JPH0146493B2 - - Google Patents

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JPH0146493B2
JPH0146493B2 JP53156992A JP15699278A JPH0146493B2 JP H0146493 B2 JPH0146493 B2 JP H0146493B2 JP 53156992 A JP53156992 A JP 53156992A JP 15699278 A JP15699278 A JP 15699278A JP H0146493 B2 JPH0146493 B2 JP H0146493B2
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tetrahydro
propenyl
naphthyl
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Rerigaa Peetaa
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F Hoffmann La Roche AG
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明はスチルベン誘導体に関する。更に詳し
くは、本発明はスチルベン誘導体、その製造方法
及びそれを含有する製薬学的製剤に関する。 本発明により提供されるスチルベン誘導体は一
般式 式中、ｎは１または２を表わし、そしてｎが１
を表わす場合には、R1及びR2は水素又は低級ア
ルコキシを表わし、或いはｎが２を表わす場合に
は、R1は水素又は低級アルコキシを表わし且つ
R2は水素を表わし；R3，R4，R5及びR6は水素又
は低級アルキルを表わし；R7は水素、メチル又
はエチルを表わし；R8及びR9は水素又は低級ア
ルキルを表わし；そしてR10は式―（CH＝CH19）
nR11の基を表わし、ここにｍは０又は１を表わ
し、そしてR11は式
【式】もしくは
【式】もしくは
【式】の基又は４， ４―ジメチル―２―オキサゾリニル基を表わす
か、或いはｍが１を表わす場合にはさらに水素で
あつてもよく、R1 2は水素又は低級アルキルを表
わし、；R13は水素、低級アルキル又は―OR14を
表わし、R14は水素、低級アルキル又はアルカノ
イルを表わし、R15は水素、低級アルキル又は―
OR16もしくは―Ｎ（R17，R18）の基を表わし；
R16水素、低級アルキル、ヒドロキシ―（低級ア
ルキル）ベンジル、ニトロベンジル、又はジエチ
ルアミノエチルを表わし；R17及びR18は水素又
は低級アルキルを表わすか、或いはR17及びR18
はそれらが結合している窒素原子と一緒になつて
モルホリノ基を表わし；R19は水素又は低級アル
キルを表わし；そしてR20は低級アルキレンジオ
キシを表わす、 の化合物及び式の化合物の塩である。 本明細書において使用する「低級」なる用語
は、それによつて形容された基が６個までの炭素
原子を含有することを意味する。 アルキル及びアルコキシ基は直鎖状又は分岐鎖
状であることができ、アルキル基の例はメチル、
エチル、イソプロピル及び２―メチルプロピル基
であり、アルコキシ基の例はメトキシ、エトキシ
及びイソプロキシ基である。アルカノイル基は、
たとえば、酢酸、プロピオン酸又はピバリン酸或
いはまた20個までの炭素原子を含有する高級カル
ボン酸（たとえば、パルミチン酸又はステアリン
酸）から誘導される。 前記式の化合物の好ましいものは、ｎが１を
表わす場合には、R1及びR2は水素又は低級アル
コキシを表わし、或いはｎが２を表わす場合に
は、R1が水素又は低級アルコキシを表わし且つ
R2が水素を表わし；R3，R4，R5及びR6が水素又
は低級アルキルを表わし；R7が水素、メチル又
はエチルを表わし；R8及びR9が水素又は低級ア
ルキルを表わし；そしてR10がヒドロキシルメチ
ル、アルコキシメチル、アルカノイルオキシメチ
ルル、カルボキシル、アルコキシカルボニル、ホ
ルミル、アルキレンジオキシメチル、アルカノイ
ル、モノ（低級アルキル）カルバモイル、ジ（低
級）カルバモイル、モルホリノカルバモイル又は
４，４―ジメチル―２―オキサゾリニルを表わす
場合の化合物からなる。更に、R1，R2，R5，
R6，R8及びR9が水素を表わしそしてR3，R4及び
R7がメチルを表わす場合の式の化合物が好適
であり、同様にｎが２を表わす場合の式の化合
物が好ましい。更に好ましい群の式の化合物
は、特にｍが０を表わし且つ更にR11が低級アル
コキシカルボニル、低級アルキルカルバモイル、
低級アルコキシメチル又は低級アルカノイルオキ
シメチルを表わす場合に、R10が式―（CH＝
CH）nR11の基を表わす場合の化合物からなる。 本発明によつて提供される方法に従えば、前記
したスチルベン誘導体（即ち、式の化合物及び
その塩）は一般式 の化合物を一般式 上記式（）及び（）において、R1，R2，
R3，R4，R5，R6，R8，R9，R10及びｎは前記し
た意味を有し、そしてＡは式
【式】のトリアリールホスホニ ウムアルキル基を表わし、ここにＲは水素原子又
はメチルもしくはエチル基を表わし、Ｑはアリー
ル基を表わし、Ｙは有機又は無機酸のアニオンを
表わし、そしてＢはホルミル基を表わすか；或い
はＡはホルミル、アセチル又はプロピオニル基を
表わし、そしてＢは式のジアルコキシホスフイニ
ルアルキル基を表わし、Ｒは前記した意味を有
し、そしてＺは低級アルコキシ基を表わす、 の化合物と反応させて式の化合物を得、そして
所望により、基R10を官能的に変性することによ
り製造される。 上記トリアリールホスホニウムアルキル基にお
けるＱにより示されるアリール基はすべての一般
的に知られたアリール基を包含するが、特に単核
アリール基、たとえばフエニル、低級アルキル置
換フエニル又はアルコキシ置換フエニル（たとえ
ば、トリル、キシリル、メチル及びｐ―メトキシ
フエニル）を包含する。Ｙによつて示される無機
酸アニオンの中では、クロライド、ブロマイド及
び硫酸水素イオンが好ましく、そして有機酸アニ
オンの中では、トシルオキシイオンが好ましい。 前記したジアルコキシホスフイニルアルキル基
においてＺによつて示されるアルコキシ基は好ま
しくは低級アルコキシ基（即ち、１〜６個の炭素
原子を含有するアルコキシ基、たとえばメトキシ
及びエトキシ基）である。 式の出発原料は、それらの製造が知られてい
ないか又は後記しない限り、既知の方法に従つて
又は後記の方法と同様な方法において製造するこ
とができる。 Ａがホルミル、アセチル又はプロピオニル基を
表わし、そしてR1及びR2が水素を表わす場合の
式の化合物〔式のオキソ化合物物〕は、たと
えば、式の所望の化合物に対応するシクロペン
テン環において置換されているインダン誘導体、
又は式の所望の化合物に対応するシクロヘキセ
ン環において置換されているテトラヒドロナフタ
レン誘導体を、アシル化に付することによつて製
造することができる。このアシル化はたとえばル
イス酸の存在下に行なうことができる。 適当なアシル化剤は、ホルムアルデヒド／塩化
水素酸、ハロゲン化アセチル（たとえば塩化アセ
チル）及びハロゲン化プロピオニル（たとえば塩
化プロピオニル）である。好ましいルイス酸は、
ハロゲン化アルミニウム、たとえば三塩化アルミ
ニニウムである。該アシル化は溶媒中例えばニト
ロベンゼン又は塩化メチレンの如き塩素化炭化水
素、中で都合良く実施される。該アシル化は０℃
〜約＋５℃の温度で行なうのが好ましい。 R1及びR2が各々水素原子を表わす場合の式
の得られるオキソ化合物を、本発明に従つて、Ｂ
がジアルコキシホスフイニルアルキル基を表わす
場合の式のホスホネートと反応させて、R1及
びR2が各々水素原子を表わす場合の式の化合
物を得る。 Ａが、Ｂがオキソ基を表わす場合の式のアル
デヒドとの反応に必要な１―（トリアリールホス
ホニウム）―（メチル又はエチル又はピロピル）
基を表わす場合の式のホスホニウム塩は、たと
えば下記の如くして製造することができる： R1及びR2が水素を表わす場合の式の前記し
たオキソ化合物は、錯金属水素化物（Complex
metal hydride）（たとえばアルカノール中の水
素化ホウ素ナトリウム、又はエーテル、テトラヒ
ドロフランもしくはジオキサン中の水素化アルミ
ニウムリチウム）を使用して約０℃〜約＋５℃で
還元されて対応するアルコールを与える。得られ
るアルコールは次いで、通常のハロゲン化剤（た
とえばオキシ塩化リン又は三臭化リン）を使用し
てアミン塩基（たとえばピリジン）の存在下にハ
ロゲン化する。得られるハロゲン化物を次に、溶
媒中のトリアリールホスフイン、好ましくはトル
エン又はキシレン中のトリフエニルホスフインと
反応させて所望の式のホスホニウム塩が得られ
る。 R1及びR2がアルコキシ又はハロゲンを表わす
場合の式のオキソ化合物及びホスホニウム塩
は、たとえば対応するフエノールを、アルキル化
剤（たとえば酸試薬の存在下に低級アルキルハラ
イド又は低級アルカノール）による処理によつ
て、それ自体公知の方法において、式の対応す
るアルコキシ―置換誘導体に転化することによつ
て製造することができる。 前記したフエノールはたとえば下記の如くして
得ることができる： R1及びR2が水素を表わす場合の式のオキソ
化合物は、濃硝酸及び濃硫酸の混合物による処理
によつてニトロ化される。ホルミル、アセチル又
はプロピオニル基に対してオルト位置に優先的に
導入されるニトロ基は、それ自体公知の方法で
（たとえばラネーニツケルを使用して）接触還元
するとアミノ基になり、このアミノ基は公知方法
においてジアゾニウム塩を介してヒドロキシ基に
より置換される。 上記アミンから製造されるジアゾニウム塩をハ
ロゲン化銅（）で加温状態で処理すると、式
（）のオキソ化合物の対応するハロ誘導体が得
られる。該ハロ誘導体を硝酸で処理することによ
つて、ホルミル、アセチル又はプロピオニル基に
対してメタ位置にニトロ基を導入することが可能
であり、このニトロ基は前記した方法にてヒドロ
キシル基又はハロゲン原子により同様に置換され
得る。ヒドロキシ基をアルコキシ基に転化するこ
とにより、所望に応じて、同様な又は混合置換を
行なう式のケトンを得ることができる。 芳香族に存在するハロゲン原子は、所望によ
り、それ自体公知の方法による還元によつて除去
することができる。 Ｂがホルミル基を表わす場合の式の化合物
は、Chem.Berichten102（1969）、第2502〜2507頁
に記載の方法により、１―位置がニトロ置換され
ているフエニル誘導体から製造することができ
る。それらは対応するｐ―カルボキシ置換フエニ
ル誘導体を還元することによつて製造することも
できる。ホルミル基へのカルボキシ基の還元は、
たとえば、水素化ジイソブチルアルミニウムを使
用して行なうことができる。 Ｂがジアルコキシホスフイニルメチル基を表わ
す場合の式の化合物は、Ｂがホルミル基を表わ
す場合の式の前記化合物から、該ホルミ基を金
属水素化物（たとえば水素化ホウ素ナトリウム）
を使用してヒドロキシメチル基に転化し、該ヒド
ロキシメチル基を通常のハロゲン化剤（たとえば
三塩化リン）を使用してハロゲン化し、そして得
られるハロメチル基をトリアルキルホスフアイ
ト、特にトリエチルホスフアイトと反応させて式
の所望のホスホネートを得ることにより製造す
ることができる。 Ｂがホルミル又はジアルコキシホスフイニルメ
チル基を表す場合の式の化合物は、１―位置に
おいてメチル置換されている対応するフエニル誘
導体をハロゲン化し、そして得られるハロメチル
誘導体をトリアルキルホスフアイトと反応させる
か又は該ハロメチル誘導体を加水分解してヒドロ
キシメチル誘導体とし、そして後者を酸化剤（た
とえば二酸化マンガン）による処理により酸化す
ることによつて製造することができる。 本発明によつて提供される方法に従う式の化
合物と式の化合物との反応は、ヴイチツヒ
（Wittig）反応又はホルナー（Horner）反応の既
知の方法に従つて行なうことができる。出発物質
としてはR10が特にホルミル基の如きホスホラン
に対して反応性をもたない基を表わす場合の式
の化合物を使用するのが好ましい。 また、本発明によつて提供される方法に従え
ば、基R10の官能性変性は、たとえば、塩、エス
テル、アミド、オキサリン誘導体又はその後にエ
ーテル化もしくはエステル化し得るヒドロキシメ
チル基へのカルボキシル基の転化を包含する。該
官能的変性はカルボン酸エステルのケン化又はヒ
ドロキシメチル基へのそれらの還元からなる。ヒ
ドロキシメチル基はホルミル基に酸化することも
できる。ホルミル基を含有する式の化合物は、
たとえば、ヴイチツヒ反応によつて、R10が式―
（CH＝CR19）nR11の基を表わし、ｍが１を表わ
し、R19が水素又はアルキルを表わしそしてR11
がアルコキシメチル、アルカノイルオキシメチ
ル、カルボキシル、アルコキシカルボニル又はア
ルキルを表わす場合の式の化合物に転化するこ
とができる。これらの官能的変性はいずれもそれ
自体公知の方法に従つて行なうことができる。 ヴイチツヒ反応の場合には、出発物質は酸結合
剤の存在下に、たとえば、ブチルリチウム、水素
化ナトリウム又はジメチルスルホキシドのナトリ
ウム塩の如き強塩基の存在下に、しかし好ましく
は、低級アルキル基によつて適宜に置換されてい
てもよいエチレンオキシド、例えば１，２―ブチ
レンオキシドの存在下に、所望により、溶媒（た
とえば、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフラ
ンの如きエーテル又はベンゼンの如き芳香族炭化
水素）中で室温乃至反応混合物の沸点間の温度で
相互に反応させる。 ホルナー反応の場合に、出発物質は塩基の存在
下且つ好ましくは不活性有機溶媒の存在下に、た
とえば、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン又は１，
２―ジメトキシアルカン中の水化ナトリウムの存
在下又はアルカノール中のナトリウムアルコレー
ト（たとえばメタノール中のナトリウムメチラー
ト）の存在下に、０℃乃至反応混合物の沸点間の
温度にて相互に反応させる。 或る場合にはその場で前記反応を行なうこと、
即ち問題のホスホニウム塩又はホスホネートを、
それを製造するための媒体から単離することな
く、出発物質を相互に反応させることが好都合で
あることが見出された。 式のカルボン酸はそれ自体公知の方法で（た
とえば、好ましくはピリジン中での塩化チオニル
による処理、又はトルエン中の三塩化リンによる
処理によつて）酸クロライドに転化することがで
き、これはアルコールとの反応によりエステル
に、又はアミンとの反応により対応するアミドに
転化することができる。アミドはそれ自体公知の
方法で、たとえば水素化アルミニウムリチウムの
如き錯金属水素化物による還元によつてアミンに
転化することができる。 式のカルボン酸エステルは、それ自体公知の
方法で（たとえばアルカリによる処理によつて、
特に水性―アルコール性水酸化ナトリウム又は水
酸化カリウムによる処理によつて）、室温乃至混
合物の沸点間の温度で加水分解することができ、
次いで得られるカルボン酸は、前記した如き酸ハ
ライドを経由してアミド化することができる。或
いは、式のカルボン酸エステルは後記する如く
直接にアミド化することができる。 式のカルボン酸エステルは、たとえば、リチ
ウムアミドによる処理によつて対応するアミドに
直接転化することができる。該エステルは室温で
リチウムアミドにより有利に処理される。 式のカルボン酸は、ハライドを経由して、２
―アミノエタノール又は２―アミノ―２―メチル
―１―プロパノールとの反応及びそれに続く環化
によつて、式のオキサゾリン誘導体に転化する
ことができる。 式のカルボン酸又はカルボン酸エステルは、
それ自体公知の方法で還元して、式の対応する
アルコールを得ることができる。該還元は不活性
溶媒中で金属水素化物又はアルカリ金属水素化物
を使用して有利に行なわれる。特に好適な水素化
物は、水素化アルミニウムリチウム又はビス〔メ
トキシ―エチレノキシ〕―ナトリウムアルミニウ
ムハイドライドの如き複合金属水素化物である。
好適な溶媒は、水素化アルミニウムリチウムを使
用する場合には、中でもエーテル、テトラヒドロ
フラン又はジオキサンであり、そしてジイソブチ
ルアルミニウムハイドライド又はビス〔メトキシ
―エチレノキシ〕―ナトリウムアルミニウムハイ
ドライドを使用する場合には、エーテル、ヘキサ
ン、ベンゼン又はトルエンである。 式のアルコールは、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、１，２―ジメトキシエタンもしくはジ
メチルホルムアミドの如き有機溶媒中でたとえば
塩基、好ましくは水素化ナトリウムの存在下に、
又はアルカノール中でアルカリ金属アルコレート
の存在下に、０℃乃至室温間の温度で、ハロゲン
化アルキル（たとえばヨウ化メチル）でエーテル
化することができる。 式のアルコールは便利には、塩基（たとえば
ピリジン又はトリエチルアミン）の存在下に、室
温乃至混合物の沸点間の温度範囲で、アルカノイ
ルハライド又は無水物で処理することによつてエ
ステル化することができる。 式のカルボン酸、塩基、特にアルカリ金属水
酸化物、好ましくは水酸化ナトリウム又は水酸化
カリウムと塩を形成する。 式の化合物は主としてトランス形態で生じ
る。得られ得るシス異性体は分離するか、所望に
より、それ自体公知の方法でトランス異性体に異
性化することができる。 本発明によつて提供されるスチルベン誘導体は
薬理学的に価値がある。それらは良性及び悪性の
新生物（neoplasms）及び前癌性病変
（premalignant lesions）の局所的及び全身系治
療に対して並びにこのような症状の全身系及び局
所的予防に対して使用することができる。 本発明のスチルベン誘導体は、ざ瘡（acne）、
乾癬（psoriasis）及び激化したもしくは病理学
的に変質した角質化（cornification）を伴なう他
の皮膚病（dermatose）、並びに炎症性及びアレ
ルギー性の皮膚の状態の局所的及び全身的治療に
対しても好適である。更に、それらは炎症性
（inflammatory）又は変性性（degenerative）又
は化生性（metaplastic）変化と関連した粘膜疾
患（mucous membrane diseases）の制御に使
用することができる。 既知のレチノイド（retinoids）と比較すると、
本発明により提供されるスチルベン誘導体はそれ
が非常に僅かの量で活性であることに特徴があ
る。 本発明のスチルベン誘導体の腫瘍―抑制
（tumour−inhibiting）活性は有意である。マウ
スにおける乳頭腫（papilloma）試験において、
ジメチルベンゾアントラセン及びクロトン油によ
り誘発された腫瘍は退行する。ｐ―〔(E)―２―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニル〕
―安息香酸エチルエステルの腹腔内投与の場合、
乳頭腫の直径は0.2mg／Kg／週の投与量で２週間
の間に75％減少し、0.1mg／Kg／週の投与量で56
％、0.05mg／Kg／週の投与量で48％減少する。ｐ
―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―
５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）
プロペニル〕―安息香酸エチルエステルをマウス
に経口投与する場合、上記の誘発された腫瘍の直
径は、２週間（５投与量／週）の間に、0.4mg
（５×0.08）mg／Kg／週の投与量で63％、0.2mg
（５×0.04mg）／Kg／週の投与量で48％、及び
0.05mg（５×0.01mg）／Kg／週の投与量で37％減
少する。 本発明によつて提供されるスチルベン誘導体
は、リユウマチ性疾患、特に関節、筋肉、腱及び
運動系統機能的器官（motor apparatus）の他の
部分を攻撃する炎症性又は変性性の種類のリユウ
マチ性疾患の経口処置に使用することもできる。
かかる疾患の例はリユウマチ性関節炎
（rheumatic arthritis）、ベヒテレフの強直性脊
椎関節炎（Bechterew′s spondylaritis
ankylopoetica）及び乾癬性関節症（psoriatic
arthropathy）である。 これらの疾患の処置に対して、本発明のスチル
ベン誘導体は経口投与され、成人の場合の投与量
は約0.01〜１mg／Kg体重／日、好ましくは0.05〜
0.5mg／Kg／日であることが好都合である。過剰
投与は可能であるが、それは症候〔皮膚の鱗屑化
（scaling）、毛髪損失（hair loss）〕から容易に認
知され得るビタミンＡ過多症（vit―Ａ
hypervitaminosis）の形態でそれ自体表われ得
る。 上記投与量は単一投与量又はいくつかの小分け
された投与量で投与することができる。 従つて、本発明によつて提供されるスチルベン
誘導体は、たとえばそれを担体材料と共に含有す
る製薬学的製剤の形態で薬物として使用すること
ができる。 全身系投与に好適な製薬学的製剤は、たとえ
ば、式の化合物又はその塩を活性成分として、
このような製剤に通常使用される無毒性の、不活
性な、固体又は液体の担体に加えることによつて
製造することができる。 本製薬学的製剤は腸内に、非経口的に又は局所
的に投与することができる。腸内投与に好適な製
剤は、たとえば、錠剤、カプセル剤、糖剤、シロ
ツプ剤、懸濁液剤、溶液剤及び座剤である。非経
口的投与に好適な製剤は注入（infusion）又は注
射溶液である。 本発明のスチルベン誘導体の投与量は特定の投
与形態及び投与様式並びに患者の必要とする量に
従つて変えることができる。 本発明のスチルベン誘導体は、１日当り約0.01
mg乃至５mgの量で、１回又はそれ以上の投薬にて
投与することができる。好ましい投与形態は活性
成分約0.1mg乃至約1.0mgを含有するカプセルより
成る。 本製薬学的製剤は不活性な且つ薬理学的に活性
な添加剤を含有することができる。錠剤又は顆粒
剤は、たとえば、結合剤、充填剤、担体物質又は
希釈剤を含有することができる。液体製剤はたと
えば混和剤の無菌溶液の形態をとることができ
る。カプセル剤は活性成分の他に充填剤又は増粘
剤を含有することができる。更に、香味改良剤
（flavour−improving additives）、保存剤、安定
剤、湿潤剤及び乳化剤として普通に使用される物
質並びに滲透圧を変えるための塩、緩衝剤及び他
の添加剤も本製薬学的製剤中に存在させることが
できる。 前記担体物質及び希釈剤は無機又は有機のもの
であることができ、たとえば、水、ゼラチン、ラ
クトース、デンプン、ステアリン酸マグネシウ
ム、タルク、アラビアゴム、ポリアルキレングリ
コール及び同様なものが挙げられる。本製薬学的
製剤の製造に使用されるすべての補助薬は無毒性
であるということは当然の要件である。 局所的投与のために、本製薬学的製剤は軟膏、
テインクチヤー（tincture）、クリーム剤、溶液
剤、ローシヨン剤、噴霧剤、懸濁液剤等の形態で
提供されるのが好都合である。軟膏、クリーム剤
及び溶液剤が好ましい。局所的投与用のこれらの
製薬学的製剤は、本発明のスチルベン誘導体をこ
のような製剤においてそれ自体常用されている且
つ局所的投与に好適な無毒性の、不活性な、固体
又は液体担体と混合することによつて製造するこ
とができる。 局所的投与に対しては、約0.001％乃至約0.3
％、好ましくは0.02％乃至0.1％の溶液、及び約
0.002％乃至約0.5％、好ましくは約0.02％乃至約
0.1％の軟膏又はクリーム剤が好適に使用される。 本製薬学的製剤は酸化防止剤（たとえば、トコ
フエロール、Ｎ―メチル―γ―トコフエラミン、
ブチル化ヒドロキシアニソール又はブチル化ヒド
ロキシトルエン）を含有することができる。 下記実施例は本発明により提供される方法を更
に説明するものである。 実施例 １ ブチレンオキシド300mlを〔１―（１，１，３，
３―テトラメチル―５―インダニル）エチル〕―
トリフエニルホスホニウムブロミド30.5ｇ及び４
―エトキシカルボニルベンズアルデヒド８ｇに加
え、次いで混合物を不活性ガス雰囲気中で12時間
65℃にて撹拌する。得られる透明な溶液を冷却
し、約500mlの氷／水に導入し、そしてヘキサン
で２回抽出する。有機抽出物をメタノール／水で
３回抽出し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして減
圧下に濃縮する。残留物を溶出のためヘキサン／
エーテル（19：１）を使用してシリカゲルへの吸
着により精製する。 溶出液から得られたｐ―〔(E)―２―（１，１，
３，３―テトラメチル―５―インダニル）プロペ
ニル〕―安息香酸エチルエステルはエーテル／ヘ
キサンからの再結晶後70゜〜71℃にて溶融する。 出発物質として使用した〔１―（１，１，３，
３―テトラメチル―５―インダニル）エチル〕―
トリフエニルホスホニウムブロミドは、たとえば
下記の如くして製造することができる： 塩化アセチル87.8ｇをニトロベンゼン240ml中
に溶解する。塩化アルミニウム149.2ｇをこの溶
液に分割して導入する。混合物を0゜〜５℃に冷却
し、次いでニトロベンゼン360ml中の１，１，３，
３―テトラメチル―インダン195.0ｇの溶液によ
り十分に冷却しながら滴下により処理する。温度
は５℃より高く上昇させるべきではない。混合物
を０℃で15時間撹拌し、エーテルで抽出する。エ
ーテル抽出物を２―Ｎ水酸化ナトリウム溶液で２
回、そして飽和塩化ナトリウム溶液で２回洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして先ずウオー
タージエツト真空により、次いで高真空にて濃縮
してニトロベンゼンを除去する。残留油（１，
１，３，３―テトラメチル―５―インダニル）―
メチルケトンは100゜〜103℃／0.5Torrにて沸騰す
る。 水素化アルミニウムリチウム2.66ｇを無水エー
テル40mlで処理する。0゜〜５℃に冷却しながら、
１，１，３，３―テトラメチル―５―インダニル
メチルケトン26ｇを30分以内に滴下により加え
る。更に30分の後、混合物を25mlの飽和硫酸ナト
リウム溶液25ml滴下により注意深く処理する。溶
液を過する。液を１―Ｎ水酸化ナトリウム溶
液で１回及び飽和塩化ナトリウム溶液で２回洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして減圧下に
濃縮して溶媒を除去する。薄層クロマトグラフイ
ー〔流動剤（flow agent）：ヘキサン／エーテル
（80：20）〕に従つて均一である残留油状α―１，
１，３，３―ペンタメチル―５―インダン―メタ
ノールは下記の如くしてただちに処理する。 α―１，１，３，３―ペンタメチル―５―イン
ダン―メタノール24.0ｇを無水エーテル20ml及び
無水ヘキサン100ml中に溶解する。２滴のピリジ
ンの添加後、溶液を無水ヘキサン80ml中に溶解し
た三臭化リン16.2ｇにより30分にわたり滴下によ
り処理する。0゜〜５℃で更に１時間撹拌した後、
生成物を氷／水に導入し、そしてエーテルで完全
に抽出する。エーテル抽出物を飽和炭酸水素ナト
リウム溶液で２回及び塩化ナトリウム溶液で２回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして減圧
下に蒸発して溶媒を除去する。薄層クロマトグラ
フイー〔流動剤：ヘキサン／エーテル（95：５）〕
に従えば均一である残留油状５―（１―ブロモエ
チル）―１，１，３，３―テトラメチル―インダ
ンを下記の如くしてただちに処理する： トリフエニルホスフイン26.3ｇをキシレン120
ml中に溶解する。溶液をキシレン60ml中に溶解し
た５―（１―ブロモエチル）―１，１，３，３―
テトラメチル―インダン30.9ｇで処理する。混合
物を撹拌しながら100℃に加温しそしてこの温度
で12時間放置する。それにより分離しそして種晶
接種後結晶化する濃厚な油状１―（１，１，３，
３―テトラメチル―５―インダニル）エチル―ト
リフエニルホスホニウムブロミドは塩化メチレ
ン／トルエンから再結晶後151〜156℃で溶融する
（結晶は0.3当量のトルエンを含有する）。 実施例 ２ １，１，３，３―テトラメチル―５―インダニ
ルメチルケトン2.4ｇ及び４〔（ジエトキシホスフ
イニル）メチル〕―安息香酸エチルエステル3.4
ｇをジメチルホルムアミド７ml中に溶解する。溶
液をナトリウムエタノレート（ナトリウム0.33ｇ
及びエタノール７mlから調製した）と撹拌しなが
ら室温でアルゴン下に滴下により処理し、次いで
70℃で18時間撹拌する。次いで混合物を氷／水に
導入しエーテルで抽出する。エーテル抽出物を飽
和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム
上で乾燥し、減圧下に蒸発させる。残留のｐ―
〔(E)―２―（１，１，３，３―テトラメチル―５
―インダニル）プロペニル〕―安息香酸エチルエ
ステルである褐色油状物を溶出のためにヘキサ
ン／エーテル（９：１）を使用してシリカゲルに
よる吸着によつて精製する。エステルはヘキサ
ン／エーテルからの再結晶後70〜71℃で溶融す
る。 実施例 ３ 実施例１に記載の方法と同様にして〔１―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）エチル〕―ト
リフエニルホスホニウムブロミド及び４―エトキ
シカルボニルベンズアルデヒドから90〜91℃の融
点のｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒ
ドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフ
チル）プロペニル〕―安息香酸エチルエステルを
得ることができる。 出発物質として使用した〔１―（５，６，７，
８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチ
ル―２―ナフチル）エチル〕―トリフエニルホス
ホニウムブロミドは実施例１に記載の方法と同様
にして５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―ナフタレンから、（５，
６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テ
トラメチル―２―ナフチル）メチルケトン、５，
６，７，８―テトラヒドロ―α―５，５，８，８
―ペンタメチル―２―ナフタレン―メタノール及
び２―（ブロモエチル）―５，６，７，８―テト
ラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル―ナフ
タレンを経由して製造することができる。 実施例 ４ 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（３―メトキシ―５，６，７，８―テトラヒドロ
―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチ
ル）エチル〕―トリフエニルホスホニウムブロミ
ド及び４―エトキシカルボニル―ベンズアルデヒ
ドから融点97―98℃のｐ―〔(E)―２―（３―メト
キシ―５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
ル〕―安息香酸エチルエステルを得ることができ
る。 出発物質として使用した〔１―（３―メトキシ
―５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）エチル〕―ト
リフエニルホスホニウムブロミドは実施例１に記
載の方法と同様にして、３―メトキシ―５，６，
７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラ
メチル―ナフタレンから（３―メトキシ―５，
６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テ
トラメチル―２―ナフチル）メチルケトン、３―
メトキシ―５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフタレン―メ
タノール及び２―（１―ブロモエチル）―３―メ
トキシ―５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフタレンを経
由して製造することができる。 実施例 ５ 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）エチル〕―ト
リフエニルホスホニウムブロミド及び３―メチル
―４―エトキシカルボニル―ベンズアルデヒドか
らｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒド
ロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチ
ル）プロペニル〕―２―メチル―安息香酸エチル
エステルを無色の油状物として得ることができ、
このものは薄層クロマトグラフイー（Rf＝0.6；
ヘキサン／15％エーテル）によれば均一である。 前記した３―メチル―４―エトキシカルボニル
―ベンズアルデヒドはChem.Ber.102，2502―
2507（1969）においてHuneckによつて２―メチ
ル―４―エトキシカルボニル―ベンズアルデヒド
の製造に対して記載された方法と同様にして４―
ニトロ―３―メチル―安息香酸から製造すること
ができる。 実施例 ６ 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（１，１，２，３，３―ペンタメチル―５―イン
ダニル）エチル〕―トリフエニルホスホニウムブ
ロミド及び４―エトキシカルボニル―ベンズアル
デヒドから、融点79゜―80℃のｐ―〔(E)―２―
（１，１，２，３，３―ペンタメチル―５―イン
ダニル）プロペニル〕―安息香酸エチルエステル
を得ることができる。 実施例 ７ 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（７―メトキシ―１，１，３，３―テトラメチル
―５―インダニル）エチル〕―トリフエニルホス
ホニウムブロミド及び４―エトキシカルボニル―
ベンズアルデヒドから融点72―73℃のｐ―〔(E)―
２―（７―メトキシ―１，１，３，３―テトラメ
チル―５―インダニル）―プロペニル〕―安息香
酸エチルエステルを得ることができる。 出発物質として使用する〔１―（７―メトキシ
―１，１，３，３―テトラメチル―５―インダニ
ル）エチル〕―トリフエニルホスホニウムブロミ
ドはたとえば下記の如くして製造することができ
る： （１，１，３，３―テトラメチル―５―インダ
ニル）メチルケトン（実施例１に記載の如くして
製造された）84.3ｇを濃硫酸160ml中に溶解し、
溶液を−20℃に冷却する。この温度で40mlの濃硝
酸及び80mlの濃硫酸から調製されたニトロ化性酸
（nitroting acid）を10分間加える。添加が終了
した後、粘稠なペーストをただちに氷上に注ぎそ
してエーテルで２回抽出する。エーテル抽出物を
炭酸水素ナトリウム溶液及び塩化ナトリウム溶液
で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして減
圧下に溶媒を除去する。分離した（６―ニトロ―
１，１，３，３―テトラメチル―５―インダニ
ル）メチルケトンはエーテル／ヘキサンからの再
結晶後111゜〜112℃で溶融する。 （６―ニトロ―１，１，３，３―テトラメチル
―５―インダニル）メチルケトンをメタノール
1500ml中に溶解し、溶液をラネーニツケル20ｇを
使用して45℃にて48時間水素化する。水素15を
溶解する。次いで溶液をスピーデツクス
（Speedex）を通して過し、溶媒を減圧下に除
去する。分離した（６―アミノ―１，１，３，３
―テトラメチル―５―インダニル）メチルケトン
はエーテル／ヘキサンからの再結晶後161〜162℃
で溶融する。 （６―アミノ―１，１，３，３―テトラメチル
―５―インダニル）メチルケトン113.1ｇを20％
塩化水素酸2260ml中に懸濁し、そして懸濁液を0゜
〜５℃に冷却する。冷混合物を水115ml中の亜硝
酸ナトリウム33.9ｇの溶液で10分以内に滴下によ
り処理し、得られる溶液を30分間撹拌する。次い
で冷溶液を、40゜〜45℃に加温されている水250ml
及び濃塩酸250ml中の塩化銅（）243.2ｇの溶液
に撹拌しながら２時間にわたつて滴下により導入
する。次いで混合物を冷却し、氷水に導入し、そ
して塩化メチレンで３回抽出する。有機抽出物を
塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥し、減圧下に溶媒を除去する。残留物は溶
出のためヘキサン／アセトン（19：１）を使用し
てシリカゲルにより吸着により精製する。溶出液
から得られた（６―クロロ―１，１，３，３―テ
トラメチル―５―インダニル）メチルケトンはヘ
キサン／エーテルからの再結晶後69゜〜71℃で溶
融する。 同様にして、（６―クロロ―１，１，３，３―
テトラメチル―５―インダニル）メチルケトンか
ら融点119゜〜120℃の（６―クロロ―７―ニトロ
１，１，３，３―テトラメチル―５―インダニ
ル）メチルケトンを得ることができ、そして（６
―クロロ―７―ニトロ―１，１，３，３―テトラ
メチル―５―インダニル）メチルケトンから融点
116゜〜117℃の（６―クロロ―７―アミノ―１，
１，３，３―テトラメチル―５―インダニル）メ
チルケトンを得ることができる。 （６―クロロ―７―アミノ―１，１，３，３―
テトラメチル―５―インダニル）メチルケトンを
濃硫酸48ml中に導入し、50℃に加温した後混合物
を蒸留水140mlによりゆつくりと処理する。0゜〜
５℃に冷却した後、水20ml中の硝酸ナトリウム
5.5ｇの溶液を45分間にわたつて混合物中に滴下
により導入する。得られる冷混合物を70℃に保持
された水60ml及び濃硫酸60mlの溶液中に２時間に
わたり撹拌しながら滴下により導入する。混合物
を冷却し、次いで氷水中に導入し、そしてエーテ
ルで３回抽出する。有機層を塩化ナトリウム溶液
で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして減
圧下に溶媒を除去する。残留物を溶出のためにヘ
キサン／エーテル（19：１）を使用してシリカゲ
ルによる吸着により精製する。溶出後から得られ
た（６―クロロ―７―ヒドロキシ―１，１，３，
３―テトラメチル―５―インダニル）メチルケト
ンはヘキサン／エーテルからの再結晶の後78゜〜
80℃で溶融する。 （６―クロロ―７―ヒドロキシ―１，１，３，
３―テトラメチル―５―インダニル）メチルケト
ンをジメチルホルムアミド10ml中に溶解する。溶
液を先ず水酸化カリウム（水1.2ml中に溶解した）
1.1ｇで処理し、次いでヨウ化メチル5.5mlで処理
し、次いで得られる混合物を室温で３時間撹拌す
る。混合物を氷水中に導入し、そしてエーテルで
２回抽出する。有機抽出物を塩化ナトリウム溶液
で数回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧
下に溶媒を除去する。分離した（６―クロロ―７
―メトキシ―１，１，３，３―テトラメチル―５
―インダニル）メチルケトンは再結晶後59゜〜60
℃で溶融する。 （６―クロロ―７―メトキシ―１，１，３，３
―テトラメチル―５―インダニル）メチルケトン
25ｇをメタノール約200ml中に溶解し、トリエチ
ルアミン10ｇ及び５％パラジウム／炭素触媒2.5
ｇの添加後、混合物を室温で水素化する。１モル
当量の水素を５時間にわたり吸収させる。溶液ス
ピーデツクス上で過する。液を蒸発させる。
残留物を水／エーテル中に溶解し、そしてエーテ
ルにより数回抽出する。有機抽出物を塩化ナトリ
ウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、
そして減圧下に溶媒を除去する。分離した（７―
メトキシ―１，１，３，３―テトラメチル―５―
インダニル）メチルケトンはヘキサンからの再結
晶後76―77℃で溶融する。 実施例１に記載の方法と同様にして、（７―メ
トキシ―１，１，３，３―テトラメチル―５―イ
ンダニル）メチルケトンから７―メトキシ―α―
１，１，３，３―ペンタメチル―５―インダン―
メタノール及び５―（１―ブロモエチル―７―メ
トキシ―１，１，３，３―テトラメチル―インダ
ンを経由して融点209゜〜210℃の〔１―（７―メ
トキシ―１，１，３，３―テトラメチル―５―イ
ンダニル）エチル〕―トリフエニルホスホニウム
ブロミドを得ることができる。 実施例 ８ 実施例１に記載の方法と同様にして〔（１，１，
３，３―テトラメチル―５―インダニル）メチ
ル〕―トリフエニルホスホニウムクロリド及び４
―エトキシカルボニル―ベンズアルデヒドから融
点151゜〜152℃のｐ―〔(E)―２―（１，１，３，
３―テトラメチル―５―インダニル）ビニル〕―
安息香酸エチルエステルを得ることができる。 出発物質として使用される〔（１，１，３，３
―テトラメチル―５―インダニル）メチル〕―ト
リフエニルホスホニウムクロリドはたとえば下記
の如くして製造することができる： １，１，３，３―テトラメチル―インダン34.2
ｇ、氷酢酸150ml、濃塩酸300ml及びホルムアルデ
ヒド溶液（35％）77mlを２時間撹拌しながら75゜
〜78℃に加温する。次いで更に7.7mlの35％ホル
ムアルデヒド溶液を10分以内に滴下により加え
る。混合物を同じ温度で15時間保持し、次いで冷
却し、約１の氷水中に導入し、そして完全にト
ルエンで抽出する。有機層を水で中性となるまで
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に蒸
発させる。得られる生成物、赤味がかつた油状物
をビグリユーカラム上で蒸留する。純粋な５―ク
ロロメチル―１，１，３，３―テトラメチル―イ
ンダンは143゜〜146℃／19mmＨｇで沸騰する。 実施例１に記載の方法と同様にして、５―クロ
ロメチル―１，１，３，３―テトラメチル―イン
ダン及びトリフエニルホスフインから〔１―
（１，１，３，３―テトラメチル―５―インダニ
ル）メチル〕―トリフエニルホスホニウムクロリ
ドを得ることができる。 実施例 ９ 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（１，１，３，３―テトラメチル―５―インダニ
ル）エチル〕―トリフエニルホスホニウムブロミ
ド及び４―アセチル―ベンズアルデヒドから融点
130゜〜131℃の4′―〔（(E)―２―（１，１，３，３
―テトラメチル―５―インダニル）プロペニル〕
―アセトフエノンを得ることができる。 実施例 10 ｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒド
ロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチ
ル）プロペニル〕―安息香酸エチルエステル49ｇ
（実施例３に記載の如くして製造した）を45℃で
エタノール500ml中に溶解し、得られる溶液を水
50ml中の水酸化カリウム20ｇの溶液と共に撹拌し
ながら滴下により処理する。混合物を55℃で18時
間撹拌し、次いで冷却し、氷／水中に導入し、３
―Ｎ硫酸によりPH２に酸性にし、そして塩化メチ
レンで２回抽出する。塩化メチレン抽出物を飽和
塩化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥しそして減圧下に濃縮する。ｐ―〔(E)
―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―安息香酸は塩化メチレン／ヘキサンか
らの再結晶後247゜〜248℃で溶液する。 実施例 11 無水エーテル40ml中のｐ―〔(E)―２―（５，
６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テ
トラメチル―２―ナフチル）プロペニル〕―安息
香酸（実施例10に記載の如くして製造した）7.0
ｇの懸濁液に1.8mlのピリジンの添加後、撹拌し
ながら0゜〜５℃の塩化チオニル3.5mlを滴下によ
り導入する。５滴のＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミ
ドの添加後、溶液を室温に加温し、18時間撹拌
し、次いでデカンテーシヨンする。酸温化物の黄
色溶液を無水エーテル20ml中のエチルアミン３ml
の溶液中にアルゴン下に滴下により導入する。混
合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和塩化ナト
リウム溶液中に導入し、エーテルで２回抽出す
る。エーテル抽出物を飽和塩化ナトリウム溶液で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下
に蒸発させる。残留ｐ―〔(E)―２―（５，６，
７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラ
メチル―２―ナフチル）プロペニル〕―安息香酸
モノエチルアミドは塩化メチレン／ヘキサンから
の再結晶後177゜〜178.5℃で溶融する。 実施例 12 無水エーテル20ml及び無水テトラヒドロフラン
20ml中に溶解されたｐ―〔(E)―２―（５，６，
７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラ
メチル―２―ナフチル）プロペニル〕―安息香酸
エチルエステル11.3ｇを無水エーテル20ml中の水
素化アルミニウムリチウム1.33ｇの懸濁液中に0゜
〜５℃で滴下により導入する。溶液を不活性ガス
下に12時間室温で撹拌し、次いで飽和硫酸ナトリ
ウム５mlにより0゜〜15℃で滴下により処理し、そ
してスピーデツクス上で過する。過をエーテ
ルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で１回
そして飽和塩化ナトリウム溶液で２回洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥し、そして減圧下に濃縮す
る。分離されたｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８
―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル
―２―ナフチル）プロペニル〕―ベンジルアルコ
ールはメタノール／エーテルからの再結晶後123
〜124℃で溶融する。 実施例 13 アセチルクロリド5.8mlをエーテル10ml及びピ
リジン10ml中のｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８
―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル
―２―ナフチル）プロペニル〕―ベンジルアルコ
ール（実施例12に記載の如くして製造された）
6.6ｇの懸濁液に撹拌しながら約５℃で滴下によ
り導入する。混合物を室温で３時間撹拌し、次い
で約100mlの氷／水に導入し、そしてエーテルで
３回抽出する。エーテル抽出物を１―Ｎ塩化水素
酸で１回及び飽和塩化ナトリウム溶液で３回洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮す
る。分離したｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―
テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル―
２―ナフチル）プロペニル〕―ベンジルアセテー
トはエーテルからの再結晶後100゜〜101℃で溶融
する。 実施例 14 ジメチルホルムアミド25ml中に溶解したｐ―
〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―ベンジルアルコール（実施例12に記載
の如くして製造された）5.0ｇをジメチルホルム
アミド10ml中の水素化ナトリウム0.4ｇの溶液に
導入する。室温で１時間撹拌後、混合物をヨウ化
メチル4.3ｇで処理し、そして得られる混合物を
更に２時間撹拌する。次いで溶液を約200mlの
氷／水に導入し、そしてエーテルで３回抽出す
る。エーテル抽出物を飽和塩化ナトリウム溶液で
３回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして減
圧下に濃縮する。分離したｐ―〔(E)―２―（５，
６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テ
トラメチル―２―ナフチル）プロペニル〕―ベン
ジルメチルエーテルはエーテルからの再結晶後
55゜〜56℃で溶融する。 実施例 15 ｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒド
ロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチ
ル）プロペニル〕―安息香酸（実施例10に記載の
如くして製造した）3.48ｇをトルエン12ml中に懸
濁する。塩化チオニル3.57ｇの添加後、懸濁液を
50℃で12時間撹拌し、次いで減圧下に蒸発乾固す
る。残留物を塩化メチレン６ml中に溶解する。溶
液を塩化メチレン６ml中の２―アミノ―２―メチ
ル―１―プロパノール2.3ｇの溶液に０℃で滴下
により導入する。白色の懸濁液を室温で2.5時間
撹拌し、酢酸エチルで希釈し、水で３回洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮する。
白色の結晶性残留物をエーテル20ml中に懸濁さ
せ、塩化チオニル６ｇで０℃で滴下により処理す
る。白色懸濁液を室温で30分間撹拌し、次いでPH
値が約９になるまで飽和炭酸ナトリウム溶液で注
意深く処理する。この時点で透明な溶液をエーテ
ルで希釈する。エーテル相を飽和塩化ナトリウム
溶液で３回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、
そして減圧下に蒸発させる。残留２―［ｐ―〔(E)
―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―フエニル］―４，４―ジメチル―２―
オキサゾリンはエーテルからの再結晶後115℃〜
116℃で溶融する。 実施例 16 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニル〕
―トリフエニルホスホニウムブロミド及び４―エ
トキシカルボニル―ベンズアルデヒドから融点
82゜〜83℃のｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―
テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル―
２―ナフチル）―１―ブテニル〕―安息香酸エチ
ルエステルを得ることができる。 出発物質として使用される〔１―（５，６，
７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラ
メチル―２―ナフチル）プロピル〕―トリフエニ
ルホスホニウムブロミドは実施例１に記載の方法
と同様にして５，６，７，８―テトラヒドロ―
５，５，８，８―テトラメチル―ナフタレン及び
プロピオン酸クロリドから得ることができる。 実施例 17 実施例11に記載の方法と同様にして、ｐ―〔(E)
―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―安息香酸及びジエチルアミンから融点
111゜〜112℃のｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８
―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル
―２―ナフチル）プロペニル〕―安息香酸ジエチ
ルアミドを得ることができる。 実施例 18 実施例11に記載の方法と同様にしてｐ―〔(E)―
２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
ル〕―安息香酸及びモルホリンから融点143゜〜
144℃のｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テト
ラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―
ナフチル）プロペニル〕―安息香酸モルホリドを
得ることができる。 実施例 19 実施例11に記載の方法と同様にして、ｐ―〔(E)
―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―安息香酸及びイソプロパノールから融
点119゜〜120℃のｐ―〔(E)―２―（５，６，７，
８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチ
ル―２―ナフチル）プロペニル〕―安息香酸イソ
プロピルエステルを得ることができる。 実施例 20 実施例11に記載の方法と同様にして、ｐ―〔(E)
―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―安息香酸及び２―ジエチルアミノ―エ
タノールから融点65゜〜66℃のｐ―〔(E)―２―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニル〕
―安息香酸２―ジエチルアミノ―エチルエステル
を得ることができる。 実施例 21 無水エーテル100ml中に溶解したｐ―〔(E)―２
―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
ル〕―ベンジルアルコール（実施例12に記載の如
くして製造した）6.7ｇを無水エーテル100ml中の
二酸化マンガンの0゜〜５℃に冷却された撹拌した
懸濁液に10分以内に滴下により加える。混合物を
室温で一夜撹拌し、次いでセライトを通して過
する。過は回転蒸発器上で濃縮乾固する。黄色
がかつた油状物が結晶化する。エーテルからの再
結晶により融点140゜〜141℃の無色結晶の形態の
ｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ
―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチ
ル）プロペニル〕―ベンンズアルデヒドを得る。 実施例 22 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）エチル〕―ト
リフエニルホスホニウムブロミド及び４―アセチ
ル―ベンズアルデヒドから148゜〜149℃の4′―
〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―アセトフエノンを得ることができる。 実施例 23 ベンゼン40ml中に溶解した4′―〔(E)―２―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニル〕
―アセトフエノン（実施例22に記載の如くして製
造した）3.0ｇを触媒量のｐ―トルエンスルホン
酸及び0.6ｇのエチレングリコールで処理し、そ
してデイーンシユターク装置中で加温し、生成し
た水を同時に分離除去する。還流下に２日加熱し
た後、混合物を冷却し、氷／飽和した炭酸水素ナ
トリウム溶液中に導入し、そして完全にエーテル
で抽出する。エーテル抽出物を飽和塩化ナトリウ
ム溶液で２回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、そして減圧下に蒸発させて溶媒を除去する。
油状残留物を溶出のためにヘキサン／エーテル
（９：１）を使用してシリカゲルによる吸着によ
つて精製する。溶出液から得られた２―メチル―
２―［ｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラ
ヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナ
フチル）プロペニル〕―フエニル］―１，３―ジ
オキソランはエーテルからの再結晶後122゜〜123
℃で溶融する。 実施例 24 水素化ホウ素ナトリウム1.0ｇを無水メタノー
ル100ml中に溶解した4′―〔(E)―２―（５，６，
７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラ
メチル―２―ナフチル）プロペニル〕―アセトフ
エノン（実施例22に記載の如くして製造した）
10.4ｇに0゜〜５℃で分割して注意深く加える。溶
液を０℃で１時間及び室温で２時間撹拌し、次い
で氷／水に導入し、そしてエーテルで注意深く抽
出する。エーテル溶液を飽和塩化ナトリウム溶液
で２回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そし
て減圧下に濃縮する。分離したα―メチル―ｐ―
〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―ベンジルアルコールはエーテルからの
結晶化後は121゜〜123℃で溶融する。 実施例 25 実施例14に記載の方法と同様にして、α―メチ
ル―ｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒ
ドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフ
チル）プロペニル〕―ベンジルアルコールから融
点88゜〜89℃の１，２，３，４―テトラヒドロ―
６―(E)―ｐ―（１―メトキシエチル）―α―メチ
ル―スチリル〕―１，１，４，４―テトラメチル
ナフタレンを得ることができる。 実施例 26 実施例13に記載の方法と同様にして、α―メチ
ル―ｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒ
ドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフ
チル）プロペニル〕―ベンジルアルコールから融
点85゜〜86℃のα―メチル―ｐ―〔(E)―２―（５，
６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テ
トラメチル―２―ナフチル）プロペニル〕―ベン
ジルアセテートを得ることができる。 実施例 27 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）エチル〕―ト
リフエニルホスホニウムブロミド及び４―メチル
―ベンズアルデヒドから融点84〜85℃の６―〔(E)
―ｐ，α―ジメチルスチリル〕―１，２，３，４
―テトラヒドロ―１，１，４，４―テトラメチル
ナフタレンを得ることができる。 実施例 28 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）エチル〕―ト
リフエニルホスホニウムブロミド及び４―イソプ
ロピル―ベンズアルデヒドから融点86゜〜87℃の
６〔(E)―ｐ―イソプロピル―α―メチルスチリル〕
―１，２，３，４―テトラヒドロ―１，１，４，
４―テトラメチルナフタレンを得ることができ
る。 実施例 29 実施例１に記載の方法と同様にして、〔１―
（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
８―テトラメチル―２―ナフチル）エチル〕―ト
リフエニルホスホニウムブロミド及び２，４―ジ
メチル―ベンズアルデヒドから融点54゜〜56℃の
６―〔(E)―α，２，４―トリメチルスチリル〕―
１，２，３，４―テトラヒドロ―１，１，４，４
―テトラメチルナフタレンを得ることができる。 実施例 30 実施例１に記載の方法と同様にして、好ましく
は長い反応時間で、メチル―トリフエニルホスホ
ニウムブロミド及びｐ―〔(E)―２―（５，６，
７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラ
メチル―２―ナフチル）プロペニル〕―ベンズア
ルデヒド（実施例21に記載の如くして製造した）
から融点94゜〜95℃の１，２，３，４―テトラヒ
ドロ―１，１，４，４―テトラメチル―６―〔(E)
―α―メチル―ｐ―ビニルスチリル〕ナフタレン
を得ることができる。 実施例 31 実施例１に記載の方法と同様にして、好ましく
は長い反応時間を用いて、トリフエニルホスホニ
ウムブロミド及びｐ―〔(E)―２―（５，６，７，
８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチ
ル―２―ナフチル）プロペニル〕―ベンズアルデ
ヒド（実施例21に記載の如くして製造した）から
融点64゜〜66℃の１，２，３，４―テトラヒドロ
―１，１，４，４―テトラメチル―６―〔(E)―α
―メチル―ｐ―アリルスチリル〕―ナフタレンを
得ることができる。 実施例 32 ｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒド
ロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチ
ル）プロペニル〕―ベンズアルデヒド（実施例21
に記載の如くして製造した）２ｇ及びジエチルホ
スホノ酢酸エチルエステル1.4ｇをジメチルホル
ムアミド５ml中に溶解する。ナトリウムアルコー
ル溶液（無水アルコール３ml中のナトリウム6.1
ｇを使用して調製した）を撹拌しながら室温でそ
れに加える。室温で18時間撹拌の後、混合物を氷
冷１―Ｎ塩化水素酸中に注ぎそして完全にエーテ
ルで抽出する。エーテル相を飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液及び塩化ナトリウム溶液で洗浄し、そし
て無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後減圧下に濃
縮する。残留物を溶出のためヘキサン／エーテル
（19：１）を使用してシリカゲルによる吸着によ
つて精製する。溶出液から得られた(E)―ｐ―〔(E)
―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―ケイ皮酸エチルエステルがヘキサン／
エーテルからの再結晶後126゜〜127℃で溶融する。 実施例 33 実施例11に記載の方法と同様にしてｐ―〔(E)―
２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
ル〕―安息香酸及びベンジルアルコールから融点
113゜〜114℃のｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８
―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル
―２―ナフチル）プロペニル〕―安息香酸ベンジ
ルエステルを得ることができる。 実施例 34 実施例11に記載の方法と同様にして、ｐ―〔(E)
―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
ペニル〕―安息香酸及び４―ニトロベンジルアル
コールから融点183゜〜184℃の４―ニトロベンジ
ルｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒド
ロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチ
ル）プロペニル〕―ベンゾエートを得ることがで
きる。 実施例 35 実施例11に記載の方法と同様にしてｐ―〔(E)―
２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
ル〕―安息香酸及びエチレングリコールから融点
138゜〜139℃の２―ヒドロキシエチルｐ―〔(E)―
２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
ル〕―ベンゾエートを得ることができる。 実施例 36 ヘキサン中の水素化ジブチルアルミニウムの20
％溶液60mlを無水ヘキサン70ml中のｐ―〔(E)―２
―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
ル〕―(E)―ケイ皮酸エチルエステル（実施例32に
記載の如くして製造した）14.1ｇの溶液に不活性
雰囲気下に且つ撹拌しながら室温で滴下により加
え、そして混合物を一夜撹拌する。次いで溶液を
メタノール50mlにより0゜〜５℃で滴下により処理
し、そしてスピーデツクス上で過する。液を
エーテルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液
で１回及び飽和塩化ナトリウム溶液で２回洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に濃縮す
る分離した３―ｐ―［〔(E)―２―（５，６，７，
８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチ
ル―２―ナフチル）プロペニル〕フエニル］―(E)
―２―プロペン―１―オールはヘキサンからの再
結晶後109゜〜110℃で溶融する。 実施例 37 実施例13に記載の方法と同様にして、３―ｐ―
［〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―
５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）
プロペニル〕フエニル］―(E)―２―プロペン―１
―オールから融点109゜〜110℃の３―ｐ―［〔(E)―
２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
ル〕フエニル］―２―プロペン―１―イルアセテ
ートを得ることができる。 実施例 38 実施例14に記載の方法と同様にして、３―ｐ―
［〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―
５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）
プロペニル〕フエニル］―(E)―２―プロペン―１
―オールから融点88゜〜89℃の３―ｐ―［〔(E)―２
―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
ル〕フエニル］―２―プロペン―１―イルメチル
エーテルを得ることができる。 下記実施例は本発明により提供される製薬学的
製剤を説明するものである： 実施例 Ａ 経口投与用カプセルは下記の成分を含有するこ
とができる： カプセル当り ｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒド
ロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフ
チル）―プロペニル〕―安息香酸エチルエステ
ル 0.1mg ワツクス混合物 50.5mg 植物油 98.9mg エチレンジアミン四酢酸の三ナトリウム塩
0.5mg 実施例 Ｂ 軟膏は下記組成を有することができる： ｐ―〔(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒド
ロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフ
チル）―プロペニル〕―安息香酸エチルエステ
ル 0.01ｇ セチルアルコール 2.7ｇ ラノリン 6.0ｇ ワセリン 5.0ｇ 蒸留水 100.0ｇとするに十分な量。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 式中、ｎは１又は２を表わし、そしてｎが１を
    表わす場合には、R1及びR2は水素又はC1〜6低級
    アルコキシを表わし、或いはｎが２を表わす場合
    には、R1は水素又はC1〜6アルコキシを表わし且
    つR2は水素を表わし；R3，R4，R5及びR6は水素
    又はC1〜6アルキルを表わし；R7は水素、メチル
    又はエチルを表わし；R8及びR9は水素又はC1〜6
    アルキルを表わし；そしてR10は式―CH＝CH2，
    ―CH＝CH―COO―（C1〜6アルキル）、 【式】 【式】【式】もしくは 【式】の基又は４，４―ジメチル―２―オ キサゾリニル基を表わし、ここで、R12は水素又
    はC1〜6アルキルを表わし；R13は水素、C1〜6ア
    ルキル、ヒドロキシル、C1〜6アルコキシ又はC1
    〜6アルカノイルオキシを表わし；R15は水素、C1
    〜6アルキル、ヒドロキシル、C1〜6アルコキシ、
    ヒドロキシC1〜6アルコキシ、ベンジルオキシ、
    ニトロベンジルオキシ、ジエチルアミノエチルオ
    キシ、随時C1〜6アルキルでモノ―もしくはジ―
    置換されていてもよいアミノ、又はモルホリノを
    表わし；そしてR20はC1〜6アルキレンジオキシを
    表わす、 の化合物及びその塩。 ２ ｎが１を表わす場合には、R1及びR2が水素
    又はC1〜6アルコキシを表わし、或いはｎが２を
    表わす場合には、R1が水素又はC1〜6アルコキシ
    を表わし且つR2は水素を表わし；R3，R4，R5及
    びR6が水素又はC1〜6アルキルを表わし；R7が水
    素、メチル又はエチルを表わし；R8及びR9が水
    素又はC1〜6アルキルを表わし；そしてR10がヒド
    ロキシメチル、C1〜6アルコキシメチル、C1〜6ア
    ルカノイルオキシメチル、カルボキシル、C1〜6
    アルコキシカルボニル、ホルミル、C1〜6アルキ
    レンジオキシメチル、C1〜6アルカノイル、モノ
    （C1〜6アルキル）カルバモイル、ジ（C1〜6アル
    キル）カルバモイル、モルホリノカルボニル又は
    ４，４―ジメチル―２―オキサゾリニルを表わす
    特許請求の範囲第１項記載の化合物及びその塩。 ３ ｎが２を表わす特許請求の範囲第１項記載の
    化合物。 ４ R1，R2，R5，R6，R8及びR9が水素を表わ
    し、そしてR3，R4及びR7がメチルを表わす特許
    請求の範囲第３項記載の化合物。 ５ R10が式【式】【式】又は 【式】の基を表わす特許請求の範囲第４項 記載の化合物。 ６ R10がC1〜6アルコキシカルボニル、C1〜6ア
    ルキルカルバモイル、C1〜6アルコキシメチル又
    はC1〜6アルカノイルオキシメチルを表わす特許
    請求の範囲第５項記載の化合物。 ７ ｐ―［(E)―２―（３―メトキシ―５，６，
    ７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラ
    メチル―２―ナフチル）プロペニル］―安息香酸
    エチルエステルである特許請求の範囲第１項記載
    の化合物。 ８ ｐ―［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒ
    ドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフ
    チル）プロペニル］―ベンジルアセテートである
    特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ９ ｐ―［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒ
    ドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフ
    チル）プロペニル］―ベンジルメチルエーテルで
    ある特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １０ ｐ―［(E)―２―（５，６，７，８―テトラ
    ヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナ
    フチル）プロペニル］―安息香酸モノエチルアミ
    ドである特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １１ 化合物ｐ―［(E)―２―（１，１，３，３―
    テトラメチル―５―インダニル）プロペニル］―
    安息香酸エチルエステル、ｐ―［(E)―２―（７―
    メトキシ―１，１，３，３―テトラメチル―５―
    インダニル）プロペニル］―安息香酸エチルエス
    テル、4′―［(E)―２―（１，１，３，３―テトラ
    メチル―５―インダニル）プロペニル］アセトフ
    エノン、ｐ―［(E)―２―（５，６，７，８―テト
    ラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―
    ナフチル）プロペニル］―２―メチル―安息香酸
    エチルエステル、２―［ｐ―［(E)―２―（５，
    ６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テ
    トラメチル―２―ナフチル）プロペニル］フエニ
    ル］―４，４―ジメチル―２―オキサゾリン、ｐ
    ―［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―
    ５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）
    プロペニル］―安息香酸、ｐ―［(E)―２―（５，
    ６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テ
    トラメチル―２―ナフチル）プロペニル］―ベン
    ジルアルコール、ｐ―［(E)―２―（１，１，３，
    ３―テトラメチル―５―インダニル）ビニル］―
    安息香酸エチルエステル、ｐ―［(E)―２―（１，
    １，２，３，３―ペンタメチル―５―インダニ
    ル）プロペニル］―安息香酸エチルエステル、ｐ
    ―［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―
    ５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）
    プロペニル］―安息香酸エチルエステル、ｐ―
    ［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
    ５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）―１
    ―ブテニル］―安息香酸エチルエステル、ｐ―
    ［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
    ５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
    ペニル］―安息香酸ジエチルアミド、ｐ―［(E)―
    ２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
    ８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニ
    ル］―安息香酸モルホリド、ｐ―［(E)―２―
    （５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，
    ８―テトラメチル―２―ナフチル）プロペニル］
    ―安息香酸イソプロピルエステル、ｐ―［(E)―２
    ―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，５，
    ８，８―テトラメチル―２―ナフチル）］プロペ
    ニル］―安息香酸２―ジエチルアミノエチルエス
    テル、ｐ―［(E)―２―（５，６，７，８―テトラ
    ヒドロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナ
    フチル）プロペニル］―ベンズアルデヒド、4′―
    ［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
    ５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
    ペニル］―アセトフエノン、２―メチル―２―
    ［ｐ―［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒド
    ロ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチ
    ル）プロペニル］―フエニル］―１，３―ジオキ
    ソラン、α―メチル―ｐ―［(E)―２―（５，６，
    ７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラ
    メチル―２―ナフチル）プロペニル］―ベンジル
    アルコール、１，２，３，４―テトラヒドロ―６
    ―［(E)―ｐ―（１―メトキシエチル）―α―メチ
    ルスチリル］―１，１，４，４―テトラメチルナ
    フタレン、α―メチル―ｐ―［(E)―２―（５，
    ６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テ
    トラメチル―２―ナフチル）プロペニル］―ベン
    ジルアセテート、６―［(E)―ｐ，α―ジメチルス
    チリル］―１，２，３，４―テトラヒドロ―１，
    １，４，４―テトラメチルナフタレン、６―［(E)
    ―ｐ―イソプロピル―α―メチルスチリル］―
    １，２，３，４―テトラヒドロ―１，１，４，４
    ―テトラメチルナフタレン、６―［(E)―α，２，
    ４―トリメチルスチリル］―１，２，３，４―テ
    トラヒドロ―１，１，４，４―テトラメチルナフ
    タレン、１，２，３，４―テトラヒドロ―１，
    １，４，４―テトラメチル―６―［(E)―α―メチ
    ル―ｐ―ビニルスチリル］ナフタレン、１，２，
    ３，４―テトラヒドロ―１，１，４，４―テトラ
    メチル―６―［(E)―α―メチル―ｐ―アリルスチ
    リル］―ナフタレン、(E)―ｐ―［(E)―２―（５，
    ６，７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テ
    トラメチル―２―ナフチル）プロペニル］―ケイ
    皮酸エチルエステル、ｐ―［(E)―２―（５，６，
    ７，８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラ
    メチル―２―ナフチル）プロペニル］―安息香酸
    ベンジルエステル、４―ニトロベンジルｐ―［(E)
    ―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―５，
    ５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）プロ
    ペニル］―ベンゾエート、２―ヒドロキシエチル
    ｐ―［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ
    ―５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチ
    ル）プロペニル］―ベンゾエート、３―ｐ―
    ［［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―
    ５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）
    プロペニル］フエニル］―(E)―２―プロペン―１
    ―オール、３―ｐ―［［(E)―２―（５，６，７，
    ８―テトラヒドロ―５，５，８，８―テトラメチ
    ル―２―ナフチル）プロペニル］フエニル］―２
    ―プロペン―１―イルアセテート、又は３―ｐ―
    ［［(E)―２―（５，６，７，８―テトラヒドロ―
    ５，５，８，８―テトラメチル―２―ナフチル）
    プロペニル］フエニル］―２―プロペン―１―イ
    ルメチルエーテルである特許請求の範囲第１項記
    載の化合物。 １２ 一般式 の化合物を一般式 上記式（）及び（）において、ｎは１又は
    ２を表わし、そしてｎが１を表わす場合には、
    R1及びR2は水素又はC1〜6低級アルコキシを表わ
    し、或いはｎが２を表わす場合には、R1は水素
    又はC1〜6アルコキシを表わし且つR2は水素を表
    わし；R3，R4，R5及びR6は水素又はC1〜6アルキ
    ルを表わし；R7は水素、メチル又はエチルを表
    わし；R8及びR9は水素又は低級アルキルを表わ
    し；そしてR10は式―CH＝CH2、―CH＝CH―
    COO―（C1〜6アルキル）、【式】 【式】もしくは【式】の基又は４， ４―ジメチル―２―オキサゾリニル基を表わし、
    ここで、R12は水素又はC1〜6アルキルを表わし；
    R13は水素、C1〜6アルキル、ヒドロキシル、C1
    〜6アルコキシ又はC1〜6アルカノイルオキシを表
    わし；R15は水素、C1〜6アルキル、ヒドロキシ
    ル、C1〜6アルコキシ、ヒドロキシC1〜6アルコキ
    シ、ベンジルオキシ、ニトロベンジルオキシ、ジ
    エチルアミノエチルオキシ、随時C1〜6アルキル
    でモノ―もしくはジ―置換されていてもよいアミ
    ノ、又はモルホリノを表わし；そしてR20はC1〜6
    アルキレンジオキシを表わし；そしてＡは式
    【式】のトリアリールホスホニ ウムアルキル基を表わし、ここで、Ｒは水素原子
    又はメチルもしくはエチル基を表わし、Ｑはアリ
    ール基を表わし、Ｙは有機又は無機酸のアニオン
    を表わし、そしてＢはホルミル基を表わすか；或
    いはＡはホルミル、アセチル又はプロピオニル基
    を表わし、そしてＢは式【式】のジア ルコキシホスフイニルアルキル基を表わし、ここ
    にＲは上記した意味を有しそしてＺはC1〜6アル
    コキシ基を表わす、 の化合物と反応させ、そして所望により、得られ
    る化合物を塩に変えることを特徴とする一般式 式中、R1，R2，R3，R4，R5，R6，R8，R9，
    R10及びｎは前記の意味を有する、 の化合物及び塩の製造方法。
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