JPS6022405B2 - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPS6022405B2 JPS6022405B2 JP11312379A JP11312379A JPS6022405B2 JP S6022405 B2 JPS6022405 B2 JP S6022405B2 JP 11312379 A JP11312379 A JP 11312379A JP 11312379 A JP11312379 A JP 11312379A JP S6022405 B2 JPS6022405 B2 JP S6022405B2
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- Japan
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- magnetic
- layer
- resist
- magnetic head
- thin film
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものであ
る。
る。
従来の薄膜磁気ヘッドは、第１図および第２図に示すよ
うに、フェライト 等の磁性基板１の上面に巻線部とな
る導体層２，３と各層を絶縁するＳｉＱ，Ｓｉ３０４等
の非磁性絶縁層４，５とを形成した後、Ｆｅ−Ｎｉ合金
，Ｆｅ−Ｓｉ−川合金等の磁性層６を蒸着等の手段で形
成する。
うに、フェライト 等の磁性基板１の上面に巻線部とな
る導体層２，３と各層を絶縁するＳｉＱ，Ｓｉ３０４等
の非磁性絶縁層４，５とを形成した後、Ｆｅ−Ｎｉ合金
，Ｆｅ−Ｓｉ−川合金等の磁性層６を蒸着等の手段で形
成する。
磁性層６は、羽子板状にエッチングされ、磁性基板１と
で磁気回路を構成する。この場合、トラック幅ＴＷは、
レジストパターンの形状およびエッチング方法で決定さ
れる。なお、７は磁性基板１の溝に充填されたガラス等
の非磁性材、８は磁性基板１および非磁性材７の上部に
被着した非磁性層、９はＳｉ０２等の保護層、１川ま接
着剤層、１１はガラス等の保持板、１２は導体層２，３
を連連絡する中継様子導体層である。第３図はこの薄膜
磁気ヘッドを記録煤体摺鞍側からみた様子を示すが、磁
性層６のボールピ−スは、垂直にエッチングされず、磁
気ギャップ部Ａとなる非磁性絶縁層５側で幅広いテーパ
形状を示し、一般にＴ，＞Ｌとなってしまう。
で磁気回路を構成する。この場合、トラック幅ＴＷは、
レジストパターンの形状およびエッチング方法で決定さ
れる。なお、７は磁性基板１の溝に充填されたガラス等
の非磁性材、８は磁性基板１および非磁性材７の上部に
被着した非磁性層、９はＳｉ０２等の保護層、１川ま接
着剤層、１１はガラス等の保持板、１２は導体層２，３
を連連絡する中継様子導体層である。第３図はこの薄膜
磁気ヘッドを記録煤体摺鞍側からみた様子を示すが、磁
性層６のボールピ−スは、垂直にエッチングされず、磁
気ギャップ部Ａとなる非磁性絶縁層５側で幅広いテーパ
形状を示し、一般にＴ，＞Ｌとなってしまう。
また、エッチング方法が不適切であると、レジストパタ
ーンの幅よりＴ，が極めて小さくなり、それも各基板毎
に異なるということが起き、トラック幅ＴＷのばらつき
の大きな原因となっていた。さらに、図示のようにＴ２
がＴ，に比べかなり４・さくなるということは、磁性層
６のポールピースの断面積を小さくし、磁気ギャップ先
端で磁気飽和を生じさせ、記録特性として好ましくなか
った。例えば、Ｔ，一ＴＢ≦５ムｍである場合「 トラ
ック幅ＴＷとして１００ムｍ程度の薄膜磁気ヘッドを実
現するときには、トラック幅精度として、対まど問題に
ならないが「トラック幅が２０〆ｍ以下の狭トラック幅
の薄膜ヘッドを実現するときには〜トラック幅精度が極
端に悪くなった。したがってもこの発明の目的はｔ薄膜
磁気ヘッドトラック幅を精度よく実現できて狭トラック
幅化の容易な薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供すること
である。
ーンの幅よりＴ，が極めて小さくなり、それも各基板毎
に異なるということが起き、トラック幅ＴＷのばらつき
の大きな原因となっていた。さらに、図示のようにＴ２
がＴ，に比べかなり４・さくなるということは、磁性層
６のポールピースの断面積を小さくし、磁気ギャップ先
端で磁気飽和を生じさせ、記録特性として好ましくなか
った。例えば、Ｔ，一ＴＢ≦５ムｍである場合「 トラ
ック幅ＴＷとして１００ムｍ程度の薄膜磁気ヘッドを実
現するときには、トラック幅精度として、対まど問題に
ならないが「トラック幅が２０〆ｍ以下の狭トラック幅
の薄膜ヘッドを実現するときには〜トラック幅精度が極
端に悪くなった。したがってもこの発明の目的はｔ薄膜
磁気ヘッドトラック幅を精度よく実現できて狭トラック
幅化の容易な薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供すること
である。
この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第４図はこの発明の実施例により製造された薄膜磁気ヘ
ッドを記録煤体摺鞍側から見たものを示している。この
薄膜磁気へッドまま、磁性層Ｓのトラック幅方向の両側
に磁性層６のトラック幅を規定する一対の非磁性層亀３
，亀３を配置したもので「それ以外の構成は従来例と同
様である。ただし、非磁性層亀３，１３は記録煤体摺綾
側の磁気ギャップ部Ａの近傍にのみ配設されている。つ
ぎに、この薄膜磁気ヘッドの製造方法について第２図と
第５図ないし第８図とを参照して説明する。まず、従釆
と同様に第２図のように、磁性基板の上面に導体層２を
パターン形成し、その上部に非磁性絶縁層４を穣屑し、
さらに導体層３をパターン形成し、その上部にギャップ
材を兼ねる非磁性絶縁層５を積層して磁気ヘッド基体を
構成し、つづいて第５図および第６図に示すように非磁
絶縁層５の上部に後に積層する磁性層と同形状のレジス
ト１４を同位層に積層形成する。そして、レジスト１４
の上部でしかも導体層２，３上でなく記録煤体摺鞍側の
磁気ギャップ部Ａの近傍にＳｉ０等の非磁性層１３を蒸
着等の手段で生成する。この場合、レジスト１４として
は「ポンレジスト、例えばＡＺ−１３６０Ｊが用いられ
る。ついで、第７図に示すように、レジスト１４をレジ
スト剥離剤等を用いて剥離することによりレジスト１４
上の非磁性層１３を除去し、一対の非磁性層１３，１３
とする。ついで、第８図に示すように、非磁性層１３，
１３およびその間の非磁性絶縁層３上に磁性層６を生成
し、さらにレジスト１５を塗布し、現像によりレジスト
１５の部分１５ａ以外を除去する。
ッドを記録煤体摺鞍側から見たものを示している。この
薄膜磁気へッドまま、磁性層Ｓのトラック幅方向の両側
に磁性層６のトラック幅を規定する一対の非磁性層亀３
，亀３を配置したもので「それ以外の構成は従来例と同
様である。ただし、非磁性層亀３，１３は記録煤体摺綾
側の磁気ギャップ部Ａの近傍にのみ配設されている。つ
ぎに、この薄膜磁気ヘッドの製造方法について第２図と
第５図ないし第８図とを参照して説明する。まず、従釆
と同様に第２図のように、磁性基板の上面に導体層２を
パターン形成し、その上部に非磁性絶縁層４を穣屑し、
さらに導体層３をパターン形成し、その上部にギャップ
材を兼ねる非磁性絶縁層５を積層して磁気ヘッド基体を
構成し、つづいて第５図および第６図に示すように非磁
絶縁層５の上部に後に積層する磁性層と同形状のレジス
ト１４を同位層に積層形成する。そして、レジスト１４
の上部でしかも導体層２，３上でなく記録煤体摺鞍側の
磁気ギャップ部Ａの近傍にＳｉ０等の非磁性層１３を蒸
着等の手段で生成する。この場合、レジスト１４として
は「ポンレジスト、例えばＡＺ−１３６０Ｊが用いられ
る。ついで、第７図に示すように、レジスト１４をレジ
スト剥離剤等を用いて剥離することによりレジスト１４
上の非磁性層１３を除去し、一対の非磁性層１３，１３
とする。ついで、第８図に示すように、非磁性層１３，
１３およびその間の非磁性絶縁層３上に磁性層６を生成
し、さらにレジスト１５を塗布し、現像によりレジスト
１５の部分１５ａ以外を除去する。
その後、Ｆｅ−Ｎｉ合金，Ｆｅ−Ｓｉ合金等に通したエ
ッチング方法によって余分な磁性届６を除去し、この上
部に保護層９および接着剤層１０を穣層して保持板板１
１を斑付け、最終的に第４図に示した薄膜磁気ヘッドを
得る。この場合、レジスト竃５の部分１５ａの幅は、必
要なトラック幅Ｔｗより若干広くしている。このように
、この実施例の方法によれば、一対の非磁性層１３，１
３の間隔がレジスト１４のパターン精度で決まり、極め
て精度が高いためｔこの間隔によって決まるトラック幅
ＴＷを精度よく実現することができて狭トラック幅化が
容易となる。
ッチング方法によって余分な磁性届６を除去し、この上
部に保護層９および接着剤層１０を穣層して保持板板１
１を斑付け、最終的に第４図に示した薄膜磁気ヘッドを
得る。この場合、レジスト竃５の部分１５ａの幅は、必
要なトラック幅Ｔｗより若干広くしている。このように
、この実施例の方法によれば、一対の非磁性層１３，１
３の間隔がレジスト１４のパターン精度で決まり、極め
て精度が高いためｔこの間隔によって決まるトラック幅
ＴＷを精度よく実現することができて狭トラック幅化が
容易となる。
また、必要なトラック幅Ｔｗよりレジスト１５の部分１
５ａの幅を若干広くしたため、サイドエッチングによる
パターンの縮小を抑えることができ「ほぼ垂直なポール
ピース形状が得られ、ポールピースの飽和が起こりにく
くｔ狭いトラック幅化がさらに容易となる。以上のよう
に、この発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、磁気ヘッ
ド基体の記録媒体摺薮側の磁気ギャップ形成部分に所定
形状のレジストを鏡層したのち、このレジスト上および
その両側の磁気ヘッド基体上に非磁性層を積層し、つい
でレジストを剥離してその上部の非磁性層を除去してト
ラック幅の間隔をおいて並ぶ一対の非磁性層を残存させ
「ついで一対の非磁性層および磁気ヘッド基体の上部に
磁性層を積層し〜 この磁性層を必要なトラック幅より
幅の広いレジストパターンでエッチングして前記非磁性
層間に磁性層を残存させるようにしたので、一対の非磁
性層の間隔がレジストの作成精度で決まり、かっこの精
度がきわめて高いため、一対の非磁性層の間隔で決まる
トラック幅の精度を高めることができる。
５ａの幅を若干広くしたため、サイドエッチングによる
パターンの縮小を抑えることができ「ほぼ垂直なポール
ピース形状が得られ、ポールピースの飽和が起こりにく
くｔ狭いトラック幅化がさらに容易となる。以上のよう
に、この発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、磁気ヘッ
ド基体の記録媒体摺薮側の磁気ギャップ形成部分に所定
形状のレジストを鏡層したのち、このレジスト上および
その両側の磁気ヘッド基体上に非磁性層を積層し、つい
でレジストを剥離してその上部の非磁性層を除去してト
ラック幅の間隔をおいて並ぶ一対の非磁性層を残存させ
「ついで一対の非磁性層および磁気ヘッド基体の上部に
磁性層を積層し〜 この磁性層を必要なトラック幅より
幅の広いレジストパターンでエッチングして前記非磁性
層間に磁性層を残存させるようにしたので、一対の非磁
性層の間隔がレジストの作成精度で決まり、かっこの精
度がきわめて高いため、一対の非磁性層の間隔で決まる
トラック幅の精度を高めることができる。
また、一対の非磁性層の側面の頃斜はしジストの側面の
傾斜に対応し、レジストの側面はエッチングの場合と異
なり、ほとんど垂直に近いため、トラック幅が部分的に
狭くなることもなく、飽和が起きにくく、狭トラック幅
化が容易である。また、磁性層のうち不要な部分をエッ
チング法により除去するようにしているため、非磁性層
が磁性層より薄くても、不要部分の除去を簡単に行うこ
とができ、しかも、エッチングを、必要なトラック幅よ
り幅広のレジストパターンを用いて行っているため、サ
イドエッチングが多少生じても残存させる磁性層が部分
的に狭幅になることもない。
傾斜に対応し、レジストの側面はエッチングの場合と異
なり、ほとんど垂直に近いため、トラック幅が部分的に
狭くなることもなく、飽和が起きにくく、狭トラック幅
化が容易である。また、磁性層のうち不要な部分をエッ
チング法により除去するようにしているため、非磁性層
が磁性層より薄くても、不要部分の除去を簡単に行うこ
とができ、しかも、エッチングを、必要なトラック幅よ
り幅広のレジストパターンを用いて行っているため、サ
イドエッチングが多少生じても残存させる磁性層が部分
的に狭幅になることもない。
第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの要部平面図、第２図は
その０−０線断面図、第３図は同じくその記録媒体控援
側から見た正面図、第４図はこの発明の−実施例の記録
煤体摺俵側から見た正面図、第５図ないし第８図はその
製造工程説明図である。 １・・・磁性基板、２，３・・・導体層、４，５・・・
非磁性絶縁層、６・・・磁性層、１３・・・非磁性層、
１４・・・レジスト、１５…レジスト。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図 第８図
その０−０線断面図、第３図は同じくその記録媒体控援
側から見た正面図、第４図はこの発明の−実施例の記録
煤体摺俵側から見た正面図、第５図ないし第８図はその
製造工程説明図である。 １・・・磁性基板、２，３・・・導体層、４，５・・・
非磁性絶縁層、６・・・磁性層、１３・・・非磁性層、
１４・・・レジスト、１５…レジスト。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図 第８図
Claims (1)
- １ 磁性基板に少くとも１層の導体とこの導体層を絶縁
する非磁性絶縁層とを積層して磁気ヘツド基体を構成す
る工程と、この磁気ヘツド基体の上部の所定位置に所定
形状のレジストを積層する工程と、このレジスト上およ
びその両側の前記磁気ヘツド基体上に非磁性層を積層す
る工程と、ついで前記レジストを剥離してその上部の非
磁性層を除去してトラツク幅の間隔をおいて並ぶ一対の
非磁性層を残存させる工程と、ついで前記一対の非磁性
層および前記磁気ヘツド基体の上部に磁性層を積層する
工程と、この磁性層を必要なトラツク幅より幅の広いレ
ジストパターンでエツチングして前記非磁性層間に磁性
層を残存させて前記磁性基板とで前記導体層および前記
非磁性絶縁層を包囲する磁気回路を構成する工程とを含
む薄膜磁気ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11312379A JPS6022405B2 (ja) | 1979-08-31 | 1979-08-31 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11312379A JPS6022405B2 (ja) | 1979-08-31 | 1979-08-31 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5637817A JPS5637817A (en) | 1981-04-11 |
| JPS6022405B2 true JPS6022405B2 (ja) | 1985-06-01 |
Family
ID=14604100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11312379A Expired JPS6022405B2 (ja) | 1979-08-31 | 1979-08-31 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6022405B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0658728B2 (ja) * | 1985-10-25 | 1994-08-03 | 株式会社日立製作所 | 薄膜磁気ヘツド |
| KR960015409A (ko) * | 1994-10-27 | 1996-05-22 | 김광호 | 기록/재생 복합형 박막 자기헤드의 제조방법 |
-
1979
- 1979-08-31 JP JP11312379A patent/JPS6022405B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5637817A (en) | 1981-04-11 |
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