化
される。その後、固体化したものを一層の厚み分だけス
テージ１１により液面より沈下させ、固体化した部分の
上に一層分の液状の樹脂８を導入する。次にこの液状部
が同様に固化される。この固化像は下層の固化像上に積
層されて一体化される。これを繰り返して一層づつ重ね
られる。この場合、スキャナ１０によってレーザ光９
は、液表面において自在に走査可能である。

【０００９】本実施例では、３次元ＣＡＤシステムのデ
ータに基づいてこの断面形状の輪郭内部を照射し、これ
を３層積層することにより積層平板１２を造形する。使
用されるレーザ光９のスポットの形状は円形でその直径
は０．５ｍｍである。そのレーザ光９は図１（ａ）に示
されるように、一層の厚みの約１．７倍の深さまで液状
樹脂８中に放物線状に到達し得るものである。また、図
３（ａ）に示される積層平板１２は例えば、厚みが０．
６ミリの積層平板であって各層０．２ミリの層からなる
３層構造に形成されている。まず、この積層板１２の第
１層１の断面形状情報に基づく輪郭内部に対応する液状
樹脂８の表面に対して図３（ｂ）に示されるように、ス
キャナ１０によってビーム９が走査される。すなわち、
図３（ｂ）のＸ方向に平行に、輪郭内部を折り返し状に
走査される。このときの、ビーム９の中心同志の間隔
は、直径の０．８倍であって、実際には０．４ｍｍの間
隔となる。したがって、ビーム８は互いに０．１ｍｍづ
つ重なり合いながら照射される。このため、この第１層
１は隙間なく、全面が照射される。

【００１０】この積層平板１２の第１層１のＹ方向の断
面の照射状態が図１に示されている。ビーム９は、放物
線状に液状樹脂８内に到達し、樹脂８中に照射領域４を
形成する。このビーム９は第１層の０．２ｍｍの厚みの
範囲をすべて照射し、この領域４はレーザ光刺激により
直ちに重合を開始し、硬化する。通常、一定量の液状樹
脂８が硬化するとき、硬化した樹脂８の体積は減少し、
収縮する。しかし、第１層においては、周囲が液状樹脂
８によって満たされているので、歪みは生じにくい。

【００１１】次に、ステージ１１を降下させて、第１層
１を１層分の厚み（０．２ｍｍ）だけ降下させると、こ
の第１層１上に新たな樹脂８が導入される。図３（ｂ）
に示されるように、この樹脂８の表面に、さらに第２層
２の断面形状情報に基づいて、Ｘ方向に平行にビーム９
が走査される。このときビーム９の中心は、直径の１．
５倍の間隔で輪郭内部を折り返し状にスキャンされる。
すなわち、隣合うビーム９の中心同志の間隔は０．７５
ｍｍとなり、ビーム９同志の重なりを生じることなく離
隔的に照射されていく。この結果、図１のＹ方向断面図
に示されるように、ビーム９による照射領域５が帯状に
形成される。この第２層におけるビーム照射領域５の樹
脂８は直ちに重合し、硬化する。

【００１２】図１に示されるように、このビーム９のレ
ーザ光の深度が層厚の約１．７倍まで到達する。このた
め、第２層２のビーム９のレーザ光によって、すでに硬
化した第１層の上側約７０％の深さまで部分的に照射４
ａされることになる。このような２重照射領域４ａにお
いては、一度硬化した樹脂が再度光刺激を受けて重合す
る。このため、この部分４ａでは樹脂の重合度が高めら
れる。しかし、第１回目の硬化と異なり、周囲から新た
に樹脂が補充されるわけではないので、周囲を引っ張る
ようにして硬化・収縮する。すなわち、第１層１全体と
しては、図１（ｂ）に示すように上面側が収縮する応力
が作用し、両端部の上方への反りを生じさせようとす
る。なお、この矢印はＹ方向を例示しているが、実際に
は周囲の全方向に収縮応力が作用している。

【００１３】一方、同時に、この照射領域５の間に、ビ
ーム９の直径の半分の幅（０．２５ｍｍ）で帯状に未硬
化部分６が形成される。

【００１４】次に、この第２層２をステージ１１によっ
てさらに降下させ、新たな液状樹脂８を導入する。この
液状樹脂８の表面に第３層３の断面形状情報に基づい
て、Ｘ方向に平行にスキャナ１０によりビーム９が走査
される。この第３層３における走査方法は第１層１と同
様である。すなわち、ビーム９は互いに０．１ｍｍづつ
重なり合いながら、全面を隙間なく照射する。この照射
によって、図１に示されるような照射領域７が形成され
る。ビーム９はこの層厚にわたって到達しているので、
第３層３の全体がこの照射によって、硬化される。

【００１５】また、このビーム９は第２層２の上側約７
０％まで到達するものであるので、第２層２の照射領域
５の上側に部分的に二重照射領域５ａが形成される。二
重照射領域５ａにおいては、第１層１の場合と同様に、
さらに重合が進行することになるので、この領域５ａに
は収縮応力が作用する。

【００１６】さらに、今回の照射によって第２層２の未
硬化部分６が新たに照射され、第２層に照射領域６ａが
形成される。この照射領域６ａでは、液状の樹脂８が直
ちに硬化する。この領域６ａにおいては、未硬化部分６
のうち今回も照射されなかった領域６ｂの液状樹脂８が
あるために、硬化に際しての歪み応力は生じさせない。
しかしながら、依然としてビーム９が未照射の部分６ｂ
においては、周囲の重合刺激により、ゆっくりとではあ
るが重合が進行し硬化する。この部分６ｂにはすでに充
分な樹脂８はなく、しかも新たに補充されることもな
い。したがって、硬化の際には、周囲の硬化部分を強く
引っ張って重合しようとする。すなわち、この未硬化部
分６ｂには強い収縮応力が作用することになる。

【００１７】結果として、第２層２の上側の二重照射領
域５ａに収縮応力が作用するとともに、下側を中心とし
て形成された未硬化部分６ｂにはより強い収縮応力が作
用する。このため、第２層２全体としては、図１（ｂ）
に示す矢印のような収縮が生じ、結果として下方への反
りを生じさせようとする。図１（ｂ）の矢印はＹ方向を
例示しているが、実際には周囲の全方向に収縮する。し
たがって、第２層２の応力と第１層１の応力は相殺する
ように作用することになる。この結果、全体として、図
１（ｃ）に示すように反りが相殺された積層平板１２が
造形される。

【００１８】従来のように、各層１、２、３の全面を等
間隔で隙間なくスキャンする照射方法では一律に、各層
の上部が部分的に二重照射領域となって、各層１、２、
３の上面側に収縮応力が作用していた。しかし、本実施
例においては、図１に示される積層平板１２のＹ方向断
面図において明らかなように、二重照射領域４ａ、５ａ
に作用する収縮応力よりもさらに強い収縮応力が作用す
る未硬化部分６ｂを有する層２を介在させることによっ
て、二重照射領域４ａを有する第１層１における反りが
未硬化部分６ｂを有する第２層２の反りで相殺されてい
る。

【００１９】このようにして、離隔的照射層２を形成す
ることにより、層の下側において強い収縮作用を有する
未硬化部分６ｂが形成されることになり、積層された層
１の収縮応力を補正し、相殺することができる。しか
も、この相殺効果は全方向に作用し、積層平板１２全体
の形状に反りが生じなくなる。

【００２０】次に、本発明の第２実施例として、図４
（ｂ）に示す照射方法によって造形される積層平板１３
（図４（ａ）参照）を例として説明する。本実施例で
は、第１実施例と同様、層厚０．２ｍｍの層が３層積層
されて形成された積層平板１３を造形する。光硬化造形
法における装置及び基本的操作は第１実施例と同様であ
るが、ビーム９の走査方法が異なる。先ず、図４（ｂ）
に示されるように、第１実施例と同様、３次元形状情報
に基づく第１層１４の断面の輪郭内部が図示Ｘ方向と平
行に、照射間隔をビーム９の直径の０．８倍として折り
返し状に走査される。このため、第１層１４において
は、全面が隙間なく、かつ各走査された軌跡が一部
（０．１ｍｍづつ）重なるようにビーム９が照射され
る。

【００２１】この積層平板１３の第１層１４のＹ方向の
断面の照射状態が図５（ａ）及び図６（ａ）に示されて
いる。ビーム９は、放物線状に液状樹脂８内に到達し、
樹脂８中に照射領域１７を形成する。このビーム９は第
１層の０．２ｍｍの厚みの範囲をすべて照射し、この領
域１７は光刺激により直ちに重合を開始し、硬化する。
通常、一定量の液状樹脂８が硬化するとき、硬化した樹
脂８の体積は減少し、収縮する。しかし、第１層１４に
おいては、周囲が液状樹脂８によって満たされているの
で、歪みは生じない。したがって、この層１４にはなん
ら応力は作用しない。

【００２２】次に、ステージ１１を降下させて、第１層
１４を１層分の厚み（０．２ｍｍ）だけ降下させると、
この第１層１４上に新たな樹脂８が導入される。図４
（ｂ）に示されるように、この樹脂８の表面に、さらに
第２層１５の断面形状情報に基づいて、Ｙ方向に平行に
ビーム９が走査される。このときビーム９の中心が、直
径の１．５倍の間隔になるように輪郭内部を折り返し状
に走査される。すなわち、隣合うビーム９の中心同志の
間隔は０．７５ｍｍとなり、ビーム９同志の重なりを生
じることなく離隔的に照射されていく。この結果、図５
（ａ）及び図６（ａ）のＹ方向断面図の第２層１５に示
されるように、ビーム９による照射領域１８が帯状に形
成される。この第２層１５におけるビーム照射領域１８
は直ちに重合し、硬化する。

【００２３】また、図５（ａ）に示されるように、第２
層１５を照射するビーム９の光によって、すでに硬化し
た第１層１４の上側約７０％の深さまで部分的に照射１
７ａされることになる。このような二重照射領域１７ａ
においては、一度硬化した樹脂８が再度光刺激を受けて
重合する。このため、この部分１７ａでは樹脂８の重合
度が高められる。したがって、第１実施例と同様、図５
（ｂ）に示すように、この二重照射領域１７ａ、すなわ
ち、第１層１４の上面側においては全方向に収縮応力が
作用する。

【００２４】一方、同時に、図６（ａ）に示されるよう
に、第２層１５の照射領域１８の間に、ビーム９の直径
の半分の幅（０．２５ｍｍ）で帯状に未硬化部分１９が
形成されていく。

【００２５】次に、第３層１６として、この第２層１５
上に新たな液状樹脂８が導入される。この第３層１６に
は、再び、ビーム９がＸ方向に平行に第１層１４と同じ
照射間隔で断面全面が走査される。図５（ａ）に示され
るように、この照射によって、第３層１６は速やかに硬
化する。また、第２層１５において、二重照射領域１８
ａが形成され、第１実施例と同様、第２層１５の上側に
は図５の（ｂ）に示す全方向への収縮応力が作用する。
この結果、第２層１５のｂ断面には、上方への反りが生
じ、図５（ｃ）に示されるように第１層１４及び第２層
１５を合わせたｂ断面としては、上方への反りを生じさ
せようとする。

【００２６】さらに、図６（ａ）に示されるように、未
硬化部分１９においてもビーム９が到達し、この照射領
域１９ａにおいて樹脂８が硬化される。そして、第２層
の未硬化部分１９の下部を中心とする部分は第３層１６
の照射に際しても、ビーム９が到達しない部分１９ｂが
ある。この未硬化部分１９ｂにおいては、第１実施例と
同様、樹脂８の不足が起きる。すなわち、この未硬化部
分１９ｂを充填しうる充分な樹脂８がすでに存在しない
状態で硬化が徐々に進行する。したがって、硬化するに
つれ、周囲の硬化域を引っ張りながら硬化しようとす
る。すなわち、図６（ｂ）に示されるように、この部分
１９ｂには強い収縮応力が作用することになる。この結
果、図６（ｃ）に示されるように第１層１４及び第２層
１５を合わせたｃ断面としては、下方への反りを生じさ
せようとする。

【００２７】このように、第１層１４、第２層１５及び
第３層１６において、それぞれの層におけるビーム９の
走査方向が直交する場合でも、離隔的照射により未硬化
部分１９ｂを介在させることができることについては、
全く同様である。したがって、この未硬化部分１９ｂに
よる収縮応力の相殺あるいは補正効果も同様に得ること
ができる。この結果、本実施例においては、積層平板１
３のｂ断面に生じる上方に反ろうとする応力とｃ断面に
生じる下方に反ろうとする応力が互いに他方を相殺され
ることにより、全体として、反りのない積層平板１３が
造形される。

【００２８】次に、第３実施例として図９（ｂ）に示す
積層平板２０を製造する場合を例として説明する。本実
施例では、第１実施例及び第２実施例と同様、層厚０．
２ｍｍの層が３層積層されて形成された積層平板２０を
製造する。光硬化造形法における装置及び基本的操作は
前記両実施例と同様であるが、ビーム９の走査方法が異
なっている。先ず、図７（ａ）に示されるように、３次
元形状情報に基づく第１層２１の断面の輪郭内部が図示
Ｘ方向と平行に照射間隔が直径の２．０倍の間隔で折り
返し状に走査される。すなわち、隣合うビーム９の中心
同志の間隔が１．０ｍｍとなり、図７（ｂ）に示される
ように、各ビーム９による照射領域２１ａは互いに重な
り合うことなく、離隔的に照射されることになる。さら
に、この後、図示Ｙ方向に平行に同様の照射間隔で折り
返し状に走査される。この結果、ビーム９は直径と同間
隔（０．５ｍｍ）の隙間を残して帯状に照射され、格子
状の照射領域２１ａが形成される。この照射領域２１ａ
においては、樹脂８は速やかに硬化する。そして、この
格子状の照射領域２１ａの間には未硬化部分２１ｂがビ
ーム９の直径の間隔をおいて形成される。

【００２９】次に、ステ−ジ１１を降下させ、第１層２
１を１層の厚み分だけ降下させて、第１層２１の上に新
たな樹脂８を導入する。第２層２２の断面形状情報に基
づいて、その輪郭内部を照射する。今回の照射は、ま
ず、図８（ａ）に示されるように、Ｘ方向に平行に照射
間隔をビーム９の直径の１．３倍として、折り返し状に
走査される。すなわち、ビーム９の中心同志の間隔が
０．６５ｍｍとなるように、走査される。さらに、Ｙ方
向に平行に同様の照射間隔で折り返し状に走査される。
つまり、第２層２２においては、図８（ｂ）に示すよう
に、Ｘ方向にもＹ方向にもビーム９は直径の０．３倍の
隙間（０．１５ｍｍ）を残して帯状に照射される。この
結果、わずかな未硬化部分２２ｂを残して、照射領域２
２ａが形成される。この領域２２ａのほとんどは二重照
射領域となるが、樹脂８の補充が可能な状態での照射で
あるので、収縮応力が作用することなく硬化する。

【００３０】また、この第２層２２の照射により、第１
層２１においても、その上側に二重あるいは三重照射領
域が形成される。この二重あるいは三重照射領域におい
ては、図示はしないが、前記第１及び第２実施例と同様
に周囲に収縮応力が作用する。さらに、第１層２１の未
硬化部分２１ｂでは、第２層２２の照射によって、その
上側が部分的に硬化するが、第２層２２の下側を中心と
した照射されなかった部分については、第１実施例及び
第２実施例と同様、樹脂８の不足が起きる。すなわち、
この未硬化部分を充填しうる充分な樹脂がすでに存在し
ない状態で硬化が徐々に進行する。したがって、硬化す
るにつれ、周囲の硬化域を引っ張りながら硬化しようと
する。すなわち、第１層２１の下側に部分的に強い収縮
応力が作用することになる。第１層２１の上側の収縮応
力に比較して下側の収縮応力の作用が大であるので、第
１層２１には、下方へ反ろうとする応力が生じることに
なる。

【００３１】次に、ステージ１１を降下させて、第２層
２２を１層分の厚み（０．２ｍｍ）だけ降下させると、
この第２層２２上に新たな樹脂８が導入される。図９
（ａ）に示されるように、この樹脂８の表面に、さらに
第２層２２の断面形状情報に基づいて、その輪郭内部を
照射する。第３層２３の照射は、まず、Ｘ方向に平行に
照射間隔をビーム９の直径の１．１倍として、折り返し
状に走査される。すなわち、ビーム９の中心同志の間隔
が０．５５ｍｍとなるように、走査される。さらに、Ｙ
方向に平行に同様の照射間隔で折り返し状に走査され
る。つまり、第３層２３においては、図９（ｂ）に示す
ように、Ｘ方向にもＹ方向にもビーム９は直径の０．１
倍の隙間（０．０５ｍｍ）を残して帯状に照射される。
この結果、ごくわずかな未硬化部分２３ｂを残して、照
射領域２３ａが形成される。この領域２３ａのほとんど
は二重照射領域となるが、樹脂８の補充が可能な状態で
の照射であるので、収縮応力が作用することなく硬化す
る。

【００３２】また、この第３層２３の照射により、第２
層２２においても、その上側に二重あるいは三重照射領
域が形成される。この二重あるいは三重照射領域におい
ては、図示はしないが、前記第１及び第２実施例と同様
に周囲に収縮応力が作用する。さらに、第２層２２の未
硬化部分２２ｂでは、第３層２３の照射によって、その
上側が部分的に硬化するが、第２層２２の下側を中心と
した照射されなかった部分については、第１実施例及び
第２実施例と同様、樹脂８の不足が起きる。すなわち、
第２層２２の下側に部分的に強い収縮応力が作用するこ
とになる。しかし、この層２２における収縮応力は第１
層２１に較べて積層平板全体としては小さい作用でしか
ない。第２層２２においては未硬化部分２２ｂ自体が少
なく、第３層２３の照射によっても光が到達しない部分
が少ないからである。したがって、第１層２１と違って
第２層２２には、上方への反りが生じる。この結果、第
１層２１の反りを相殺あるいは補正するように作用し、
全体として反りのない積層平板２０が造形される。

【００３３】このように、第１層２１、第２層２２及び
第３層２３において、各層内でビーム９の走査方向を直
交させる場合においても、離隔的照射により未硬化部分
２１ｂ、２２ｂを介在させることができる。また、これ
らの照射間隔を各層において変えることによって、未硬
化部分の割合を調整して、収縮応力の作用の程度を調節
することができる。

【００３４】なお、全面照射されて未硬化部分を有しな
い層に対して未硬化部分を有する層を幾層、そしてどの
ように組み合わせて介在させれば、反りのない積層平板
が得られるかは、照射の走査間隔、方向の設定、ビーム
の強度、走査スピード等の条件による。したがって、反
りのない積層平板を得るには、未硬化部分を有する層が
１層に対して照射層が複数層必要である場合もあり、ま
た逆の場合もある。さらに、未硬化部分を有する層は単
独で介在させたり、積層して介在させたりする場合もあ
る。

【００３５】

【発明の効果】上述したように、本発明によれば、光硬
化造形法によって積層平板を造形する際に、ビームが照
射されないで未硬化の部分を有する層を介在させること
により、新たな収縮応力を生じさせて、この収縮応力に
より従来の収縮応力による反りの作用を補正し、相殺す
ることができる。このため、歪みの少ない正確な形状を
造形できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図３に示す第１実施例における積層板のａ−ａ
線拡大断面図と収縮応力の作用図と収縮応力の相殺状態
を示す図を対応させた図である。

【図２】光硬化造形法による積層板の造形法の模式図で
ある。

【図３】積層板と積層板の各層のビーム走査方法を示す
図である。

【図４】第２実施例の積層板と積層板の各層のビーム走
査方法を示す図である。

【図５】図４の積層板のｂ−ｂ線拡大断面図と収縮応力
の作用図と収縮応力の相殺状態を示す図を対応させた図
である。

【図６】図４の積層板のｃ−ｃ線拡大断面図と収縮応力
の作用図と収縮応力の相殺状態を示す図を対応させた図
である。

【図７】第３実施例の積層板の第１層のビームの走査方
法と照射領域を示す斜視図である。

【図８】第３実施例の積層板の第２層のビームの走査方
法と照射領域を示す斜視図である。

【図９】第３実施例の積層板の第３層のビームの走査方
法と照射領域を示す斜視図である。

【図１０】従来の造形法におけるビームの走査方法を示
す斜視図である。

【図１１】従来の造形法による積層板の拡大断面図と収
縮応力の作用図と収縮応力の相殺状態を示す図を対応さ
せた図である。

【符号の説明】

２、１５、２１、２２…未硬化部分を残した層３、１６、２２、２３…上部層６、１９、２１ｂ，２２ｂ…未硬化部分１２、１３、２０…積層平板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光硬化造形法で積層平板を造形する際
に、離隔的に照射することによって、未硬化部分を残した層
を形成する工程と、その上部層の硬化の際に、前記未硬化部分を硬化させる
工程とを有し、硬化に伴う歪みを相殺しつつ積層された平板を形成する
ことを特徴とする光硬化造形法における積層平板造形
法。