JPS63264468A - 光学活性ベンゾオキサジン - Google Patents
光学活性ベンゾオキサジンInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は光学活性な3−アルキル−3,4−ジヒドロ−
28−[1,4]ベンゾオキサジン誘導体及びその製法
に関する。
28−[1,4]ベンゾオキサジン誘導体及びその製法
に関する。
〈従来の技術〉
従来、化合物CI)
(I) (IS)
(式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を 11は炭素数1〜6のアルキル基を意味
する。)の光学異性体のうちの3S−アルキル体(Is
)の製法としては化合物(I)をプロリルベンゾオキサ
ジン誘導体に変換して光学分割する方法(欧州特許出願
公開第206283号公報参照)、さらに不斉加水分解
酵素による方法(特開昭62−87577号公報参照)
がある。しかし前者は、3S−アルキルベンゾオキサジ
ン誘導体由来のプロリルベンゾオキサジン誘導体の分m
M製が煩雑であり、後者は酵素を用いるため大量合成法
としては不適当である。
ロゲン原子を 11は炭素数1〜6のアルキル基を意味
する。)の光学異性体のうちの3S−アルキル体(Is
)の製法としては化合物(I)をプロリルベンゾオキサ
ジン誘導体に変換して光学分割する方法(欧州特許出願
公開第206283号公報参照)、さらに不斉加水分解
酵素による方法(特開昭62−87577号公報参照)
がある。しかし前者は、3S−アルキルベンゾオキサジ
ン誘導体由来のプロリルベンゾオキサジン誘導体の分m
M製が煩雑であり、後者は酵素を用いるため大量合成法
としては不適当である。
〈発明の構成〉
本発明は、3S−アルキル−3,4−ジヒドロ−2ト[
1,4]ベンゾオキサジン誘導体及びその製造法に関す
る。すなわち、式 (式中、X、Y、Zは各々独立して水、素原子もしくは
ハロゲン原子を、R+は炭素数1〜6のアルキル基を意
味する。)で表わされる化合物の光学活性体および、前
記式中、Xが水素原子、Y及びZはいずれもフッ素原子
、R+がメチル基である光学活体に関し、また、式、 (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を、R1は炭素a1〜6のアルキル基を意味
する。)で表わされる化合物および、前記式中、Xが水
素原子、Y及びZはいずれもフッ素原子、R1がメチル
基である化合物に関しざらに式 (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくけハ
ロゲン原子を、R′は炭素数1〜6のアルキル基を意味
する。)で表わされる化合物さらに、前記式中、Xが水
素原子、Y及びZがいずれもフッ素原子、R1がメチル
基である化合物に関し、また式 (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を、R1は炭素数1〜6のアルキル基を意味
する。)で表わされる化合物を不斉水素化アシルオキシ
ホウ素アルカリ金属で処理して式 (式中、X、Y、Z、R’は前記の定義に同じである。
1,4]ベンゾオキサジン誘導体及びその製造法に関す
る。すなわち、式 (式中、X、Y、Zは各々独立して水、素原子もしくは
ハロゲン原子を、R+は炭素数1〜6のアルキル基を意
味する。)で表わされる化合物の光学活性体および、前
記式中、Xが水素原子、Y及びZはいずれもフッ素原子
、R+がメチル基である光学活体に関し、また、式、 (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を、R1は炭素a1〜6のアルキル基を意味
する。)で表わされる化合物および、前記式中、Xが水
素原子、Y及びZはいずれもフッ素原子、R1がメチル
基である化合物に関しざらに式 (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくけハ
ロゲン原子を、R′は炭素数1〜6のアルキル基を意味
する。)で表わされる化合物さらに、前記式中、Xが水
素原子、Y及びZがいずれもフッ素原子、R1がメチル
基である化合物に関し、また式 (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を、R1は炭素数1〜6のアルキル基を意味
する。)で表わされる化合物を不斉水素化アシルオキシ
ホウ素アルカリ金属で処理して式 (式中、X、Y、Z、R’は前記の定義に同じである。
)で表わされる化合物の光学活性体を生成させることを
特徴とする光学活性ベンゾオキサジン話導体の製法、お
よび前記式中、光学活性化合物が3S−アルキル体であ
る光学活性ベンゾオキサジン誘導体の製法に関し、そし
て前記式中、Xが水素原子、Y及びZはいずれもフッ素
原子、R1がメチル基である光学活性ベンゾオキサジン
誘導体の製法に関する。
特徴とする光学活性ベンゾオキサジン話導体の製法、お
よび前記式中、光学活性化合物が3S−アルキル体であ
る光学活性ベンゾオキサジン誘導体の製法に関し、そし
て前記式中、Xが水素原子、Y及びZはいずれもフッ素
原子、R1がメチル基である光学活性ベンゾオキサジン
誘導体の製法に関する。
得られる3S−アルキルベンゾオキサジン誘導体は強い
抗菌活性を有する化合物、例えば、S−(−) −9−
フルオロ−3−メチル−10−(4−メチル−1−ピペ
ラジニル)−7−オキソ −2.3−ジヒドロ −7H
−ピリド−[1、2、3−de] [1、4]ベンゾオ
キサジン−6−カルボン酸(特開昭62−87577号
公報参照)の製造中間体として有用である。
抗菌活性を有する化合物、例えば、S−(−) −9−
フルオロ−3−メチル−10−(4−メチル−1−ピペ
ラジニル)−7−オキソ −2.3−ジヒドロ −7H
−ピリド−[1、2、3−de] [1、4]ベンゾオ
キサジン−6−カルボン酸(特開昭62−87577号
公報参照)の製造中間体として有用である。
本発明を以下に例を示して詳細に説明する。
すなわち、本発明は一般式(II)
(!■)
(式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を R1は炭素数1〜6のアルキル基を意味
する。)で表わされる化合物を、不斉水素化アシルオキ
シホウ素アルカリ金属(■■)にて不斉還元して光学活
性な化合物(rs)を得るものである。この不斉水素化
アシルオキシホウ素アルカリ金属(III )とは、式 %式%) で表わすことかできる物質であるとして文献(有機合成
化学協会誌見、 (5)、 451−456(1983
))に説明されている。詳しくは、式中、 Mはリチウ
ム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属であり、n
は1.2または、3を意味する。Rに00はカルボン酸
残基であり、例えば酢酸、プロピオン酸、クロロ酢酸、
安息香酸等の残基あるいは式(式中、R2、R3は各々
独立して水素原子またはメチル、エチル、イソプロピル
等の炭素数1〜6のアルキル基を、またベンジル、置換
ベンジル(ここでいう置換とは例えば、炭素数1〜6の
アルキル基、ニトロ基、ハロゲン原子、炭素数1〜6の
アルコキシ基等で置換されていることを意味し、複数種
、複数個でもよい。以下、同様である)、フェネチル、
置換フェネチル等のアラルキル基を意味し、またR2と
R3で式 −((:)12) m−(mは2.3または
4)のメチレン鎖を意味することもある。
ロゲン原子を R1は炭素数1〜6のアルキル基を意味
する。)で表わされる化合物を、不斉水素化アシルオキ
シホウ素アルカリ金属(■■)にて不斉還元して光学活
性な化合物(rs)を得るものである。この不斉水素化
アシルオキシホウ素アルカリ金属(III )とは、式 %式%) で表わすことかできる物質であるとして文献(有機合成
化学協会誌見、 (5)、 451−456(1983
))に説明されている。詳しくは、式中、 Mはリチウ
ム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属であり、n
は1.2または、3を意味する。Rに00はカルボン酸
残基であり、例えば酢酸、プロピオン酸、クロロ酢酸、
安息香酸等の残基あるいは式(式中、R2、R3は各々
独立して水素原子またはメチル、エチル、イソプロピル
等の炭素数1〜6のアルキル基を、またベンジル、置換
ベンジル(ここでいう置換とは例えば、炭素数1〜6の
アルキル基、ニトロ基、ハロゲン原子、炭素数1〜6の
アルコキシ基等で置換されていることを意味し、複数種
、複数個でもよい。以下、同様である)、フェネチル、
置換フェネチル等のアラルキル基を意味し、またR2と
R3で式 −((:)12) m−(mは2.3または
4)のメチレン鎖を意味することもある。
R4はメチル、エチル等の炭素数1〜6のアルキル基を
、またフェニル、置換フェニル等のアリール基を、また
メトキシ、エトキシ等の炭素数1〜6のアルコキシ基を
、そしてベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ等のアラ
ルキルオキシ基を意味する)で表わされるカルボン酸残
基である。
、またフェニル、置換フェニル等のアリール基を、また
メトキシ、エトキシ等の炭素数1〜6のアルコキシ基を
、そしてベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ等のアラ
ルキルオキシ基を意味する)で表わされるカルボン酸残
基である。
このカルボン酸残基(RCOO)としては (5)−ア
ミノ酸、特にN−アシル−(S)−アミノ酸が好ましく
、(S)−N−アシルプロリンが最も好ましい。より具
体的な化合物としては、上記文献453頁に記載のある
様に、リチウム ボロハイドライドとN−ベンジルオキ
シカルボニル−(S)−プロリンをテトラハイドロフラ
ン中で反応させて得たリチウムトリス[(S)−N−ベ
ンジルオキシカルボニルプロリルオキシ]ハイドロボレ
ート(mp: 55〜65℃(分解))、またN−イソ
ブチルオキシカルボニル−(S)−プロリンから同様に
して得たリチウム トリス−[(S)−N−インブチル
オキシカルボニルプロリルオキシ]パイドロボレートを
挙げることができる。
ミノ酸、特にN−アシル−(S)−アミノ酸が好ましく
、(S)−N−アシルプロリンが最も好ましい。より具
体的な化合物としては、上記文献453頁に記載のある
様に、リチウム ボロハイドライドとN−ベンジルオキ
シカルボニル−(S)−プロリンをテトラハイドロフラ
ン中で反応させて得たリチウムトリス[(S)−N−ベ
ンジルオキシカルボニルプロリルオキシ]ハイドロボレ
ート(mp: 55〜65℃(分解))、またN−イソ
ブチルオキシカルボニル−(S)−プロリンから同様に
して得たリチウム トリス−[(S)−N−インブチル
オキシカルボニルプロリルオキシ]パイドロボレートを
挙げることができる。
還元剤中のカルボン酸残基(RCOO)の数は1〜3の
範囲であるが、文献に示される様にこれが3の時に還元
生成物の光学純度が最も高くなることから、この数は3
が好ましい。
範囲であるが、文献に示される様にこれが3の時に還元
生成物の光学純度が最も高くなることから、この数は3
が好ましい。
還元剤と化合物(n)との使用割合は、化合物(II)
に対して1〜5倍当量の範囲で十分であるが、2.5倍
当量を用いるのがよい。
に対して1〜5倍当量の範囲で十分であるが、2.5倍
当量を用いるのがよい。
還元の溶媒は反応に不活性ならば特に限定はないが例え
ば、エーテル、1.2−ジメトキシエタン、アセトニト
リル、トルエン、酢酸エチル、ジクロルメタン、1.1
−ジクロルエタン、1,2−ジクロルエタン、1,1.
2.2−テトラクロロエタン、1,1,2.2−テトラ
クロロエチレン等を使用することでき、特にハロゲン化
炭化水素が好ましい。溶媒の使用量は化合物(!i)に
対して5〜50倍の範囲で使用されるが、特に5〜20
倍の範囲が好ましい。
ば、エーテル、1.2−ジメトキシエタン、アセトニト
リル、トルエン、酢酸エチル、ジクロルメタン、1.1
−ジクロルエタン、1,2−ジクロルエタン、1,1.
2.2−テトラクロロエタン、1,1,2.2−テトラ
クロロエチレン等を使用することでき、特にハロゲン化
炭化水素が好ましい。溶媒の使用量は化合物(!i)に
対して5〜50倍の範囲で使用されるが、特に5〜20
倍の範囲が好ましい。
反応は、上記溶媒中にて化合物H)を原料とし、不斉水
素化アシルオキシホウ素アルキル金属(III )を加
えて不斉還元を行なうことにより、目的とする光学活性
体を高い不斉収率で得ることができる。この際、反応時
間は10分から48時間の範囲が適当である。
素化アシルオキシホウ素アルキル金属(III )を加
えて不斉還元を行なうことにより、目的とする光学活性
体を高い不斉収率で得ることができる。この際、反応時
間は10分から48時間の範囲が適当である。
反応温度は一60℃から60℃、好ましくは一45℃〜
20℃であり、原料の消失をTLC等でチェックして反
応の終了を知ることができる。
20℃であり、原料の消失をTLC等でチェックして反
応の終了を知ることができる。
次に、本発明の構成と効果を実施例によって具体的に説
明するが、本発明はこの実施例のみに限定されるもので
はない。
明するが、本発明はこの実施例のみに限定されるもので
はない。
キシ)−3,4−ジフルオロニトロベンゼン (2)3
.4−ジフルオロ−2−(2−ケトプロピルオキシ)ニ
トロベンゼン (1) 4.6gに無水ベンゼン601
Ill、エチレングリコール1.5gおよび触媒量のパ
ラトルエンスルホン酸を加え、生成する水を分離しつつ
18時間加熱還流した。今後、飽和炭酸水素ナトリウム
溶液で2回、水で1回洗浄後乾燥した。溶媒を減圧留去
し、残留物をシリカゲル80gを用いたカラムクロマト
に付し、クロロホルム溶出部より淡黄色油状物として化
合物 (2) 5gを得た。
.4−ジフルオロ−2−(2−ケトプロピルオキシ)ニ
トロベンゼン (1) 4.6gに無水ベンゼン601
Ill、エチレングリコール1.5gおよび触媒量のパ
ラトルエンスルホン酸を加え、生成する水を分離しつつ
18時間加熱還流した。今後、飽和炭酸水素ナトリウム
溶液で2回、水で1回洗浄後乾燥した。溶媒を減圧留去
し、残留物をシリカゲル80gを用いたカラムクロマト
に付し、クロロホルム溶出部より淡黄色油状物として化
合物 (2) 5gを得た。
’H−NMR(CDCIs) δppm:1.50(
3H,S、−C!i3) 、4.00(4H,s、−0
(!2c!120−) 。
3H,S、−C!i3) 、4.00(4H,s、−0
(!2c!120−) 。
4.16(2)1.AB−q、J−10,5Hz、−C
ji2G )7.0 (IH,ddd、J−10,5
Hz、9)1z、8Hz、芳香族ブ叶ン)。
ji2G )7.0 (IH,ddd、J−10,5
Hz、9)1z、8Hz、芳香族ブ叶ン)。
7.68 (IH,ddd、J−9,5Hz、5.5H
z、3Hz、芳香族ブ叶ン)キシ−3,4−ジフルオロ
アニリン (3)上記ニトロ体(2) 1.6gに無水
エタノール70m1、銚バラジクム炭素(50七含水)
2.0gを加え、常温常圧で接触還元した。終了後触
媒を濾去し、溶媒を留去して化合物 (3)を油状物と
して1.3g得た。
z、3Hz、芳香族ブ叶ン)キシ−3,4−ジフルオロ
アニリン (3)上記ニトロ体(2) 1.6gに無水
エタノール70m1、銚バラジクム炭素(50七含水)
2.0gを加え、常温常圧で接触還元した。終了後触
媒を濾去し、溶媒を留去して化合物 (3)を油状物と
して1.3g得た。
’H−NMR(CDCh) δppm:1.50(3
H,s、−Cji3) 、3.96(2H,s、O−(
:ji2−C)。
H,s、−Cji3) 、3.96(2H,s、O−(
:ji2−C)。
4.04(4H,S、−0(Hj2CH20−) 。
3.8〜4.2 (2H,br、m、NHz) 。
8.36 (IH,ddd、J−9,5Hx、5.5H
x、3Hz、芳香族ブ叶ン)。
x、3Hz、芳香族ブ叶ン)。
6.70 (IH,ddd、J=11Hz、9.5Hz
、9Hz、 芳香族プロトン)化合物 (3) 1.
81gに3S%塩酸9mlを加え、70〜80℃で1分
間撹拌した。この反応液を氷冷し、水冷した2896ア
ンモニア水14.5ml中にゆっくり滴下した。析出す
る化合物 (4)を10m1のジクロロメタンで3回抽
出し、抽出液を飽和食塩水5mlで洗浄して無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し結晶性残留物
として化合物 (4)を得た。
、9Hz、 芳香族プロトン)化合物 (3) 1.
81gに3S%塩酸9mlを加え、70〜80℃で1分
間撹拌した。この反応液を氷冷し、水冷した2896ア
ンモニア水14.5ml中にゆっくり滴下した。析出す
る化合物 (4)を10m1のジクロロメタンで3回抽
出し、抽出液を飽和食塩水5mlで洗浄して無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し結晶性残留物
として化合物 (4)を得た。
融点: 51.2℃(メトラー社製、FP−61型自動
融点計にて測定。昇温速度:毎分1℃)。
融点計にて測定。昇温速度:毎分1℃)。
元素分析: CJ7F2NOとして
計算値 C59,02H3,85N 7.85実測値
C58,91)1 3.89 N 7.49マス
スペクトル: m/Z−183(M”)水素化ホウ素ナ
トリウムとN−イソブチルオキシカルボニル−(S)−
プロリンとから調製したトリス [(S)−N−イソブ
チルオキシカルボニルブロリルオキシコハイドロボレー
ト 15.5gを無水ジクロロメタン30m1に溶解し
て一42℃に冷却し、上記の方法で得た化合物 (4)
を無水ジクロロメタン15m1に溶解した溶液を窒素気
流下に加えると、内温は一34℃迄上昇した。反応液を
−40〜−5℃で40分撹拌した後、596クエン酸水
溶液、1鴎炭酸ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した
。このジクロロメタン溶液を高速液体クロマトグラフィ
ーで定量すると標題化合物(5)を1.2945g含有
していた。
C58,91)1 3.89 N 7.49マス
スペクトル: m/Z−183(M”)水素化ホウ素ナ
トリウムとN−イソブチルオキシカルボニル−(S)−
プロリンとから調製したトリス [(S)−N−イソブ
チルオキシカルボニルブロリルオキシコハイドロボレー
ト 15.5gを無水ジクロロメタン30m1に溶解し
て一42℃に冷却し、上記の方法で得た化合物 (4)
を無水ジクロロメタン15m1に溶解した溶液を窒素気
流下に加えると、内温は一34℃迄上昇した。反応液を
−40〜−5℃で40分撹拌した後、596クエン酸水
溶液、1鴎炭酸ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した
。このジクロロメタン溶液を高速液体クロマトグラフィ
ーで定量すると標題化合物(5)を1.2945g含有
していた。
カラム: YMC−PackOA−312005溶媒ニ
アセトニトリル−水(5: 3)速度:毎分1ml 実施例2に記載されている方法にて3S−メチル体と3
8−メチル体の生成比を測定するとS : R−2
1,3: 1.00であった(9194ee)。
アセトニトリル−水(5: 3)速度:毎分1ml 実施例2に記載されている方法にて3S−メチル体と3
8−メチル体の生成比を測定するとS : R−2
1,3: 1.00であった(9194ee)。
上記アニリン(3) 1.3gをベンゼン30m1.2
N塩酸30m1に加え2時間還流し、今後、水層が中性
になるまで炭酸水素ナトリウムを加え、ベンゼンで3回
抽出後、抽出液を水洗して乾燥した。溶媒留去後、化合
物 (4)の粗生成物を黄色油状物として0.97g得
た。
N塩酸30m1に加え2時間還流し、今後、水層が中性
になるまで炭酸水素ナトリウムを加え、ベンゼンで3回
抽出後、抽出液を水洗して乾燥した。溶媒留去後、化合
物 (4)の粗生成物を黄色油状物として0.97g得
た。
IR; 1/::二’(cm−’):1660(C−
N)’)I−NMR(CDC13) δppm:2.
16(3H,s、−C84) 、4.60(2H,s、
OC!2−) 。
N)’)I−NMR(CDC13) δppm:2.
16(3H,s、−C84) 、4.60(2H,s、
OC!2−) 。
[i、26 (IH,ddd、J−9Hz、5Hz、3
Hz、C5−H) 。
Hz、C5−H) 。
8.5−6.8(IH,山、 (:a−H)文献(T、
Iwakuma、に、Yamada、and M、Ta
keda有機合成化学協会誌、 41,453(198
3))の方法に従って水素化ホウ素ナトリウムと N−
ベンジルオキシカルボニル−(S)−プロリンより得た
ソジウム トリス[(S)−N−ペンジルオキシカルボ
ニルブロリルオキシ]ハイドロボレート 3.7gの無
水ジクロルメタン30m1溶液に、化合物(4) 25
0mgの無水ジクロルメタン溶液15m1を約10分で
滴下し、室温で24時間撹拌した。反応後、反応液を飽
和炭酸水素ナトリウム溶液、次いで水で洗浄し、芒硝乾
燥した。溶媒留去後、残漬をシリカゲル40gを用いた
カラムクロマトグラフィーに付し、クロロポルム溶出部
として標題化合物 (5) 150mgの淡黄色油状物
を得た。このもののTLCのRf値と ’H−NMRス
ペクトルデータはラセミ体のそれと完全に一致した(1
. Hayakawa at al、、 (t+em、
Pharm、 Bull、。
Iwakuma、に、Yamada、and M、Ta
keda有機合成化学協会誌、 41,453(198
3))の方法に従って水素化ホウ素ナトリウムと N−
ベンジルオキシカルボニル−(S)−プロリンより得た
ソジウム トリス[(S)−N−ペンジルオキシカルボ
ニルブロリルオキシ]ハイドロボレート 3.7gの無
水ジクロルメタン30m1溶液に、化合物(4) 25
0mgの無水ジクロルメタン溶液15m1を約10分で
滴下し、室温で24時間撹拌した。反応後、反応液を飽
和炭酸水素ナトリウム溶液、次いで水で洗浄し、芒硝乾
燥した。溶媒留去後、残漬をシリカゲル40gを用いた
カラムクロマトグラフィーに付し、クロロポルム溶出部
として標題化合物 (5) 150mgの淡黄色油状物
を得た。このもののTLCのRf値と ’H−NMRス
ペクトルデータはラセミ体のそれと完全に一致した(1
. Hayakawa at al、、 (t+em、
Pharm、 Bull、。
32、4907(1984))。還元体の光学純度は次
の方法で決定した。化合物(5) 19.7mgをテト
ラヒドロフラン0.5mlに溶解して、ピリジン16.
4mg、3.5−ジニトロベンゾイルクロリド、54m
gを加え、30〜40℃で30分加温した後、この溶液
の一部をとり高速液体クロマトグラフィーを用い検定し
た(カラム: 0A−4200(住友化学) 4.6m
m x 250mm、溶媒:n−ヘキサン−1,2−ジ
クロルエタン−エタノール=10:0.9:0.1 、
流速i、omt/分J、 その結果、89:11(光学
純度ya96ee)で3S−アルキル体の方が多く得ら
れた。
の方法で決定した。化合物(5) 19.7mgをテト
ラヒドロフラン0.5mlに溶解して、ピリジン16.
4mg、3.5−ジニトロベンゾイルクロリド、54m
gを加え、30〜40℃で30分加温した後、この溶液
の一部をとり高速液体クロマトグラフィーを用い検定し
た(カラム: 0A−4200(住友化学) 4.6m
m x 250mm、溶媒:n−ヘキサン−1,2−ジ
クロルエタン−エタノール=10:0.9:0.1 、
流速i、omt/分J、 その結果、89:11(光学
純度ya96ee)で3S−アルキル体の方が多く得ら
れた。
参考例4:
(S)−N−バラトルエンスルホニルプロリン300m
gと塩化チオニルより製造した酸クロリドの乾燥ジクロ
ルメタン(5ml)溶液を実施例2で得た (S)−7
,8−ジフルオロ −2,3−ジヒドロ −3−メチル
−411−[1,4]ベンゾオキサジン150mg、ピ
リジン0.2mlの乾燥ジクロルメタン(5ml)溶液
に室温撹拌下、徐々に滴下し、室温で更に4時間撹拌し
た。反応液を10*塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシラ
ムで乾燥した。
gと塩化チオニルより製造した酸クロリドの乾燥ジクロ
ルメタン(5ml)溶液を実施例2で得た (S)−7
,8−ジフルオロ −2,3−ジヒドロ −3−メチル
−411−[1,4]ベンゾオキサジン150mg、ピ
リジン0.2mlの乾燥ジクロルメタン(5ml)溶液
に室温撹拌下、徐々に滴下し、室温で更に4時間撹拌し
た。反応液を10*塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシラ
ムで乾燥した。
ジクロルメタンを留去して得た油状残留物をシリカゲル
カラムクロマトに付し、ベンゼン−酢酸エチル(3:1
)にて溶出し、生成物を油状物として得た。この油状物
をエタノール2.5mlに溶解し、室温で一昼夜放置す
ると結晶が析出した。エタノールを留去して得た結晶に
、ジエチルエーテル及びn−ヘキサンを加えた後濾取し
、減圧乾燥すると 3S− (+) −7,8−ジフル
オロ −2,3−ジヒドロ −3−メチル−4−[(S
)−N−バラトルエンスルホニル]プロリル−48−[
1,4]ベンゾオキサジン270mgが得られた。融点
107〜108℃ このものの250mgをエタノール10m1に溶解して
IN水酸化ナトリウム溶液5mlを加え、3時間速流し
た。エタノールを留去して得た油状残留物をベンゼンで
抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄後芒硝乾燥し、ベ
ンゼンを留去した。残留物をシリカゲル200gのカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ベンゼンで溶出すると、
5−(−)−7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒドロ
−3−メチル−48−[1,4]ベンゾオキサジン (
5) loomgが油状物として得られた。
カラムクロマトに付し、ベンゼン−酢酸エチル(3:1
)にて溶出し、生成物を油状物として得た。この油状物
をエタノール2.5mlに溶解し、室温で一昼夜放置す
ると結晶が析出した。エタノールを留去して得た結晶に
、ジエチルエーテル及びn−ヘキサンを加えた後濾取し
、減圧乾燥すると 3S− (+) −7,8−ジフル
オロ −2,3−ジヒドロ −3−メチル−4−[(S
)−N−バラトルエンスルホニル]プロリル−48−[
1,4]ベンゾオキサジン270mgが得られた。融点
107〜108℃ このものの250mgをエタノール10m1に溶解して
IN水酸化ナトリウム溶液5mlを加え、3時間速流し
た。エタノールを留去して得た油状残留物をベンゼンで
抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄後芒硝乾燥し、ベ
ンゼンを留去した。残留物をシリカゲル200gのカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ベンゼンで溶出すると、
5−(−)−7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒドロ
−3−メチル−48−[1,4]ベンゾオキサジン (
5) loomgが油状物として得られた。
[αコ、−9.4°(c−1,50、クロロホルム)参
考例5: 5−(−)−7,8−ジフルオロ −3,4−ジヒドロ
−3−メチル−28−[1,4]ベンゾオキサジン1
00mgにエトキシメチレンマロン酸ジエチル160+
ngを加え、減圧下に130〜140℃で1時間撹拌し
た。今後1反応液を無水酢酸1.0mlに溶解し、水冷
撹拌下これに無水酢酸−濃硫酸(2:lv/v)混合液
1.6+nlを少量ずつ滴加した。室温で1時間撹拌後
、浴温50〜60℃で30分撹拌した。反応液に氷水を
加えた後、粉末の炭酸カリウムを加えて中和しクロロホ
ルムで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、次いで飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥した。クロロ
ホルムを減圧留去して残留物にジエチルエーテルを加え
て結晶を濾取し、(S) −(−) −7,8−ジフル
オロ−2,3−ジヒドロ−3−メチル−7−オキソ−7
H−ピリド [1,2,3−del [1,4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン酸エチルエステル125mg
が得られた。融点:257〜258℃、[α] o−6
8,1°(c−0,250,酢酸)。
考例5: 5−(−)−7,8−ジフルオロ −3,4−ジヒドロ
−3−メチル−28−[1,4]ベンゾオキサジン1
00mgにエトキシメチレンマロン酸ジエチル160+
ngを加え、減圧下に130〜140℃で1時間撹拌し
た。今後1反応液を無水酢酸1.0mlに溶解し、水冷
撹拌下これに無水酢酸−濃硫酸(2:lv/v)混合液
1.6+nlを少量ずつ滴加した。室温で1時間撹拌後
、浴温50〜60℃で30分撹拌した。反応液に氷水を
加えた後、粉末の炭酸カリウムを加えて中和しクロロホ
ルムで抽出した。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、次いで飽和食塩水で洗浄し、芒硝乾燥した。クロロ
ホルムを減圧留去して残留物にジエチルエーテルを加え
て結晶を濾取し、(S) −(−) −7,8−ジフル
オロ−2,3−ジヒドロ−3−メチル−7−オキソ−7
H−ピリド [1,2,3−del [1,4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン酸エチルエステル125mg
が得られた。融点:257〜258℃、[α] o−6
8,1°(c−0,250,酢酸)。
このエステル体120mgを酢酸2mlに溶解し、濃塩
酸3mlを加え3時間速流した。今後析出晶を濾取し、
水、エタノール、ジエチルエーテルで順次洗浄し乾燥す
ると 5−(−)−7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒ
ドロ −3−メチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,
2,3−del[1,4]ベンゾオキキシン−6−カル
ボン酸100mgが得られた。融点〉300℃ [αコ D −65,6°(C−0,985,DMS
O)このもの100m8をジエチルエーテル5mlに懸
濁し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックス
1.0mlを加え、室温で5時間撹拌した。上澄を保温
で除去し、残留物にジエチルエーテルを加えて濾取し、
ジエチルエーテルで洗浄して乾燥した。このものをジメ
チルスルホキシド2mlに溶解し、トリエチルアミン0
.2ml及びN−メチルピペラジン0.5mlを加え室
温で18時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残漬にジエ
チルエーテルを加え、濾取した黄色粉末を9596メタ
ノ一ル5mlに懸濁してトリエチルアミン1.0mlを
加え、25時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、残渣
を1鴎塩酸10m1に溶解し、クロロホルムで3回洗浄
後4N水酸化ナトリウム水溶液でp)Ill としてか
ら再びIN塩酸でpH7,3に調整してクロロホルム(
15ml X 3)で抽出、芒硝乾燥した。クロロホル
ムを留去し得られた結晶性固体をエタノール−ジエチル
エーテルより再結晶し、S−(−)−9−フルオロ−2
,3−ジヒドロ−3−メチル−10−(4−メチル−1
−ピペラジニル)−7−オキソ−7H−ピリド[1,2
,3−del [1,4]ベンゾオキサジン−6−カル
ボン酸83mgを得た。融点 226〜230℃(分解
)[α] o 76.90°(c−0,655,0,
05N NaOH)
酸3mlを加え3時間速流した。今後析出晶を濾取し、
水、エタノール、ジエチルエーテルで順次洗浄し乾燥す
ると 5−(−)−7,8−ジフルオロ−2,3−ジヒ
ドロ −3−メチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,
2,3−del[1,4]ベンゾオキキシン−6−カル
ボン酸100mgが得られた。融点〉300℃ [αコ D −65,6°(C−0,985,DMS
O)このもの100m8をジエチルエーテル5mlに懸
濁し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックス
1.0mlを加え、室温で5時間撹拌した。上澄を保温
で除去し、残留物にジエチルエーテルを加えて濾取し、
ジエチルエーテルで洗浄して乾燥した。このものをジメ
チルスルホキシド2mlに溶解し、トリエチルアミン0
.2ml及びN−メチルピペラジン0.5mlを加え室
温で18時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、残漬にジエ
チルエーテルを加え、濾取した黄色粉末を9596メタ
ノ一ル5mlに懸濁してトリエチルアミン1.0mlを
加え、25時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、残渣
を1鴎塩酸10m1に溶解し、クロロホルムで3回洗浄
後4N水酸化ナトリウム水溶液でp)Ill としてか
ら再びIN塩酸でpH7,3に調整してクロロホルム(
15ml X 3)で抽出、芒硝乾燥した。クロロホル
ムを留去し得られた結晶性固体をエタノール−ジエチル
エーテルより再結晶し、S−(−)−9−フルオロ−2
,3−ジヒドロ−3−メチル−10−(4−メチル−1
−ピペラジニル)−7−オキソ−7H−ピリド[1,2
,3−del [1,4]ベンゾオキサジン−6−カル
ボン酸83mgを得た。融点 226〜230℃(分解
)[α] o 76.90°(c−0,655,0,
05N NaOH)
Claims (9)
- (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を、R^1は炭素数1〜6のアルキル基を意
味する。)で表わされる化合物の光学活性体 - (2)前記式中、Xが水素原子、Y及びZはいずれもフ
ッ素原子、R^1がメチル基である特許請求の範囲第一
項記載の化合物 - (3)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を、R^1は炭素数1〜6のアルキル基を意
味する。)で表わされる化合物 - (4)前記式中、Xが水素原子、Y及びZはいずれもフ
ッ素原子、R^1がメチル基である特許請求の範囲第三
項記載の化合物 - (5)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を、R^1は炭素数1〜6のアルキル基を意
味する。)で表わされる化合物 - (6)前記式中、Xが水素原子、Y及びZはいずれもフ
ッ素原子、R^1がメチル基である特許請求の範囲第五
項記載の化合物 - (7)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X、Y、Zは各々独立して水素原子もしくはハ
ロゲン原子を、R^1は炭素数1〜6のアルキル基を意
味する。)で表わされる化合物を不斉水素化アシルオキ
シホウ素アルカリ金属で処理して式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X、Y、Z、R^1は前記の定義に同じである
。)で表わされる化合物の光学活性体を生成させること
を特徴とする光学活性ベンゾオキサジン誘導体の製法 - (8)前記式中、光学活性体が3S−アルキル体である
特許請求の範囲第七項記載の光学活性ベンゾオキサジン
誘導体の製法 - (9)前記式中、Xが水素原子、Y及びZはいずれもフ
ッ素原子、R^1がメチル基である特許請求の範囲第八
項記載の光学活性ベンゾオキサジン誘導体の製法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62327824A JP2573269B2 (ja) | 1986-12-25 | 1987-12-24 | 光学活性ベンゾオキサジン |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31409586 | 1986-12-25 | ||
JP61-314095 | 1986-12-25 | ||
JP62327824A JP2573269B2 (ja) | 1986-12-25 | 1987-12-24 | 光学活性ベンゾオキサジン |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63264468A true JPS63264468A (ja) | 1988-11-01 |
JP2573269B2 JP2573269B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=26567817
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62327824A Expired - Lifetime JP2573269B2 (ja) | 1986-12-25 | 1987-12-24 | 光学活性ベンゾオキサジン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2573269B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100684081B1 (ko) * | 2000-09-26 | 2007-02-16 | 일동제약주식회사 | 광학 활성 3,4-디하이드로벤즈옥사진 유도체의 제조방법 |
WO2013168642A1 (ja) * | 2012-05-08 | 2013-11-14 | 石原産業株式会社 | 置換安息香酸化合物の製造方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2746926B2 (ja) | 1987-08-03 | 1998-05-06 | 第一製薬株式会社 | ベンゾオキサジン誘導体の製法 |
EP2284174B1 (en) | 1999-09-08 | 2014-03-05 | Daiichi Sankyo Company, Limited | Intermediates for the preparation of benzoxazine derivatives and process for their preparation |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61246172A (ja) * | 1985-08-27 | 1986-11-01 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | ベンゾオキサジニルマロン酸誘導体 |
JPS61246171A (ja) * | 1985-08-27 | 1986-11-01 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | ベンゾオキサジン誘導体 |
-
1987
- 1987-12-24 JP JP62327824A patent/JP2573269B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61246172A (ja) * | 1985-08-27 | 1986-11-01 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | ベンゾオキサジニルマロン酸誘導体 |
JPS61246171A (ja) * | 1985-08-27 | 1986-11-01 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | ベンゾオキサジン誘導体 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100684081B1 (ko) * | 2000-09-26 | 2007-02-16 | 일동제약주식회사 | 광학 활성 3,4-디하이드로벤즈옥사진 유도체의 제조방법 |
WO2013168642A1 (ja) * | 2012-05-08 | 2013-11-14 | 石原産業株式会社 | 置換安息香酸化合物の製造方法 |
JPWO2013168642A1 (ja) * | 2012-05-08 | 2016-01-07 | 石原産業株式会社 | 置換安息香酸化合物の製造方法 |
US9580401B2 (en) | 2012-05-08 | 2017-02-28 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | Method for producing a substituted benzoic acid compound |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2573269B2 (ja) | 1997-01-22 |
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