JPH01160653U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01160653U JPH01160653U JP5822988U JP5822988U JPH01160653U JP H01160653 U JPH01160653 U JP H01160653U JP 5822988 U JP5822988 U JP 5822988U JP 5822988 U JP5822988 U JP 5822988U JP H01160653 U JPH01160653 U JP H01160653U
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- JP
- Japan
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- ion
- detection electrode
- ion beam
- waveform
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 6
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
Description
第１図はこの考案の一実施例の構成を示す概略
図、第２図は第１のイオン検出電極と第２のイオ
ン検出電極との位置関係を示す図、第３図は第１
図の各部の波形を示す波形図、第４図は従来のイ
オン注入装置の構成を示す概略図である。 １……イオン源、２……イオンビーム断続器、
３……加速器、４……第１のイオン検出電極、５
……第２のイオン検出電極、７……波形表示器。
図、第２図は第１のイオン検出電極と第２のイオ
ン検出電極との位置関係を示す図、第３図は第１
図の各部の波形を示す波形図、第４図は従来のイ
オン注入装置の構成を示す概略図である。 １……イオン源、２……イオンビーム断続器、
３……加速器、４……第１のイオン検出電極、５
……第２のイオン検出電極、７……波形表示器。
Claims (1)
- イオン源からのイオンビーム照射経路中にイオ
ンをビーム状に引き出すための加速器と第１のイ
オン検出電極と第２のイオン検出電極とをこの順
序で配設し、前記イオン源から引き出されるイオ
ンビームを前記第１のイオン検出電極の前段でパ
ルス状に断続して照射させるイオンビーム断続器
を設け、前記第１のイオン検出電極から取り出さ
れるイオン検出パルスの出現時刻を基準として前
記第２のイオン検出電極から取り出されるイオン
検出信号の波形を表示する波形表示器を設けたこ
とを特徴とするイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988058229U JPH0728695Y2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988058229U JPH0728695Y2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01160653U true JPH01160653U (ja) | 1989-11-08 |
| JPH0728695Y2 JPH0728695Y2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=31284053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988058229U Expired - Lifetime JPH0728695Y2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0728695Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009529765A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-08-20 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | プラズマプロセスの監視制御技術 |
| JP2022547916A (ja) * | 2019-09-10 | 2022-11-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | パルスイオンビームにおけるイオンエネルギー測定のための装置および技法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5132353U (ja) * | 1974-08-30 | 1976-03-09 | ||
| JPS59173939A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-02 | Univ Nagoya | 飛行時間型イオン質量分析装置 |
-
1988
- 1988-04-27 JP JP1988058229U patent/JPH0728695Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5132353U (ja) * | 1974-08-30 | 1976-03-09 | ||
| JPS59173939A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-02 | Univ Nagoya | 飛行時間型イオン質量分析装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009529765A (ja) * | 2006-03-10 | 2009-08-20 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | プラズマプロセスの監視制御技術 |
| JP2022547916A (ja) * | 2019-09-10 | 2022-11-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | パルスイオンビームにおけるイオンエネルギー測定のための装置および技法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0728695Y2 (ja) | 1995-06-28 |