JPH0149159B2 - - Google Patents
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Description
本発明は一般式()
(式中R1およびR2は水素原子または低級アル
キル基を示す)で表わされるピリドベンズオキサ
ジン誘導体およびその塩ならびにそれらの製造法
に関する。 本発明の一般式()で表わされる化合物およ
びその塩は緑膿菌を含むグラム陰性菌およびグラ
ム陽性菌に対して強い抗菌作用を示し、それ自身
医薬品としての使用が期待できるばかりでなく、
一般式() (式中R1およびR2は前記と同じ)で表わされ
る医薬として有用なピリドベンズオキサジン誘導
体(特開昭57−46986号公報)の合成中間体とし
てもきわめて重要な化合物である。 一般式()で表わされる化合物の製造法は上
記の公報に記載されたものがあり、この方法は
2,3,4−トリフルオロニトロベンゼンを出発
原料としているが、この原料を工業的に製造する
ことは非常に困難である。すなわち、2,3,4
−トリフルオロニトロベンゼンは、2,6−ジク
ロルアニリンをジアゾニウムテトラフルオロボレ
ートとしたのち熱分解して(シーマン
(Schiemann)反応)、1,3−ジクロル−2−
フルオロベンゼンを製し(Rec.trav Chem.,75
186(1956))次いでこれをニトロ化したのちフツ
化カリウムと反応させて製造する方法(J.Am,
Chem Soc.,8194(1959))が知られている。 しかしながらこの方法はジアゾニウム塩の熱分
解が250〜260℃の高温を要し、また廃ガス、反応
装置およびその材質等を考慮すると工業的製法と
は云えず、またフツ化カリウムによる置換反応も
収率が低いという欠点を有する。 また、一般にベンゼン環へのフツ素の導入法と
してはシーマン反応、ハロゲン交換反応、電解
法、金属多フツ化物(CoF3,KCoF4,XeF2等)
の利用および直接フツ素化等が知られているが、
工業的に位置選択的にフツ素を導入することは非
常に困難である。このため芳香環へのフツ素原子
の導入工程は工業的には必要最小限にすることが
望ましい。 そこで、一般式()で表わされる化合物の製
造法として、フツ素原子の替りに塩素原子とピペ
ラジン類を置換させる方法が考えられるが、10−
クロル−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3
−de〕〔1,4〕ベンズオキサジン−6−カルボ
ン酸またはそのBF2−キレート類をピペラジン類
と反応させるとフツ素原子との置換が選択的に起
り、目的とする化合物は得られない。 そこで本発明者らはこれらの欠点を改善すべく
鋭意検討した結果、8位にクロル原子をもつ一般
式() (R2は前記と同じ)で表わされる化合物と一
般式() (R1は前記と同じ)で表わされる化合物を反応
させると、ピペラジン類と10位クロル原子との置
換が選択的に起るとともにキレートの分解した一
般式()で表わされる化合物が高収率で得ら
れ、かつ一般式()で表わされる化合物はパラ
ジウム−炭素等の触媒存在下接触還元することに
より容易に脱クロル化させて一般式()で表わ
される化合物に変換できることを見出し、本発明
を完成した。 すなわち本発明は、一般式()で表わされる
ピリドベンズオキサジン誘導体に関するものであ
り、また、一般式()で表わされる化合物と一
般式()で表わされるピペラジン類を反応させ
て一般式()で表わされる化合物を製造する方
法に関するものである。 原料化合物()は、2,3,4,5−テトラ
クロルニトロベンゼンを米国特許3294629号に記
載された方法で処理して3,5−ジクロル−2,
4−ジフルオロニトロベンゼンとなし、このもの
を特開昭57−46986号公報に記載された方法で処
理して6,8−ジクロル−7−フルオロ−2,3
−ジヒドロ−3−メチル−4H−1,4−ベンズ
オキサジンを製し、さらにこのものをジアルキル
エトキシメチレンマロネートおよび三フツ化ホウ
素で処理することにより製造することができる。 本発明の反応は、脱酸剤の存在下、無溶媒でま
たは溶媒中で原料化合物(と)を加熱するこ
とにより行なわれ、脱酸剤としてはトリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン等の三級アミ
ン類、アルカリ金属の水酸化物もしくは炭酸塩等
が用いられるが、この他にも、原料のピペラジン
類を過剰に用いて脱酸剤とすることも可能であ
る。 溶媒としては、極性非プロトン系溶媒、例えば
ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド等が適当であり、原料化合
物()の1部に対して3〜15部用いるのが普通
である。また、脱酸剤もしくはピペラジン類
()が液体の場合にはこれらを過剰に用いて溶
媒を兼ねさせてもよい。 反応温度は、通常80〜150℃が適当であり、1
〜10時間で目的物を製することができ、脱酸剤
(過剰のピペラジン類()の場合も同じ)は、
副成する塩化水素およびBF2−キレート分解物の
除去に有用である。なお、脱酸剤の量を少なめに
するか、反応時間を調整してピペラジン類()
の置換反応の段階で反応を止め、中間体()を
取得することも可能である。 ただし、通常はこの中間体の一部のもののキレ
ート部分は分解して目的物が生成しており、これ
らは特に分離する必要もなく混合物として取得し
キレート分解反応を行なえばよく、二段階に分け
て反応を行なうと後処理や純度の点で有利なこと
もある。キレート分解反応は、前半の反応と同じ
く脱酸剤の存在下80〜150℃に1〜10時間加熱す
るのが普通であるが、脱酸剤は必ずしも必要では
なく(生成物は塩の型で得られる)、むしろプロ
トン性化合物(水、アルコール類もしくは原料の
ピペラジン類())の存在下行なうのが適当で
ある。ただし、プロトン性化合物を特に加えない
でも反応が進むことがあるがこれは用いられる溶
媒が微量の水分を含有していたり、空気中の水分
が吸収されて利用されるためと考えられる。しか
し、通常はプロトン性化合物を加える方が有利な
ことが多い。さらに、後処理の点も考え合せる
と、キレート分解反応の際水、アルコール類等の
プロトン性化合物を加えておくと反応後目的物が
析出してくるので便利である。この後処理のため
には、アセトンのような溶媒も同様に使用するこ
とができる。 本発明の化合物は、パラジウム−炭素、ラネ−
ニツケル等の触媒の存在下還元することにより8
位を脱クロル化し、特開昭57−46986号公報に記
載された化合物に導くこともできる。 本発明の化合物()は、試験管内抗菌試験に
おいて次表に示す如く優れた抗菌活性を示した。
抗菌スペクトル、最小発育阻止濃度(MIC,μ
g/ml) ミユラーヒントンブイヨン培地 接種菌量 106/ml 培養条件 37℃,18時間
キル基を示す)で表わされるピリドベンズオキサ
ジン誘導体およびその塩ならびにそれらの製造法
に関する。 本発明の一般式()で表わされる化合物およ
びその塩は緑膿菌を含むグラム陰性菌およびグラ
ム陽性菌に対して強い抗菌作用を示し、それ自身
医薬品としての使用が期待できるばかりでなく、
一般式() (式中R1およびR2は前記と同じ)で表わされ
る医薬として有用なピリドベンズオキサジン誘導
体(特開昭57−46986号公報)の合成中間体とし
てもきわめて重要な化合物である。 一般式()で表わされる化合物の製造法は上
記の公報に記載されたものがあり、この方法は
2,3,4−トリフルオロニトロベンゼンを出発
原料としているが、この原料を工業的に製造する
ことは非常に困難である。すなわち、2,3,4
−トリフルオロニトロベンゼンは、2,6−ジク
ロルアニリンをジアゾニウムテトラフルオロボレ
ートとしたのち熱分解して(シーマン
(Schiemann)反応)、1,3−ジクロル−2−
フルオロベンゼンを製し(Rec.trav Chem.,75
186(1956))次いでこれをニトロ化したのちフツ
化カリウムと反応させて製造する方法(J.Am,
Chem Soc.,8194(1959))が知られている。 しかしながらこの方法はジアゾニウム塩の熱分
解が250〜260℃の高温を要し、また廃ガス、反応
装置およびその材質等を考慮すると工業的製法と
は云えず、またフツ化カリウムによる置換反応も
収率が低いという欠点を有する。 また、一般にベンゼン環へのフツ素の導入法と
してはシーマン反応、ハロゲン交換反応、電解
法、金属多フツ化物(CoF3,KCoF4,XeF2等)
の利用および直接フツ素化等が知られているが、
工業的に位置選択的にフツ素を導入することは非
常に困難である。このため芳香環へのフツ素原子
の導入工程は工業的には必要最小限にすることが
望ましい。 そこで、一般式()で表わされる化合物の製
造法として、フツ素原子の替りに塩素原子とピペ
ラジン類を置換させる方法が考えられるが、10−
クロル−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3
−de〕〔1,4〕ベンズオキサジン−6−カルボ
ン酸またはそのBF2−キレート類をピペラジン類
と反応させるとフツ素原子との置換が選択的に起
り、目的とする化合物は得られない。 そこで本発明者らはこれらの欠点を改善すべく
鋭意検討した結果、8位にクロル原子をもつ一般
式() (R2は前記と同じ)で表わされる化合物と一
般式() (R1は前記と同じ)で表わされる化合物を反応
させると、ピペラジン類と10位クロル原子との置
換が選択的に起るとともにキレートの分解した一
般式()で表わされる化合物が高収率で得ら
れ、かつ一般式()で表わされる化合物はパラ
ジウム−炭素等の触媒存在下接触還元することに
より容易に脱クロル化させて一般式()で表わ
される化合物に変換できることを見出し、本発明
を完成した。 すなわち本発明は、一般式()で表わされる
ピリドベンズオキサジン誘導体に関するものであ
り、また、一般式()で表わされる化合物と一
般式()で表わされるピペラジン類を反応させ
て一般式()で表わされる化合物を製造する方
法に関するものである。 原料化合物()は、2,3,4,5−テトラ
クロルニトロベンゼンを米国特許3294629号に記
載された方法で処理して3,5−ジクロル−2,
4−ジフルオロニトロベンゼンとなし、このもの
を特開昭57−46986号公報に記載された方法で処
理して6,8−ジクロル−7−フルオロ−2,3
−ジヒドロ−3−メチル−4H−1,4−ベンズ
オキサジンを製し、さらにこのものをジアルキル
エトキシメチレンマロネートおよび三フツ化ホウ
素で処理することにより製造することができる。 本発明の反応は、脱酸剤の存在下、無溶媒でま
たは溶媒中で原料化合物(と)を加熱するこ
とにより行なわれ、脱酸剤としてはトリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジン等の三級アミ
ン類、アルカリ金属の水酸化物もしくは炭酸塩等
が用いられるが、この他にも、原料のピペラジン
類を過剰に用いて脱酸剤とすることも可能であ
る。 溶媒としては、極性非プロトン系溶媒、例えば
ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド等が適当であり、原料化合
物()の1部に対して3〜15部用いるのが普通
である。また、脱酸剤もしくはピペラジン類
()が液体の場合にはこれらを過剰に用いて溶
媒を兼ねさせてもよい。 反応温度は、通常80〜150℃が適当であり、1
〜10時間で目的物を製することができ、脱酸剤
(過剰のピペラジン類()の場合も同じ)は、
副成する塩化水素およびBF2−キレート分解物の
除去に有用である。なお、脱酸剤の量を少なめに
するか、反応時間を調整してピペラジン類()
の置換反応の段階で反応を止め、中間体()を
取得することも可能である。 ただし、通常はこの中間体の一部のもののキレ
ート部分は分解して目的物が生成しており、これ
らは特に分離する必要もなく混合物として取得し
キレート分解反応を行なえばよく、二段階に分け
て反応を行なうと後処理や純度の点で有利なこと
もある。キレート分解反応は、前半の反応と同じ
く脱酸剤の存在下80〜150℃に1〜10時間加熱す
るのが普通であるが、脱酸剤は必ずしも必要では
なく(生成物は塩の型で得られる)、むしろプロ
トン性化合物(水、アルコール類もしくは原料の
ピペラジン類())の存在下行なうのが適当で
ある。ただし、プロトン性化合物を特に加えない
でも反応が進むことがあるがこれは用いられる溶
媒が微量の水分を含有していたり、空気中の水分
が吸収されて利用されるためと考えられる。しか
し、通常はプロトン性化合物を加える方が有利な
ことが多い。さらに、後処理の点も考え合せる
と、キレート分解反応の際水、アルコール類等の
プロトン性化合物を加えておくと反応後目的物が
析出してくるので便利である。この後処理のため
には、アセトンのような溶媒も同様に使用するこ
とができる。 本発明の化合物は、パラジウム−炭素、ラネ−
ニツケル等の触媒の存在下還元することにより8
位を脱クロル化し、特開昭57−46986号公報に記
載された化合物に導くこともできる。 本発明の化合物()は、試験管内抗菌試験に
おいて次表に示す如く優れた抗菌活性を示した。
抗菌スペクトル、最小発育阻止濃度(MIC,μ
g/ml) ミユラーヒントンブイヨン培地 接種菌量 106/ml 培養条件 37℃,18時間
【表】
実施例 1
8,10−ジクロル−9−フルオロ−3−メチル
−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
〔1,2,3−de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン
−6−カルボン酸−BF2キレート500mg,N−メ
チルピペラジン400mg及びジメチルスルホキシド
2.5mlの混液を110℃で4時間反応させる。反応終
了後、反応液に水2mlを加え撹拌、冷却すると結
晶が析出する。析出晶を濾取し水で洗浄すると8
−クロル−9−フルオロ−3−メチル−10−(4
−メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−de〕
〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
391mg(収率75%)が得られた。融点253〜256℃
(分解)。 元素分析値 C18H19ClFN3O4・1/2H2Oとして 計算値 C53.41,H49.8,N10.38 実測値 C53.39,H4.84,N10.35 NMR(CF3CO2H):δ(ppm) 1.78(3H,d,C−CH3) 3.20(3H,d,N−CH3)
−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
〔1,2,3−de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン
−6−カルボン酸−BF2キレート500mg,N−メ
チルピペラジン400mg及びジメチルスルホキシド
2.5mlの混液を110℃で4時間反応させる。反応終
了後、反応液に水2mlを加え撹拌、冷却すると結
晶が析出する。析出晶を濾取し水で洗浄すると8
−クロル−9−フルオロ−3−メチル−10−(4
−メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−de〕
〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
391mg(収率75%)が得られた。融点253〜256℃
(分解)。 元素分析値 C18H19ClFN3O4・1/2H2Oとして 計算値 C53.41,H49.8,N10.38 実測値 C53.39,H4.84,N10.35 NMR(CF3CO2H):δ(ppm) 1.78(3H,d,C−CH3) 3.20(3H,d,N−CH3)
【式】
4.67(2H,br,−CH2−)
5.1 (1H,m,C3−H)
9.23(1H,s,C5−H)
Mass:M+395
実施例 2
8,10−ジクロル−9−フルオロ−3−メチル
−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
〔1,2,3−de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン
−6−カルボン酸−BF2キレート2.0g,N−メ
チルピペラジン1.58g及びジメチルスルホキシド
10mlの混液を110℃で2時間反応させる。次いで
トリエチルアミン1.07g、メタノール30mlおよび
水10mlの混液を加え、更に110℃で4時間撹拌す
る。冷後、析出晶を濾取し水で洗浄すると8−ク
ロル−9−フルオロ−3−メチル−10−(4−メ
チル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−2,3
−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−de〕
〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
1.79g(86%)が得られる。融点253〜256℃(分
解)。 実施例 3 8,10−ジクロル−9−フルオロ−3−メチル
−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
〔1,2,3−de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン
−6−カルボン酸−BF2キレート3.6g,N−メ
チルピペラジン2.85gおよびジメチルスルホキシ
ド18mlの混液を110℃で2時間反応させる。冷後、
水18mlを加え析出晶を濾取する(目的物()と
BF2−キレート体()の混合物。BF2−キレー
ト体の融点は248〜252℃(分解)、元素分析値
C18H18N3O4ClF3B・1/2H2Oとして、計算値 C47.77,H4.23,N9.28,実測値C47.90,H4.15,
N8.95)。 次いで、この析出晶をトリエチルアミン1.92
g、メタノール51mlおよび3mlの混液と110℃で
4時間撹拌し、反応させる。冷後、析出晶を濾取
し、冷含水メタノールで洗浄し、8−クロル−9
−フルオロ−3−メチル−10−(4−メチル−1
−ピペラジニル)−7−オキソ−2,3−ジヒド
ロ−7H−ピリド〔1,2,3−de〕〔1,4〕−
ベンズオキサジン−6−カルボン酸2.94g(78.4
%)を得る。 参考例1:原料の製法 2,3,4,5−テトラクロルニトロベンゼン
260.9gをジメチルスルホキシド520mlに溶解後、
フツ化カリウム232gを加え、130℃で2.5時間撹
拌する。次いで水酸化カリウム112gを水370mlに
溶かした溶液を10〜20℃で加え室温で3時間撹拌
する。反応混合物に水を加えジクロルメタンで抽
出する。水層は濃塩酸でPH2としたのち、ジクロ
ルメタンで抽出、水洗する。溶媒を留去し、水蒸
気蒸留で精製すると融点35.5〜36.5℃の2,4−
ジクロル−3−フルオロ−6−ニトロフエノール
100.2gが得られる。 元素分析値 C6H2ClFNO3として 計算値 C31.89,H0.89,N6.20 実測値 C31.65,H0.89,N6.32 上記化合物15.0gをアセトン150mlに溶解後炭
酸カリウム5.50gおよびヨウ化カリウム1.10gを
加え室温下30分間撹拌したのち、クロルアセトン
7.89gを加え還流下17時間反応させる。冷後、析
出塩を濾取したのち溶媒を留去する。残渣をジク
ロルメタンで抽出する。抽出液を水洗し、乾燥し
たのち溶媒を留去すると油状物として2−アセト
ニルオキシ−3,5−ジクロル−4−フルオロニ
トロベンゼン18.9gを得る。 NMR(CDCl3):δ(ppm) 2.37(3H,s,−CH3) 4.77(2H,s,−CH2−) 8.00(1H,d,J=7Hz,C5−H) 元素分析値 C9H6Cl2FNO4として 計算値 C38.33,H2.14,N4.97 実測値 C37.97,H2.25,N4.63 上記化合物18.9gをエタノール280mlに溶解し、
ラネイ−ニツケル22mlを加えて常圧接触還元す
る。触媒を濾去し、溶媒を留去したのち残渣をジ
クロルメタンで抽出する。ジクロルメタン層を水
洗し、乾燥したのち溶媒を留去すると融点79〜82
℃の6,8−ジクロル−7−フルオロ−3−メチ
ル−2,3−ジヒドロ−4H−1,4−ベンズオ
キサジン14.1gを得る。 元素分析値 C9H18Cl2FNOとして 計算値 C45.79,H3.42,N5.93 実測値 C45.61,H3.46,N5.53 上記化合物4.72gにジメチルエトキシメチレン
マロネート6.49gを加え、140℃で5時間撹拌す
る。反応混合物を室温まで冷却し、ダウサムA9
mlおよび三フツ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体
3.36gを加え、これを予め230℃まで加熱したダ
ウサムA20ml中に滴下する。滴下終了後更に20分
間230℃に保つ。反応液を100℃まで冷却後ジクロ
ルエタン8mlを加え、更に室温まで冷却すると結
晶が析出する。析出晶を濾取し、ジクロルエタン
およびメタノールで充分に洗浄すると8,10−ジ
クロル−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3
−de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カル
ボン酸−BF2−キレート5.91gが得られた。融点
300℃以上(分解) 元素分析値 C13H7BCl2F3NO4として 計算値 C41.10,H1.86,N3.69 実測値 C41.23,H1.96,N3.47 参考例2:脱クロル反応 8−クロル−9−フルオロ−3−メチル−10−
(4−メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−
de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボ
ン酸1.4gを酢酸70mlに溶解後5%パラジウム−
炭素2.1gを加え常圧下接触還元を行う。反応終
了後、触媒を濾去したのち溶媒を留去する。残渣
に水を加え、炭酸水素ナトリウムでPH7〜8とし
たのちクロロホルムで抽出する。クロロホルム層
を水洗し、乾燥後シリカゲルカラムを通して精製
すると、9−フルオロ−3−メチル−10−(4−
メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−de〕
〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
0.95gが得られる。融点254〜256℃(分解)。
−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
〔1,2,3−de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン
−6−カルボン酸−BF2キレート2.0g,N−メ
チルピペラジン1.58g及びジメチルスルホキシド
10mlの混液を110℃で2時間反応させる。次いで
トリエチルアミン1.07g、メタノール30mlおよび
水10mlの混液を加え、更に110℃で4時間撹拌す
る。冷後、析出晶を濾取し水で洗浄すると8−ク
ロル−9−フルオロ−3−メチル−10−(4−メ
チル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−2,3
−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−de〕
〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
1.79g(86%)が得られる。融点253〜256℃(分
解)。 実施例 3 8,10−ジクロル−9−フルオロ−3−メチル
−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
〔1,2,3−de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン
−6−カルボン酸−BF2キレート3.6g,N−メ
チルピペラジン2.85gおよびジメチルスルホキシ
ド18mlの混液を110℃で2時間反応させる。冷後、
水18mlを加え析出晶を濾取する(目的物()と
BF2−キレート体()の混合物。BF2−キレー
ト体の融点は248〜252℃(分解)、元素分析値
C18H18N3O4ClF3B・1/2H2Oとして、計算値 C47.77,H4.23,N9.28,実測値C47.90,H4.15,
N8.95)。 次いで、この析出晶をトリエチルアミン1.92
g、メタノール51mlおよび3mlの混液と110℃で
4時間撹拌し、反応させる。冷後、析出晶を濾取
し、冷含水メタノールで洗浄し、8−クロル−9
−フルオロ−3−メチル−10−(4−メチル−1
−ピペラジニル)−7−オキソ−2,3−ジヒド
ロ−7H−ピリド〔1,2,3−de〕〔1,4〕−
ベンズオキサジン−6−カルボン酸2.94g(78.4
%)を得る。 参考例1:原料の製法 2,3,4,5−テトラクロルニトロベンゼン
260.9gをジメチルスルホキシド520mlに溶解後、
フツ化カリウム232gを加え、130℃で2.5時間撹
拌する。次いで水酸化カリウム112gを水370mlに
溶かした溶液を10〜20℃で加え室温で3時間撹拌
する。反応混合物に水を加えジクロルメタンで抽
出する。水層は濃塩酸でPH2としたのち、ジクロ
ルメタンで抽出、水洗する。溶媒を留去し、水蒸
気蒸留で精製すると融点35.5〜36.5℃の2,4−
ジクロル−3−フルオロ−6−ニトロフエノール
100.2gが得られる。 元素分析値 C6H2ClFNO3として 計算値 C31.89,H0.89,N6.20 実測値 C31.65,H0.89,N6.32 上記化合物15.0gをアセトン150mlに溶解後炭
酸カリウム5.50gおよびヨウ化カリウム1.10gを
加え室温下30分間撹拌したのち、クロルアセトン
7.89gを加え還流下17時間反応させる。冷後、析
出塩を濾取したのち溶媒を留去する。残渣をジク
ロルメタンで抽出する。抽出液を水洗し、乾燥し
たのち溶媒を留去すると油状物として2−アセト
ニルオキシ−3,5−ジクロル−4−フルオロニ
トロベンゼン18.9gを得る。 NMR(CDCl3):δ(ppm) 2.37(3H,s,−CH3) 4.77(2H,s,−CH2−) 8.00(1H,d,J=7Hz,C5−H) 元素分析値 C9H6Cl2FNO4として 計算値 C38.33,H2.14,N4.97 実測値 C37.97,H2.25,N4.63 上記化合物18.9gをエタノール280mlに溶解し、
ラネイ−ニツケル22mlを加えて常圧接触還元す
る。触媒を濾去し、溶媒を留去したのち残渣をジ
クロルメタンで抽出する。ジクロルメタン層を水
洗し、乾燥したのち溶媒を留去すると融点79〜82
℃の6,8−ジクロル−7−フルオロ−3−メチ
ル−2,3−ジヒドロ−4H−1,4−ベンズオ
キサジン14.1gを得る。 元素分析値 C9H18Cl2FNOとして 計算値 C45.79,H3.42,N5.93 実測値 C45.61,H3.46,N5.53 上記化合物4.72gにジメチルエトキシメチレン
マロネート6.49gを加え、140℃で5時間撹拌す
る。反応混合物を室温まで冷却し、ダウサムA9
mlおよび三フツ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体
3.36gを加え、これを予め230℃まで加熱したダ
ウサムA20ml中に滴下する。滴下終了後更に20分
間230℃に保つ。反応液を100℃まで冷却後ジクロ
ルエタン8mlを加え、更に室温まで冷却すると結
晶が析出する。析出晶を濾取し、ジクロルエタン
およびメタノールで充分に洗浄すると8,10−ジ
クロル−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ
−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3
−de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カル
ボン酸−BF2−キレート5.91gが得られた。融点
300℃以上(分解) 元素分析値 C13H7BCl2F3NO4として 計算値 C41.10,H1.86,N3.69 実測値 C41.23,H1.96,N3.47 参考例2:脱クロル反応 8−クロル−9−フルオロ−3−メチル−10−
(4−メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−
2,3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−
de〕〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボ
ン酸1.4gを酢酸70mlに溶解後5%パラジウム−
炭素2.1gを加え常圧下接触還元を行う。反応終
了後、触媒を濾去したのち溶媒を留去する。残渣
に水を加え、炭酸水素ナトリウムでPH7〜8とし
たのちクロロホルムで抽出する。クロロホルム層
を水洗し、乾燥後シリカゲルカラムを通して精製
すると、9−フルオロ−3−メチル−10−(4−
メチル−1−ピペラジニル)−7−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド〔1,2,3−de〕
〔1,4〕−ベンズオキサジン−6−カルボン酸
0.95gが得られる。融点254〜256℃(分解)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中R1およびR2は水素原子または低級アル
キル基を示す)で表わされるピリドベンズオキサ
ジン誘導体およびその塩。 2 特許請求の範囲第1項においてR1およびR2
がメチル基である化合物。 3 一般式 (式中R2は水素原子又は低級アルキル基を示
す)で表わされるキレート化合物を一般式 (式中R1は水素原子または低級アルキル基を
示す)で表わされるピペラジン類と反応させるこ
とを特徴とする一般式 (式中R1およびR2は前記と同じ)で表わされ
るピリドベンズオキサジン誘導体およびその塩の
製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9235082A JPS58210092A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | ピリドベンズオキサジン誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9235082A JPS58210092A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | ピリドベンズオキサジン誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58210092A JPS58210092A (ja) | 1983-12-07 |
JPH0149159B2 true JPH0149159B2 (ja) | 1989-10-23 |
Family
ID=14051951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9235082A Granted JPS58210092A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | ピリドベンズオキサジン誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58210092A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3881939T2 (de) * | 1987-02-26 | 1993-09-30 | Rohto Pharma | Verwendung von Ofloxacin zur lokalen Behandlung oder Prophylaxe von Beschwerden der Wurzelhaut der Zähne. |
US5286723A (en) * | 1988-08-31 | 1994-02-15 | Daiichi Seiyaku Co., Ltd. | Spiro compound |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50108298A (ja) * | 1974-02-11 | 1975-08-26 | ||
JPS5746986A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-17 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | Pyrido(1,2,3-de)(1,4)benzoxazine derivative |
-
1982
- 1982-05-31 JP JP9235082A patent/JPS58210092A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50108298A (ja) * | 1974-02-11 | 1975-08-26 | ||
JPS5746986A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-17 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | Pyrido(1,2,3-de)(1,4)benzoxazine derivative |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58210092A (ja) | 1983-12-07 |
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