JPH0250952U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0250952U JPH0250952U JP12925288U JP12925288U JPH0250952U JP H0250952 U JPH0250952 U JP H0250952U JP 12925288 U JP12925288 U JP 12925288U JP 12925288 U JP12925288 U JP 12925288U JP H0250952 U JPH0250952 U JP H0250952U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- electrode
- mass spectrometry
- scanning
- ion beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 3
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 3
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 claims 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図はこの考案の実施例のブロツク図、第２
図は第１図のターゲツトに照射されるイオンビー
ムの挙動を示す波形図、第３図は従来のイオン注
入装置の構成を示す概略図である。 １……高周波重畳手段、６……加速電源、７…
…ターゲツト、８……イオンビーム。
図は第１図のターゲツトに照射されるイオンビー
ムの挙動を示す波形図、第３図は従来のイオン注
入装置の構成を示す概略図である。 １……高周波重畳手段、６……加速電源、７…
…ターゲツト、８……イオンビーム。
Claims (1)
- イオン源からイオンビームを引き出すためのイ
オン引出電極と、前記イオン源から引き出された
イオンビームから必要なイオン種を選択するため
の質量分析マグネツトと、前記質量分析マグネツ
トにより選択されたイオン種のイオンビームを加
速するための加速電極と、前記加速されたイオン
ビームをターゲツトに走査するための垂直走査電
極と水平走査電極とを備えたイオン注入装置にお
いて、前記イオン引出電極、質量分析マグネツト
、加速電極、垂直走査電極および水平走査電極の
各電源の何れか１つの電源の出力にイオンビーム
走査周波数より十分高い周波数の高周波成分を重
畳する高周波重畳手段を設けたことを特徴とする
イオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12925288U JPH0719084Y2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12925288U JPH0719084Y2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0250952U true JPH0250952U (ja) | 1990-04-10 |
| JPH0719084Y2 JPH0719084Y2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=31383356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12925288U Expired - Lifetime JPH0719084Y2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0719084Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012532423A (ja) * | 2009-07-02 | 2012-12-13 | アクセリス テクノロジーズ， インコーポレイテッド | 機械的二次元走査注入システムの均一性および生産性を改善するための、ビーム走査法の使用方法 |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP12925288U patent/JPH0719084Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012532423A (ja) * | 2009-07-02 | 2012-12-13 | アクセリス テクノロジーズ， インコーポレイテッド | 機械的二次元走査注入システムの均一性および生産性を改善するための、ビーム走査法の使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0719084Y2 (ja) | 1995-05-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS58110956U (ja) | 荷電粒子照射装置 | |
| JPH0250952U (ja) | ||
| JPH0326957U (ja) | ||
| JPS6421073A (en) | Ion implanting device | |
| JPH01160653U (ja) | ||
| JPH01112554U (ja) | ||
| JPH03100352U (ja) | ||
| JPH0183256U (ja) | ||
| JPS6391156U (ja) | ||
| JPH0348854U (ja) | ||
| JPS5974659U (ja) | イオン注入装置のイオン発生装置 | |
| JPH0299557U (ja) | ||
| JPH0254156U (ja) | ||
| JPH01158640U (ja) | ||
| JPS6339853U (ja) | ||
| JPH02129660U (ja) | ||
| JPS61104960U (ja) | ||
| JPS62186364U (ja) | ||
| JPS62157968U (ja) | ||
| JPS62175559U (ja) | ||
| JPH0435344U (ja) | ||
| JPH0229151U (ja) | ||
| JPH01155696U (ja) | ||
| JPH0158776U (ja) | ||
| JPH025356A (ja) | イオン注入装置 |