JPH0225157U - - Google Patents

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JPH0225157U
JPH0225157U JP10469888U JP10469888U JPH0225157U JP H0225157 U JPH0225157 U JP H0225157U JP 10469888 U JP10469888 U JP 10469888U JP 10469888 U JP10469888 U JP 10469888U JP H0225157 U JPH0225157 U JP H0225157U
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port
ion beam
ion source
alignment
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、この考案の一実施例に係るイオン注
入装置を示す概略図である。第２図は、従来のイ
オン注入装置の一例を示す概略図である。 ２……イオン源、４……イオンビーム、６……
分析電磁石、８……分析管、１０……分析スリツ
ト、１２，１４……走査電極、１６……ターゲツ
ト、１８……ポート、２０……アライメント測定
手段。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. イオン源から射出されたイオンビームを分析電
    磁石で偏向させた後にターゲツトへ導く構成のイ
    オン注入装置において、前記分析電磁石を構成す
    る分析管の一部であつてイオン源のイオンビーム
    射出部を光学的に見込める位置にポートを設け、
    かつこのポートに、イオン源から射出されるイオ
    ンビームのアライメントを測定するアライメント
    測定手段を取り付けたことを特徴とするイオン注
    入装置。
JP10469888U 1988-08-08 1988-08-08 Pending JPH0225157U (ja)

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