JPH0282871U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0282871U JPH0282871U JP16278288U JP16278288U JPH0282871U JP H0282871 U JPH0282871 U JP H0282871U JP 16278288 U JP16278288 U JP 16278288U JP 16278288 U JP16278288 U JP 16278288U JP H0282871 U JPH0282871 U JP H0282871U
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- JP
- Japan
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- voltage part
- part box
- ion source
- ion
- box
- Prior art date
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- Pending
Links
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 7
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Description
第1図はこの考案の一実施例の説明図、第2図
は従来例の説明図である。 1……高電圧部位函体、2……加速管、3……
外函、4……高電圧電源、5……イオン源、6…
…イオン源電源、7……導電層。
は従来例の説明図である。 1……高電圧部位函体、2……加速管、3……
外函、4……高電圧電源、5……イオン源、6…
…イオン源電源、7……導電層。
Claims (1)
- イオンを発生するイオン源および前記イオン源
に接続されたイオン源電源ラツクを内部に有する
高電圧部位函体と、この高電圧部位函体の外殻を
通して前記イオン源に接続されて前記イオンを加
速する加速管と、この加速管および前記高電圧部
位函体を包囲する外函と、前記イオン源電源に接
続された高電圧電源とを備えたイオン注入装置に
おいて、高周波のサージ電流に対するサージイン
ピーダンスの小さい導電層を前記高電圧部位函体
の表面に形成したことを特徴とするイオン注入装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16278288U JPH0282871U (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16278288U JPH0282871U (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0282871U true JPH0282871U (ja) | 1990-06-27 |
Family
ID=31446923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16278288U Pending JPH0282871U (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0282871U (ja) |
-
1988
- 1988-12-15 JP JP16278288U patent/JPH0282871U/ja active Pending
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