JP6560953B2 - ３次元の構造を製作する方法 - Google Patents

Description

本発明は、リソグラフィ材料で３次元の構造を製作する請求項１に記載の、方法に関する。

このようなリソグラフィ方法は、たとえばプロトタイプを製作するときや、特殊な形状要求事項のある工作物を作製するときなどに適用される。特にこのような種類の方法は、たとえば実験の目的のために、ならびに広い形成自由度が望まれる分野において、ミクロ構造やナノ構造を作製する役目も果たす。用途は、たとえば型取り可能なトポグラフィの製作、大量生産レプリカ用のステンシルや母型の製作、光導波路のために適合化されたコネクタの製造、医療用途のために適合化された人工補装具の製作などである。

いわゆる立体リソグラフィ法が（たとえば特許文献１から）知られており、その場合、液体のリソグラフィ材料からなる、特に感光性ポリマーからなる浴液の中で、書込ビームによる的確な露光によって、所望の構造が層ごとに構成される。そのために書込ビームが局所的な露光によって、リソグラフィ材料からなる浴液の表面で、層を所望のパターンでそれぞれ重合させる。そして、リソグラフィ材料からなる浴液の中へ支持基板を段階的に沈めていくことによって、構造が層ごとに構成されていく。このとき、層ごとに構成される構造に、同じくリソグラフィ材料で作製されて通常は構造の外部に延びる追加の支持構造を、支持基板で構造を支持するために設けることも（たとえば特許文献２から）知られている。このような支持構造により、未完成の構造の崩壊が回避される。

上述した方法は、広い形成自由度と高い精度をもつ構造の製作を可能にするものではあるが、特に、大容積の構造や連続する構造を作製しようとする場合には、著しいプロセス時間を必要とすることがある。この問題が特に生じるのは、所望の構造が大容積の区域を有するとともに、小さな構造規模をもつ領域をさらに有している場合である。その際に、小さな構造化に基づいて高い位置分解能が必要であれば、大容積の領域の製作が、著しく長いプロセス時間を生じさせることになる。

米国特許出願公開第４，５７５，３３０Ａ１号明細書 ドイツ特許第１０５ ０７ ８８１ Ｂ４号明細書

本発明の課題は、高度の形成自由度とできる限り短いプロセス時間とによって構造の製作を可能にし、その際に、作製される構造の高い精度と形状忠実度を保証することにある。

この課題は請求項１に記載の方法によって解決される。所望の３次元の構造は、エネルギー注入方式（たとえば照射、加熱）によってコントロールされながら重合可能であり、それによって固化可能ないし硬化可能であるリソグラフィ材料で作製される。リソグラフィ材料は、重合していない状態では液体状、ビスコース状、ゲル状、または固体状で存在しているのが好ましい。たとえばリソグラフィレジスト、特にネガ型レジストが適用される。この方法では最初に、空間的に位置分解を行う第１のエネルギー注入方式によって、作製されるべき構造の外套壁が定義され（すなわち、リソグラフィ材料の中で位置分解されて重合され）、それにより、重合していないリソグラフィ材料の容積が外套壁によって閉じ込められるようにされる。これに続いて、重合した外套壁を包囲するリソグラフィ材料が少なくとも部分的に除去される中間現像ステップが実行される。これに引き続いて第２のエネルギー注入方式により、外套壁で閉じ込められているリソグラフィ材料の容積が重合され、すなわち固化ないし硬化される。

このように、リソグラフィ材料が重合していない初期状態で、最初にリソグラフィ材料の容積が、包囲するリソグラフィ材料に対して外套壁によって区切られる。そのために、必要な位置分解能で外套壁を作製可能であるエネルギー注入方式が選択される。外套壁により、包囲するリソグラフィ材料の中で所望の構造が定義される。中間現像ステップで、包囲するリソグラフィ材料が少なくとも部分的に、好ましくは全面的に除去される。

このように、第１の方式の高い位置分解能によって外套壁だけが書き込まれる。そして、閉じ込められたリソグラフィ材料の重合と固化のときには、高い位置分解能なしでエネルギー注入を行うことができる。それによってプロセス時間を大幅に節減することができる。特に、高い時間コストをかけて位置分解を行うエネルギー注入方式により、大容量の区域を書き込むことは必要ない。作製される構造指標（壁部、支持構造など）の寸法は、たとえばナノスケール（＜１０ｅ^−１μｍ）、マイクロスケール（１０ｅ^−１〜１０ｅ^＋２μｍ）、およびメゾスケール（１０ｅ^＋２−１０ｅ^＋４μｍ）であり得る。作製される容積は基本的には制限はないが、典型的な用途では＜１立方センチメートルの範囲内にあり得る。

本発明による方法は、明らかに短縮されるプロセス時間にもかかわらず、高い位置分解能を保証する。閉じ込めをする外套壁が、位置分解を行う第１のエネルギー注入方式によって作製されるからである。それにより、ラピッドプロトタイピングがいっそう短いプロセス時間で可能である。

基本的に、閉じ込められる容積は、第２のエネルギー注入プロセスの後に、これを取り囲む外套壁と異なる重合度および／または異なる機械的特性および／または異なる光学的特性を有していることが考えられる。それにより、さまざまな機械的特性や光学的特性をもつ構造を作製することができる。さらに、外側に位置する支持構造は、必ずしも必要ではない。そのような外側に位置する支持構造は、リソグラィ材料の中で構造を層ごとに構成する冒頭に説明した方法では、特に、リソグラフィ材料からなる浴液の中で層ごとに生じる構造を固定し、未完成の構造の区域が浮遊するのを防止する機能を有しているが、このことは外套シェルが構成されれば不要となる。

第２のエネルギー注入方式は、第１のエネルギー注入方式とは相違しているのが好ましい。特に、第２のエネルギー注入方式は、位置分解を行わない方式として構成されていてよく、および／または外套壁で閉じ込められた未重合のリソグラフィ材料全体に対して作用することができる。このように第１のエネルギー注入方式は、第２のエネルギー注入方式の位置分解能よりも何倍も高い位置分解能を有することができる。たとえば第２のエネルギー注入方式は加熱方法、ベーキング方法、またはその他の硬化方法であってよい。たとえば重合した外套壁をもつ構造を炉の中へ、たとえば熱対流炉や管状炉の中へ入れることができ、あるいは、加熱装置（たとえば加熱プレート）との接触を成立させることができる。マイクロ波照射、赤外照射、ＵＶ照射を利用したエネルギー注入方式も考えられる。

それに対して位置分解を行う第１のエネルギー注入方式では、リソグラフィ材料の重合は、空間的に狭く限定されていて特に変位可能な、放射源の書込ビームの焦点領域で行われるのが好ましい。方法の並列化も考えられ、その場合、位置分解された露光パターンを形成することができる、複数の放射源の複数の書込ビームの１つまたは複数の焦点領域が利用される。第１のエネルギー注入方式はたとえばレーザリソグラフィ方式や電子ビームリソグラフィ方式であってよく、特に３Ｄレーザリソグラフィ方式であってよい。書込ビームによる構造の定義は時間コストがかかるものの、高度に正確な構造を実現することができる。しかし外套壁だけが定義されるので、それにもかかわらず短い構造時間を実現することができる。

第１のエネルギー注入方式では、リソグラフィ材料の重合は、書込ビームの焦点領域での２光子吸収または多光子吸収によって行われるのが好ましい。リソグラフィ材料は、特に、２光子吸収または多光子吸収によってのみ重合が可能であるように構成されるとともに、放射源は、特にそのようなリソグラフィ材料に合わせて適合化される。そのために、たとえば書込ビームの波長は、重合のために必要なエネルギー注入が２つまたはそれ以上の光子の吸収によってのみ実現される程度の大きさに選択されていてよい（且つ、光子エネルギーがそのような程度に低くなっていてよい）。そのような吸収プロセスが起こる確率は強度依存的であり、焦点領域における他の書込ビームに比べて明らかに高い。基本的な考察の枠内では、２つまたはそれ以上の光子が吸収される確率は、放射強度の平方またはこれよりも高い累乗に依存し得ることが明らかとなっている。これとは対照的に、１つの光子の吸収が起こる確率は異なる強度依存性を有している。さらに、リソグラフィ材料へ書込ビームが注入されると基本的に減衰が行われる。たとえばリソグラフィ材料への侵入深さに依存する強度低下については、ベールの法則が成立し得る。その帰結として、１光子吸収を利用してリソグラフィ材料の表面下の深くまで焦点領域でなされる、位置分解を行う重合には問題がある。焦点領域の表面下で集束をするときの減衰に基づき、必ずしも最大の強度が生じないからである。したがって、冒頭に説明した立体リソグラフィ方式では、構造の構成は常にリソグラフィ材料からなる浴液の表面でのリソグラフィ材料の露光のみによって層ごとに行われる。２光子吸収または多光子吸収を利用すれば、リソグラフィ材料からなる浴液中への構造のこのような層ごとの沈降が必ずしも必要ない。侵入深さが比較的大きいときでも、別の法則性に基づき、重合が書込ビームの焦点領域だけに制限され得るからである。

好ましい実施形態では、位置分解を行う第１のエネルギー注入によって、好ましくは外套壁と一緒に、外套壁の内部に位置する支持構造が定義され、すなわち重合される。このように支持構造は、特に外套壁によって閉じ込められる容積の内部に位置しており、場合により、これを部分容積に下位区分することもできる。支持構造の定義にあたっては、外套壁とのわずかな重なり合いが好ましい場合もあり、それによって支持構造の各要素が外套壁とわずかに重なり合い、そのようにして、外套壁と固定的に結合されることになる。支持構造は、特に、外套壁の各区域の間および／または外套壁の各区域と基板の間に延びる支持要素を有している。支持構造により、外套壁によって設定される形状の形状忠実性を確保することができる。特に、外套壁によって定義される構造が、中間現像ステップ、第２のエネルギー注入、または硬化ステップのときに、変形したり崩壊したりするのを防止することができる。全体として、閉じ込められた容積の硬化後に実現される形状が、外套壁によって設定される形状と一致することを保証することができる。

外側に位置する支持構造を有する公知の構造化方法とは異なり、内側に位置する支持構造は、所望の構造の完成後に除去する必要がない。そのようにして、内側の容積が硬化した後の構造の後処理（仕上げ）をするプロセス時間を節減することができる。これに加えて、外側に位置する支持構造は除去後に通常、廃棄産物を形成し、このことは、高価なリソグラフィ材料の使用にあたって望ましくないコスト上昇につながる可能性があるが、内側に位置する支持構造によって回避される。

さらに支持構造の構成は、所望の構造の機械的特性を調整、調節することを可能にする。たとえば適当な支持構造により、弾性作用のあるコアを外套壁の中に作成することができ、また、所望の構造の弾性を調節することが考えられる。支持構造は、たとえばハーフティンバー状に、３Ｄハニカム格子の形態で、立体的な格子として、および／または外套壁の各区域の間に延びる支柱または壁部からなる構造として構成されていてよい。

外套壁は、容積を全面的に取り囲む外套壁であるのが好ましい。しかしながら、リソグラフィ材料が基板の上に塗布されていて、基板の表面の１区域が外套壁とともに、重合されていないリソグラフィ材料の容積を閉じ込めることも考えられる。基板は原則として任意であってよく、たとえばガラスウェーハや半導体ウェーハ、セラミック部品、または成形体であってよい。このように基板の表面は、閉じ込められる容積の区切りの一部としての役目を果たす。それによって外套壁が容積を全面的に閉じ込めなくてよくなり、第１のエネルギー注入ステップで作製しなくてもよくなる。このことはいっそうの時間節減をもたらす。閉じ込められる容積の終端部が、部分的に基板によって形成されるからである。

中間現像ステップは、外套壁で閉じ込められる重合されていないリソグラフィ材料の容積がほぼ影響を受けないままに保たれ、特に、未硬化および／または未エッチングのまま保たれるように構成されているのが好ましい。中間現像ステップはたとえば湿式化学による現像ステップであってよく、特に、外套シェルを包囲するリソグラフィ材料の剥離を惹起するように構成されていてよい。たとえば現像媒体中での浴が考えられる。

光重合可能かつ熱重合可能であるリソグラフィ材料を使用するのが好ましい。この意味で光重合可能な材料とは、たとえば光、レーザ光、ＵＶ等からなる書込ビームによる第１のエネルギー注入方式によって重合可能である光硬化性のプラスチックであると理解される。熱重合可能なリソグラフィ材料は、たとえば閾値温度を超えて加熱されたときに重合した状態への転換を行う材料である。その場合、第２のエネルギー注入方式は加熱であるのが好ましい。しかしながら、光重合可能なだけの材料を使用することも考えられ、この場合、第１のエネルギー注入方式は位置分解された照射であり、第２のエネルギー注入方式はたとえばＵＶ硬化のような大容積の照射を含んでいる。

材料壁は、それぞれ相違する壁厚を有する壁区域を備えるように構成されていてよい。それにより、材料壁の機械的特性を調整することができる。さらに、構造形態に基づき、たとえば中間現像ステップのときの外套壁の崩壊を回避するために高い安定性を有していなければならない壁区域だけが大きい壁厚を備えるように、構成されることが考えられる。

本方法のさらなる構成のために、中間現像ステップの後で外套壁の再硬化が行われ、および／または第２のエネルギー注入方式による重合の後で実現された構造の再硬化が行われることが考えられる。再硬化は、たとえば硬化ステップおよび／または硬化剤の浴液中での化学処理を含むことができる。

原則として、前置されるソフトウェア工学式のデータ処理プロセスが意図されていてよく、その際には最初に、作製されるべき構造を表すデータが準備され（たとえばＣＡＤデータ）、次いで、少なくとも１つの外套シェルに割り当てられるデータセットがソフトウェア工学的に決定され、それにより、外套シェルと閉じ込められる容積とが合わさって、所望の構造を生じるようにする。そして、第１のエネルギー注入方式を実行するための装置（たとえば３Ｄレーザリソグラフ）を、データセットによって相応に制御することができる。

大容積の区域を備えている構造では、外套壁を部分壁からシーケンシャルに組み合わせてつくることもできる。そのために外套壁は、複数の部分壁がシーケンシャルに作製されることによって定義され、部分壁の書込のために、位置分解を行うエネルギー注入方式を実行する装置の書込領域がシーケンシャルに変位して位置決めされ、そのつど書込領域で部分壁が定義され、すなわち重合される。

そのために、最初にデータ処理ステップで、構造を表すデータを、部分壁に割り当てられた部分領域へ、たとえばいわゆるスプリッティング方法でソフトウェア工学式に分解することができる。そして、位置分解を行うエネルギー注入方式を実行する装置（たとえば３Ｄレーザリソグラフ）を相応に制御することができる。

原則として、書込領域はエネルギー注入装置または露光装置の技術的条件よって規定されており、特に、書込ビームを所要の位置分解能で案内することができる領域を含んでいる。組み合わされた部分壁からの外套壁の作製が特に好ましいのは、位置分解を行うエネルギー注入方式が、作製されるべき構造のサイズに比較して小さな書込領域を有する装置によって行われる場合である。

次に、図面を参照しながら本発明について詳しく説明する。

図面は次のものを示している：

製造方法を説明するために製作されるべき構造を示す略図である。 図１に示す構造の製造ステップを図解するための略図である。 図１に示す構造の製造ステップを図解するための略図である。 図１に示す構造の製造ステップを図解するための略図である。 別の構成指標を有する構造のための製造方法を説明するための略図である。 図５に示す構造の製造の中間ステップを説明するための略図である。 複雑な構造のための製造方法を説明するための略図である。

以下の説明ならびに図面では、同一または互いに対応する構成要件にはそれぞれ同じ符号が使われている。

図１から４を参照して、一例としての第１の３次元の構造の構成についてまず模式的に説明する。

最初に、製作されるべき構造１０を表すデータ（たとえばＣＡＤデータ）がソフトウェア工学式に準備される。ここでは一例として、基板１４の表面１２の上で３次元のプロトタイピング方法を適用して製作されるべきピラミッド型の構造１０が選択されている。構造１０を表すデータが、構造１０の外套壁１６と、外套壁１６の内部に位置する容積区域１８へとソフトウェア工学式に分解される。図示した例では容積区域１８は、一方では外套壁１６によって外部に向かって区切られるとともに、他方では基板１４の表面１２によって閉じられている。しかしながら、すべての方向に向かって外套壁１６で区切られた、および／または基板１４の上に配置されるのではない構造１０も考えられる。

さらに、互いに直接的に接し合い、構造１０を特に全面的かつ、たとえば重なり合いなしに覆う部分領域２０，２０’への構造１０の分解が、ソフトウェア工学的に行われる。しかしながら、用途および／または使用する器具の精度によっては、わずかな重なり合いが好ましい場合もある。各々の部分領域２０，２０’に外套壁１６の部分壁２２，２２’が含まれており、それにより、部分領域２０，２０’が組み合わされると、部分壁２２，２２’が補い合って完全な外套壁１６を（特に重なり合いなしに）なすようになっている。

次に、図２から図４を参照して、データによって図１の形式で表される構造１０が、どのようにして実際に製作されるかを説明する。基板１４がたとえばリソグラフィ材料２４からなる浴液の中に配置され、このようにして浴液は、基板１４の表面１２の上方の空間を充填する（図２参照）。リソグラフィ材料２４は、たとえば光重合可能でもあり熱重合可能でもある液体状またはビスコース状のプラスチックレジストである。このように、リソグラフィ材料２４をエネルギー注入方式によってコントロールしながら重合させ、それによって固化させることができる。光重合のために、たとえば空間的に位置分解を行う第１のエネルギー注入方式が適用され、この方式では、書込ビームの焦点領域で空間的に位置分解を行うように重合を惹起することができる。さらに第２のエネルギー注入方式により、後でまた詳しく説明するように、たとえば熱重合を行うことができる。

構造１０を製作するために、最初に空間的に位置分解を行う第１のエネルギー注入方式（たとえば空間的に変位可能な書込ビームの焦点領域での光重合）によって、外套壁１６だけがリソグラフィ材料２４の中で重合されて固化される。

空間的に位置分解されたエネルギー注入を生成する装置では、しばしば書込ビームが精度要求事項に基づいて制限されるので、部分領域２０，２０’で構造ディテールが順次書き込まれる。特に部分領域２０，２０’は、位置分解を行う第１のエネルギー注入のための装置（たとえばレーザリソグラフ）の書込領域２６の内部にそれぞれ位置するように選択される。

したがって、図２に示すように、最初に解像をする第１のエネルギー注入方式のための書込領域２６が構造１０の第１の部分領域２０の上に設定されて、第１の部分領域２０の部分壁２２が書き込まれる。続くステップで、書込領域２６が構造１０の別の部分領域２０’の上に設定されて、部分壁２２’が書き込まれ、すなわち重合されて固化される。部分壁２２，２２’が組み合わされて完全に外套壁１６をなす。それにより、外套壁１６によって、および図示した例では基板１４の表面１２によって、重合していないリソグラフィ材料の容積２８が閉じ込められる。その理由は、外套壁１６を作製するために選択される第１のエネルギー注入方式が高い位置分解能を有しており、コントロールされながら外套壁１６だけを重合されることに帰せられる。閉じ込められた容積２８は、構造１０の容積区域１８と対応している。

閉じ込められた容積２８を同じく固化させ、そのようにして構造１０を永続的に作製するために、中間現像ステップで、外套壁１６を包囲する、たとえば現像媒体からなる浴液のリソグラフィ材料を除去することができる。

そして、こうして露出した、外套壁１６と、まだ重合していない閉じ込められた容積２８とからなる構造を、第２のエネルギー注入方式を作製する装置へ入れることができる。第２のエネルギー注入方式は、もはや高い位置分解能を有していなくてよい。むしろ、第２のエネルギー注入方式は、外套壁１６で閉じ込められている構造全体にグローバルに作用することが考えられる。たとえば基板１４を外套壁１６および閉じ込められた容積２８とともに、加熱をするための炉に入れることができる。そして、第２のエネルギー注入方式によるエネルギー注入によって、閉じ込められた容積２８が同じく重合して固化される。

図４に図示するように、第２のエネルギー注入方式の構成によって容積２８の硬化の特性を調節することができ、そのようにして、外套壁１６の内部に容積区域１８を作製することができ、たとえば容積区域１８の物理的特性は外套壁１６と相違している。しかしながら第２のエネルギー注入方式は、容積２８の硬化後に、外套壁１６とその中に閉じ込められた容積区域１８が組み合わされてなる均質な構造１０が生じるように構成されていることも考えられ、この場合、外套壁１６と容積区域１８は、同じ構造特性および／または物理的特性を有している。

図５と図６を参照して、製造方法のさらに別の構成について説明する。図５には、所望の構造１０を表すデータの前処理が同じく図示されている。構造１０が、外套壁１６と、閉じ込められた容積区域１８とに同じく分解される。さらに、複数の支持要素３２を有する、外套壁１６の内部に位置する支持構造３０が定義される。図示した例では、支持要素３２は外套壁１６の各区域と基板１４の表面１２との間に延びている。しかしながらその追加または代替として、外套壁１６の各区域の間にのみ延びる支持要素が設けられていてもよい。このことが特に考慮の対象となるのは、容積区域が外套壁１６によってのみ閉じ込められていて、容積区域１８の区切りが基板１４の表面１２によっては行われていない場合である。

第１のエネルギー注入方式のための書込領域の制限されたサイズを考慮に入れるために、構造１０が同じく複数の部分領域２０，２０’に分解され、これらの部分領域は、組み合わされて外套壁１６をなす部分壁２２，２２’を同じくそれぞれ含んでいる。そして部分領域２０，２０’には、支持構造３０の部分区域３４，３４’も含まれており、それにより、部分領域２０，２０’を組み合わせることで支持構造３０の全体が生じる。

図６を参照して構造１０の実際の構成について同じく説明する。そのために、たとえばリソグラフィ材料２４からなる浴液に基板１４が投入される。第１のステップで、書込領域２６が構造１０の第１の部分領域２０の上に設定され、位置分解を行う第１のエネルギー注入方式によって外套壁１６の部分壁２２および支持構造３０の部分区域３４が重合される。これに続くステップで、書込領域２６が構造１０の別の部分領域２０’の上に設定されて、残りの部分壁および支持構造の部分区域が書き込まれる。それにより、外套壁１６および場合により基板１４の表面１２の内部には、重合されていないリソグラフィ材料２４の容積２８が閉じ込められる。このケースでは、未重合の容積２８は支持構造３０の固化した支持要素３２によって貫通される。支持要素３２は、図示した例では、外套壁１６の各区域と基板表面１２との間に延びているので、支持要素３２は、たとえば後続する中間現像ステップのときの外套壁１６の崩壊を防止する。別案の実施形態では、外套壁１６の各区域の間に延びる支持要素３２が、外套壁１６の各領域の変形や浮き上がりを回避することができる。

これに続く方法ステップで、やはり正確な位置分解能を有さなくてよい第２のエネルギー注入方式により、閉じ込められている容積２８が重合される。必要に応じて、材料を事前に中間現像ステップで除去しておくことができる。第２のエネルギー注入方式についてのパラメータを調整することで、たとえば容積２８を重合の後でも、支持構造３０とは異なる物理的および／または機械的な特性を有することができる。そのようにして、構造１０の機械的特性を調整することができる。しかしながら第２のエネルギー注入は、外套壁の内部で完全に均質な構造が生じるように選択されていることも考えられる。

図７を参照して、複雑な構造１０について、製造方法を実施するための構造を表すデータの前処理について説明する。構造１０が、外套壁１６および、これにより閉じ込められた容積区域１８へと同じく分解される。これに加えて、複数の部分領域２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄ，２０ｅ，２０ｆ，２０ｇへの分解が行われる。これらの部分領域２０ａから２０ｇはやはり部分壁２２ａ，２２ｂ，．．．をそれぞれ含んでおり、これらのうち図面の見やすさの都合上、いくつかだけに別々の符号が例示として付されている。これに加えて、部分領域２０ａから２０ｇは、外套壁１６の各区域の間に延びる支持要素を備える、および／または外套壁１６の各区域と基板表面１２との間に延びる支持要素を備える、支持構造を含んでいることが考えられる（図示せず）。

構造１０を製作するために、同じく部分領域２０ａから２０ｇがシーケンシャルに順次書き込まれていき、その中に含まれる部分壁２２および場合により支持構造の支持要素もしくは各区域が書き込まれる。このとき部分領域を処理する順序は、特に、すでに書き込まれている区域の変形や位置変化が、以後の部分領域の書込中に防止されるように行うことができる。図示した例では、部分領域２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄ，２０ｅ，２０ｆ，２０ｇは掲げている順序で書き込まれるのが好ましい。それにより、たとえばそれ以前に書き込まれた部分領域２０ｇおよびその中で固化した部分壁２２ｇがまだ他の部分壁により支持されておらず、リソグラフィ材料からなる浴液の中に沈降するのを防止することができる。さらに、外套壁１６はそれぞれ異なる部分領域２０ａから２０ｇに、それぞれ相違する壁厚を備えた壁区域を有していることが考えられる。たとえば比較的大きい支持荷重を構造１０によって受け止めなければならない部分領域の部分壁を、厚く施工することができる（たとえば部分領域２０ｄおよび２０ｃにおける部分壁２２ｄおよび２２ｃ）。

１０ 構造
１２ 基板表面
１２ 表面
１４ 基板
１６ 外套壁
１８ 容積区域
２０ 部分領域
２０， 部分領域
２０ａ、２０ｂ、２０ｃ、２０ｄ、２０ｅ、２０ｆ、２０ｇ 部分領域
２２ 部分壁
２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２２ｆ、２２ｇ 部分壁
２４ リソグラフィ材料
２６ 書込領域
２８ 容積
３０ 支持構造
３２ 支持要素
３４ 部分区域

Claims (9)

1. エネルギー注入方式により重合可能かつ固化可能なリソグラフィ材料（２４）で３次元の構造（１０）を製作する方法において、
   最初に、作製されるべき構造（１０）の外套壁（１６）を空間的分解能を有する第１のエネルギー注入方式によって重合し、それにより、未重合のリソグラフィ材料の容積（２８）が閉じ込められるようにし、
   中間現像ステップで、重合した前記外套壁（１６）を包囲するリソグラフィ材料（２４）を除去し、
   次いで、第２のエネルギー注入方式によって、前記外套壁（１６）により閉じ込められているリソグラフィ材料の容積（２８）を重合する方法であって、
   前記空間的分解能を有する第１のエネルギー注入方式によって、外套壁（１６）の各区域の間に延びる支持要素を有する、前記外套壁（１６）の内部に位置する支持構造（３０）をさらに画定することを特徴とする
   方法。
2. 第２のエネルギー注入方式は第１のエネルギー注入方式と相違しており、空間的分解能を有さず、前記外套壁（１６）により閉じ込められている未重合のリソグラフィ材料に対して全体的に作用することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
3. 空間的分解能を有する第１のエネルギー注入方式によるリソグラフィ材料の重合は、放射源の書込ビームの空間的に変位可能な焦点領域で行われることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
4. リソグラフィ材料の重合は２光子吸収または多光子吸収によって書込ビームの焦点領域で行われることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. リソグラフィ材料が基板（１４）の上に塗布され、未重合のリソグラフィ材料の容積（２８）は、前記基板（１４）の表面（１２）の１区域と前記外套壁（１６）とによって閉じ込められることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
6. 前記中間現像ステップは前記外套壁（１６）により閉じ込められた未重合のリソグラフィ材料の容積（２８）に影響をおよぼさないことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 光重合可能および／または熱重合可能であるリソグラフィ材料（２４）が使用されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
8. 前記外套壁（１６）はそれぞれ異なる壁厚を備える複数の壁区域（２２ａ−２２ｇ）を有していることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
9. 作製されるべき構造（１０）の前記外套壁（１６）は、前記外套壁（１６）の一部をなす複数の部分壁（２２，２２’；２２ａ−２２ｇ）を逐次形成することにより画成され、ここで、各部分壁（２２，２２’；２２ａ−２２ｇ）は書込領域（２６）において画成されることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
   

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