JPH01502376A - コンピュータ大容量記憶装置用のソレノイド形薄膜読取／書込ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 薄膜読取／書込ヘッド及びその製造方法光」Ｌ皇」Ｌ量 玉丈ユ生立互 本発明は一般にデジタルデータ処理システム用の大容量記憶装置で使われる読取 ／書込ヘッドの分野に関し、特に薄膜技術によって製造されるようなヘッドに関 する０本発明は、ソレノイド形付勢コイルを具備した新規な薄膜ヘッドと、新規 ヘッドの製造方法に関する。

又ｌ米技歪皇脱夙 典型的な最新のデジタルデータ処理システムは、比較的小容量の半導体形主メモ リと、主メモリよりはるかに大きい容量を有するが、相対的にかなり速度の遅い １つ以上の大容量記憶装置とを含む、メモリ装置の階層を備えている。大容量記 憶装置は、主メモリ内にあるデータ用のバックアンプ記憶を与えると共に、主メ モリ内へは記憶しきれないが必要なときプロセンサによって呼び出し可能とした い大きい容量のデータ用のバックアンプも与える。

プロセッサは一般に主メモリから直接情報を得るだけなので、大容量記憶装置内 にだけある情報を必要とするときは、大容量記憶装置が情報を主メモリへとコピ ーするのを可能とする。またプロセッサは、情報を処理した後ある時点で、処理 された情報を大容量記憶装置内へと記憶可能とする。これによって主メモリ内の 記憶容量が空くので、他の情報をそこへ記憶させることができる。

典型的な大容量記憶装置は磁気ディスク上に情報を記憶し、情報は読取／書込ヘ ッドによって発生される磁気媒体内での磁束の遷移の形で記録される。情報は、 各々ディスクの中心から所定の半径距離にある複数のトランク内に発生され、各 トラックは複数”のセクターに分割され、各セクターがディスクの所定の角度範 囲を見込んでいる。読取／書込ヘッドがアームから懸架され、アームは一般に“ シーク′動作時にディスクの表面上を半径方向に移動して、読取／書込ヘッドを 選ばれたディスクトランクと整合させる。ディスクは“サーチ“動作時に回転さ れて、所望の情報を含むセクターを読取／書込ヘッドと周方向に沿って整合させ 、読取／書込ヘッドがセクター内に含まれている情報を読み取るか、あるいはセ クター内の記録媒体上に情報を書き込む。

当初、読取／書込ヘッドは一般にカントつまりギャップを持つドーナッツ状で、 ギャップを挾んだドーナツツ（トロイド）体の両端が磁極片になっていた。そし て、ワイヤコイルがドーナッツ体の周囲に巻かれ、磁束を発生するように付勢さ れる。磁束は磁極片間に広がり、ディスクの磁気材料に当たる、データを書き込 み可能な密度は、ヘッドが単位時間毎に与えることができる磁束遷移の数、つま り磁束方向の変化の数に直接関連している。これらヘッドは比較的高い電気イン ダクタンスを有するので、充分満足できる速度の磁束遷移を得るためには、高価 な駆動回路が必要である。また、高いインダクタンスは１リンギング（ｒｉｎｇ ｉｎｇ　：入力の急激な変化で出力に生じる振動状Ｂ）′を増大させる結果、信 号は急峻な遷移において所望の信号レベルを中心に変動し昌い。

リンギングが太き（なりすぎると、信号レベルに不確実性を生じる時間が長くな りすぎ、これは速度の低下を必要とする。

さらに最近、従来の読取／書込ヘッドよりもはるかに低いインダクタンスを有す る薄膜形読取／書込ヘッドが開発されてきた。

薄膜形読取／書込ヘンドは、集積回路チップを製造するのに使われている技術と ほぼ同様なリングラフインク技術によって製造される。かかるリングラフインク 技術では、まず平面（ブレーナ）状の磁極片が形成され、絶縁物質によって被覆 される０次いで、磁極片の一部上で且つ絶縁物質の上に平面ラセンの形でコイル が形成され、絶縁物質をラセンコイル上に被着した後、別の磁極片が絶縁物質の 上面に形成される。

しかし、典型的な薄膜形読取／書込ヘンドのコイルは平面ラセンの形状を有する ので、書込動作時に所望の磁場を発生したり、あるいは読取動作時にヘッドによ って検知される磁場を遮ったりする必要なコイルの巻回数を与えるのに、比較的 長い導体が必要である。平面ラセン形状では、導体の長さが巻線の数よりも速く 増加するので、長いラセン導体は比較的長い抵抗となり、それに応じて顕著な量 の熱の発生を生じる。コイルの抵抗の増加は、それに伴って読取動作時における 信号のノイズ増大ももたらす。

また、コイルがラセン形状を存すると、巻線間の相互インダクタンスも巻線の数 より速く増加するので、充分な数の巻線を持つ平面コイルは比較的高いインダク タンスも有する。高いインダクタンスは比較的低い実効共鳴周波数を生じ、これ はコイルに印加される信号で発生する望ましくないリンギングの量を増大する。

さらに、コイルが比較的高いインダクタンスを有するため、必要な書込を流を与 えるのに、書込動作時に高い駆動電圧が必要である。

１９７２年５月９日付けでり、　Ｒｏｍａｎｋｉ−他に発行された米国特許第３ ，６６２．１１９号、名称「薄膜形磁気トランスデユーサヘッド」は、ヘッドの 両磁極片の周囲に形成されたソレノイド（筒）形コイルを有し、コイルを付勢す る電流用の供給路と戻り路両方を与える薄膜ヘッドを開示している。コイルは複 雑な製造方法を用いて、各磁極片の周囲の一層内に形成される。しかし、両方の 磁極片の周囲にコイル層が必要なので、この種のコイルは、現在開発されつつあ り、ディスクの表面に水平でな（垂直にデータが記録される垂直記録方式で用い るのに適さない。

又ｍ豆 本発明は、付勢コイルが少な（とも一方の磁極片の周囲にソレノイドの形で形成 されるような、デジタルデータ処理システムにおけるディスク記憶装置用の新規 で改良された薄膜形読取／書込ヘンド、及び該ヘッドの製造方法を提供する。

要約すれば、新規な本ヘッドは一対の平面状磁極片を含む、ソレノイド形コイル が少なくとも一方の磁極片の周囲に形成され、ソレノイド形コイルは磁極片の対 向両側で導電性物質からなる数列の平面状トレースの形状をなし、絶縁物質の平 面状層によって磁極片から離間されている。トレースは、磁極片の縦軸に対して 全体的に斜めの方向に延びる。磁極片の対向両側に位置した数個のトレースの端 部が相互に重なり合い、通路を介し相互に接続されてコイル層を形成し、通路に よって相互接続された平面状トレースで連続状の回路を実質的に形成する。電流 が印加されると、磁束が磁極片内に発生される。一方の磁極片の周囲にコイルを 形成した後、その片側に第２の磁極片を形成することができる。各トレースの斜 めの方向によって、印加電流はトレースと通路を通って磁極片の周囲を流れなが ら、磁極片の縦軸に沿った移動の方向を持つことができる。

改良態様において、コイルは磁極片の周囲で、磁極片の各側に位置して２層のコ イルを実質的に形成する２層のトレースと、内側層と、外側層とを備えることが できる。２つのコイル層が、コイル層の一方を介してヘッドに印加された電流用 の戻り路を効率的に与える。内側のコイル層は、磁極片の各側において縦軸に間 し外側のコイル層と反対の方向に斜めに延びたトレースによって形成され、内側 コイル層を形成するトレースの方が外側コイル層のトレースより幾分短く、磁極 片により接近している。また、内側コイル層を形成するトレースの端部は相互に 重なり合い、通路を介して相互接続される。短い方のトレースが一方のコイルを 形成し、これは他方の外側コイルの内側に位置する。外側及び内側コイルは、そ れらの各一端で相互に接続される。

新規な本ヘッドを製造する方法では、平面状のベースがまず形成され、次に後で 形成される磁極片の縦軸に選定された方向に対して斜めのほぼ平行な方向に、一 連の導電性トレースが形成される。トレースは、周知のリングラフイック法で形 成できる０次いでその上に、第２の絶縁層が被着される。第２のコイル層を形成 すべきときは、第２のトレース層が第２の絶縁層上に、磁極片軸の選定方向に関 して第１のトレース層の方向と反対の方向に斜めに形成される。

第２のコイル層の形成後、同じくリングラフイック技術によって、第３の絶縁層 が形成され、磁極片が形成される０次いで、第４の絶縁層が形成され、内側コイ ルと関連した第３層のトレースが形成される。第３層のトレースの端部は第２層 のトレースの端部とほぼ重なり合い、また第３層のトレースは磁極片の縦軸に関 して第２層のトレースに対し全体的に反対方向に斜めである。このプロセス中に 、第２及び第３層のトレースの端部間に通路が形成され、この通路に導電性物質 が被着されて内側コイルを完成する０通路は、米国特許出ＩｔｌＩ（代理人取扱 番号８３−３６７）に記述された方法によって形成し得る。

内部コイルの完成後、第５の絶縁層が被着され、外側コイルと関連した第４層の トレースが形成される。第４層のトレースの端部は、第２層のトレースの一つの 端部と重なり合う端部を除き、第１層のトレースの端部とほぼ重なり合う、下側 の各端部に至る通路が形成され、通路内部にａｌｔ性物質物質着される。これに よって、外側コイル、及び内側コイルへの接続が完成する。

′　の　゛なｉ゛ 本発明は、添付の請求の範囲で厳密に記述される６本発明の上記及びその他の利 点は、添付の図面に関連した以下の説明を参照することによってより明瞭に理解 されよう。

第１Ａ図は、本発明に従って構成された読取／書込ヘッドの一部を形成する磁極 片と各トレース（配線パターン）の概略レイアウトを示す図； 第１Ｂ図は、第１Ａ図を理解するのに役立つ表；及び第１Ｃ図は、第１Ａ図に概 略的に示したヘッドの一部の、ＩＣ−ＩＣ線に沿った概略側断面図である。

貰示ス１１屑且亙星翌所 図面を参照すると、本発明に従って構成された新規な読取／書込ヘッド１０は、 磁極片１２と、ハードベークしたフォトレジスト、二酸化シリコン（Ｓｉ（ｈ） 及びアルミナ（Ａ　ｊ！　宜０＊）など絶縁物質の層上に形成された導電物質の 複数のトレースとを含む、各トレースは、磁極片１２の縦軸１３に対して所定の 角度で形成され、後述するように、絶縁物質内の通路（バイア）に被着された導 電物質によって相互接続される。導電性トレース及び通路の構成、すなわちそれ らの相互及び磁極片１２に対する配置と向きは、磁極片の周囲にソレノイド形コ イルを形成するように選ばれる。

ヘッド１０は絶縁物質の平面層上にそれぞれ形成された４層の導電性トレースを 含み、そのうち２層が磁極片１２の下側に位置し、残り２層が磁極片１２の上側 に位置する。すなわち、トレース層のうち２つは３つのトレース１４．１６及び １８を含む下方の第１トレース層と、３つのトレース２０．２２及び２４を含む 上方の第４トレース層とからなる。第１Ｂ図にまとめたように、トレース１４． １６及び１８は全て第１八図中実線で示してあり、各一対の実線が一つのトレー スを表す、同じく、トレース２０．２２及び２４は全て第１Ａ図中点線で示して あり、各一対の点線が一つのトレースを表す。

トレースの残り２つの層は、第１トレース層と磁極片１２の間に位置した３つの トレース２６．２８及び３０からなる第２トレース層と、（上方の）第４トレー ス層と磁極片１２０間に位置した２つのトレース３２及び３４からなる第３トレ ース層とを含む。

第１Ｂ図にまとめたように、トレース２６．２８及び３０は全て第１Ａ図中一点 鎖線で示してあり、またトレース３２及び３４は第１Ａ図中二点鎖線で示しであ る。

第１Ｃ図に示すように、磁極片１２と全てのトレースは絶縁物の各層上に形成さ れ且つ埋め込まれている。６層の絶縁物質、すなわち層３６．３８．４０．４２ ．４４及び４６が第１Ｃ図に示しである。後で詳述するように、絶縁層３６とト レース１４．１６及び１８を形成した後、絶縁層３８．４０．４２及び４４が逐 次被着され、各トレースまたは磁極片１２がそれぞれの上に形成される。各トレ ース層のトレース端部は後述するように適切な方法で相互に接続され、ソレノイ ド形コイルを形成する。すなわち、選定対のトレースの端部が相互に重なり合う 関係で位置し、重なり合う両端部が通路を介して相互に接続される。最上のトレ ース層、つまりトレース２０．２２及び２４が形成され、通路を介した全ての接 続が形成された後、絶縁層４６が施されトレースを被覆する。その後、第２の磁 極片（不図示）をベンド１０上に適宜形成することができる。

符表千１−５０２３７６　（４） 上述したように、各トレースは、トレースの端部間で絶縁層を貫いて形成された 該当の通路によって相互に接続される。これらの相互接続が連続状の回路を形成 し、トレースと通路が協働して磁極片１２の周囲に、（第１Ａ図において）上端 から先端７４へと向かうコイル状の電気路を実際上形成する。このような一つの 通路、すなわち通路４８は、最下トレース層のトレース１４の（第１Ａ図におい て）右端を、最上トレース層のトレース２４の右端に接続する。同じく、通路５ ０と５２が、それぞれ最下及び最上トレース層の残りのトレース１６と２２及び １８と２０の各右端を相互に接続する。同じく、通路５４と５６が、それぞれ第 １　（最下）及び第４（最上）トレース層間で、トレース１８と２２及び１６と ２４の各対の左端を相互に接続する。この結果、（第１Ａ図において）磁極片１ ２の頂部に近いトレース１４の最左端から、磁極片１２の底部に近いトレース２ ０の最左端へと延びるソレノイドコイルが、磁極片１２の周囲に形成される。

第２及び第３のトレース層も同じく、通路５８（トレース３４と２８の右端）、 通路６０（トレース３２と２６の右端）、通路６２（トレース３０と２４の左端 ）、及び通路６４　（トレース２８と３２の左端）によって相互に接続される。

この結果、（第１Ａ図において）磁極片１２の頂部に近いトレース３０の最左端 から、磁極片１２の底部に近いトレース２６の最左端へと延びるソレノイドコイ ルが、磁極片１２の周囲に形成される。この第２及び第３のトレース層から形成 されたソレノイドコイルは一般に、前記第１及び第４のトレース層から形成され たソレノイドコイルの内側に位置する。

これら２つのソレノイドコイルは、トレースの最上層内のトレース２０の最左端 をトレースの第２層内のトレース２６の最左端へと接続する通路６６によって相 互に接続される。この結果、付勢電流用の供給路と戻り路の両方を有し、両路が 一方の磁極片１２の周囲に形成された単一のソレノイドコイルが得られる。従っ て、新規な本ヘッドは戻り電流路を与えるため他方の磁極片の周囲に形成される コイルを必要とせず、従って本ヘッドは垂直記録方式で用いるのに特に適するこ とが明かであろう、しかし、垂直記録方式が使われないときは、第２の磁極片（ 不図示）の周囲に別のコイルを形成してもよいことが明かであろう。

第１ＡＩＪに戻れば、トレース１４の最左端とトレース３０の最右端とは、例え ば絶縁層４６の最上（第１Ｃ図において最古）面上に配置し得るボンディングバ ンド７０と７２へ、それぞれ通路７４と７６を介して接続される。書込電流を発 生したり、あるいはヘッドで発生した読取電流を検知する通常の読取／書込信号 発生及び検知回路（不図示）が、周知の方法でポンディングパッドに接続されて いる。ポンディングパッドは任意の箇所に配置し得るが、読取／書込信号発生及 び検知回路からのライン間通路の抵抗を最小とするため、接続すべきトレースの 端部近くに形成するのが望ましい。

新規な本読取／書込ヘッドを製造する方法は、次の通りである。

まず、第１の絶縁層３６がトレース１４．１６及び１８用のペースとして形成さ れ、これらトレースが通常のリソグラフインク及び金属被着技術を用いて絶縁層 ３６上に形成される０次いで、第２の絶縁層３８が通常の技術を用いて形成され 、その上面（第１Ｃ図では右側の面）が滑らかにされる。絶縁層３８の上面がト レース２６．２８及び３０用のベースとなり、これらのトレースがその上に形成 される０次いで、第３の絶縁層４０を形成した後、磁極片１２が形成される。磁 極片も同様のリソグラフインク技術を用いて形成できるが、磁極片はトレースよ りも幾分厚めとする。

磁極片の形成後、第４の絶縁層４２が形成され、またトレースの第２層に至る通 路が形成される０次いで、金属層が被着されてトレースの第３層を形成すると共 に、通路がＮＬｔ性物質で満たされることによって、内側のソレノイドコイルを 形成する。同時に、後述するようにトレースの第１層とトレースの第４層とを相 互に接続するのに後で使われる通路を形成し、導電性物質で満たしておいてもよ い、これらの通路を形成するには、前記の米国特許出＠（代理人取扱番号８３− ３６７）、名称「電子部品等の製造にレーザを用いたミクロリソグラフインク技 術」に開示の方法が使える。

トレースの第３層を形成し、トレースの第２及び第３層間の通路を介して相互接 続を形成した後、第５層の絶縁層である層４４が形成され、トレースの第１層に 至る通路が形成される０次いで、金属層が被着されトレースの第４層、すなわち トレース２０．２２及び２４を形成すると共に、通路が導電性物質で満たされ外 側のソレノイドコイルを与える。その後、最上の絶縁層４６が被着される。

トレース１４．３０の各端とボンディングバンド７０．７２との間の接続は、各 トレースの端部を相互接続した上記と同じ方法を用いて形成し得る。この接続は 、プロセス中任意の適宜時点で行える。

以上述べたように、本発明に従って構成された前記のごとき磁極片と導体を含む ヘッドは、水平または垂直どちらの記録方式を採用したディスクドライブにおい ても有用である。これは、一方の磁極片の周囲に形成され、内外両側のコイル層 を含むソレノイドコイルが、付勢電流用の供給路と戻り路の両方を与えるという 事実に基づいている。従って、本ヘッドは戻りｔ流路を与えるのに、他方の磁極 片の周囲に第２のコイルを形成する必要がない。

また、ヘッドを製造する新規な本方法は、ヘッドの製作を容易とする。

尚、読取／書込ヘッドが一般に２つの磁極片を含むことは明かであろう、垂直記 録で使われるヘッドでは一般に、一方の磁極片にだけコイルが巻かれる。しかし 、ヘッドを水平記録で使用するときは、一方だけまたは両方共のどちらで磁極片 の周囲にコイルを巻いてもよい。

上記の説明は、本発明の特定の実施例に限定して行った。しかし、本発明の利点 の一部または全部を達成しつつ、各種の変形及び変更を本発明についてなし得る ことは自明であろう、従って、添付の請求の範囲の記載は、本発明の真の精神及 び範囲内に入るかかる全ての変形及び変更を包含するものである。

手続補正書（方式） ％式％ ３、補正をする者 事件との関係　出願人 ４、代理人 ５、補正命令の日付　平成１年４月２５日国際調査報告 −ｍ−−１＾紳−ｗｗ−ｍ、ＰＣτ／ＵＳ　８ｇ１０２２４３国際調査報告 ＵＳ　８８０２２４３ Ｓ＾　２３３５９

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. １．デジタルデータ処理システムの磁気記憶装置で使われる読取／書込ヘッドに おいて、少なくとも一方の磁極片が記憶媒体に隣接する一端と反対側の遠方端と を有し、前記磁極片が前記両端間での縦軸を限定し、また前記磁極片が、磁極片 の周囲に隣接して形成され且つほぼ平面状の対向外側表面を有する絶縁手段によ って磁極片から離間されたソレノイド形コイル手段を有し、該ソレノイド形コイ ル手段が、前記絶縁手段の外側表面上に形成され、前記縦軸に対して斜めの方向 に延びた複数の導電性トレース手段と、前記絶縁手段を貫いて形成され、前記絶 縁手段の対向表面上で前記トレース手段の少なくとも一部の端部を相互接続して 前記トレース手段を通る連続状の電気回路を形成し、前記磁極片の周囲に連続状 のソレノイド形コイルを形成する通路と、前記磁極片に隣接して位置し、信号源 に接続されて前記コイルから該信号源へ電流を戻すのに適した戻り路手段とを備 えた読取／書込ヘッド。
2. ２．前記戻り路手段が、前記ソレノイド形コイル手段の内側に形成された第２の ソレノイド形コイル手段からなる請求の範囲第１項記載の読取／書込ヘッド。
3. ３．前記第２のソレノイド形コイル手段が、前記磁極片の対向両側で前記絶縁手 段内に形成された複数のほぼ平面状の導電性トレース手段を備え、前記第２のソ レノイド形コイル手段が前記第１のソレノイド形コイル手段により全体的に短く 、さらに前記磁極片の両側における前記第２のソレノイド形コイル手段が前記縦 軸に対して斜めの方向をなすと共に通路によって相互接続された複数の端部を有 し、一つの通路が前記第１及び第２のソレノイド形コイル手段の各々のトレース 手段の各一端を相互接続する請求の範囲第２項記載の読取／書込ヘッド。
4. ４．前記第１及び第２ソレノイド形コイルのトレース手段の各々に、前記遠方端 の近くで接続された第１及び第２の接続手段をさらに備え、該各接続手段が信号 源に接続されるポンディングパッド手段からなる請求の範囲第３項記載の読取／ 書込ヘッド。
5. ５．デジタルデータ処理システムの磁気記憶装置で使われる薄膜読取／書込ヘッ ドを製造する方法で、該ヘッドが、記憶媒体に隣接する一端と反対側の遠方端と を有する少なくとも１つの磁極片を含み、該磁極片が前記両端間での縦軸を限定 するものにおいて： Ａ．絶縁基板を用意する工程； Ｂ．前記基板上に第１の導電性トレース手段を被着する工程で、該トレース手段 が前記縦軸に対して第１の斜めの方向をなす；Ｃ．前記基板と第１のトレース手 段の上に第１の絶縁層を被着する工程； Ｄ．前記第１の絶縁層上に磁極片を形成する工程；Ｅ．前記磁極片と第１の絶縁 層の上に第２の絶縁層を被着する工程； Ｆ．前記第２の絶縁層上に第２の導電性トレース手段を被着する工程で、該第２ のトレース手段が前記縦軸に対して第２の斜めの方向をなし、該第２の斜めの方 向が前記第１の斜めの方向に対し前記縦軸に関して反対方向に斜めとなっている ：Ｇ．前記第１及び第２のトレース手段の端部間に通路を形成し、前記磁極片の 周囲にソレノイドの形で両トレース手段を相互接続する工程；を含む方法。
6. ６．前記第１及び第２のトレース手段が複数のトレースを含み、前記第２トレー ス手段のトレースの端部の少なくとも一部が前記第１トレース手段のトレースの 端部と重なり合うように前記第２トレース手段が被着される請求の範囲第５項記 載の方法。
7. ７．Ａ．前記第１のトレース手段を接着する工程が：ｉ．第１の複数のほぼ平行 な導電性トレースを、前記縦軸に対して斜めの第１の方向で前記基板上に形成す る工程；ｉｉ．前記第１のトレース層上に絶縁物質の層を被着する工程；ｉｉｉ ．第２の複数のほぼ平行な導電性トレースを、前記縦軸に対して斜めの第２の方 向で前記絶縁物質層上に形成する工程で、該第２の方向が前記第１の方向に対し 前記縦軸に関して反対方向に斜めであり、該第２の複数のトレースが前記第１の 複数のトレースより全体的に短い；を含み、Ｂ．前記第２のトレース手段を被著 する工程が：ｉ．第３の複数のほぼ平行な導電性トレースを、前記縦軸に対して 斜めで前記第１の方向とほぼ平行な方向で前記絶縁物質層上に形成する工程で、 該第３の複数のトレースが前記第２の複数のトレースとほぼ同様な長さである； ｉｉ．前記第３のトレース層上に絶縁物層の層を被着する工程；ｉｉｉ．第４の 複数のほぼ平行な導電性トレースを、前記縦軸に対して斜めで前記第２の方向と ほぼ平行な方向で前記絶縁物層上に形成する工程で、該第４の複数のトレースが 前記第１の複数のトレースとほぼ同様の長さである；を含む請求の範囲第５項記 載の方法。
8. ８．前記第３の複数のトレースの端部の少なくとも一部が前記第２の複数のトレ ースの端部と重なり合い、前記第４の複数のトレースの端部の少なくとも一部が 前記第１の複数のトレースの端部と重なり合い、さらに前記第４の複数のトレー スの端部の少なくとも１つが前記第２の複数のトレースの１つの端部と重なり合 い、それぞれ対応して上方に位置する端部と下方に位置する端部との間に通路が 形成されて２つのソレノイド形コイルを形成し、第１のコイルが前記第１及び第 ４の複数のトレースからなり、第２のコイルが前記第２及び第３の複数のトレー スからなり、前記第２のコイルが全体的に第１のコイルの内側に位置すると共に 、第１及び第２のコイルが相互に接続されている請求の範囲第７項記載の方法。
9. ９．前記通路がレーザ放射によって形成され、前記トレース手段がレーザ放射の 波長に対して反射性で、前記絶縁物層がレーザ放射の波長に対して非反射性であ り、前記通路が：Ａ．通路を形成すべき箇所に反射マスクを形成する工程で、該 マスクがトレース手段上方で通路を形成すべき箇所に開口を画成する； Ｂ．前記マスクにレーザを照明し、前記開口を介して露出された絶縁物質を除去 して前記トレース手段の選定部分を露出させ、前記開口を介して露出された絶縁 物質のトレース手段上方に位置する絶縁物質がトレース手段に達するまで除去さ れたとき、該トレース手段がレーザ放射を止めることによって凹部を形成する工 程； Ｃ．前記凹部内に導零性物質を被着する工程；によって形成される請求の範囲第 ５項記載の方法。