JPH03248317A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH03248317A JPH03248317A JP4521890A JP4521890A JPH03248317A JP H03248317 A JPH03248317 A JP H03248317A JP 4521890 A JP4521890 A JP 4521890A JP 4521890 A JP4521890 A JP 4521890A JP H03248317 A JPH03248317 A JP H03248317A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、スライダに薄膜磁気変換素子及びその読み書
き回路を備える薄ｉ！！磁気ヘッドに関し、スライダを
シリコンで構成し、その上に読み書き回路を集積するこ
とにより、薄膜磁気変換素子から読み書き回路に至るリ
ードインダクタンスがきわめて小さく、高周波応答性に
優れ、ノイズが入りにくい小型の薄膜磁気ヘッドが得ら
れるようにしたものである。
き回路を備える薄ｉ！！磁気ヘッドに関し、スライダを
シリコンで構成し、その上に読み書き回路を集積するこ
とにより、薄膜磁気変換素子から読み書き回路に至るリ
ードインダクタンスがきわめて小さく、高周波応答性に
優れ、ノイズが入りにくい小型の薄膜磁気ヘッドが得ら
れるようにしたものである。
〈従来の技術〉
従来より、磁気ディスク装置には、磁気記録媒体の走行
によって生じる動圧を利用して、例えば磁気ディスク等
の磁気記録媒体との間に微小な空気ベアリングによる間
隙を保って浮上する薄膜磁気ヘッドが用いられている。
によって生じる動圧を利用して、例えば磁気ディスク等
の磁気記録媒体との間に微小な空気ベアリングによる間
隙を保って浮上する薄膜磁気ヘッドが用いられている。
浮上型の薄膜磁気ヘッドの一般的な構造は、例えば特公
昭５８−２１３２９号、特公昭５Ｂ−２８６５０号各公
報等に開示される如く、ＡｈＯｓ−Ｔｉｃなどのセラミ
ック構造体でなるスライダの空気流入端に、薄膜磁気変
換素子を有する構造である。薄ＩＩ！磁気変換素子はＩ
Ｃ製造テクノロジと同様のプロセスにしたがりて形成さ
れた薄膜素子である。
昭５８−２１３２９号、特公昭５Ｂ−２８６５０号各公
報等に開示される如く、ＡｈＯｓ−Ｔｉｃなどのセラミ
ック構造体でなるスライダの空気流入端に、薄膜磁気変
換素子を有する構造である。薄ＩＩ！磁気変換素子はＩ
Ｃ製造テクノロジと同様のプロセスにしたがりて形成さ
れた薄膜素子である。
磁気ディスク装置として使用する場合は、薄膜磁気ヘッ
ドは、磁気記録媒体との間に微小な空気ベアリングによ
る間隙を保ちながら追従できるように、ジンバル系ヘッ
ト支持装置に取付けられる。薄膜磁気ヘッドは、スライ
ダが第１軸に関してピッチ運動を行ない、Ｔ％２軸に関
してロール運動を行ない、更に偏揺れを防止するように
、ヘッド支持装置に取付けられる。
ドは、磁気記録媒体との間に微小な空気ベアリングによ
る間隙を保ちながら追従できるように、ジンバル系ヘッ
ト支持装置に取付けられる。薄膜磁気ヘッドは、スライ
ダが第１軸に関してピッチ運動を行ない、Ｔ％２軸に関
してロール運動を行ない、更に偏揺れを防止するように
、ヘッド支持装置に取付けられる。
薄膜磁気ヘッドは、リード線を通して読み書き回路に接
続される。読み書き回路は、一般には、薄膜磁気ヘッド
とは独立して外部に設けられており、読み書き素子で得
られた読み出し信号を増幅して外部に出力すると共に、
書き込み信号を所要の信号に変換して薄膜磁気ヘッドに
供給する。
続される。読み書き回路は、一般には、薄膜磁気ヘッド
とは独立して外部に設けられており、読み書き素子で得
られた読み出し信号を増幅して外部に出力すると共に、
書き込み信号を所要の信号に変換して薄膜磁気ヘッドに
供給する。
〈発明が解決しようとする課題〉
上述したように、従来の薄膜磁気ヘッド及びこれを用い
た磁気ディスク装置では、読み書き回路は薄膜磁気ヘッ
ドから独立してその外部に設けられており、両者間をリ
ード線によって接続する構成であった。このため、リー
ド線によるリードインダクタンス分が大きくなり、高周
波応答性が悪くなると共に、外部からノイズが入り易く
なるという問題点かありた。高周波応答性の改善は高速
読み書き、高速データｆｉ埋のために欠くことのできな
い事項である。
た磁気ディスク装置では、読み書き回路は薄膜磁気ヘッ
ドから独立してその外部に設けられており、両者間をリ
ード線によって接続する構成であった。このため、リー
ド線によるリードインダクタンス分が大きくなり、高周
波応答性が悪くなると共に、外部からノイズが入り易く
なるという問題点かありた。高周波応答性の改善は高速
読み書き、高速データｆｉ埋のために欠くことのできな
い事項である。
高周波応答性を改善しようとした従来技術としては、例
えば特開昭５８−１１８０１７号公報で開示された技術
が知られている。この従来技術においては、読み書き用
集積回路素子を、薄膜磁気ヘッドに直接に貼り付けてリ
ートインダクタンスを減少させるようにしてあった。
えば特開昭５８−１１８０１７号公報で開示された技術
が知られている。この従来技術においては、読み書き用
集積回路素子を、薄膜磁気ヘッドに直接に貼り付けてリ
ートインダクタンスを減少させるようにしてあった。
しかしながら、上記従来技術では、薄膜磁気ヘッドの小
型化のために、薄膜磁気ヘッドに読み置台用集積回路素
子を貼り付けることが物理的に困難になりつつある。こ
の種の薄膜磁気ヘッドは、磁気記録の高密度化及び高速
化に対応するため、ますます、小型化される傾向にある
。小型化は、高密度記録を達成するのに必要な浮上量減
少及びスペーシングロス低下に有効である上に、ジンバ
ルとの組合せにおいて、共振周波数を高め、クラッシュ
防止及び耐久性向上に効果があり、しかも、動圧と支持
バネ圧との間の適正なバランスを保ち、フライト姿勢を
良好に保ち、安定な浮上特性が得られるからである。更
に、小形化によるヘッドの質量減少は、ジンバルを支持
するアームのアクセス運動の高速化をもたらす。
型化のために、薄膜磁気ヘッドに読み置台用集積回路素
子を貼り付けることが物理的に困難になりつつある。こ
の種の薄膜磁気ヘッドは、磁気記録の高密度化及び高速
化に対応するため、ますます、小型化される傾向にある
。小型化は、高密度記録を達成するのに必要な浮上量減
少及びスペーシングロス低下に有効である上に、ジンバ
ルとの組合せにおいて、共振周波数を高め、クラッシュ
防止及び耐久性向上に効果があり、しかも、動圧と支持
バネ圧との間の適正なバランスを保ち、フライト姿勢を
良好に保ち、安定な浮上特性が得られるからである。更
に、小形化によるヘッドの質量減少は、ジンバルを支持
するアームのアクセス運動の高速化をもたらす。
そこで、本発明の課題は、上述する従来の問題点を解決
し、薄膜磁気変換素子から読み書き回路に至るリードイ
ンダクタンスがきわめて小さく、高周波応答性に優れ、
ノイズが入りにくく、小型化にも充分に対応できる薄膜
磁気ヘッドを提供することである。
し、薄膜磁気変換素子から読み書き回路に至るリードイ
ンダクタンスがきわめて小さく、高周波応答性に優れ、
ノイズが入りにくく、小型化にも充分に対応できる薄膜
磁気ヘッドを提供することである。
く課題を解決するための手段〉
上述する課題解決のため、本発明は、スライダに薄膜磁
気変換素子及びその読み書き回路を備える薄膜磁気ヘッ
ドであって、 前記スライダは、シリコンでなり、 前記読み書き回路は、前記スライダを構成する前記シリ
コンを利用して集積された集積回路となっていること を特徴とする。
気変換素子及びその読み書き回路を備える薄膜磁気ヘッ
ドであって、 前記スライダは、シリコンでなり、 前記読み書き回路は、前記スライダを構成する前記シリ
コンを利用して集積された集積回路となっていること を特徴とする。
〈作用〉
スライダはシリコンでなり、読み書き回路はスライダを
構成するシリコンを利用して集積された集積回路となっ
ているので、薄膜磁気変換素子及び読み書き回路の両者
を周知のＩＣ製造テクノロジによって製造できる。この
ため、スライダをより一層小型化できるようになると共
に、薄膜磁気変換素子から読み書き回路に至るリードイ
ンダクタンスがきわめて小さく、高周波応答性に優れ、
ノイズが入りにくい薄膜磁気ヘッドが得られる。
構成するシリコンを利用して集積された集積回路となっ
ているので、薄膜磁気変換素子及び読み書き回路の両者
を周知のＩＣ製造テクノロジによって製造できる。この
ため、スライダをより一層小型化できるようになると共
に、薄膜磁気変換素子から読み書き回路に至るリードイ
ンダクタンスがきわめて小さく、高周波応答性に優れ、
ノイズが入りにくい薄膜磁気ヘッドが得られる。
〈実施例〉
第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの斜視図である。
１はスライダ、２は薄膜磁気変換素子、３は読み書き回
路、４．５は取出電極、６は耐摩耗像ｉ［である。
路、４．５は取出電極、６は耐摩耗像ｉ［である。
スライダ１は、従来多用されているＡｌ２Ｏ，−Ｔｉｃ
などのセラミック構造体に代えて、シリコンで構成しで
ある。スライダ１は、媒体対向面１０１がレール部及び
テーパ面を持つ通常タイプでもよいし、レール部及びテ
ーパ面を持たない平面状のものでもよい、実施例では、
媒体対向面１０１がレール部及びテーパ面を持たない平
面状となっていて、この面１０１の全体をＡＢＳ面とし
て作用させるようにした構造のもを示しである。かかる
構成の薄膜磁気ヘッドは、スライダ１の媒体対向面１０
１がレール部のない単純な平面状となっているため、小
形化が容易である。空気流出方向ａで見た媒体対向面１
０１の端縁（イ）、（ロ）は、コンタクト、スタート時
における磁気ディスクの表面との引掛りをなくすため、
弧状に形成するのが望ましい、他の端縁（ハ）、（ニ）
も弧状に形成できる。
などのセラミック構造体に代えて、シリコンで構成しで
ある。スライダ１は、媒体対向面１０１がレール部及び
テーパ面を持つ通常タイプでもよいし、レール部及びテ
ーパ面を持たない平面状のものでもよい、実施例では、
媒体対向面１０１がレール部及びテーパ面を持たない平
面状となっていて、この面１０１の全体をＡＢＳ面とし
て作用させるようにした構造のもを示しである。かかる
構成の薄膜磁気ヘッドは、スライダ１の媒体対向面１０
１がレール部のない単純な平面状となっているため、小
形化が容易である。空気流出方向ａで見た媒体対向面１
０１の端縁（イ）、（ロ）は、コンタクト、スタート時
における磁気ディスクの表面との引掛りをなくすため、
弧状に形成するのが望ましい、他の端縁（ハ）、（ニ）
も弧状に形成できる。
薄膜磁気変換素子２は、磁気ディスク等の磁気記録媒体
との組合せにおいて、空気流出端部側となる端面に付着
させである。実施例において、薄膜磁気変換素子２は１
個であり、幅方向の略中間部に配置されている。媒体対
向面１０１にレール部を有するタイプのものでは、薄膜
磁気変換素子２はレール毎に２個備えられる。
との組合せにおいて、空気流出端部側となる端面に付着
させである。実施例において、薄膜磁気変換素子２は１
個であり、幅方向の略中間部に配置されている。媒体対
向面１０１にレール部を有するタイプのものでは、薄膜
磁気変換素子２はレール毎に２個備えられる。
読み書き回路３は、シリコンでなるスライダ１を基板と
して、従来より周知のＩＣ製造テクノロジに従って、所
定の回路構成となるように集積された集積回路となって
いる。読み書き回路３の回路構成は当業者にとって周知
であるので、詳細は省略する。
して、従来より周知のＩＣ製造テクノロジに従って、所
定の回路構成となるように集積された集積回路となって
いる。読み書き回路３の回路構成は当業者にとって周知
であるので、詳細は省略する。
取出電極４．５は読み書き回路３の圧力端であり、外部
から導かれたリート線が接続される。その個数は読み書
き回路３の出力数に応じた数となる。実施例においては
、媒体対向面１０１と対向する面１０２に設けられてい
るが、薄膜磁気変換素子２及び読み書き回路３を配置し
た端面１０３または両側面１０４．１０５に導出しても
よい。
から導かれたリート線が接続される。その個数は読み書
き回路３の出力数に応じた数となる。実施例においては
、媒体対向面１０１と対向する面１０２に設けられてい
るが、薄膜磁気変換素子２及び読み書き回路３を配置し
た端面１０３または両側面１０４．１０５に導出しても
よい。
耐摩耗像Ｍ膜６は、シリコンで構成されたスライダ１の
媒体対向面１０１の耐摩耗性を向上させるために設けら
れたもので、耐摩耗性の高い５ｉＣ１Ｓｔ、Ｎ４、Ｓｉ
ｎ、等の膜として形成する。耐摩耗保護膜６はスパッタ
等の手段によフて付着できる。
媒体対向面１０１の耐摩耗性を向上させるために設けら
れたもので、耐摩耗性の高い５ｉＣ１Ｓｔ、Ｎ４、Ｓｉ
ｎ、等の膜として形成する。耐摩耗保護膜６はスパッタ
等の手段によフて付着できる。
上述のように、スライダ１はシリコンでなり、読み書き
回路３はスライダ１を構成するシリコンを利用して集積
された集積回路となっていので、スライダ１を小型化し
た場合でも、その制限を殆ど受けることなく、周知のＩ
Ｃ製造テクノロジに従って容易に製造できる。
回路３はスライダ１を構成するシリコンを利用して集積
された集積回路となっていので、スライダ１を小型化し
た場合でも、その制限を殆ど受けることなく、周知のＩ
Ｃ製造テクノロジに従って容易に製造できる。
薄膜磁気変換素子２もＩＣ製造テクノロジと同様のプロ
セスに従って形成されるから、両者２．３の製造工程が
近似したものとなり、両者２．３をスライダ１の同一の
面上に形成することによって、リードインダクタンスを
最小にし、高周波応答性を向上させたｔＪｓ型の薄膜磁
気ヘッドを実現できる。
セスに従って形成されるから、両者２．３の製造工程が
近似したものとなり、両者２．３をスライダ１の同一の
面上に形成することによって、リードインダクタンスを
最小にし、高周波応答性を向上させたｔＪｓ型の薄膜磁
気ヘッドを実現できる。
本発明に係る薄膜磁気ヘッドは、シリコンウェハ上にフ
ォトリソグラフィ等の高精度パターン形成技術を駆使し
て、薄膜磁気変換素子２及び読み書き回路３を含む薄膜
磁気ヘッド要素を多数個整列して形成した後、各薄膜磁
気ヘッド要素毎に分割して取出すことによフて容易に製
造できる。このＩＣ製造工程等は当業者にとって自明で
あるので、詳細は省略する。
ォトリソグラフィ等の高精度パターン形成技術を駆使し
て、薄膜磁気変換素子２及び読み書き回路３を含む薄膜
磁気ヘッド要素を多数個整列して形成した後、各薄膜磁
気ヘッド要素毎に分割して取出すことによフて容易に製
造できる。このＩＣ製造工程等は当業者にとって自明で
あるので、詳細は省略する。
第２図は要部の拡大部分断面図である。図において、２
０はＳｉｎ、等でなる絶縁膜、２１は下部磁性膜、２２
は５ｉｎ２等でなるギャップ膜、２３は上部磁性膜、２
４は導体コイル膜、２５はノボラック樹脂等の有機樹脂
で構成された絶縁膜、２６．２７はリード電極（第１図
参照）、２８は保護膜である。
０はＳｉｎ、等でなる絶縁膜、２１は下部磁性膜、２２
は５ｉｎ２等でなるギャップ膜、２３は上部磁性膜、２
４は導体コイル膜、２５はノボラック樹脂等の有機樹脂
で構成された絶縁膜、２６．２７はリード電極（第１図
参照）、２８は保護膜である。
下部磁性膜２１及び上部磁性＠２３の先端部は、微小厚
みのギャップ膜２２を隔てて対向するボール部２１１．
２３１となっており、ボール部２１１．２３１に形成さ
れた変換ギャップおいて読み書きを行なう。２１２．２
３２はヨーク部であり、ボール部２１１．２３１とは反
対側にあって、下部磁性膜２１及び上部磁性膜２３を互
いに結合させである。
みのギャップ膜２２を隔てて対向するボール部２１１．
２３１となっており、ボール部２１１．２３１に形成さ
れた変換ギャップおいて読み書きを行なう。２１２．２
３２はヨーク部であり、ボール部２１１．２３１とは反
対側にあって、下部磁性膜２１及び上部磁性膜２３を互
いに結合させである。
絶縁膜２５は複数層の絶１１ｉ膜２５１〜２５３から構
成されていて、絶縁膜２５１．２５２の上に、ヨーク部
２１２．２３２の結合部のまわりを渦巻状にまわるよう
に、導体コイル１ｉ２４を形成しである。
成されていて、絶縁膜２５１．２５２の上に、ヨーク部
２１２．２３２の結合部のまわりを渦巻状にまわるよう
に、導体コイル１ｉ２４を形成しである。
ソート電極２６．２７は、一端側が導体コイル膜２４の
両端にそれぞれ導通接続されており、他端側は読み書き
回路３に接続されている。
両端にそれぞれ導通接続されており、他端側は読み書き
回路３に接続されている。
上記各実施例では、面内記録再生用の薄膜磁気ヘッドを
示したが、垂直磁気記録再生用の薄膜磁気ヘッドにも、
本発明は適用できる。更に、実施例に示す２端子型の薄
膜磁気ヘッドに限らず、センタータップを有する３端子
型の薄膜磁気ヘッドにも、本発明は適用で籾る。
示したが、垂直磁気記録再生用の薄膜磁気ヘッドにも、
本発明は適用できる。更に、実施例に示す２端子型の薄
膜磁気ヘッドに限らず、センタータップを有する３端子
型の薄膜磁気ヘッドにも、本発明は適用で籾る。
〈発明の効果〉
以上述べたように、本発明によれば、次のようｔｔ効来
が得られる。
が得られる。
（ａ）スライダはシリコンで構成されており、読み書き
回路はスライダを構成するシリコンを利用して集積され
た集積回路となっているので、薄膜磁気変換素子から読
み書き回路に至るリードインダクタンスがきわめて小さ
く、高周波応答性に優れ、ノイズの影響を受けにくい薄
膜磁気ヘッドを提供できる。
回路はスライダを構成するシリコンを利用して集積され
た集積回路となっているので、薄膜磁気変換素子から読
み書き回路に至るリードインダクタンスがきわめて小さ
く、高周波応答性に優れ、ノイズの影響を受けにくい薄
膜磁気ヘッドを提供できる。
（ｂ）読み書ぎ回路はスライダに一体に集積されている
ので、高密度記録、高速追従及び高速アクセスに通した
小型の薄膜磁気ヘッドを提供できる。
ので、高密度記録、高速追従及び高速アクセスに通した
小型の薄膜磁気ヘッドを提供できる。
第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの斜視図、第２図
は同しく要部の拡大部分断面図である。 １・・・スライダ ２・・・薄膜磁気変換素子３・・
・読み書き回路
は同しく要部の拡大部分断面図である。 １・・・スライダ ２・・・薄膜磁気変換素子３・・
・読み書き回路
Claims (2)
- （１）スライダに薄膜磁気変換素子及びその読み書き回
路を備える薄膜磁気ヘッドであって、前記スライダは、
シリコンでなり、 前記読み書き回路は、前記スライダを構成する前記シリ
コンを利用して集積された集積回路となっていること を特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）前記スライダは、空気ベアリング面に耐摩耗保護
膜を有すること を特徴とする請求項１に記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4521890A JP2779036B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4521890A JP2779036B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03248317A true JPH03248317A (ja) | 1991-11-06 |
| JP2779036B2 JP2779036B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=12713130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4521890A Expired - Fee Related JP2779036B2 (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2779036B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06150599A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-31 | Nec Corp | 磁気ヘッドスライダ |
| JP2009020921A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Sharp Corp | スライダ及びスライダの製造方法 |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP4521890A patent/JP2779036B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06150599A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-31 | Nec Corp | 磁気ヘッドスライダ |
| JP2009020921A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Sharp Corp | スライダ及びスライダの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2779036B2 (ja) | 1998-07-23 |
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