DE3884371T2

DE3884371T2 - Dünnfilm-schreib-/lese-solenoidkopf für computer-massenspeichervorrichtung und herstellungsverfahren desselben.

Info

Publication number: DE3884371T2
Application number: DE88906502T
Authority: DE
Inventors: Shyam Das
Original assignee: Digital Equipment Corp
Current assignee: Digital Equipment Corp
Priority date: 1987-07-01
Filing date: 1988-07-01
Publication date: 1994-03-31
Anticipated expiration: 2008-07-02
Also published as: US4985985A; JPH01502376A; WO1989000327A1; DE3884371D1; CA1312948C; EP0324005A1; EP0324005B1

Description

1. Gebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft im allgemeinen das Gebiet von Lese- /Schreibköpfen zur Verwendung in Massenspeichervorrichtungen für digitale Datenverarbeitungssysteme und im besonderen die Lese- /Schreibköpfe, die mittels Dünnfilmtechnik hergestellt werden. Die Erfindung schafft einen neuen Dünnfilmkopf, in den eine Solenoid-Erregerspule eingearbeitet ist, und ein Verfahren zur Herstellung des neuen Kopfes.

2. Beschreibung des Standes der Technik

Ein typisches modernes digitales Datenverarbeitungssystem umfaßt eine Hierarchie von Speichervorrichtungen, die einen Halbleiter- Hauptspeicher von relativ geringer Kapazität enthalten und einen oder mehrere Massenspeichervorrichtungen, welche eine viel größere Kapazität aufweisen als der Hauptspeicher, die aber auch im Verhältnis viel langsamer sind. Die Massenspeichervorrichtungen stellen einen Sicherungsspeicher für die Daten im Hauptspeicher und auch für die umfangreichen Mengen an Daten zur Verfügung, die nicht in den Hauptspeicher passen, die aber durch den Prozessor aufgerufen werden können, wenn sie benötigt werden. Ein Prozessor erhält typischerweise nur direkt vom Hauptspeicher Informationen und wenn er Informationen benötigt, die sich nur in einer Massenspeichervorrichtung befinden, ermöglicht er der Massenspeichervorrichtung, die Informationen in den Hauptspeicher zu kopieren. Einige Zeit später, nachdem er die Informationen verarbeitet hat, ermöglicht der prozessor, daß die verarbeiteten Informationen in der Massenspeichervorrichtung gespeichert werden. Dies setzt im Hauptspeicher Speicherplätze frei, so daß dort andere Informationen gespeichert werden können.
Typische Massenspeichervorrichtungen speichern Informationen auf Magnetplatten, wobei die Informationen in das magnetische Medium in der Form von Übergängen von magnetischem Fluß, der durch einen Lese-/Schreibkopf erzeugt wird, übertragen werden. Die Informationen werden in eine Vielzahl von Spuren geordnet, wobei sich jede Spur in einem ausgewählten radialen Abstand vom Zentrum der Platte befindet und jede Spur in eine Vielzahl von Sektoren unterteilt ist, wobei jeder Sektor einem vorbestimmten Winkelabschnitt der Platte gegenüberliegt. Der Lese-/Schreibkopf wird von einem Arm gehalten, der im allgemeinen in einem "glättenden" Vorgang radial über die Plattenoberfläche bewegt wird, um den Lese-/Schreibkopf zur Registrierung mit einer ausgewählten Plattenspur zu bringen. Die Platte wird in einem "Such"-Vorgang gedreht, um den Sektor, der die gewünschte Information enthält, in winkelmäßige Registrierung mit dem Lese-/Schreibkopf zu bringen, der die Informationen, die im Sektor enthalten sind, liest oder die Informationen auf das magnetische Medium im Sektor schreibt.
Ursprünglich waren Lese-/Schreibköpfe im allgemeinen von toroidaler Gestalt mit einem Ausschnitt oder Spalt, wobei die Enden des Toroids bei dem Spalt Polschuhe waren. Eine Drahtspule war um den Toroid herum gewickelt und wurde erregt, um einen magnetischen Fluß zu erzeugen. Der Fluß divergiert zwischen den Polschuhen und trifft auf das magnetische Material der Platte. Die Dichte, mit der Daten geschrieben werden können, ist direkt von der Zahl der Flußübergänge oder den Wechseln in der Flußrichtung abhängig, die die Köpfe pro Zeiteinheit bereitstellen. Weil diese Köpfe eine relativ hohe elektrische Induktanz aufweisen, um eine zufriedenstellende Rate von Flußübergängen zu erreichen, ist eine teure Treiber-Schaltungsanordnung erforderlich. Außerdem bewirkt die hohe Induktanz ein gesteigertes "Überschwingen", bei dem ein Signal dazu tendiert bei scharfem Übergang über den gewünschten Signalpegel hinaus zu fluktuieren. Ein zu großes Überschwingen führt für zu lange Zeit zu Unsicherheiten im Signalpegel, was ein Verlangsamen des Systems erfordert.
In letzter Zeit wurden Dünnfilm-Lese-/Schreibköpfe entwickelt, die eine wesentlich niedrigere Induktanz aufweisen, als konventionelle Lese-/Schreibköpfe. Dünnfilm-Lese-/Schreibköpfe werden mittels lithographischer Techniken hergestellt, die im allgemeinen den Techniken ähneln, die zur Herstellung integrierter Schaltkreis-Chips angewandt werden. Bei derartigen Techniken wird zuerst ein planarer Polschuh gebildet und mit einem isolierenden Material bedeckt. Eine Spule wird dann auf dem isolierenden Material in Form einer planaren Spirale über einem Teil des Polschuhs gebildet und über der Spirale wird ein isolierendes Material abgeschieden und ein weiterer Polschuh wird auf der Oberfläche des isolierenden Materials gebildet.
Weil jedoch die Spule eines typischen Dünnfilm-Schreib-/Lesekopfes eine planare Spiralenform hat, ist ein relativ langer Leiter erforderlich, um die Zahl der Windungen in der Spule bereitzustellen, die erforderlich sind, um das gewünschte magnetische Feld während des Schreibvorgangs zu erzeugen, oder um das magnetische Feld, das durch den Kopf während des Lesevorgangs wahrgenommen wird, aufzunehmen. Da in einer planaren Spirale die Länge des Leiters schneller wächst als die Anzahl der Windungen, ergibt der lange spiralförmige Leiter einen relativ großen Widerstand, der wiederum die Erzeugung einer beträchtlichen Wärmemenge verursacht. Die Erhöhung im Widerstand der Spule ergibt auch eine damit verbundene Erhöhung des Signalrauschens während des Lesevorgangs.
Außerdem wächst auch die wechselseitige Induktanz zwischen Windungen schneller als die Zahl der Windungen, wenn die Spule eine Spiralform aufweist, und folglich hat eine planare Spule, die eine ausreichende Zahl von Windungen aufweist, auch eine relativ hohe Induktanz. Die hohe Induktanz ergibt eine relativ niedrige wirksame Resonanzfrequenz, die ihrerseits das Ausmaß des unerwünschten Überschwingens, das bei einem an die Spule angelegten Signal auftreten kann, erhöht. Zusätzlich wird eine hohe Treiberspannung während eines Schreibvorgangs erforderlich, um den notwendigen Schreib-Strom bereitzustellen, weil die Spule eine relativ hohe Induktanz aufweist.
US-Patent 3,662,119 mit dem Titel "Thin Film Magnetic Transducer Head", erteilt am 9.Mai 1972 für L. Romankiw und andere, offenbart einen Dünnfilm-Kopf, der eine solenoidale Spule aufweist, die um beide Polschuhe herum im Kopf gebildet wird, um sowohl einen Zuführungs- als auch einen Rückführungsweg für den elektrischen Strom, der die Spule erregt, bereitzustellen. Die Spule wird in einer Schicht um jeden Polschuh herum unter Verwendung einer komplexen Herstellungsmethode gebildet. Da Spulenschichten um beide Polschuhe herum notwendig sind, ist die Spule nicht für den Gebrauch im Zusammenhang mit vertikal aufzeichnenden Techniken geeignet, die gegenwärtig entwickelt werden und bei denen Daten nicht horizontal, sondern vielmehr vertikal als auf einer Plattenoberfläche aufgezeichnet werden.
Hiermit wird auf zwei weitere Schriften des Standes der Technik hingewiesen. JP-A-5545192 offenbart einen Kopf entsprechend dem Oberbegriff des Anspruchs 1. GB-A-1216905 offenbart ein Verfahren zur Herstellung von mit ferromagnetischem Kern versehenen filmartigen Induktoren unter Verwendung von Dick- oder Dünnfilmtechniken. Dieses Patent offenbart die Bereitstellung einer zweiten Spule zusätzlich zu der ersten Spule auf einem unterschiedlichen Teil eines magnetischen Kerns.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Die Erfindung schafft einen neuen und verbesserten Dünnfilm-Lese-/Schreibkopffür eine Plattenspeichereinheit in einem digitalen Datenverarbeitungssystem, in dem die Erregerspule in der Form eines Selenoids um zumindest einen Polschuh herum angeordnet ist, und ein Verfahren zur Herstellung des Kopfes.
Die vorliegende Erfindung stellt einen Kopf gemäß Anspruch 1 und ein Verfahren zur Herstellung gemäß Anspruch 12 bereit.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Diese Erfindung wird im einzelnen in den anliegenden Ansprüchen gezeigt. Die obigen und weitere Vorteile dieser Erfindung können mittels der folgenden Beschreibung im Zusammenhang mit den anliegenden Zeichnungen besser verstanden werden, in denen
Fig. 1A eine Ansicht ist, die einen schematischen Entwurf von verschiedenen Spuren und des Polschuhs darstellt, die einen Teil des Lese-/Schreibkopfes bilden, der gemäß dieser Erfindung konstruiert ist;
Fig. 1B eine Tabelle ist, die für das Verständnis der Fig. 1A nützlich ist; und
Fig. 1C eine schematische Seitenschnittansicht des Abschnitts des Kopfes ist, der in Fig. 1A entlang der Achse 1C-1C schematisch dargestellt ist.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG EINES ERLÄUTERNDEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELS

In Bezug auf die Figuren umfaßt ein neuer Lese-/Schreibkopf 10, der gemäß der Erfindung konstruiert ist, einen Polschuh 12 und eine Vielzahl von Spuren aus leitendem Material, das auf Schichten eines isolierenden Materials, wie gehärtetem Photolack, Siliziumdioxid (SiO&sub2;) und Aluminiumoxid (Al&sub2;O&sub3;) gebildet wird. Die Spuren werden in vorbestimmten Winkeln in Bezug auf eine Längsachse 13 des Polschuhs 12 gebildet und durch leitendes Material miteinander verbunden, das auf Durchkontakten in dem leitenden Material abgeschieden wird, wie unten beschrieben. Die Anordnung der leitenden Spuren, d.h. ihre Plazierung und Orientierung relativ zueinander und zum Polschuh 12, und der Durchkontakte wird so ausgewählt, daß sie eine solenoidale Spule um den Polschuh herum bilden.
Der Kopf 10 enthält vier Schichten leitender Spuren, die auf planaren Schichten von isolierendem Material gebildet werden, wobei zwei Schichten unter dem Polschuh 12 angeordnet sind und zwei Schichten über dem Polschuh 12 angeordnet sind. Insbesondere umfassen zwei Schichten der Spuren eine untere oder erste Spurenschicht, die drei Spuren 14, 16 und 18 aufweist, und eine obere oder vierte Spurenschicht, die auch drei Spuren 20, 22 und 24 aufweist. Wie in Fig. 1B gezeigt, werden die Spuren 14, 16 und 18 alle in Fig. 1A mittels durchgezogener Linien dargestellt, wobei jedes durchgezogene Linienpaar eine Spur darstellt. Auf ähnliche Weise werden die Spuren 20, 22 und 24 alle in Fig. 1A mittels gestrichelter Linien dargestellt, wobei jedes Paar gestrichelter Linien eine Spur darstellt.
Die anderen zwei Schichten enthalten eine zweite Spurenschicht, die drei Spuren 26, 28 und 30 umfaßt und zwischen der ersten Spurenschicht und dem Polschuh 12 untergebracht ist und eine dritte Spurenschicht, die zwei Spuren 32 und 34 umfaßt und sich zwischen der vierten (oberen) Spurenschicht und dem Polschuh 12 befindet. Wie in Fig. 1B gezeigt, werden die Spuren 26, 28 und 30 gemeinsam in Fig. 1A durch eine gestrichelte Linie dargestellt, die abwechselnd lange und kurze Striche aufweist, und die Spuren 32 und 34 werden in Fig. 1A durch eine gestrichelte Linie dargestellt, die abwechselnd einen langen und zwei kurze Striche aufweist.
Wie in Fig. 1C gezeigt, werden der Polschuh 12 und alle Spuren auf Schichten aus isolierendem Material gebildet und in Schichten aus isolierendem Material eingebettet. Sechs Schichten aus isolierendem Material sind in Fig. 1C abgebildet, nämlich die Schichten 36, 38, 40, 42, 44 und 46. Wie unten im einzelnen erläutert, werden, nachdem die isolierende Schicht 36 und die Spuren 14, 16 und 18 gebildet sind, die folgenden isolierenden Schichten 38, 40, 42 und 44 abgeschieden, und die jeweiligen Spuren oder der Polschuh 12 werden darauf ausgeformt. Die Enden der Spuren der verschiedenen Spurenschichten werden in geeigneter Weise miteinander verbunden, wie unten beschrieben, um eine solenoidale Spule zu bilden. Insbesondere überlappen die Enden ausgewählter Paare von Spuren, und die überlappenden Enden sind miteinander über die Durchkontakte verbunden. Nachdem die höhere Spurenschicht, d.h. die Spuren 20, 22 und 24, gebildet wurde und alle Verbindungen über die Durchkontakte hergestellt wurden, wird eine isolierende Schicht 46 darauf aufgebracht, um die Spuren zu bedecken. Danach kann ein zweiter Polschuh (nicht gezeigt) auf dem Kopf 10 in geeigneter Weise ausgebildet werden.
Wie erwähnt wurde, sind die Spuren durch geeignete Durchkontakte verbunden, die durch die isolierenden Schichten hindurch zwischen den Enden der Spuren gebildet werden. Diese Verbindungen sind so gestaltet, daß sie einen geschlossenen Stromkreis bilden, wobei Spuren und Durchkontakte zusammenwirken, um wirkungsvoll einen spulenartigen elektrischen Weg um den Polschuh 12 herum vom oberen Ende (wie in Fig. 1 gezeigt) zu der Spitze 74 zu bilden. Einer dieser Durchkontakte, nämlich Durchkontakt 48, verbindet das rechte Ende (wie in Fig. 1A gezeigt) der Spur 14 in der unteren Spurenschicht mit dem rechten Ende der Spur 24 in der oberen Spurenschicht. Auf ähnliche Weise verbinden die Durchkontakte 50 und 52 die entsprechenden rechten Enden der anderen Spuren 16 und 22 und 18 und 20 in den unteren und oberen Spurenschichten. Ähnliche Durchkontakte 54 und 56 verbinden die linken Enden der jeweiligen Spurenpaare 18 und 22 und 16 und 24 zwischen der ersten (untersten) und der vierten (obersten) Spurenschicht. Das Ergebnis ist eine solenoidale Spule rund um den Polschuh 12 herum, welche sich von dem äußersten linken Ende der Spur 14 nahe dem oberen Ende des Polschuhs 12 (wie in Fig. 1A gezeigt) zu dem äußersten linken Ende der Spur 20 nahe dem unteren Ende des Polschuhs 12 erstreckt.
Die zweiten und dritten Spurenschichten sind auf ähnliche Weise durch die Durchkontakte 58 (rechtes Ende der Spuren 34 und 28), 60 (rechtes Ende der Spuren 32 und 26), 62 (linkes Ende der Spuren 30 und 34) und 64 (linkes Ende der Spuren 28 und 32) verbunden. Dadurch wird um den Polschuh 12 herum eine solenoidale Spule ausgebildet, die sich von dem äußersten rechten Ende der Spur 30 nahe dem oberen Ende des Polschuhs 12 ( wie in Fig. 1A gezeigt) bis zu dem äußersten linken Ende der Spur 26 nahe dem unteren Ende des Polschuhs 12 erstreckt. Die solenoidale Spule, die aus den zweiten und dritten Spurenschichten gebildet wird, befindet sich im allgemeinen innerhalb der solenoidalen Spule, die aus den ersten und vierten Spurenschichten gebildet wird.
Die zwei solenoidalen Spulen sind durch einen Durchkontakt 66 miteinander verbunden, der das äußerste linke Ende der Spur 20 in der oberen Spurenschicht mit dem äußersten linken Ende der Spur 26 in der zweiten Spurenschicht verbindet. Das Ergebnis ist eine einzelne solenoidale Spule, die sowohl einen Zuführungsweg als auch einen Rückführungsweg für den Erregerstrom aufweist, wobei beide Wege um einen einzigen Polschuh 12 herum gebildet sind. Es ist offensichlich, daß der neue Kopf keine Spule um den anderen Polschuh herum erfordert, um einen Rückführungsweg zur Verfügung zu stellen, und deshalb kann der neue Kopf insbesondere in Verbindung mit vertikal auf zeichnenden Verfahren nützlich sein. Es ist jedoch auch offensichtlich, daß eine weitere Spule um den zweiten Polschuh (nicht gezeigt) herum gebildet werden kann, wenn keine vertikale Aufzeichnung durchgeführt wird.
Zurückkommend auf Fig. 1A sind das äußerste linke Ende der Spur 14 und das äußerste rechte Ende der Spur 30 über die Durchkontakte 74 und 75 jeweils mit den Bondflächen 70 und 72 verbunden, die beispielsweise auf der obersten (äußersten rechten, wie in Fig. 1C gezeigt) Oberfläche der isolierenden Schicht 46 angeordnet sein können. Eine konventionelle Lese-/Schreibsignale erzeugende und empfangende Schaltungsanordnung (nicht gezeigt), welche Schreibstrom erzeugt oder Lesestrom empfängt, der im Kopf erzeugt wird, ist mit den Bondflächen in bekannter Weise verbunden. Die Bondflächen können an jedem geeigneten Ort angeordnet sein, aber es ist wünschenswert, daß sie nahe bei den Enden der Spuren, mit denen sie verbunden sind, gebildet werden, um den Widerstand des Weges zwischen der Leitung vom Lese-/Schreibsignale erzeugenden und der diese Signale empfangenden Schaltungsanordnung zu minimieren.
Das Verfahren zur Herstellung des neuen Lese-/Schreibkopfes ist folgendermaßen. Zu Anfang wird die erste isolierende Schicht 36 als Basis für die Spuren 14, 16 und 18 gebildet, und die Spuren werden darauf unter Verwendung irgendeiner konventionellen Lithographie- und Metallabscheidungstechnik gebildet. Dann wird die zweite isolierende Schicht 38 unter Verwendung einer konventionellen Technik geformt und die obere Oberfläche (die Oberfläche auf der rechten Seite, wie in Fig. 1C gezeigt) kann geglättet werden. Die obere Oberfläche der Schicht 38 bildet die Basis für die Spuren 26, 28 und 30, welche danach geformt werden. Dann wird die dritte isolierende Schicht 40 geformt und der Polschuh 12 gebildet. Der Polschuh kann unter Verwendung ähnlicher lithographischer Techniken gebildet werden, obgleich der Polschuh etwas dicker als die Spuren sein kann.
Nachdem der Polschuh gebildet ist, wird die vierte isolierende Schicht 42 geformt und Durchkontakte werden zu den zweiten Schichten mit Spuren gebildet. Dann wird eine Metallschicht abgeschieden, um die dritte Spurenschicht zu bilden, die auch dazu dient, die Durchkontakte mit leitendem Material zu füllen und dadurch die innere solenoidale Spule zu formen. Zur gleichen Zeit können Durchkontakte, die wie unten beschrieben wird, später benutzt werden, um die erste Spurenschicht und die vierte Spurenschicht zu verbinden, gebildet und mit leitendem Material gefüllt werden. Mikrolithographische Techniken, die Laser zur Herstellung elektronischer Bauelemente und ähnlichem verwenden, können zum Ausbilden von Durchkontakten eingesetzt werden.
Nachdem die dritte Spurenschicht gebildet wurde und die Verbindungen zwischen den zweiten und dritten Spurenschichten über die Durchkontakte gebildet wurden, wird die fünfte Schicht isolierenden Materials, die Schicht 44 und die Durchkontakte zu der ersten Spurenschicht gebildet. Dann wird eine Metallschicht aufgebracht, die auch dazu dient, die Durchkontakte mit leitendem Material zu füllen, um die äußere solenoidale Spule bereitzustellen und um die vierte Spurenschicht zu bilden, das heißt, die Spuren 20, 22 und 24. Danach wird die oberste isolierende Schicht 46 abgeschieden.
Die Verbindungen zwischen den jeweiligen Enden der Spuren 14 und 30 und den Bondflächen 70 und 72 können unter Verwendung des gleichen Verfahrens zum Verbinden der Enden der entsprechenden Spuren hergestellt werden, das oben beschrieben wurde. Dies kann an jedem geeigneten Punkt in dem Verfahren durchgeführt werden.
Wie oben vermerkt wurde, ist ein Kopf, der einen Polschuh und Leitungen umfaßt, wie sie oben beschrieben wurden und der gemäß der Erfindung konstruiert ist, in Disketten-Laufwerken, die entweder horizontale oder vertikale Aufzeichnungstechniken einschließen, nützlich. Dies ist ein Ergebnis der Tatsache, daß die solenoidale Spule, die um einen Polschuh herum gebildet ist und sowohl die inneren als auch die äußeren Spulenschichten enthält, sowohl einen Zuführungsweg als auch einen Rückführungsweg für den Erregerstrom bereitstellt. Folglich erfordert der Kopf keine zweite Spule um einen anderen Polschuh herum, um einen Stromrückführungsweg bereitzustellen. Weiterhin vereinfacht das neue Verfahren zur Herstellung des Kopfes die Fertigung des Kopfes.
Verständlicherweise weist ein Lese-/Schreibkopf typischerweise zwei Polschuhe auf. In einem Kopf, der zur vertikalen Aufzeichnung benutzt wird, wird typischerweise nur ein Polschuh von einer Spule umgeben sein. Jedoch kann einer oder können beide Polschuhe von Spulen umgeben sein, wenn ein Kopf zur longitudinalen Aufzeichnung benutzt wird.

Claims

1. Kopf (10) fur eine magnetische Speichervorrichtung mit einem Polschuh (12), der entlang einer Längsachse (13) angeordnet ist und ein distales Kopfende (74) aufweist, das dazu angepaßt ist, angrenzend an ein Speichermedium der magnetischen Speichervorrichtung angeordnet zu werden und einer Vielzahl elektrisch isolierender Schichten (40, 42), die im allgemeinen planar gegenuberliegende Oberflächen aufweisen, zwischen denen der Polschuh angeordnet ist, einer Vielzahl elektrisch leitender Spuren (14, 16, 18, 20, 22, 24), die von dem Polschuh (12) durch ein Paar isolierender Schichten (40, 42) getrennt sind und selektiv mittels Durchkontakten (48, 50, 52, 54, 56) durch die isolierenden Schichten hindurch verbunden sind, um eine Spule um den Polschuh herum zu bilden,

dadurch gekennzeichnet, daß

die Spule ein Anschlußendenpaar (70, 72), das angrenzend an ein proximales Fußende des Polschuhs (12) angeordnet ist, aufweist und sich zwischen den Anschlußenden fortsetzt, um einen gewöhnlich spiralförmigen Weg für den Fluß des Erregerstroms um den Polschuh herum bereitzustellen, wobei sich ein erster Abschnitt (14, 24, 16, 22, 18) des gewöhnlich spiralförmigen Weges von dem proximalen Fußende bis zu einem Bereich des distalen Kopfendes des Polschuhs erstreckt und ein zweiter Abschnitt (20, 26, 32, 28, 34, 30) des gewöhnlich spiralförmigen Weges von dem Bereich des distalen Kopfendes zu dem proximalen Fußende des Polschuhs (12) zurückführt, wobei der zweite Abschnitt dazu dient, die Flußkopplung zwischen der Spule und dem Polschuh (12) zu steigern im Verhältnis zu der durch den ersten Abschnitt bereitgestellten Steigerung der Empfindlichkeit des Kopfes (10).

2. Kopf nach Anspruch 1, wobei das Anschlußendenpaar (70, 72) zum Verbinden mit einer Signalquelle zum Zuführen des Erregerstroms und zum Rückführen des Erregerstroms für die Spule angepaßt ist.

3. Kopf nach Anspruch 2, wobei die Vielzahl von Spuren (14-34) in Bezug auf die Längsachse in schrägen Richtungen auf den gegenüberliegenden Oberflächen des isolierenden Schichtenpaares angeordnet sind.

4. Kopf nach Anspruch 1, wobei die Vielzahl der elektrisch leitenden Spuren einschließt:

einen ersten Satz elektrisch leitender Spuren (14, 16, 18, 26, 28, 30), die in einem Winkel in Bezug auf die Längsachse angeordnet sind und von dem Polschuh durch eine der isolierenden Schichten getrennt sind und

einen zweiten Satz elektrisch leitender Spuren (20, 22, 24, 32, 34). die in einem Winkel in Bezug auf die Längsachse angeordnet sind und von dem Polschuh durch die andere der isolierenden Schichten getrennt sind,

wobei die Spuren des ersten und zweiten Spurensatzes selektiv miteinander über das isolierende Schichtenpaar verbunden sind, um die Spule zu bilden.

5. Magnetischer Kopf nach Anspruch 4,

wobei

der erste Spurensatz eine erste Vielzahl von im allgemeinen planaren Spuren (14, 16, 18) umfaßt, die auf einer Oberfläche von einer der isolierenden Schichten angeordnet sind,

der zweite Spurensatz eine zweite Vielzahl von im allgemeinen planaren Spuren (20, 22, 24) umfaßt, die auf der Oberfläche der anderen der isolierenden Schichten angeordnet sind und

diese andere der isolierenden Schichten und die erste Vielzahl von Spuren und die zweite Vielzahl von Spuren selektiv untereinander mittels Durchkontakten(48, 54, 50, 56, 52), die zur Ausbildung der Spule durch das isolierende Schichtenpaar (41, 42) hindurch angeordnet sind, verbunden sind.

6. Kopf nach Anspruch 1, wobei die elektrisch leitenden Spuren selektiv untereinander verbunden sind, um ein Spulenpaar zu bilden, jede einzelne Spule davon ist elektrisch vom Polschuh isoliert und rund um ihn angeordnet, wobei jede einzelne Spule des Spulenpaares sich von dem proximalen Fußende zum Bereich des distalen Kopfendes erstreckt und die Spulen im Bereich des distalen Kopfendes in Reihe zusammengeschaltet sind, um einen Weg für ein Umströmen des Erregerstroms um den Polschuh herum vom proximalen Fußende zum Bereich des distalen Kopfendes und zurück zum proximalen Fußende bereitzustellen.

7. Kopf nach Anspruch 6, wobei

A. der erste Spurensatz einschließt:

i. eine erste Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (14, 16, 18), die auf einem isolierenden Substrat (36) in einer ersten in Bezug auf die Achse schrägen Richtung angeordnet sind,

ii. eine dritte Schicht von isolierendem Material (38), die über der ersten Vielzahl von Spuren aufgebracht ist und

iii. eine zweite Vielzahl von im allgemeinen elektrisch leitenden Spuren (26, 28, 30), die auf der dritten isolierenden Schicht (38) in einer zweiten in Bezug auf die Achse schrägen Richtung angeordnet sind, wobei die zweite Richtung unterschiedlich zur ersten Richtung ist und die Spuren der zweiten Vielzahl von Spuren (26, 28, 30) eine Länge aufweisen, die im allgemeinen kürzer als die Länge der Spuren der ersten Vielzahl von Spuren (14, 16, 18) ist und

B. der zweite Spurensatz einschließt:

i. eine dritte Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (32, 34), die auf dem zweiten Paar von isolierenden Schichten (42) in einer in Bezug auf die Achse schrägen Richtung und im allgemeinen parallel zu der ersten Richtung angeordnet sind, wobei die Spuren der dritten Vielzahl von Spuren (32, 34) eine ähnliche Länge wie die Länge der Spuren der zweiten Vielzahl von Spuren (26, 28, 30) aufweisen,

ii. eine vierte Schicht von isolierendem Material (44) über der dritten Vielzahl von Spuren (30, 32) aufgebracht ist und

iii. eine vierte Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (20, 22, 24), die auf der vierten isolierenden Schicht (44) in einer in Bezug auf die Achse schrägen Richtung und im allgemeinen parallel zu der zweiten Richtung angeordnet sind, wobei die Spuren der vierten Vielzahl von Spuren (20, 22, 24) eine ähnliche Länge wie die Längen der Spuren der ersten Vielzahl von Spuren (14, 16, 18) aufweisen.

8. Kopf nach Anspruch 7, wobei

ein Ende von mindestens einer der Spuren der dritten Vielzahl von Spuren (32, 34) ein Ende einer Spur der zweiten Vielzahl von Spuren (26, 28, 30) überlagert,

ein Ende von mindestens einer der Spuren der vierten Vielzahl von Spuren (20, 22, 24) ein Ende einer Spur der ersten Vielzahl von Spuren (14, 16, 18) überlagert,

ein Ende einer Spur (20) der vierten Vielzahl von Spuren (20,22, 24) ein Ende einer Spur (26) der zweiten Vielzahl von Spuren (26. 28, 30) überlagert und

jedes überlagernde Ende elektrisch mit einem entsprechenden darunter liegenden Ende verbunden ist, wodurch zur Bildung des Spulenpaares eine erste Spule des Spulenpaares die Spuren der ersten und vierten Vielzahl von Spuren (14-24) umfast und eine zweite Spule des Spulenpaares die Spuren der zweiten und dritten Vielzahl von Spuren (26-34) umfaßt, wobei die zweite Spule im allgemeinen innerhalb der ersten Spule ist und die erste und zweite Spule elektrisch miteinander verbunden sind, um sowohl die Zuführung als auch die Rückführung für den Erregerstrom bereitzustellen.

9. Kopf nach den Ansprüchen 1, 4 oder 6, der weiterhin einen zweiten Polschuh umfaßt, der anliegend an den zumindest einen Polschuh (12) angeordnet ist und von den Spuren isoliert ist.

10. Kopf nach Anspruch 9, wobei ein proximales Fußende von dem zumindest einen Polschuh elektrisch mit einem proximalen Fußende des zweiten Polschuhs verbunden ist.

11. Kopf nach Anspruch 10, wobei ein distales Kopfende des zumindest einen Polschuhs nahe beabstandet ist von einem distalen Kopfende des zweiten Polschuhs relativ zum Abstand zwischen dem proximalen Fußende des zumindest einen Polschuhs und dem proximalen Fußende des zweiten Polschuhs.

12. Verfahren zur Herstellung eines Kopfes (10) zur Verwendung in einer magnetischen Speichervorrichtung, wobei der Kopf derart ist, daß er enthält:

einen Polschuh (12), der von einem Substrat (36) unterstützt wird und der entlang einer Längsachse (13) angeordnet ist und ein distales Kopfende (74) aufweist, das dazu angepaßt ist, angrenzend an ein Speichermedium der magnetischen Speichervorrichtung angeordnet zu werden, und erste und zweite elektrisch isolierende Schichten (40, 42), die im allgemeinen gegenüberliegende planare Oberflächen aufweisen, zwischen denen der Polschuh angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren die Verfahrensschritte enthält:

Abscheiden eines ersten Satzes elektrisch leitender Spuren (14, 16, 18, 26, 28, 30) in einem Winkel in Bezug auf die Achse (13), so daß der erste Spurensatz zwischen dem Substrat (36) und der ersten isolierenden Schicht (40) angeordnet ist,

Abscheiden eines zweiten Satzes elektrisch leitender Spuren (20, 22, 24, 32, 34) über der zweiten isolierenden Schicht (42) in einem Winkel in Bezug auf die Achse und selektives Verbinden der Spuren des ersten und zweiten Spurensatzes mittels Durchkontakten (48, 54, 50, 56, 52, 66, 60, 64, 58, 62) durch die isolierenden Schichten hindurch, um ein Spulenpaar von in Reihe verbundenen Spulen zu bilden, daß jede elektrisch isoliert vom Polschuh (12) und um ihn herum angeordnet ist, wobei sich jede der Spulen vom proximalen Fußende des Polschuhs bis zu einem Bereich des distalen Kopfendes (74) des Polschuhs erstreckt und die Spulen im Bereich des distalen Kopfendes in Reihe miteinander verbunden sind, um einen im allgemeinen spiralförmigen Weg für die Umströmung des Erregerstroms rund um den Polschuh (12) herum von dem proximalen Fußende zum Bereich des distalen Kopfendes (74) und zurück zum proximalen Fußende, wobei die Verbindung der Spulen dazu dient, die Flußkopplung zwischen dem Polschuh und der Spule zu steigern im Verhältnis zu der durch eine der beiden Spulen bereitgestellten Steigerung der Empfindlichkeit des Kopfes (10).

13. Verfahren nach Anspruch 12, wobei die Durchkontakte (48-66) unter Verwendung von Laserstrahlen hergestellt werden.

14. Verfahren nach Anspruch 13, wobei

A. der Abscheideschritt des ersten Spurensatzes (14, 16, 18, 26, 28, 30) umfaßt:

i. Abscheiden einer ersten Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (14, 16, 18) auf dem Substrat (36) in einer ersten in Bezug auf die Längsachse (13) schrägen Richtung,

ii. Abscheiden einer dritten Schicht (38) von isolierendem Material über der ersten Vielzahl von Spuren (14, 16, 18) und

iii. Abscheiden einer zweiten Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (26, 28, 30,) auf der dritten isolierenden Schicht (38) in einer zweiten in Bezug auf die Längsachse (13) unterschiedlichen. schrägen Richtung

B. der Abscheideschritt des zweiten Satzes von Spuren (20, 22, 24, 32, 34 ) umfaßt:

i. Abscheiden einer dritten Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (32,34) auf der zweiten isolierenden Schicht (42)in der ersten Richtung und Ausrichten der Enden der Spuren der dritten Vielzahl von Spuren (22, 34) mit den Enden der Spuren der zweiten Vielzahl von Spuren (26, 28, 30)

ii. Abscheiden einer vierten Schicht von isolierendem Material (44) über der dritten Vielzahl von Spuren (32, 34) und

iii. Abscheiden einer vierten Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (20, 22, 24) auf der vierten isolierenden Schicht (44) in die zweite Richtung, Ausrichten der Enden der Spuren der vierten Vielzahl von Spuren (20, 22, 24) mit den Enden der Spuren der ersten Vielzahl von Spuren (14, 16, 18) und Ausrichten eines Endes einer Spur (20) der vierten Vielzahl von Spuren (20, 22, 24) mit einem Ende einer Spur (26) der zweiten Vielzahl von Spuren (26, 28, 30), und

C. der Verbindungsschritt das Verbinden der entsprechend ausgerichteten Enden (48-66) der Spuren umfaßt, wodurch das in Reihe geschaltete solenoidale Spulenpaar gebildet wird, das um den Polschuh herum angeordnet ist (12), wobei eine erste der Spulen die Spuren der ersten und vierten Vielzahl von Spuren umfaBt und eine zweite der Spulen die Spuren der zweiten und dritten Vielzahl von Spuren umfaßt.

15. Verfahren nach Anspruch 12, wobei der erste Spurensatz (14, 16, 18, 26, 28, 30) gemeinsam einen ersten Spurenabschnitt umfaßt und der zweite Spurensatz (20, 22, 24, 32, 34) gemeinsam einen zweiten Spurenabschnitt umfaßt, wobei der Verbindungsschritt weiterhin einschließt, Durchkontakte zwischen den Enden der Spuren des ersten Spurenabschnitts und den Enden der Spuren des zweiten Spurenabschnitts herzustellen.

16. Verfahren nach Anspruch 15, wobei der erste und zweite Spurenabschnitt jeweils eine Vielzahl von Spuren enthält, und der zweite Spurenabschnitt so angeordnet ist, daß ein Ende von mindestens einer Spur des zweiten Spurenabschnitts ein Ende einer Spur des ersten Spurenabschnitts überlagert.

17. Verfahren nach Anspruch 15, wobei

A. der Verfahrensschritt der Abscheidung des ersten Spurenabschnitts die Schritte umfaßt:

i. Abscheiden einer ersten Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (14, 16, 18) auf dem Substrat in einer ersten in Bezug auf die Achse schrägen Richtung,

ii. Abscheiden einer dritten Schicht von isolierendem Material (38) über der ersten Vielzahl von Spuren (14,16,18) und

iii. Abscheiden einer zweiten Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (26, 28, 30) auf der dritten isolierenden Schicht (38) in einer zweiten in Bezug auf die Achse schrägen Richtung, wobei die zweite Richtung unterschiedlich von der ersten Richtung ist und die Spuren der zweiten Vielzahl von Spuren (26, 28, 30) eine Länge aufweisen, die im allgemeinen kürzer ist als die Längen der Spuren der ersten Vielzahl von Spuren (14, 16, 18) und

B. der Verfahrensschritt der Abscheidung des zweiten Spurenabschnitts (20. 22. 24. 32, 34) die Schritte umfaßt:

i. Abscheiden einer dritten Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (32, 34) auf der zweiten isolierenden Schicht (42) in einer in Bezug auf die Achse schrägen Richtung und im allgemeinen parallel zu der ersten Richtung, wobei die Spuren der dritten Vielzahl von Spuren (32, 34) eine ähnliche Länge aufweisen, wie die Länge der Spuren der zweiten Vielzahl von Spuren (26, 28, 30),

iii. Abscheiden einer vierten Vielzahl von im allgemeinen parallelen elektrisch leitenden Spuren (20, 22, 24) auf der vierten isolierenden Schicht (44) in einer in Bezug auf die Achse schrägen Richtung und im allgemeinen parallel zu der zweiten Richtung, wobei die Spuren der vierten Vielzahl von Spuren (20, 22, 24) eine ähnliche Länge wie die Länge der Spuren der ersten Vielzahl von Spuren (14,16,18) aufweisen.

18. Verfahren nach Anspruch 17, wobei ein Ende von mindestens einer der Spuren der dritten Vielzahl von Spuren (32, 34) ein Ende einer Spur der zweiten Vielzahl von Spuren (26, 28, 30) überlagert und ein Ende von mindestens einer der Spuren der vierten Vielzahl von Spuren (20, 22, 24) ein Ende einer Spur der ersten Vielzahl von Spuren (14, 16, 18) überlagert und weiterhin ein Ende von mindestens einer der Spuren (20) der vierten Vielzahl von Spuren (20, 22, 24) ein Ende einer Spur (26) der zweiten Vielzahl von Spuren (26, 28, 30), uberlagert, wobei der Schritt zum Zusammenschalten umfaßt: elektrisches Verbinden jedes überlagernden Endes mit dem entsprechenden darunter liegenden Ende, wodurch zum Bilden des solenoidalen Spulenpaares eine erste Spule die Spuren der ersten und der vierten Vielzahl von Spuren (14-24) umfaßt und die zweite Spule die Spuren der zweiten und dritten Vielzahl von Spuren (26-32) umfaßt und die erste und zweite Spule in dem Bereich des distalen Kopfendes in Reihe zusammengeschaltet werden, um für die Umströmung des Erregerstromes rund um den Polschuh herum einen Strompfad von dem proximalen Fußende zu dem Bereich des distalen Kopfendes und zurück zu dem proximalen Fußende bereitzustellen.

19. Verfahren nach Anspruch 15, wobei die Durchkontakte (48-62) unter Verwendung von Laserstrahlen hergestellt werden und die ersten und zweiten Spurenabschnitte (14-34) reflektierend und die ersten und zweiten isolierenden Schichten (40, 42) nicht reflektierend bei den Wellenlängen der Laserstrahlen sind und der Verfahrensschritt der Herstellung der Durchkontakte umfaßt:

A. Positionieren einer reflektierenden Maske über den Bereichen, an denen die Durchkontakte (48-62) gebildet werden, wobei die Maske bei Bereichen, an denen die Durchkontakte auf dem Spurenabschnitt zu bilden sind, Öffnungen definiert.

B. Bestrahlen der Maske mit den Laserstrahlen, um isolierendes Material zu entfernen, das durch die Öffnungen bestrahlt wird, um selektive Punkte der Spurenabschnitte so freizulegen, daß, wenn das isolierende Material, das durch die Öffnungen bestrahlt wird, ausreichend entfernt ist, um den Spurenabschnitt freizulegen, der Spurenabschnitt die Laserstrahlen stoppt, um dadurch Aussparungen zu bilden und

C. Abscheiden von leitendem Material in den Aussparungen.

20. Verfahren nach Anspruch 12, wobei der erste Spurensatz (14, 16, 18) abgeschieden wird , um in einer ersten in Bezug auf die Achse schrägen Richtung angeordnet zu werden und der zweite Spurensatz (20, 22, 24) in einer zweiten in Bezug auf die Achse unterschiedlichen schrägen Richtung so abgeschieden wird, daß sich Enden der Spuren des zweiten Satzes mit Enden der Spuren des ersten Satzes überlagern und wobei es weiterhin die Schritte umfaßt:

Abscheiden einer dritten isolierenden Schicht (38) über dem ersten Spurensatz und Abscheiden eines dritten Satzes elektrisch leitender Spuren (26, 28, 30) in der zweiten schrägen Richtung zwischen der dritten isolierenden Schicht (38) und dem Polschuh (12), wobei der dritte Spurensatz so abgeschieden wird, daß ein Ende von einem der Spuren (26) des dritten Satzes (26, 28, 30) durch ein Ende von einem der Spuren des zweiten Satzes (20) überlagert wird,

Abscheiden einer vierten elektrisch isolierenden Schicht (44) über dem Polschuh und Abscheiden eines vierten Satzes von elektrisch leitenden Spuren (32, 34) in der ersten schrägen Richtung zwischen der vierten isolierenden Schicht (44) und der zweiten isolierenden Schicht (42), wobei der vierte Spurensatz so abgeschieden wird, daß sich Enden der Spuren des vierten Satzes mit Enden der Spuren des dritten Satzes (26, 28, 30) überlagern und

Anwenden von Laserstrahlen, um Durchkontakte (48-66) zwischen den entsprechenden sich überlagernden Enden der Spuren herzustellen und elektrisches Verbinden der entsprechenden sich überlagernden Enden, um das Spulenpaar zu bilden, wobei eine der Spulen die Spuren des ersten und zweiten Spurensatzes umfaßt und die andere der Spulen die Spuren des dritten und vierten Spurensatzes umfaßt.

21. Verfahren nach Anspruch 12, 15 oder 20, das weiterhin ein Abscheiden eines zweiten Polschuhs angrenzend an zumindest einen Polschuh (12) und isoliert von den Spuren umfaßt.

22. Verfahren nach Anspruch 21, das weiterhin ein elektrisches Verbinden eines proximalen Fußendes von dem zumindest einen Polschuh mit einem proximalen Fußende des zweiten Polschuhs umfaßt.

23. Verfahren nach Anspruch 21, das weiterhin ein Beabstanden eines distalen Kopfendes des zumindest einen Polschuhs eng zu einem distalen Kopfende des zweiten Polschuhs relativ zu einem Abstand zwischen dem proximalen Fußende des zumindest einen Polschuhs und des proximalen Endes des zweiten Polschuhs umfaßt.