JPH02101036A - アルキルベンゼン誘導体及びその医薬 - Google Patents
アルキルベンゼン誘導体及びその医薬Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は医薬に関する。更に詳しくは本発明は下記一般
式(I)で示されるアルキルベンゼン誘導体又はその塩
を有効成分とする逆転写酵素阻害剤に関する。
式(I)で示されるアルキルベンゼン誘導体又はその塩
を有効成分とする逆転写酵素阻害剤に関する。
(式中 R1は炭素数5個乃至25個のアルキル基若し
くはアルケニル基を、R2は水素原子又は水酸基を、R
3,R4は同−又は異なって水素原子、水酸基、低級ア
ルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、低級アルカノ
イルオキシ基。
くはアルケニル基を、R2は水素原子又は水酸基を、R
3,R4は同−又は異なって水素原子、水酸基、低級ア
ルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、低級アルカノ
イルオキシ基。
但し、R3,R4のいずれが一方は水素原子以外の基で
ある。以下同様) (従来の技術及び課題) 遺伝子としてRNAをもつ球状ウィルスであるレトロウ
ィルスの中には、後天性免疫不全症候群(A、ID5)
の病原ウィルス(H■v)、成人T細胞白血病(ATL
)の病原ウィルス等の病原性を有するものが知られてい
るが、これらのウィルスによる疾病に対し有効な治療法
は未だ確立されていない。
ある。以下同様) (従来の技術及び課題) 遺伝子としてRNAをもつ球状ウィルスであるレトロウ
ィルスの中には、後天性免疫不全症候群(A、ID5)
の病原ウィルス(H■v)、成人T細胞白血病(ATL
)の病原ウィルス等の病原性を有するものが知られてい
るが、これらのウィルスによる疾病に対し有効な治療法
は未だ確立されていない。
本発明の目的は、これらのレトロウィルス及び該ウィル
ス感染細胞の増殖を阻害し、これらのウィルスによる疾
病の治療剤として有用な逆転写酵素阻害剤を提供するこ
とにある。
ス感染細胞の増殖を阻害し、これらのウィルスによる疾
病の治療剤として有用な逆転写酵素阻害剤を提供するこ
とにある。
(課題を解決するための手段)
すなわち9本発明は頭記一般式(■)で示されるアルキ
ルベンゼン誘導体又はその塩を有効成分とする逆転写酵
素阻害剤である。
ルベンゼン誘導体又はその塩を有効成分とする逆転写酵
素阻害剤である。
本発明の一般式の基の定義において「炭素数5個乃至2
5個のアルキル基」としては、炭素数5個乃至25個を
有する直鎖又は分枝を有するアルキル基であり9例えば
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノ
ニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、トコシル
基、トリコシル基、ベンタコシル基、イソヘンチル基、
2−メチルペンチル基、3−メチルオクチル基、4−エ
チルノニル基、5−エチルテトラデシル基、2−メチル
−3−エチルオクタデシル基等を、また炭素数5個乃至
25個のアルケニル基としては2−ペンテニル基。
5個のアルキル基」としては、炭素数5個乃至25個を
有する直鎖又は分枝を有するアルキル基であり9例えば
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノ
ニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、トコシル
基、トリコシル基、ベンタコシル基、イソヘンチル基、
2−メチルペンチル基、3−メチルオクチル基、4−エ
チルノニル基、5−エチルテトラデシル基、2−メチル
−3−エチルオクタデシル基等を、また炭素数5個乃至
25個のアルケニル基としては2−ペンテニル基。
3−へキセニル基、4−へブテニル基、5−デセニル基
、6−チトラデセニル基、7−オクタデセニル基、8−
ノナデセニル基、2−メチル3−ヘキセニル基、3−エ
チル−9−ノナデセニル基等が挙げられる。これらのア
ルキル基若しくはアルケニル基の中では炭素数14個乃
至18個のものが特に好ましい。
、6−チトラデセニル基、7−オクタデセニル基、8−
ノナデセニル基、2−メチル3−ヘキセニル基、3−エ
チル−9−ノナデセニル基等が挙げられる。これらのア
ルキル基若しくはアルケニル基の中では炭素数14個乃
至18個のものが特に好ましい。
また、「低級アルコキシ基」としては炭素数1乃至5個
を有する直鎖又は分枝状のアルコキシ基であり2例えば
メトキシ基、エトキシ基。
を有する直鎖又は分枝状のアルコキシ基であり2例えば
メトキシ基、エトキシ基。
プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基。
イソプロポキシ基、イソブトキシ基、 tert−フト
キシ基、イソペンチルオキシ基等が。
キシ基、イソペンチルオキシ基等が。
更に「フェニル低級アルコキシ基」としては上記低級ア
ルコキシ基の任意の位置がフェニル基で置換されたもの
であり9例えばベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基
、3−フェニルペンチルオキシ基等である。
ルコキシ基の任意の位置がフェニル基で置換されたもの
であり9例えばベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基
、3−フェニルペンチルオキシ基等である。
「低級アルカノイルオキシ基」としては、アセチルオキ
シ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、バレ
リルオキシ基等が挙げられる。
シ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、バレ
リルオキシ基等が挙げられる。
また1本発明化合物のうち一般式(I)で示される化合
物のうち、フェニル基にリン酸残基を有する化合物は塩
を形成することもできる。このような塩としてはリチウ
ム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩、マ
グネシウム。
物のうち、フェニル基にリン酸残基を有する化合物は塩
を形成することもできる。このような塩としてはリチウ
ム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩、マ
グネシウム。
カルシウム等のアルカリ土類金属との塩、リジン、アル
ギニン等の塩基性アミノ酸との塩等が挙げられる。
ギニン等の塩基性アミノ酸との塩等が挙げられる。
一般式(■)で示されるアルキルベンゼン誘導体には下
記一般式(Ti11)〜(Hr)で示される新規化合物
も存在する。本発明の請求項2の発明はこれら新規アル
キルベンゼン誘導体又はそれらの塩に関するものである
。
記一般式(Ti11)〜(Hr)で示される新規化合物
も存在する。本発明の請求項2の発明はこれら新規アル
キルベンゼン誘導体又はそれらの塩に関するものである
。
R’−C>−cトRδ
(TTa)
(式中 R5は炭素数5個乃至13個及び15個乃至2
5個のアルキル基を、R6,R?は同−又は異なって低
級アルコキシ基を R8は炭素数10個乃至25個のア
ルキル基を、R9はフェニル低級アルコキシ基を、R1
0は炭素数17個乃至25個のアルキル基を R11は
炭素数10個乃至25個のアルキル基を、R12は水素
原子又は水酸基を意味する。
5個のアルキル基を、R6,R?は同−又は異なって低
級アルコキシ基を R8は炭素数10個乃至25個のア
ルキル基を、R9はフェニル低級アルコキシ基を、R1
0は炭素数17個乃至25個のアルキル基を R11は
炭素数10個乃至25個のアルキル基を、R12は水素
原子又は水酸基を意味する。
以下同様)
ここで「炭素数5個乃至13個及び、15個乃至25個
のアルキル基」としては上記一般式(■)の基の説明に
おいて[炭素数5個乃至25個のアルキル基」の中から
炭素数14個以下のアルキル基を除いたものを、また「
炭素数10個乃至25個のアルキル基」としては[炭素
数5個乃至25個のアルキル基から炭素数9個以下のア
ルキル基を除いたものを、更に「炭素数17個乃至25
個のアルキル基」としては[炭素数5個乃至25個のア
ルキル基」の中から炭素数16個以下のアルキル基を除
いたものをいう。
のアルキル基」としては上記一般式(■)の基の説明に
おいて[炭素数5個乃至25個のアルキル基」の中から
炭素数14個以下のアルキル基を除いたものを、また「
炭素数10個乃至25個のアルキル基」としては[炭素
数5個乃至25個のアルキル基から炭素数9個以下のア
ルキル基を除いたものを、更に「炭素数17個乃至25
個のアルキル基」としては[炭素数5個乃至25個のア
ルキル基」の中から炭素数16個以下のアルキル基を除
いたものをいう。
(製造法)
本発明の請求項2に記載の一般式(Tla)乃至(TI
f)で示されるアルキルベンゼン誘導体は下記反応式で
示される方法により製造することができる。
f)で示されるアルキルベンゼン誘導体は下記反応式で
示される方法により製造することができる。
(第1製法)
ることもできる。
(第2製法)
(式中Xはハロゲン原子を意味する。以下同様)一般式
(ITa)で示される化合物は一般式(IIat)で示
されるアルデヒド化合物に一般式(III)で示される
グリニヤー試薬を反応させることにより得ることができ
る。一般式(III)で示されるグリニヤー試薬におけ
るハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子等である。
(ITa)で示される化合物は一般式(IIat)で示
されるアルデヒド化合物に一般式(III)で示される
グリニヤー試薬を反応させることにより得ることができ
る。一般式(III)で示されるグリニヤー試薬におけ
るハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子等である。
反応温度は冷却下乃至加熱還流下に設定される。また2
反応溶媒としては通常ジエチルエーテルが用いられるが
、必要に応じ高沸点の溶媒としてベンゼン、トルエン、
キシレン等を用い(■d1) (Ild) 一般式(IIb)、 (IIc)及び(IIIa)で示
される化合物は夫々一般式(ITbt)、 (lIct
)及び(IIdt)で示されるアルデヒド化合物に一般
式(TV)で示されるグリニヤー試薬を反応させて得る
ことができる。
反応溶媒としては通常ジエチルエーテルが用いられるが
、必要に応じ高沸点の溶媒としてベンゼン、トルエン、
キシレン等を用い(■d1) (Ild) 一般式(IIb)、 (IIc)及び(IIIa)で示
される化合物は夫々一般式(ITbt)、 (lIct
)及び(IIdt)で示されるアルデヒド化合物に一般
式(TV)で示されるグリニヤー試薬を反応させて得る
ことができる。
反応条件は第1製法で述べた条件が適宜採用される。
(第3製法)
一般式(Ue)で示される化合物は一般式(IIe t
)で示されるアルコール化合物を還元することにより
得ることができる。還元は通常白金、白金黒、パラジウ
ム−炭素(Pd−C)、 7 ネ−=ッヶル等の触媒を
用いた接触還元が用いられる。反応溶媒は、酢酸エチル
、テトラヒドロフラン。
)で示されるアルコール化合物を還元することにより
得ることができる。還元は通常白金、白金黒、パラジウ
ム−炭素(Pd−C)、 7 ネ−=ッヶル等の触媒を
用いた接触還元が用いられる。反応溶媒は、酢酸エチル
、テトラヒドロフラン。
エーテル、ジオキサン、ベンゼン等である。
(第4製法)
本製造法は、一般式(HOで示されるリン酸化合物を製
造方法である。すなわち、一般式(nfl)で示される
フェノール化合物にピリジン、トリエチルアミン、ジエ
チルアニリン、ジメチルアニリンといった塩基の存在下
、オキシ塩下リンのようなリン酸化剤を反応させること
により行われる。
造方法である。すなわち、一般式(nfl)で示される
フェノール化合物にピリジン、トリエチルアミン、ジエ
チルアニリン、ジメチルアニリンといった塩基の存在下
、オキシ塩下リンのようなリン酸化剤を反応させること
により行われる。
反応溶媒としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、
クロロホルム、ベンゼン、トルエン等である。反応温度
は冷却下乃至室温下である。
クロロホルム、ベンゼン、トルエン等である。反応温度
は冷却下乃至室温下である。
このようにして製造された(IIa)乃至(Tif)の
化合物は、遊離のままあるいはその塩として単離精製さ
れる。塩は通常用いられる造塩反応に付すことにより製
造することができる。
化合物は、遊離のままあるいはその塩として単離精製さ
れる。塩は通常用いられる造塩反応に付すことにより製
造することができる。
単離精製は、抽出、濃縮、結晶化、濾過、再結晶、各種
クロマトグラフィー等通常の化学操作を適用して行われ
る。
クロマトグラフィー等通常の化学操作を適用して行われ
る。
(発明の効果)
本発明の有効成分は逆転写酵素(RTase )阻害作
用を有していることから感染症、カポシ肉腫、ニューモ
ニスカリー二肺炎といった後天性免疫症候群(AIDS
)の治療薬として有用である。
用を有していることから感染症、カポシ肉腫、ニューモ
ニスカリー二肺炎といった後天性免疫症候群(AIDS
)の治療薬として有用である。
即ち、一般にRNAウィルスでは自分を任う遺伝物とし
て一本鎖又は二本のRNAが使われている。このRNA
ウィルス群の中にはRTaseによりRNAからそれと
相補的なりNAを合成することがそのライフサイクルに
必須な一群のウィルスがいる。これらのウィルスは、ま
たDNAの状態で動物細胞の遺伝子の中に組込まれるこ
とが判明している。この動物細胞の遺伝子に挿入された
RNAは、宿主(動物細胞)の遺伝子の欠損や、挿入さ
れた強力な制御遺伝子によりその近傍遺伝子を高発現さ
せることも考えられている。
て一本鎖又は二本のRNAが使われている。このRNA
ウィルス群の中にはRTaseによりRNAからそれと
相補的なりNAを合成することがそのライフサイクルに
必須な一群のウィルスがいる。これらのウィルスは、ま
たDNAの状態で動物細胞の遺伝子の中に組込まれるこ
とが判明している。この動物細胞の遺伝子に挿入された
RNAは、宿主(動物細胞)の遺伝子の欠損や、挿入さ
れた強力な制御遺伝子によりその近傍遺伝子を高発現さ
せることも考えられている。
本発明の有効成分は、これらのウィルスの遺伝子内に共
通して存在するR Ta5eを特異的に阻害することに
よりウィルス増殖、即ち宿主(動物細胞)遺伝子へのウ
ィルス遺伝子の挿入を抑制することができるものと考え
られる。
通して存在するR Ta5eを特異的に阻害することに
よりウィルス増殖、即ち宿主(動物細胞)遺伝子へのウ
ィルス遺伝子の挿入を抑制することができるものと考え
られる。
以下に9本発明の有効成分である一般式(I)の化合物
についての薬理作用を測定方法と共に実験例1に示す。
についての薬理作用を測定方法と共に実験例1に示す。
実験例1 逆転酵素(RTase )阻害活性の測定R
Ta5e阻害活性はJournal of Biolo
gical Chemistry 2622187.
(1987)の記載の方法に準じ以下の方法で測定した
。
Ta5e阻害活性はJournal of Biolo
gical Chemistry 2622187.
(1987)の記載の方法に準じ以下の方法で測定した
。
即ち80mM)リス緩衝液(pH8)、 6mM塩化マ
グネシウム、80mM塩化カリウム、10mMジチオス
レイトール、20μg/mlポリアデニル酸、0.02
u/nlオリゴデオキシチミジン、20μM トリチウ
ム標識デオキシチミジン−トリフオスフェートとトリ骨
髄芽球症ウィルスのRTa5eから成る反応液に9本発
明化合物を各種濃度加え全溶量を100μlとした。こ
の反応液を37°C40分間インキユベーシミンした後
、氷冷した10%トリクロロ酢酸を100μL加え2反
応を停止した。
グネシウム、80mM塩化カリウム、10mMジチオス
レイトール、20μg/mlポリアデニル酸、0.02
u/nlオリゴデオキシチミジン、20μM トリチウ
ム標識デオキシチミジン−トリフオスフェートとトリ骨
髄芽球症ウィルスのRTa5eから成る反応液に9本発
明化合物を各種濃度加え全溶量を100μlとした。こ
の反応液を37°C40分間インキユベーシミンした後
、氷冷した10%トリクロロ酢酸を100μL加え2反
応を停止した。
この反応液をガラスフィルターcワットマンGF/C)
でr過し、10%トリクロロ酢酸、エタノールで洗浄し
た。その後、ガラスフィルターを乾燥し液体シンチレー
ションカウンターで測定した。
でr過し、10%トリクロロ酢酸、エタノールで洗浄し
た。その後、ガラスフィルターを乾燥し液体シンチレー
ションカウンターで測定した。
上記方法により測定した本発明の有効成分のRTage
阻害活性のIC5oを表1に示す。
阻害活性のIC5oを表1に示す。
表1
RTase
阻害活性
=21
本発明の有効成分である化合物(I)又はその塩は、そ
のま壕もしくは自体公知の薬学的に許容されうる担体、
賦形剤などと混合した医薬組成物として使用される。投
与は錠剤、カプセル剤、散剤。
のま壕もしくは自体公知の薬学的に許容されうる担体、
賦形剤などと混合した医薬組成物として使用される。投
与は錠剤、カプセル剤、散剤。
顆粒剤、丸剤等の経口投与、注射剤、シロップ剤。
軟膏剤、半割等の非経口投与のいずれであってもよい。
投与量は投与対象、投与ルート、症状によって異なるが
経口で通常成人1日当り1〜1..000mg。
経口で通常成人1日当り1〜1..000mg。
好ましくは、10〜500rIIgこれを1日2〜4回
に分けて投与する。
に分けて投与する。
(実施例)
以下に実施例を掲記し本発明を更に詳細に説明する。
実施例1〜9は一般式(I)に包含される化合物のうち
新規化合物である一般式(na)乃至(nf)の化合物
についての製造例である。
新規化合物である一般式(na)乃至(nf)の化合物
についての製造例である。
なお、参考例1〜3は一般式(I)で示される化合物の
うち、公知の化合物(表1の化合物番号1〜3)の製造
例を説明したものである。
うち、公知の化合物(表1の化合物番号1〜3)の製造
例を説明したものである。
参考例及び実施例中mpは融点を、 MSはマススペク
トルを、 IH−NMRは核磁気共鳴スペクトルを。
トルを、 IH−NMRは核磁気共鳴スペクトルを。
IRは赤外線吸収スペクトルを夫々意味する。
IIH29
1)o−ヒドロキシベンズアルデヒド12.2g。
炭酸カリウム10.35g、テトラブチルアンモニウム
プロミド触媒量、ベンジルプロミド15.4g及びメチ
ルエチルケトン200 mZの混合物を5時間加熱還流
する。冷却後、水洗し0.5N−水酸化ナトリウム水溶
液、水で洗浄後、有機層を減圧下濃縮すると、淡茶色の
油状物として0−ベンジルオキシベンズアルデヒド20
.9 gを得る。
プロミド触媒量、ベンジルプロミド15.4g及びメチ
ルエチルケトン200 mZの混合物を5時間加熱還流
する。冷却後、水洗し0.5N−水酸化ナトリウム水溶
液、水で洗浄後、有機層を減圧下濃縮すると、淡茶色の
油状物として0−ベンジルオキシベンズアルデヒド20
.9 gを得る。
2)金属マグネシウム0.36g+ エーテル20+n
Zの混合物に加温しながら テトラデシルプロミド4.
12gを滴下する。滴下終了後4時間加熱還流する。こ
れに0−ベンジルオキシベンズアルデヒド212gのエ
ーテル溶液50mtを加温攪拌下滴下する。3.5時間
加熱還流した後反応液を氷水に転溶し、エーテル層を3
N−硫酸。
Zの混合物に加温しながら テトラデシルプロミド4.
12gを滴下する。滴下終了後4時間加熱還流する。こ
れに0−ベンジルオキシベンズアルデヒド212gのエ
ーテル溶液50mtを加温攪拌下滴下する。3.5時間
加熱還流した後反応液を氷水に転溶し、エーテル層を3
N−硫酸。
5%炭酸水素す) IJウム水溶液の順序で洗浄する。
有機層を減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(シリカゲル120mZ;溶出液n−ヘキサ
ン−アセトン(30:1))で溶出する。目的画分を集
め濃縮すると白色沈殿トシて0−ベンジルオキシ−α−
テトラデシルベンゼンメタノール1.8gを得る。
グラフィー(シリカゲル120mZ;溶出液n−ヘキサ
ン−アセトン(30:1))で溶出する。目的画分を集
め濃縮すると白色沈殿トシて0−ベンジルオキシ−α−
テトラデシルベンゼンメタノール1.8gを得る。
mp42〜43℃
MS : 392 M/Z (M−18)’H−NM
R(CDCIg) :6.8〜7.5(9H)、 5.
10(2H,s)。
R(CDCIg) :6.8〜7.5(9H)、 5.
10(2H,s)。
4.92(IH,t)、 2.5〜1.0(26H)、
0.88(3H,t)参考例2 (1)後記実施例2で得られた2、5−ジメトキシα−
テトラデシルベンゼンメタノール3.84 g。
0.88(3H,t)参考例2 (1)後記実施例2で得られた2、5−ジメトキシα−
テトラデシルベンゼンメタノール3.84 g。
酢酸エチル50+r+Z、触媒量の濃硫酸、10%パラ
ジウム−炭素1.9gの混合物を、水素雰囲気下2時間
攪拌する。反応終了後、濾過し、F液を水洗後、減圧濃
縮する。析出した沈殿なn−ヘキサンから再結晶すると
、2,5−ジメトキシパンタデシルベンゼンの白色結晶
3.1gを得る。
ジウム−炭素1.9gの混合物を、水素雰囲気下2時間
攪拌する。反応終了後、濾過し、F液を水洗後、減圧濃
縮する。析出した沈殿なn−ヘキサンから再結晶すると
、2,5−ジメトキシパンタデシルベンゼンの白色結晶
3.1gを得る。
(2+ (1)で得た2、5−ジメトキシペンタデシ
ルベンゼン1.8gを48%臭化水素20m1及び酢酸
20m1に懸濁し、23時間加熱還流する。反応液を減
圧濃縮後残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗する。酢酸エ
チル層を減圧濃縮すると、帯黄色沈殿が析出する。沈殿
な涙取後、メチレンクロリドーn−ヘキサンから再結晶
して、2.5−ジヒドロキシペンタデシルベンゼン47
0rIIgヲ得ル。
ルベンゼン1.8gを48%臭化水素20m1及び酢酸
20m1に懸濁し、23時間加熱還流する。反応液を減
圧濃縮後残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗する。酢酸エ
チル層を減圧濃縮すると、帯黄色沈殿が析出する。沈殿
な涙取後、メチレンクロリドーn−ヘキサンから再結晶
して、2.5−ジヒドロキシペンタデシルベンゼン47
0rIIgヲ得ル。
mp : 101〜104°C
MS : 320 M/Z (M)
H−NMR(CDCI、): 6.4〜6.7 (3
H)、 2.54 (2H,t)。
H)、 2.54 (2H,t)。
10〜1.8(26H)、 0.90(3H,t)参考
例3 参考例1で得られた 0−ベンジルオキシ−αテトラデ
シルベンゼンメタノール1.6gを酢酸エチル50mt
に溶解し、触媒量の濃硫酸及び10%パラジウム−炭素
1.1gを加え、水素雰囲気下。
例3 参考例1で得られた 0−ベンジルオキシ−αテトラデ
シルベンゼンメタノール1.6gを酢酸エチル50mt
に溶解し、触媒量の濃硫酸及び10%パラジウム−炭素
1.1gを加え、水素雰囲気下。
2時間反応させる。反応液を濾過し、F液を水洗後、減
圧下濃縮する。濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー
に供しベンゼンで溶出する。目的画分を集め減圧下濃縮
乾固する。0−ペンタデシルフェノールの白色結晶37
0mgを得る。
圧下濃縮する。濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィー
に供しベンゼンで溶出する。目的画分を集め減圧下濃縮
乾固する。0−ペンタデシルフェノールの白色結晶37
0mgを得る。
mp:42〜44℃
MS : 304 M/Z (M)
’H−NMR(CDCI3) : 6.6〜7.2(
4H)、 2.58(2H,t)。
4H)、 2.58(2H,t)。
2.4〜1.0(26H)、 0.88(3H,t)〜
25− =26 Cl4H2Q 1)p−ヒドロキシベンズアルデヒ)” 12.2 g
ラメチルエチルケトン200+ntに溶解する。その
溶液に炭酸カリウム10.35g、触媒量のテトラブチ
ルアンモニウムプロミド及びベンジルプロミド15.4
gを加え一夜加熱還流する。冷却後。
25− =26 Cl4H2Q 1)p−ヒドロキシベンズアルデヒ)” 12.2 g
ラメチルエチルケトン200+ntに溶解する。その
溶液に炭酸カリウム10.35g、触媒量のテトラブチ
ルアンモニウムプロミド及びベンジルプロミド15.4
gを加え一夜加熱還流する。冷却後。
水洗し次いで0.5N水酸化す) IJJウム溶液で洗
浄する。有機層を減圧濃縮すると結晶が析出する。
浄する。有機層を減圧濃縮すると結晶が析出する。
この結晶をr取し乾燥すると、p−ベンジルオキシベン
ズアルデヒド16.8gを得る。
ズアルデヒド16.8gを得る。
2)エーテル20mZに金層マグネシウム0.36gを
加え、加温攪拌しながらテトラデシルプロミド4.16
gを加える。4時間、加熱還流後p−ベンジルオキシベ
ンズアルデヒド2.12gのエーテル溶液50m1を加
え、3時間加熱還流する。反応終了後、氷水に転溶し3
N−硫酸、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で
洗浄する。有機層を濃縮すると、白色沈殿が析出する。
加え、加温攪拌しながらテトラデシルプロミド4.16
gを加える。4時間、加熱還流後p−ベンジルオキシベ
ンズアルデヒド2.12gのエーテル溶液50m1を加
え、3時間加熱還流する。反応終了後、氷水に転溶し3
N−硫酸、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で
洗浄する。有機層を濃縮すると、白色沈殿が析出する。
この結晶を沢取し乾燥後p−ベンジルオキシ−α−テト
ララデシルベンゼセンタノールを得た。
ララデシルベンゼセンタノールを得た。
mp ; 55〜57℃
MS ; 410 m/z(M)、 392m/z(M
−18)’H−NMR(CDCI、 ) ; 6.8〜
7.6 (9H)、 5.08 (2H,s )。
−18)’H−NMR(CDCI、 ) ; 6.8〜
7.6 (9H)、 5.08 (2H,s )。
4.6 (IH,t)、 1.1〜1.8 (26H)
、 0.90 (3)L t)実施例 2゜ Cl4H211 金層マグネシウム0.49g及びエーテル20m1の混
合物に加温下テトラデシルプロミド5.7gを滴下する
。滴下終了後4時間、加熱還流する。これに2,5−ジ
メトキシベンズアルデヒド2.66gのエーテル溶液3
0mtを加温下滴下する。滴下終了後3時間加熱還流す
る。冷却後、氷水に転溶し、エーテル層を3N−硫酸、
5%炭酸水素ナトリウム水溶液。
、 0.90 (3)L t)実施例 2゜ Cl4H211 金層マグネシウム0.49g及びエーテル20m1の混
合物に加温下テトラデシルプロミド5.7gを滴下する
。滴下終了後4時間、加熱還流する。これに2,5−ジ
メトキシベンズアルデヒド2.66gのエーテル溶液3
0mtを加温下滴下する。滴下終了後3時間加熱還流す
る。冷却後、氷水に転溶し、エーテル層を3N−硫酸、
5%炭酸水素ナトリウム水溶液。
水の順序で洗浄する。エーテル層を濃縮後析出した沈殿
をr取したのち冷ヘキサンで洗浄し2.5−ジメトキシ
−α−テトラデシルベンゼンメタノール4.27gを得
る。
をr取したのち冷ヘキサンで洗浄し2.5−ジメトキシ
−α−テトラデシルベンゼンメタノール4.27gを得
る。
mp ; 54〜56°C
MS ; 364 m/z(M)、 346 m/z(
M−18)’H−NMR(CDCI3) ; 6.6〜
7.0 (3H)、 4.8 (IH)。
M−18)’H−NMR(CDCI3) ; 6.6〜
7.0 (3H)、 4.8 (IH)。
3.9 (6H)、 2.6〜1.0 (26H)、
0.9 (3H)mp ; 69〜70℃ MS ; 364 m/z (M)、 346 m/z
(M−18)’H−NMR(CDCI3) ; 7.
2 (IH)、 6.45 (2H)、 4.8 (I
H)。
0.9 (3H)mp ; 69〜70℃ MS ; 364 m/z (M)、 346 m/z
(M−18)’H−NMR(CDCI3) ; 7.
2 (IH)、 6.45 (2H)、 4.8 (I
H)。
3.8 (6H)、 2.5〜1.0 (26H)、
0.9 (3H)実施例4゜ 実施例 3゜ l4H29 金層マグネシウム0.49g、エーテル20m1の混合
物にテトラデシルプロミド556gを加温攪拌下加える
。4時間加熱還流後、その反応液に2.4ジメトキシベ
ンズアルデヒド2.2gのエーテル溶液50m1を加温
しながら加える。3時間反応後、実施例2と同様に処理
し2,4−ジメトキシ−α−テトラデシルベンゼンメタ
ノールの白色沈殿4.5 g ヲ得る。
0.9 (3H)実施例4゜ 実施例 3゜ l4H29 金層マグネシウム0.49g、エーテル20m1の混合
物にテトラデシルプロミド556gを加温攪拌下加える
。4時間加熱還流後、その反応液に2.4ジメトキシベ
ンズアルデヒド2.2gのエーテル溶液50m1を加温
しながら加える。3時間反応後、実施例2と同様に処理
し2,4−ジメトキシ−α−テトラデシルベンゼンメタ
ノールの白色沈殿4.5 g ヲ得る。
l0H11
金層マグネシウム0.49g、エーテル20m1の混合
物に、加温下デシルブロマイド4.42gのエーテル溶
液50m1を加える。3時間加熱還流後3.5−ジメト
キシベンズアルデヒド2.7gのエーテル溶液10m1
を加える。4時間加熱還流後2反応液を氷水に転溶し、
エーテル層を3N−硫酸、5%炭酸水素す) IJウム
水水溶氷水順次洗浄した後、減圧濃縮すると3,5−ジ
メトキシ−α−デシルベンゼンメタノールの白色沈殿4
47gを得る。
物に、加温下デシルブロマイド4.42gのエーテル溶
液50m1を加える。3時間加熱還流後3.5−ジメト
キシベンズアルデヒド2.7gのエーテル溶液10m1
を加える。4時間加熱還流後2反応液を氷水に転溶し、
エーテル層を3N−硫酸、5%炭酸水素す) IJウム
水水溶氷水順次洗浄した後、減圧濃縮すると3,5−ジ
メトキシ−α−デシルベンゼンメタノールの白色沈殿4
47gを得る。
mp:32°G
MS ; 308 m/z (M)
’H−NMR(CDCl2); 6.3〜6.6 (3
H)、 4.5 (LH)、 3.8 (6H)。
H)、 4.5 (LH)、 3.8 (6H)。
1.0〜2.2(18H)、0.9(3H,t)実施例
5 ca Hl 3 実施例4と同様な方法で、3.5−ジメトキシα−ヘキ
シルベンゼンメタノールの粘稠透明液体を得る。
5 ca Hl 3 実施例4と同様な方法で、3.5−ジメトキシα−ヘキ
シルベンゼンメタノールの粘稠透明液体を得る。
MS ; 252 m/z (M)
H−NMR(CDCl2) ; 6.3〜6.7(3H
)、 4.6(IH)、 3.8(6H)。
)、 4.6(IH)、 3.8(6H)。
2.1〜1.1 (IOH)、 0.9 (3H,t)
実施例 6゜ tauy 実施例4と同様にして3,5−ジメトキシ−αオクタデ
シルベンゼンメタノールを得る。
実施例 6゜ tauy 実施例4と同様にして3,5−ジメトキシ−αオクタデ
シルベンゼンメタノールを得る。
mp : 68〜67゜
MS : 420 m/z (M)
’H−NMR(CDCl2) : 6.2〜6.6 (
3H)、 4.6 (LH)。
3H)、 4.6 (LH)。
3.8(6H)、 2.1〜1.0(34I()、 0
.90(3H,t)実施例 7゜ 実施例6で得られた3、5−ジメトキシ−α−オクタデ
シルベンゼンメタノール4gを酢酸エチル170mZに
懸濁し、触媒量の濃硫酸及び10%パラジウム−炭素1
.8gを加え、水素雰囲気下、 2時間撹拌する。反応
液を沢過し、F液を水洗したのち、減圧濃縮する。濃縮
液をシリカゲルクロマトグラフィーに供する。ベンゼン
−n−ヘキサン(5:])で溶出し、目的画分を集め濃
縮すると。
.90(3H,t)実施例 7゜ 実施例6で得られた3、5−ジメトキシ−α−オクタデ
シルベンゼンメタノール4gを酢酸エチル170mZに
懸濁し、触媒量の濃硫酸及び10%パラジウム−炭素1
.8gを加え、水素雰囲気下、 2時間撹拌する。反応
液を沢過し、F液を水洗したのち、減圧濃縮する。濃縮
液をシリカゲルクロマトグラフィーに供する。ベンゼン
−n−ヘキサン(5:])で溶出し、目的画分を集め濃
縮すると。
3.5−ジメトキシノナデルベンゼンの白色沈殿810
mgを得る。
mgを得る。
mp : 59〜60゜
MS : 404 m/z (M)
’H−NMR(CDCl2): 6.2〜6.5(3H
)、 3.8(6,H)。
)、 3.8(6,H)。
2.58(2H,t)、 2.1〜1.o (34H)
、 0.9(3H,t )実施例 8 チルシリル化されたシリカゲル(メルク社)カラムクロ
マトグラフィーに供し、クロロホルム次いでクロロホル
ム−メタノール(10:1)で溶出する。目的画分を集
め濃縮すると9m−ペンタデシルフェノール燐酸の淡黄
色塊を得た。
、 0.9(3H,t )実施例 8 チルシリル化されたシリカゲル(メルク社)カラムクロ
マトグラフィーに供し、クロロホルム次いでクロロホル
ム−メタノール(10:1)で溶出する。目的画分を集
め濃縮すると9m−ペンタデシルフェノール燐酸の淡黄
色塊を得た。
IR(KBr) : 1060 cm−’MS (FA
B) : 383 m/ Z (M−1) C21H
3?PO4[384]IH−NMR(CD30D) :
6.9〜7.4(4H)。
B) : 383 m/ Z (M−1) C21H
3?PO4[384]IH−NMR(CD30D) :
6.9〜7.4(4H)。
2.63(2H)、 1.8〜2.to(26u)。
0.95(3H)
実施例 9
m−ペンタデシルフェノール304Ir!gヲメチレン
クロリド5mZに溶解し、トリエチルアミン101 Q
及びオキシ塩化燐460rQgを加え、室温で終夜撹拌
する。次いで水3mlを加え、室温で2時間撹拌する。
クロリド5mZに溶解し、トリエチルアミン101 Q
及びオキシ塩化燐460rQgを加え、室温で終夜撹拌
する。次いで水3mlを加え、室温で2時間撹拌する。
その反応液を分液し、メチレンクロリド層を水洗する。
有機層を減圧濃縮する。濃縮液をヅメ5−ペンタデシル
レゾルシン1601Tt化燐2+nl及び水9111g
の混合物に溶解する。室温で4日反応後,氷水10m1
に転溶し,炭酸ソーダでpH8、5に調整した後,酢酸
エチル50m1で2回抽出する。
レゾルシン1601Tt化燐2+nl及び水9111g
の混合物に溶解する。室温で4日反応後,氷水10m1
に転溶し,炭酸ソーダでpH8、5に調整した後,酢酸
エチル50m1で2回抽出する。
水層な塩酸でpH1.55に調整した後,ブタノール5
0m1で2回抽出する。ブタノール層を水洗後、減圧濃
縮する。濃縮液に水を加え、炭酸水素ナトリウム水溶液
でpH7,0に調整したのち、凍結乾燥する。淡黄色粉
末をジメチルシリルシリカゲルカラムK 供L 、
クロロホルム、次いでクロロホルムメタノール(10:
1)で溶出する。目的画分を集め、濃縮すると、5−ペ
ンタデシルレゾルシン燐酸モノナトリウムの白色粉末5
1.ll1gを得る。
0m1で2回抽出する。ブタノール層を水洗後、減圧濃
縮する。濃縮液に水を加え、炭酸水素ナトリウム水溶液
でpH7,0に調整したのち、凍結乾燥する。淡黄色粉
末をジメチルシリルシリカゲルカラムK 供L 、
クロロホルム、次いでクロロホルムメタノール(10:
1)で溶出する。目的画分を集め、濃縮すると、5−ペ
ンタデシルレゾルシン燐酸モノナトリウムの白色粉末5
1.ll1gを得る。
I R(KBr) : 1100 cm″′MS (F
AB) : 421 m/ z (M−1)、 C2、
H3605PNa[422]’H−NMR(D20−C
D30D) : 6.1〜6.7(3H)。
AB) : 421 m/ z (M−1)、 C2、
H3605PNa[422]’H−NMR(D20−C
D30D) : 6.1〜6.7(3H)。
2.4.5C2H)、 1.0〜1.7(26H)。
0.95(3H)
処方例
製剤例11錠剤
実施例3の化合物 25mgスターチ
220 mgステアリン酸マグネシウム
5mg 全量 25Orllg 上記組成の混合物を常法により錠剤とする。
220 mgステアリン酸マグネシウム
5mg 全量 25Orllg 上記組成の混合物を常法により錠剤とする。
製剤例2. カプセル剤
実施例3の化合物 20g
結晶セルロース 80g
全量 100 g
両粉末を混合して散剤とし、この100■を5号のハー
ドゼラチンカプセルに充填してカプセル剤とする。
ドゼラチンカプセルに充填してカプセル剤とする。
特許出願人 山之内製薬株式会社
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は炭素数5個乃至25個のアルキル基若
しくはアルケニル基を、R^2は水素原子又は水酸基を
、R^3、R^4は同一又は異なって水素原子、水酸基
、低級アルコキシ基、フェニル低級アルコキシ基、低級
アルカノイルオキシ基、又はリン酸残基(▲数式、化学
式、表等があります▼)を意味する。 但し、R^3、R^4のいずれか一方は水素原子以外の
基である。) で示されるアルキルベンゼン誘導体又はその塩を有効成
分とする逆転写酵素阻害剤。 - (2)一般式 (イ)▲数式、化学式、表等があります▼ (ロ)▲数式、化学式、表等があります▼ (ハ)▲数式、化学式、表等があります▼ (ニ)▲数式、化学式、表等があります▼ (ホ)▲数式、化学式、表等があります▼ 及び (ヘ)▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^5は炭素数5個乃至13個及び15個乃至
25個のアルキル基を、R^6、R^7は同一又は異な
って低級アルコキシ基を、R^8は炭素数10個乃至2
5個のアルキル基を、R^9はフェニル低級アルコキシ
基を、R^1^0は炭素数17個乃至25個のアルキル
基を、R^1^1は炭素数10個乃至25個のアルキル
基を、R^1^2は水素原子又は水酸基を意味する。) で示される化合物からなる群より選ばれたアルキルベン
ゼン誘導体又はその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25152988A JPH02101036A (ja) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | アルキルベンゼン誘導体及びその医薬 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25152988A JPH02101036A (ja) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | アルキルベンゼン誘導体及びその医薬 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02101036A true JPH02101036A (ja) | 1990-04-12 |
Family
ID=17224166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25152988A Pending JPH02101036A (ja) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | アルキルベンゼン誘導体及びその医薬 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02101036A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993002031A1 (en) * | 1991-07-24 | 1993-02-04 | Nippon Suisan Kaisha, Ltd. | Alkylphenol derivative |
US6274635B1 (en) | 1999-03-22 | 2001-08-14 | Immugen Pharmaceuticals Inc. | Alkylated resorcinol derivatives for the treatment of immune diseases |
US6566560B2 (en) | 1999-03-22 | 2003-05-20 | Immugen Pharmaceuticals, Inc. | Resorcinolic compounds |
WO2006093014A1 (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-08 | Meiji Dairies Corporation | ハイドロキノン長鎖誘導体及び/又はフェノキシ長鎖誘導体及びこれらを含有する医薬 |
WO2013069780A1 (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-16 | 出光興産株式会社 | ウイルス感染防除剤 |
-
1988
- 1988-10-05 JP JP25152988A patent/JPH02101036A/ja active Pending
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JP5150807B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2013-02-27 | 株式会社明治 | ハイドロキノン長鎖誘導体及び/又はフェノキシ長鎖誘導体及びこれらを含有する医薬 |
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JPWO2013069780A1 (ja) * | 2011-11-11 | 2015-04-02 | 出光興産株式会社 | ウイルス感染防除剤 |
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