JPS62188145U - - Google Patents

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JPS62188145U
JPS62188145U JP7778086U JP7778086U JPS62188145U JP S62188145 U JPS62188145 U JP S62188145U JP 7778086 U JP7778086 U JP 7778086U JP 7778086 U JP7778086 U JP 7778086U JP S62188145 U JPS62188145 U JP S62188145U
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JP
Japan
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disk
wafer
generating means
electron generating
wafers
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JP7778086U
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【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の一実施例に係るウエハの
チヤージアツプ量測定装置を備えたイオン注入装
置のデイスク回りの一例を示す平面図である。第
2図は、第1図の線−に沿う断面図である。
第3図は、イオン注入装置のデイスク回りの一例
を示す平面図である。第4図は、第3図の線−
に沿う断面図である。 2……デイスク、4……ウエハ、6……イオン
ビーム、8……電子発生手段、10……電子、1
2……電流測定手段。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空中で回転および並進させられるデイスク上
    に装着された複数枚のウエハにイオンビームを順
    次照射してイオン注入する装置に用いられるもの
    であつて、デイスク上のウエハの通過経路上であ
    つて通過するウエハにほぼ対向するように設けら
    れている電子を発生する電子発生手段と、電子発
    生手段とデイスク間に接続されていてそこを流れ
    る電流を測定する電流測定手段とを備えることを
    特徴とするウエハのチヤージアツプ量測定装置。
JP7778086U 1986-05-22 1986-05-22 Pending JPS62188145U (ja)

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JP7778086U JPS62188145U (ja) 1986-05-22 1986-05-22

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JP7778086U JPS62188145U (ja) 1986-05-22 1986-05-22

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JPS62188145U true JPS62188145U (ja) 1987-11-30

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ID=30926108

Family Applications (1)

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JP7778086U Pending JPS62188145U (ja) 1986-05-22 1986-05-22

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