JPS63109437U - - Google Patents

Info

Publication number
JPS63109437U
JPS63109437U JP74787U JP74787U JPS63109437U JP S63109437 U JPS63109437 U JP S63109437U JP 74787 U JP74787 U JP 74787U JP 74787 U JP74787 U JP 74787U JP S63109437 U JPS63109437 U JP S63109437U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
conductive
amount
electron emitting
emitting means
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP74787U
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP74787U priority Critical patent/JPS63109437U/ja
Publication of JPS63109437U publication Critical patent/JPS63109437U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の一実施例に係るイオン注
入装置を示す概略図である。第2図ないし第4図
は、それぞれ、この考案の他の実施例に係るイオ
ン注入装置を示す概略図である。第5図は、従来
のイオン注入装置の一例を示す概略図である。 8……粉体容器、10……粉体、12……イオ
ンビーム、18……フイラメント、20……フイ
ラメント電源、22……電子、24,24a,2
4b……電流計測器、26……制御装置、28…
…アノード電源、38……グリツド、40……グ
リツド電源。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空雰囲気中で、粉体容器内に収納された非導
    電性または半導電性の粉体にイオンビームを照射
    して当該粉体にイオン注入する装置において、粉
    体容器内の粉体に電子を浴びせる電子放出手段と
    、電子放出手段を制御して、粉体に沿びせる電子
    の量を粉体に照射されるイオンの量とほぼ等しく
    する制御手段とを備えることを特徴とするイオン
    注入装置。
JP74787U 1987-01-06 1987-01-06 Pending JPS63109437U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP74787U JPS63109437U (ja) 1987-01-06 1987-01-06

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP74787U JPS63109437U (ja) 1987-01-06 1987-01-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63109437U true JPS63109437U (ja) 1988-07-14

Family

ID=30778007

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP74787U Pending JPS63109437U (ja) 1987-01-06 1987-01-06

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63109437U (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5337008U (ja) * 1976-09-04 1978-04-01
JPS53136798A (en) * 1977-05-05 1978-11-29 Ibm Ion beam bombardment device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5337008U (ja) * 1976-09-04 1978-04-01
JPS53136798A (en) * 1977-05-05 1978-11-29 Ibm Ion beam bombardment device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63109437U (ja)
JPS63109438U (ja)
JPH01115153U (ja)
JPH0392769U (ja)
JPH02131258U (ja)
JPH0312348U (ja)
JPH0163062U (ja)
JPH01154489U (ja)
JPS61183859A (ja) 電子線照射装置の線量分布均一化方法
JPH0198470U (ja)
JPH034648U (ja)
JPS62188145U (ja)
JPH0518646U (ja) 電子線照射装置
JPH02131650U (ja)
JPH0348854U (ja)
JPH0374461U (ja)
JPS62157968U (ja)
JPH0262653U (ja)
JPH03103550U (ja)
JPS61199860U (ja)
JPS5974659U (ja) イオン注入装置のイオン発生装置
JPH0174261U (ja)
JPH0230100U (ja)
JPH0363900U (ja)
JPS6271863U (ja)