JPH0198470U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0198470U JPH0198470U JP19556587U JP19556587U JPH0198470U JP H0198470 U JPH0198470 U JP H0198470U JP 19556587 U JP19556587 U JP 19556587U JP 19556587 U JP19556587 U JP 19556587U JP H0198470 U JPH0198470 U JP H0198470U
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- JP
- Japan
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- electrode spacing
- current density
- density distribution
- ion
- ion source
- Prior art date
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- Granted
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係るイオンビ
ーム照射装置を示す概略図である。第２図は、第
１図の装置における被照射物とその近傍における
ビーム電流密度分布の一例を示す図である。第３
図は、従来のイオンビーム照射装置の一例を示す
概略断面図である。 ２……イオン源、８……引出し電極系、１４…
…イオンビーム、１６……電極間隔調整機構、２
６……真空容器、３０……被照射物、３２……ビ
ーム電流密度分布測定器、３４……電極間隔制御
回路、４４……ビーム電流制御回路。
ーム照射装置を示す概略図である。第２図は、第
１図の装置における被照射物とその近傍における
ビーム電流密度分布の一例を示す図である。第３
図は、従来のイオンビーム照射装置の一例を示す
概略断面図である。 ２……イオン源、８……引出し電極系、１４…
…イオンビーム、１６……電極間隔調整機構、２
６……真空容器、３０……被照射物、３２……ビ
ーム電流密度分布測定器、３４……電極間隔制御
回路、４４……ビーム電流制御回路。
Claims (1)
- 被照射物が収納される真空容器と、当該真空容
器に取り付けられていてイオンビームを引き出し
てそれを前記被照射物に照射するイオン源と、当
該イオン源の引出し電極系内のプラズマ電極と残
りの電極間の電極間隔を調整する電極間隔調整機
構と、前記イオン源から引き出されるイオンビー
ムのビーム電流密度分布を測定するビーム電流密
度分布測定器と、当該ビーム電流密度分布測定器
からの信号に応答して、前記イオン源から引き出
されるイオンビームのビーム電流密度分布が所定
のものになるように、前記電極間隔調整機構を制
御して前記電極間隔を調整する電極間隔制御回路
とを備えることを特徴とするイオンビーム照射装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987195565U JPH0737232Y2 (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | イオンビーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987195565U JPH0737232Y2 (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | イオンビーム照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0198470U true JPH0198470U (ja) | 1989-06-30 |
| JPH0737232Y2 JPH0737232Y2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=31486240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987195565U Expired - Lifetime JPH0737232Y2 (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | イオンビーム照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0737232Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004014422A (ja) * | 2002-06-11 | 2004-01-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | イオン注入装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60258840A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-20 | Mitsubishi Electric Corp | 反応性イオンビ−ムエツチング装置 |
-
1987
- 1987-12-22 JP JP1987195565U patent/JPH0737232Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60258840A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-20 | Mitsubishi Electric Corp | 反応性イオンビ−ムエツチング装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004014422A (ja) * | 2002-06-11 | 2004-01-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | イオン注入装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0737232Y2 (ja) | 1995-08-23 |