JPS60205811A - 垂直磁気記録用薄膜ヘツドの製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録用薄膜ヘツドの製造方法Info
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- JPS60205811A JPS60205811A JP6227984A JP6227984A JPS60205811A JP S60205811 A JPS60205811 A JP S60205811A JP 6227984 A JP6227984 A JP 6227984A JP 6227984 A JP6227984 A JP 6227984A JP S60205811 A JPS60205811 A JP S60205811A
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- magnetic pole
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明は垂直磁気記録用薄膜ヘッドの製造方法に係り、
特に垂直磁気記録用薄膜ヘッドの主磁極の形成方法に関
するものである。
特に垂直磁気記録用薄膜ヘッドの主磁極の形成方法に関
するものである。
（ｂ） 技術の背景
近年、磁気ディスク装置においては、従来から用いられ
ている水平磁気記録方式よりも更に高密度記録が達成で
きる垂直磁気記録方式の研究が盛んであり、これに伴っ
て記録に寄与する磁極先端部でのヘッド磁界分布が急峻
で、高密度な記録ができる小型な垂直磁気記録用薄膜ヘ
ッドが実用化されようとしており、既に種々のタイプの
ものが提案されている。
ている水平磁気記録方式よりも更に高密度記録が達成で
きる垂直磁気記録方式の研究が盛んであり、これに伴っ
て記録に寄与する磁極先端部でのヘッド磁界分布が急峻
で、高密度な記録ができる小型な垂直磁気記録用薄膜ヘ
ッドが実用化されようとしており、既に種々のタイプの
ものが提案されている。
（Ｃ） 従来技術と問題点
ところで上記した従来の垂直磁気記録用薄膜ヘッドは、
第１図に示すように、例えばスライダとなる非磁性基板
１上にＡＱ２０ｓなどよりなる非磁性絶縁層２をスパッ
タリング法等により被着し、その非磁性絶縁層２上に六
−マロイ （Ｎｉ−Ｆｅ合金）等からなる主磁極として
機能する下部磁性層３をスパッタリング法等により被着
し、フォトリソグラフィ工程によって所定パターン（図
示せず）に形成する。次いで該下部磁性層３上に熱硬化
させたレジスト材からなる第１の絶縁Ｎ４を被着した後
、該第１の絶縁層４の表面にＣｕ等からなる導体層をス
パッタリング法、メッキ法等により被着し、該導体層を
フォトリソグラフィ工程によって薄膜コイル５にパター
ニングする。次に該薄膜コイル５を含む第１の絶縁層４
上に同じくレジスト材からなる第２の絶縁層６を被着・
熱硬化し、更にかかる第２の絶縁層Ｇ上にパーマロイ（
Ｎｉ−Ｆｅ合金）等からなる上部磁性層７をスパッタリ
ング法等により被着し、フォトリソグラフィ工程によっ
て所定パターン（図示せず）に形成する。そしてこの上
部磁性層７上にＡｆｆ２０＋等よりなる保護用Φ非磁性
絶縁層８を厚くスパッタリング法等により被着した後、
磁気記録媒体と対向する主磁極先端面、即ち下部磁性層
３先端面が露出するスライダ面を平面ｉｉ＋Ｆ磨仕上げ
することによって完成させている。
第１図に示すように、例えばスライダとなる非磁性基板
１上にＡＱ２０ｓなどよりなる非磁性絶縁層２をスパッ
タリング法等により被着し、その非磁性絶縁層２上に六
−マロイ （Ｎｉ−Ｆｅ合金）等からなる主磁極として
機能する下部磁性層３をスパッタリング法等により被着
し、フォトリソグラフィ工程によって所定パターン（図
示せず）に形成する。次いで該下部磁性層３上に熱硬化
させたレジスト材からなる第１の絶縁Ｎ４を被着した後
、該第１の絶縁層４の表面にＣｕ等からなる導体層をス
パッタリング法、メッキ法等により被着し、該導体層を
フォトリソグラフィ工程によって薄膜コイル５にパター
ニングする。次に該薄膜コイル５を含む第１の絶縁層４
上に同じくレジスト材からなる第２の絶縁層６を被着・
熱硬化し、更にかかる第２の絶縁層Ｇ上にパーマロイ（
Ｎｉ−Ｆｅ合金）等からなる上部磁性層７をスパッタリ
ング法等により被着し、フォトリソグラフィ工程によっ
て所定パターン（図示せず）に形成する。そしてこの上
部磁性層７上にＡｆｆ２０＋等よりなる保護用Φ非磁性
絶縁層８を厚くスパッタリング法等により被着した後、
磁気記録媒体と対向する主磁極先端面、即ち下部磁性層
３先端面が露出するスライダ面を平面ｉｉ＋Ｆ磨仕上げ
することによって完成させている。
しかしながら、上記のように磁気記録媒体と対向する主
磁極先端面、即ち下部磁性層３先端面が露出するスライ
ダ面を平面に研磨仕上げする際に、該スライダ面を一体
構成する主磁極として機能する下部磁性層３の硬度が非
磁性基板１、或いは非磁性絶縁層２．８の硬度よりも小
さいことに起因して、前記スライダ面に露出する下部磁
性層３先端面が、第２図で示されるように過度に研削さ
れて他のスライダ面よりも凹んだ形状Ａに仕上がる欠点
があった。このように主磁極として、ｌａ能する下部磁
性層３先端面が他のスライダ面よりも凹む形になると、
かかる薄膜磁気へンドを磁気記録媒体上に浮上動作させ
た場合に、該磁気ヘッドの実効的な浮上量が増大し、記
録密度特性が低下する不都合があった。
磁極先端面、即ち下部磁性層３先端面が露出するスライ
ダ面を平面に研磨仕上げする際に、該スライダ面を一体
構成する主磁極として機能する下部磁性層３の硬度が非
磁性基板１、或いは非磁性絶縁層２．８の硬度よりも小
さいことに起因して、前記スライダ面に露出する下部磁
性層３先端面が、第２図で示されるように過度に研削さ
れて他のスライダ面よりも凹んだ形状Ａに仕上がる欠点
があった。このように主磁極として、ｌａ能する下部磁
性層３先端面が他のスライダ面よりも凹む形になると、
かかる薄膜磁気へンドを磁気記録媒体上に浮上動作させ
た場合に、該磁気ヘッドの実効的な浮上量が増大し、記
録密度特性が低下する不都合があった。
（ｄｌ 発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するため、ヘントスライ
ダ面を平面研磨仕上げ後、凹んだ主磁極先端面に、該凹
みを埋める形に更に磁性材を被着せしめて、主磁極先端
面の凹みによるヘッドの実効浮上量の増大を排除した垂
直磁気記録用薄膜ヘッドの製造方法を提供することを目
的とするものである。
ダ面を平面研磨仕上げ後、凹んだ主磁極先端面に、該凹
みを埋める形に更に磁性材を被着せしめて、主磁極先端
面の凹みによるヘッドの実効浮上量の増大を排除した垂
直磁気記録用薄膜ヘッドの製造方法を提供することを目
的とするものである。
ｔｅ＋ 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、基板上に非磁性絶縁
層を介して主磁極となる下部磁性層を所定パターンに形
成する工程と、該下部磁性層上に絶縁層を介して薄膜コ
イル、絶縁層及び上部磁性膜を所定パターンに順次積層
形成する工程と、該上部磁性膜上に保護用非磁性絶縁層
を形成し、更に磁気記録媒体と対向する主磁極先端面が
露出するスライダ面を研磨仕上げする工程とを行った後
、上記スライダ面に露出する主磁極先端面に、磁性膜を
再被着して該スライダ面と主磁極先端面とを同一平面に
形成することを特徴とする垂直磁気記録用薄膜ヘッドの
製造方法を提供することによって達成される。
層を介して主磁極となる下部磁性層を所定パターンに形
成する工程と、該下部磁性層上に絶縁層を介して薄膜コ
イル、絶縁層及び上部磁性膜を所定パターンに順次積層
形成する工程と、該上部磁性膜上に保護用非磁性絶縁層
を形成し、更に磁気記録媒体と対向する主磁極先端面が
露出するスライダ面を研磨仕上げする工程とを行った後
、上記スライダ面に露出する主磁極先端面に、磁性膜を
再被着して該スライダ面と主磁極先端面とを同一平面に
形成することを特徴とする垂直磁気記録用薄膜ヘッドの
製造方法を提供することによって達成される。
（ｆ） 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第３図及び第４図は本発明に係る垂直磁気記録用薄膜ヘ
ッドの製造方法の一実施例を示す要部断面図である。尚
、以下の各図において第１図及び第２図と同等部分には
同一符号を付した。
ッドの製造方法の一実施例を示す要部断面図である。尚
、以下の各図において第１図及び第２図と同等部分には
同一符号を付した。
先ず第３図に示すように、例えばスライダとなるＩＩｆ
１２０３・ＴｉＣ（アルミナ・チタンカーバイト）から
なる非磁性基板１上に、Ａｇ２Ｏ３などよりなる非磁性
絶縁層２をスパッタリング法等により被着し、その非磁
性絶縁層２上にパーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ合金）等からな
る主磁極として機能する下部磁性層３をスパッタリング
法及びフォトリソグラフィ工程によって所定パターン（
図示せず）に形成する。次いで該下部磁性層３上にレジ
スト材からなる第１の絶縁層４を被着し、熱硬化させた
後、該第１の絶縁層４の表面にＣｕ等からなる導体層を
スパッタリング法、メッキ法等により被着し、フォトリ
ソグラフィ工程によって薄膜コイル５にパターニングす
る。次に該薄膜コイル５を含む第１の絶縁層４上に、同
じくレジスト材からなる第２の絶縁層６を被着・熱硬化
し、更にかかる第２の絶縁層６上に、パーマロイ（Ｎｉ
−Ｆｅ合金）等からなる上部磁性層７をスバ・ツタリン
グ法等及びフォトリソグラフィ工程によって所定パター
ン（図示せず）に形成する。そしてこの上部磁性層７上
に、該上部磁性層７を経由して下部磁性層３と電気的に
導通を得るパーマロイ （Ｎｉ−Ｆｅ合金）等からなる
メッキ電極用導電性磁性体３１とＭ２Ｏ３等よりなる保
護用の非磁性絶縁層８とをスパッタリング法等により厚
（被着した後、磁気記録媒体と対向する主磁極先端面、
即ち下部磁性層３先端面か露出するスライド面を平面研
磨仕上げする。しかる後、上記のように形成された薄膜
磁気ヘッドの下部磁性層３先端面を除く全外周面をレジ
スト膜で被覆し、例えば電気メツキ装置により前記平面
研磨仕上げにより凹んだ下部磁性層３先端面に、該凹み
Ａを埋める形にＮｉ−Ｆｅ合金メッキを施す。該メッキ
後は前記レジスト膜を除去し、更にそのＮｉ−Ｆｅ合金
メッキ層３２の先端面を軽く平面研磨仕上げして他のス
ライド面と同一平面にすることにより、第４図に示すよ
うに下部磁性層３からなる主磁極先端面が実質上他のス
ライダ面と同一平面になり、実効的なヘッド浮上量の増
加が排除され、記録密度特性の改善された垂直磁気記録
用薄膜ヘッドを得ることが可能となる。
１２０３・ＴｉＣ（アルミナ・チタンカーバイト）から
なる非磁性基板１上に、Ａｇ２Ｏ３などよりなる非磁性
絶縁層２をスパッタリング法等により被着し、その非磁
性絶縁層２上にパーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ合金）等からな
る主磁極として機能する下部磁性層３をスパッタリング
法及びフォトリソグラフィ工程によって所定パターン（
図示せず）に形成する。次いで該下部磁性層３上にレジ
スト材からなる第１の絶縁層４を被着し、熱硬化させた
後、該第１の絶縁層４の表面にＣｕ等からなる導体層を
スパッタリング法、メッキ法等により被着し、フォトリ
ソグラフィ工程によって薄膜コイル５にパターニングす
る。次に該薄膜コイル５を含む第１の絶縁層４上に、同
じくレジスト材からなる第２の絶縁層６を被着・熱硬化
し、更にかかる第２の絶縁層６上に、パーマロイ（Ｎｉ
−Ｆｅ合金）等からなる上部磁性層７をスバ・ツタリン
グ法等及びフォトリソグラフィ工程によって所定パター
ン（図示せず）に形成する。そしてこの上部磁性層７上
に、該上部磁性層７を経由して下部磁性層３と電気的に
導通を得るパーマロイ （Ｎｉ−Ｆｅ合金）等からなる
メッキ電極用導電性磁性体３１とＭ２Ｏ３等よりなる保
護用の非磁性絶縁層８とをスパッタリング法等により厚
（被着した後、磁気記録媒体と対向する主磁極先端面、
即ち下部磁性層３先端面か露出するスライド面を平面研
磨仕上げする。しかる後、上記のように形成された薄膜
磁気ヘッドの下部磁性層３先端面を除く全外周面をレジ
スト膜で被覆し、例えば電気メツキ装置により前記平面
研磨仕上げにより凹んだ下部磁性層３先端面に、該凹み
Ａを埋める形にＮｉ−Ｆｅ合金メッキを施す。該メッキ
後は前記レジスト膜を除去し、更にそのＮｉ−Ｆｅ合金
メッキ層３２の先端面を軽く平面研磨仕上げして他のス
ライド面と同一平面にすることにより、第４図に示すよ
うに下部磁性層３からなる主磁極先端面が実質上他のス
ライダ面と同一平面になり、実効的なヘッド浮上量の増
加が排除され、記録密度特性の改善された垂直磁気記録
用薄膜ヘッドを得ることが可能となる。
尚、以上の実施例では、平面研磨仕上げにより凹んだ下
部磁性層３先端面に、該凹みを埋める形にＮｉ−Ｆｅ合
金メッキを施して下部磁性層３からなる主磁極先端面が
実質上、他のスライダ面と同一平面にした場合の例につ
いて説明したが、本発明の方法はこの例に限定されるも
のではな（、例えば第５図に示すように、前記平面研磨
仕上げしたスライダ面に、該平面研磨仕上げにより凹ん
だ下部磁性層３先端面の該凹みＡを、埋める形にＮｉ−
Ｆｅ合金からなる磁性膜５１をスパッタリング法、又は
真空蒸着法により被着し、下部磁性層３先端面の該凹み
を埋めた磁性膜５１部分を除く、その他の磁性膜５１部
分をイオンミリング等により除去して、前記下部磁性層
３からなる主磁極先端面を実質上他のスライダ面と同一
平面にするようにした場合にも、前記第３図及び第４図
による実施例と同様の効果を得ることができる。
部磁性層３先端面に、該凹みを埋める形にＮｉ−Ｆｅ合
金メッキを施して下部磁性層３からなる主磁極先端面が
実質上、他のスライダ面と同一平面にした場合の例につ
いて説明したが、本発明の方法はこの例に限定されるも
のではな（、例えば第５図に示すように、前記平面研磨
仕上げしたスライダ面に、該平面研磨仕上げにより凹ん
だ下部磁性層３先端面の該凹みＡを、埋める形にＮｉ−
Ｆｅ合金からなる磁性膜５１をスパッタリング法、又は
真空蒸着法により被着し、下部磁性層３先端面の該凹み
を埋めた磁性膜５１部分を除く、その他の磁性膜５１部
分をイオンミリング等により除去して、前記下部磁性層
３からなる主磁極先端面を実質上他のスライダ面と同一
平面にするようにした場合にも、前記第３図及び第４図
による実施例と同様の効果を得ることができる。
（ｇｌ 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明に係る垂直磁気
記録用薄膜ヘッドの製造方法によれば、ヘントスライダ
面を平面研磨仕上げすることにより凹んだ下部磁性層か
らなる主磁極先端凹みを容易に修復することが出来、垂
直磁気記録用薄膜ヘッドの記録密度特性が向上する利点
を有し、この種の垂直磁気記録用薄膜ヘッドの製造に適
用して極めて有利である。
記録用薄膜ヘッドの製造方法によれば、ヘントスライダ
面を平面研磨仕上げすることにより凹んだ下部磁性層か
らなる主磁極先端凹みを容易に修復することが出来、垂
直磁気記録用薄膜ヘッドの記録密度特性が向上する利点
を有し、この種の垂直磁気記録用薄膜ヘッドの製造に適
用して極めて有利である。
第１図及び第２図は従来の垂直磁気記録用薄膜ヘッドの
製造方法を説明するための要部断面図、第３図及び第４
図は本発明に係る垂直磁気記録用薄膜ヘッドの製造方法
の一実施例を示す要部断面図、第５図は本発明に係る垂
直磁気記録用薄膜ヘッドの製造方法の他の実施例を示す
要部断面図である。 図面において、１は非磁性基板、２は非磁性絶縁層、３
は下部磁性膜、４は第１絶縁層、５は薄膜コイル、６は
第２絶縁層、７は上部磁性朦、８は保護用非磁性絶縁層
、３１はメッキ電極用導電性第１図 第２図
製造方法を説明するための要部断面図、第３図及び第４
図は本発明に係る垂直磁気記録用薄膜ヘッドの製造方法
の一実施例を示す要部断面図、第５図は本発明に係る垂
直磁気記録用薄膜ヘッドの製造方法の他の実施例を示す
要部断面図である。 図面において、１は非磁性基板、２は非磁性絶縁層、３
は下部磁性膜、４は第１絶縁層、５は薄膜コイル、６は
第２絶縁層、７は上部磁性朦、８は保護用非磁性絶縁層
、３１はメッキ電極用導電性第１図 第２図
Claims (1)
- 基板上に非磁性絶縁層を介して主磁極となる下部磁性層
を所定パターンに形成する工程と、該下部磁性層上に絶
縁層を介して薄膜コイル、絶縁層及び上部磁性膜を所定
パターンに順次積層形成する工程と、該上部磁性膜上に
保護用非磁性絶縁層を形成し、更に磁気記録媒体と対向
する主磁極先端面が露出するスライダ面を研磨仕上げす
る工程とを行った後、上記スライダ面に露出する主磁極
先端面に磁性膜を再被着して該スライダ面と主磁極先端
面とを同一平面に形成することを特徴とする垂直磁気記
録用薄膜ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6227984A JPS60205811A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | 垂直磁気記録用薄膜ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6227984A JPS60205811A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | 垂直磁気記録用薄膜ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60205811A true JPS60205811A (ja) | 1985-10-17 |
Family
ID=13195539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6227984A Pending JPS60205811A (ja) | 1984-03-29 | 1984-03-29 | 垂直磁気記録用薄膜ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60205811A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0340882A2 (en) * | 1988-04-25 | 1989-11-08 | Seagate Technology International | Thin film magnetic data transducer |
| US7271982B2 (en) | 2004-02-13 | 2007-09-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording head built using an air-bearing surface damascene process |
| US8082658B2 (en) | 2008-02-25 | 2011-12-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Controlled lapping for an ABS damascene process |
-
1984
- 1984-03-29 JP JP6227984A patent/JPS60205811A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0340882A2 (en) * | 1988-04-25 | 1989-11-08 | Seagate Technology International | Thin film magnetic data transducer |
| US7271982B2 (en) | 2004-02-13 | 2007-09-18 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording head built using an air-bearing surface damascene process |
| US8082658B2 (en) | 2008-02-25 | 2011-12-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Controlled lapping for an ABS damascene process |
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