JPH02110809A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体からデータを読み出したり、磁
気記録媒体にデータを書き込んだりする磁気記録再生装
置に用いられる薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するもの
である。

従来の技１ｔｊ 第５図は従来の薄膜磁気ヘッドを示す側断面図である。

第５図において１は非磁性体で構成され、ラッピング等
で平坦加工が施された基板であり、基板１はスライダー
も兼用する。２は基板ｌの上に形成された下部磁性層で
あり、下部磁性層２は次の様に形成される。基板１上に
センダストによって３〜１０μｍの厚さの磁性層を形成
し、磁性層はエツチングやりフトオフで所定の形状に仕
上げて形成される。３は下部磁性層２の上に形成され、
磁気ギャップとなるギャップ層で、ギャップ層３は二酸
化シリコン等の無機材料で０．５μｍ程スパッタリング
等で形成する。４はギャップ層３の上に形成された絶縁
層で、絶縁Ｍ４はフォトレジスト等の有機絶縁材料で形
成する。５は絶縁層４の上に形成されたコイル層で、コ
イル層５は次に様にして形成される。先ず絶縁層４の上
にＣｕ、ＡＩ等の導電材料を電着、蒸着等の方法によっ
て付着させ、エッヂング、リフトオフ等により所定の形
状に仕上げて形成する。６は下部磁性層２と同様な方法
、材料で構成され、コイル層５の上に形成された上部磁
性層で、上部磁性層６とコイル層５の間を絶縁するため
に、フォトレジスト等で構成された絶縁層７を上部磁性
層６及びコ、イル層５の間に介在させる。８は上部磁性
層６の上に形成された保護層で、保護層８はスパッタリ
ング等でガラス等を２０〜４０μｍ付着させてラッピン
グ等によって平坦加工が施されている。最後にこの様に
形成された薄膜磁気ヘッド半製品の先端部を鏡面加工し
て媒体対向面を形成し完成させる。

この様に形成された薄膜磁気ヘッドはコイル層５に電流
を流す事により磁束が発生し、その磁束が上部磁性層６
及び下部磁性層２の何れか一方から飛び出し、その磁束
は磁気記録媒体の中を通って、飛び出した磁性層とは他
方の磁性層の方に戻っていく。

以上の様に構成された薄膜磁気ヘッドのギャップデプス
の仕上げ方について説明する。

第６図は従来の薄膜磁気ヘッドの先端部を示す断面斜視
図である゛。第６図において９は上部磁性層６の先端部
の基板ｌと並行になっているスロート部、１０は上部磁
性層６の立上り部、１１は上部磁性層６のアペックスで
ある。第６図においてギャップデプスとはスロート部９
の長さ、すなわち第６図に示すアウタースロートハイド
Ａと、第６図に示すアペックス１１からスロート部９と
立上り部１０の境界面までの長さＢを加えたものである
。この時、長さＢは上部磁性層６の膜厚等の諸条件によ
って予め決まっている。すなわちアウタースロートハイ
ドＡを測定し、アウタースロートハイドＡと長さＢを加
えたものがその時のギャップデプスである。従ってアウ
タースロートハイドＡを測定しながら先端面を研摩して
いき、所定のギャップデプスに仕上げる。以下アウター
スロートハイドＡの測定方法について第７図を基にして
説明する。先ず薄膜磁気ヘッドを切り出し、第７図に示
す様にオイル１２で満たされた容器１３の中に入れる。

この時オイル１２は保護層８と同じくらいの屈折率を有
するものを選ぶ。次に対物レンズ１４の先端部をオイル
１２の中に入れ、薄膜磁気ヘッドのスロート部９及び立
上り部１０の近傍を見る事ができるように配置する。す
なわち保護層８と同じ（らいの屈折率を持つオイル１２
に薄膜磁気ヘッドを浸すことにより、保護層８を通して
上部磁性層６を対物レンズ１４で見る事ができる。対物
レンズ１４を覗くとスロート部９と立上り部１０の境目
が線として見えるので、そこを基４線とし、その基準線
から先端面までの長さを測定する。すなわちこの長さが
さきほど述べたアウタースロートハイドＡである。従っ
てこのアウタースロートハイドＡを測定しながら先端面
を研摩して、所定のアウタースロートハイドＡに為るよ
うにしていた。

発明が解決しようとする課題 しかしながら前記従来の構成では、アウタースロートハ
イドＡを測定するためにはオイル１２に薄膜磁気ヘッド
を浸す等の工程を行わなければならず、作業が大変繁雑
で生産性を良くする事が出来なかった。またアウタース
ロートハイドＡを測定する事によってギャップデプスを
決めていたので、ギャップデプスをより短が（しようき
して立上り部１０まで削りこんでしまうと、アウタース
ロートハイドＡが無くなってしまい、ギャップデプスが
判らなくなるという事があった。

本発明は前記従来の問題点を解決するもので、複数の工
程を経なければ見る事ができない部分の長さを測定して
ギャップデプスを求めるのではなく、外に剥き出しにな
った部分の特定箇所の寸法を測定するだけでギャップデ
プスを求める事ができ、工数を大幅に減らす事ができ、
生産性を高める事ができるとともに、ギャップデプスを
極力小さくする事ができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を
提供する事を目的としている。

課組を解決するための手段 この目的を達成するために、二つの磁性層の少なくとも
一方に、各層が積層される基板の一面に対して傾斜した
立上り部があるヘッド素子部を形成し、立上り部の端面
が剥き出しになった状態で、立上り部の先端面の特定箇
所が所定の寸法になるまでヘッド素子部の先端面を研摩
するようにした。

作　　　　　用 この構成により、外に剥き出しになった立上り部の先端
面の特定箇所が所定の寸法になるように先端面を研摩す
ると、所望のギャップデプスになっている。

実施例 第１図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッドの製
造方法で作成された薄膜磁気ヘッドを示す側面図である
。第１図において１は基板、２は下部磁性層、３はギャ
ップ層、４は絶縁層、５はコイル層、６は上部磁性層、
７は絶縁層、８は保護層でこれらは従来の構成と同じで
ある。

以上の様に構成された薄膜磁気ヘッドのギャップデプス
の決め方を第２図から第４図に基づき説明する。

先ず基板１の上に、下部磁性層２．ギャップ層３、絶縁
層４．コイル層５．絶縁層７．上部磁性層６．保護層８
を順に形成し、ヘッド素子部を複数形成する。次に複数
のヘッド素子部の中からサンプルとして一つのヘッド素
子部を切り出して、そのヘッド素子部を第２図に示す様
に切断する。

第２図において１５は上部磁性層６のスロート部、１６
は上部磁性層の立上り部、１７はアペックスである。次
にスロート部１５が無くなるまで先端面を研摩する。こ
の状態を第３図に示す。この時スロート部１５を作成し
なく、予め立上り部１６を剥き出し状態にしているなら
ば、この工程は行わない。次に第３図に示すアペックス
１７から先端面１８までの長さすなわちギャップデプス
Ｃと、先端面１８に剥出しになった上部磁性層６の磁気
記録媒体との相対的移動方向の長さ、すなわち第４図に
示す長さＤの関係を求める。第４図は先端面１８を示す
平面図である。ギャップデプスＣと長さＤの関係は以下
の様に求める。先ず第３図の状態において先端面１８か
ら長さＤを測定して、その後に切断面からギャップデプ
スＣを測定する。

次に所定の長さだけ先端面１８を研摩する。そして又先
端面１８から長さＤを測定して、その後に切断面からギ
ャップデプスＣを測定する。この時研摩する前と後では
、長さＤは広くなっており、ギャップデプスＣは短かく
なっている。そしてこの様な工程をアペックス１７に達
するまですなわちギャップデプスＣが無くなるまでおこ
なう。この結果を例えば横軸に長さＤ１縦軸にギャップ
デプスＣをとりグラフを作成する。このグラフより所望
するギャップデプスに対応する長さＤを求める。次にサ
ンプルとして切り出したヘッド素子部以外のヘッド素子
部を切り出し、そのヘッド素子部の先端面を、先端面に
剥出しになった上部磁性層６の磁気記録媒体との相対的
移動方向の長さとグラフから求めた長さが同じになるま
で研摩する。

するとギャップデプスは所定の長さになっている。

以」二の様に本実施例によれば複数のヘッド素子部から
シンブルを一つ切り出し、ギャップデプスと先端面に剥
き出しになった上部磁性層６の磁気記録媒体との相対的
移動方向の長さの関係を求め、その関係から所望のギャ
ップデプスの時の相対的移動方向の長さがどの（らいで
あるかを求め、その前記相対的移動方向の長さと、他の
ヘッド素子部の前記移動方向の長さが同じになるまで他
のヘッド素子部の先端面を研摩して、所望のキャップデ
プスに仕上げる事ができるので、従来の様に特殊なオイ
ル等にヘッド素子部を浸す等の複数の工程を行なって保
護層に隠れたアウタースロートハイドを測定し、そのア
ウタースロートハイドカらギャップデプスを求めるより
も、はるかに生産性がよい。又、従来はアウタースロー
トハイドを求める事によってギャップデプスを求めてい
たために、ギャップデプスをより短か（しようとして立
上り部まで削りこむと、アウタースロートハイドが無く
なってしまいギャップデプスが判らなくなってしまうの
で、キャップデプスを短かくする事はできなかったが、
本実施例においてはギャップデプスを極力短かくする事
ができる。なお本実施例において立上り部を上部磁性層
にだけ形成したが、下部磁性層だけに形成しても、又下
部磁性層及び上部磁性層の両方に形成しても良い。又本
実施例において基板ごとに一つのヘッド素子部をサンプ
ルとしてとってギャップデプスと先端面に剥出しになっ
た磁性層の磁気記録媒体との相対的移動方向の長さの関
係を出したが、予め理論によってその関係を求めたり、
又複数の基板の中から一つの基板を取り出して、その一
つの基板からサンプルをとっても良い。又本実施例では
ギャップデプスと磁性層の立上り部の先端面に剥き出し
になった部分の磁気記録媒体との相対的移動方向の長さ
の関係を求めたが、剥き出しになった部分の面積とギャ
ップデプスの関係を求めても良い。また磁気記録媒体と
の相対的移動方向の長さではなく、剥き出しになった部
分の他の寸法でも良い。

発明の効果 本発明は、二つの磁性層の少なくとも一方に、各層が積
層される基板の一面に対して傾斜した立上り部があるヘ
ッド素子部を形成し、立上り部の端面が剥き出しになっ
た状態で、立上り部の先端、面の特定箇所が所定の寸法
になるまでヘッド素子部の先端面を研摩する事により、
外に剥き出しになった立上り部の先端面の特定箇所が所
定の寸法になるように先端面を研摩すると、所望のキャ
ップデプスになっているので、従来の様にギャップデプ
スを求めるために特殊なオイルに薄膜磁気ヘッド浸した
りする複数の工程が不要となり生産性が良くなる。また
磁性層の立上り部の先端面に剥き出しになった特定箇所
の寸法を測定してギャップデプスを決めているので、極
力ギャップデプスを小さ（する事ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッドの製
造方法で形成された薄膜磁気ヘッドを示す断面図、第２
図榴及び第３図はサンプルとして切り出させたヘッド素
子部の断面図、第４図は同媒体対向面の平面図、第５図
は従来の薄嘆磁気ヘッ＾ず断面図、第６図は同先端部の
拡大斜視図、第７図はアウタースロートハイドを測定し
ている状態を示す側断面図である。 ■・・・・・・基板 ２・・・・・・下部磁性層 ３・・・・・・ギャップ層 ４・・・・・・絶縁層 ５・・・・・・コイル層 ６・・・・・・上部磁性層 ７・・・・・・絶縁層 ８・・・・・・保護層 ５・・・・・・スロート部 ６・・・・・・立上り部 ７・・・・・・アペックス ８・・・・・・先端面 第１図 代理人の氏名　弁理士　粟野重孝　ほか１名第２図 第 図 第 図 第 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板と、第一の磁性層と、ギャップ層と、コイル層と、
   第二の磁性層を備え、前記第一の磁性層及び前記第二の
   磁性層の少なくとも一方に前記各層が積層される前記基
   板の一面に対して傾斜した立上り部があるヘッド素子部
   を形成し、前記立上り部の端面が剥き出しになった状態
   で、前記立上り部の先端面の特定箇所が所定の寸法にな
   るまで前記ヘッド素子部の先端面を研摩する事を特徴と
   する薄膜磁気ヘッドの製造方法。