JPS6214399U - - Google Patents
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- JPS6214399U JPS6214399U JP10716085U JP10716085U JPS6214399U JP S6214399 U JPS6214399 U JP S6214399U JP 10716085 U JP10716085 U JP 10716085U JP 10716085 U JP10716085 U JP 10716085U JP S6214399 U JPS6214399 U JP S6214399U
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- JP
- Japan
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- electron beam
- irradiation chamber
- irradiation
- inert gas
- supplied
- Prior art date
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- Pending
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 11
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
Description
図面は、この考案の一実施例に係る電子線照射
装置を示す概略図である。 ２……照射室、３……電子線照射器、４……被
照射物、１６……温度センサ、１７……制御装置
、２０……流量制御バルブ、Ｇ……不活性ガス、
Ｅ……電子線。
装置を示す概略図である。 ２……照射室、３……電子線照射器、４……被
照射物、１６……温度センサ、１７……制御装置
、２０……流量制御バルブ、Ｇ……不活性ガス、
Ｅ……電子線。
Claims (1)
- 電子線照射器からの電子線を、不活性ガスが供
給される照射室内で被照射物に照射する電子線照
射装置において、照射室内の温度を検出する温度
センサと、照射室に供給する不活性ガスの流量を
制御する流量制御バルブと、温度センサからの信
号に基づいて流量制御バルブおよび電子線照射器
を制御することによつて、照射室に供給する不活
性ガスの流量および電子線照射器から出力する電
子線量の少なくとも一方を制御して照射室内の温
度調節を行うと共に、照射室内の温度が所定値以
上になつた時に電子線照射器を停止させる制御装
置とを備えることを特徴とする電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10716085U JPS6214399U (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10716085U JPS6214399U (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6214399U true JPS6214399U (ja) | 1987-01-28 |
Family
ID=30983183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10716085U Pending JPS6214399U (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6214399U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006275515A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子線照射装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4936478A (ja) * | 1972-08-03 | 1974-04-04 | ||
| JPS6058236B2 (ja) * | 1976-08-04 | 1985-12-19 | アレン・アンド・ハンバリ−ズ・リミテツド | 新規なアミノアルキルフラン誘導体、それらの製造法およびそれらを含有する医薬組成物 |
-
1985
- 1985-07-12 JP JP10716085U patent/JPS6214399U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4936478A (ja) * | 1972-08-03 | 1974-04-04 | ||
| JPS6058236B2 (ja) * | 1976-08-04 | 1985-12-19 | アレン・アンド・ハンバリ−ズ・リミテツド | 新規なアミノアルキルフラン誘導体、それらの製造法およびそれらを含有する医薬組成物 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006275515A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子線照射装置 |
| JP4641844B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2011-03-02 | 大日本印刷株式会社 | 電子線照射装置 |
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