JP2701373B2 - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体からデータを読み出したり、
磁気記録媒体にデータを書き込んだりする磁気記録再生
装置に用いられる薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。

従来の技術 第５図は従来の薄膜磁気ヘッドを示す側断面図であ
る。第５図において１は非磁性体で構成され、ラッピン
グ等で平坦加工が施された基板であり、基板１はスライ
ダーも兼用する。２は基板１の上に形成された下部磁性
層であり、下部磁性層２は次の様に形成される。基板１
上にセンダストによって３〜10μｍの厚さの磁性層を形
成し、磁性層はエッチングやリフトオフで所定の形状に
仕上げて形成される。３は下部磁性層２の上に形成さ
れ、磁気ギャップとなるギャップ層で、ギャップ層３は
二酸化シリコン等の無機材料で0.5μｍ程スパッタリン
グ等で形成する。４はギャップ層３の上に形成された絶
縁層で、絶縁層４はフォトレジスト等の有機絶縁材料で
形成する。５は絶縁層４の上に形成されたコイル層で、
コイル層５は次に様にして形成される。先ず絶縁層４の
上にCu,Al等の導電材料を電着，蒸着等の方法によって
付着させ、エッチング，リフトオフ等により所定の形状
に仕上げて形成する。６は下部磁性層２と同様な方法，
材料で構成され、コイル層５の上に形成された上部磁性
層で、上部磁性層６とコイル層５の間を絶縁するため
に、フォトレジスト等で構成された絶縁層７を上部磁性
層６及びコイル層５の間に介在させる。８は上部磁性層
６の上に形成された保護層で、保護層８はスパッタリン
グ等でガラス等を20〜40μｍ付着させラッピング等によ
て平坦加工が施されている。最後にこの様に形成された
薄膜磁気ヘッド半製品の先端部を鏡面加工して媒体対向
面を形成し完成させる。

この様に形成された薄膜磁気ヘッドはコイル層５に電
流を流す事により磁束が発生し、その磁束が上部磁性層
６及び下部磁性層２の何れか一方から飛び出し、その磁
束は磁気記録媒体の中を通って、飛び出した磁性層とは
他方の磁性層の方に戻っていく。

以上の様に構成された薄膜磁気ヘッドのギャップデプ
スの仕上げ方について説明する。

第６図は従来の薄膜磁気ヘッドの先端部を示す断面斜
視図である。第６図において９は上部磁性層６の先端部
の基板１と平行になっているスロート部、10は上部磁性
層６の立上り部、11は上部磁性層６のアペックスであ
る。第６図においてギャップデプスとはスロート部９の
長さ、すなわち第６図に示すアウタースロートハイトＡ
と、第６図に示すアペックス11からスロート部９と立上
り部10の境界面までの長さＢを加えたものである。この
時、長さＢは上部磁性層６の膜厚等の諸条件によって予
め決まっている。すなわちアウタースロートハイトＡを
測定し、アウタースロートハイトＡと長さＢを加えたも
のがその時のギャップデプスである。従ってアウタース
ロートハイトＡを測定しながら先端面を研摩していき、
所定のギャップデプスに仕上げる。以下アウタースロー
トハイトＡの測定方法について第７図を基にして説明す
る。先ず薄膜磁気ヘッドを切り出し、第７図に示す様に
オイル12で満たされた容器13の中に入れる。この時オイ
ル12は保護層８と同じくらいの屈折率を有するものを選
ぶ。次に対物レンズ14の先端部をオイル12の中に入れ、
薄膜磁気ヘッドのスロート部９及び立上り部10の近傍を
見る事ができるように配置する。すなわち保護層８と同
じくらいの屈折率を持つオイル12に薄膜磁気ヘッドを浸
すことにより、保護層８を通して上部磁性層６を対物レ
ンズ14で見る事ができる。対物レンズ14を覗くとスロー
ト部９と立上り部10の境目が線として見えるので、そこ
を基準線とし、その基準線から先端面までの長さを測定
する。すなわちこの長さがさきほど述べたアウタースロ
ートハイトＡである。従ってこのアウタースロートハイ
トＡを測定しながら先端面を研摩して、所定のアウター
スロートハイトＡに為るようにしていた。

発明が解決しようとする課題 しかしながら前記従来の構成では、アウタースロート
ハイトＡを測定するためにはオイル12に薄膜磁気ヘッド
を浸す等の工程を行わなければならず、作業が大変繁雑
で生産性を良くする事が出来なかった。またアウタース
ロートハイトＡを測定する事によってギャップデプスを
決めていたので、ギャップデプスをより短かくしようと
して立上り部10まで削りこんでしまうと、アウタースロ
ートハイトＡが無くなってしまい、ギャップデプスが判
らなくなるという事があった。

本発明は前記従来の問題点を解決するもので、複数の
工程を経なければ見る事ができない部分の長さを測定し
てギャップデプスを求めるのではなく、外に剥き出しに
なった部分の特定箇所の寸法を測定するだけでギャップ
デプスを求める事ができ、工数を大幅に減らす事がで
き、生産性を高める事ができるとともに、ギャップデプ
スを極力小さくする事ができる薄膜磁気ヘッドの製造方
法を提供する事を目的としている。

課題を解決するための手段 この目的を達成するために、二つの磁性層の少なくと
も一方に、各層が積層される基板の一面に対して傾斜し
た立上り部があるヘッド素子部を形成し、立上り部の端
面が剥き出しになった状態で、立上り部の先端面を特定
箇所が所定の寸法になるまでヘッド素子部の先端面を研
摩するようにした。

作用 この構成により、外に剥き出しになった立上り部の先
端面の特定箇所が所定の寸法になるように先端面を研摩
すると、所望のギャップデプスになっている。

実 施 例 第１図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッドの
製造方法で作成された薄膜磁気ヘッドを示す側面図であ
る。第１図において１は基板、２は下部磁性層、３はギ
ャップ層、４は絶縁層、５はコイル層、６は上部磁性
層、７は絶縁層、８は保護層でこれらは従来の構成と同
じである。

以上の様に構成された薄膜磁気ヘッドのギャップデプ
スの決め方を第２図から第４図に基づき説明する。

先ず基板１の上に、下部磁性層2,ギャップ層3,絶縁層
4,コイル層5,絶縁層7,上部磁性層6,保護層８を順に形成
し、ヘッド素子部を複数形成する。次に複数のヘッド素
子部の中からサンプルとして一つのヘッド素子部を切り
出して、そのヘッド素子部を第２図に示す様に切断す
る。第２図において15は上部磁性層６のスロート部、16
は上部磁性層の立上り部、17はアペックスである。次に
スロート部15が無くなるまで先端面を研摩する。この状
態を第３図に示す。この時スロート部15を作成しなく、
予め立上り部16を剥き出し状態にしているならば、この
工程は行わない。次に第３図に示すアペックス17から先
端面18までの長さすなわちギャップデプスＣと、先端面
18に剥出しになった上部磁性層６の磁気記録媒体との相
対的移動方向の長さ、すなわち第４図に示す長さＤの関
係を求める。第４図は先端面18を示す平面図である。ギ
ャップデプスＣと長さＤの関係は以下の様に求める。先
ず第３図の状態において先端面18から長さＤを測定し
て、その後に切断面からギャップデプスＣを測定する。
次に所定の長さだけ先端面18を研摩する。そして又先端
面18から長さＤを測定して、その後に切断面からギャッ
プデプスＣを測定する。この時研摩する前と後では、長
さＤは広くなっており、ギャップデプスＣは短かくなっ
ている。そしてこの様な工程をアペックス17に達するま
ですなわちギャップデプスＣが無くなるまでおこなう。
この結果を例えば横軸に長さＤ、縦軸にギャップデプス
Ｃをとりグラフを作成する。このグラフより所望するギ
ャップデプスに対応する長さＤを求める。次にサンプル
として切り出したヘッド素子部以外のヘッド素子部を切
り出し、そのヘッド素子部の先端面を、先端面に剥出し
になった上部磁性層６の磁気記録媒体との相対的移動方
向の長さとグラフから求めた長さが同じになるまで研摩
する。するとギャップデプスは所定の長さになってい
る。

以上の様に本実施例によれば複数のヘッド素子部から
サンプルを一つ切り出し、ギャップデプスと先端面に剥
き出しになった上部磁性層６の磁気記録媒体との相対的
移動方向の長さの関係を求め、その関係から所望のギャ
ップデプスの時の相対的移動方向の長さがどのくらいで
あるかを求め、その前記相対的移動方向の長さと、他の
ヘッド素子部の前記移動方向の長さが同じになるまで他
のヘッド素子部の先端面を研摩して、所望のギャップデ
プスに仕上げる事ができるので、従来の様に特殊なオイ
ル等にヘッド素子部を浸す等の複数の工程を行なって保
護層に隠れたアウタースロートハイトを測定し、そのア
ウタースロートハイトからギャップデプスを求めるより
も、はるかに生産性がよい。又、従来はアウタースロー
トハイトを求める事によってギャップデプスを求めてい
たために、ギャップデプスをより短かくしようとして立
上り部まで削りこむと、アウタースロートハイトが無く
なってしまいギャップデプスが判らなくなってしまうの
で、ギャップデプスを短かくする事はできなかったが、
本実施例においてはギャップデプスを極力短かくする事
ができる。なお本実施例において立上り部を上部磁性層
にだけ形成したが、下部磁性層だけに形成しても、又下
部磁性層及び上部磁性層の両方に形成しても良い。又本
実施例において基板ごとに一つのヘッド素子部をサンプ
ルとしてとってギャップデプスと先端面に剥出しになっ
た磁性層の磁気記録媒体との相対的移動方向の長さの関
係を出したが、予め理論によってその関係を求めたり、
又複数の基板の中から一つの基板を取り出して、その一
つの基板からサンプルをとっても良い。又本実施例では
ギャップデプスと磁性層の立上り部の先端面に剥き出し
になった部分の磁気記録媒体との相対的移動方向の長さ
の関係を求めたが、剥き出しになった部分の面積とギャ
ップデプスの関係を求めても良い。また磁気記録媒体と
の相対的移動方向の長さではなく、剥き出しになった部
分の他の寸法でも良い。

発明の効果 本発明は、二つの磁性層の少なくとも一方に、各層が
積層される基板の一面に対して傾斜した立上り部がある
ヘッド素子部を形成し、立上り部の端面が剥き出しにな
った状態で、立上り部の先端面の特定箇所が所定の寸法
になるまでヘッド素子部の先端面を研摩する事により、
外に剥き出しになった立上り部の先端面の特定箇所が所
定の寸法になるように先端面を研摩すると、所望のギャ
ップデプスになっているので、従来の様にギャップデプ
スを求めるために特殊なオイルに薄膜磁気ヘッド浸した
りする複数の工程が不要となり生産性が良くなる。また
磁性層の立上り部の先端面に剥き出しになった特定箇所
の寸法を測定してギャップデプスを決めているので、極
力ギャップデプスを小さくする事ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における薄膜磁気ヘッドの製
造方法で形成された薄膜磁気ヘッドを示す断面図、第２
図及び第３図はサンプルとして切り出させたヘッド素子
部の断面図、第４図は同媒体対向面の平面図、第５図は
従来の薄膜磁気ヘッドを示す断面図、第６図は同先端部
の拡大斜視図、第７図はアウタースロートハイトを測定
している状態を示す側断面図である。 １……基板 ２……下部磁性層 ３……ギャップ層 ４……絶縁層 ５……コイル層 ６……上部磁性層 ７……絶縁層 ８……保護層 15……スロート部 16……立上り部 17……アペックス 18……先端面

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板と、第一の磁性層と、ギャップ層と、
   コイル層と、第二の磁性層を備え、前記第一の磁性層及
   び前記第二の磁性層の少なくとも一方に前記各層が積層
   される前記基板の一面に対して傾斜した立上り部がある
   ヘッド素子部を形成し、前記立上り部の端面が剥き出し
   になった状態で、前記立上り部の先端面の特定箇所が所
   定の寸法になるまで前記ヘッド素子部の先端面を研摩す
   る事を特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。