JPH0262653U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0262653U JPH0262653U JP14178788U JP14178788U JPH0262653U JP H0262653 U JPH0262653 U JP H0262653U JP 14178788 U JP14178788 U JP 14178788U JP 14178788 U JP14178788 U JP 14178788U JP H0262653 U JPH0262653 U JP H0262653U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- holder
- ion
- divergence
- implantation apparatus
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 3
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- 239000007943 implant Substances 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係るイオン注
入装置を示す概略図である。第２図は、第１図の
絶縁体部分の詳細例を示す断面図である。第３図
は、絶縁体の他の例を示す断面図である。第４図
は、この考案の他の実施例に係るイオン注入装置
を部分的に示す断面図である。第５図は、絶縁体
と導体とを組み合わせた例を示す断面図である。
第６図は、従来のイオン注入装置の一例を示す概
略図である。第７図は、第６図の試料の回りを拡
大して部分的に示す断面図である。第８図は、従
来例およびこの考案の実施例の場合の試料表面上
でのビーム電流密度分布の例を示す図である。 ２……イオン源、２６……イオンビーム、３０
……試料室、３２……試料、３４……ホルダ、３
８……絶縁体、４８……導体、５０……直流電源
。
入装置を示す概略図である。第２図は、第１図の
絶縁体部分の詳細例を示す断面図である。第３図
は、絶縁体の他の例を示す断面図である。第４図
は、この考案の他の実施例に係るイオン注入装置
を部分的に示す断面図である。第５図は、絶縁体
と導体とを組み合わせた例を示す断面図である。
第６図は、従来のイオン注入装置の一例を示す概
略図である。第７図は、第６図の試料の回りを拡
大して部分的に示す断面図である。第８図は、従
来例およびこの考案の実施例の場合の試料表面上
でのビーム電流密度分布の例を示す図である。 ２……イオン源、２６……イオンビーム、３０
……試料室、３２……試料、３４……ホルダ、３
８……絶縁体、４８……導体、５０……直流電源
。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) イオン源と、試料保持用のホルダが収納さ
れた試料室とを備え、イオン源から引き出された
イオンビームをホルダ上の試料に照射してそれに
イオン注入を行うようにした装置において、前記
ホルダ上の試料の周辺部近傍からその上流側にか
けての領域においてイオンビームの発散を静電的
に抑制する発散抑制手段を備えることを特徴とす
るイオン注入装置。 (2) 前記発散抑制手段が、ホルダ上の試料の周
辺部近傍からその上流側にかけての領域を取り囲
む絶縁体を備える請求項１記載のイオン注入装置
。 (3) 前記発散抑制手段が、ホルダ上の試料の周
辺部近傍からその上流側にかけての領域を取り囲
む導体と、この導体にイオンビームの極性と同じ
極性の直流電圧を印加する直流電源とを備える請
求項１記載のイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14178788U JPH0262653U (ja) | 1988-10-29 | 1988-10-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14178788U JPH0262653U (ja) | 1988-10-29 | 1988-10-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0262653U true JPH0262653U (ja) | 1990-05-10 |
Family
ID=31407167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14178788U Pending JPH0262653U (ja) | 1988-10-29 | 1988-10-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0262653U (ja) |
-
1988
- 1988-10-29 JP JP14178788U patent/JPH0262653U/ja active Pending