JPH0134993B2

JPH0134993B2 -

Info

Publication number: JPH0134993B2
Application number: JP54040421A
Authority: JP
Inventors: Auaru Rayosu; Karuto Eurin
Original assignee: Sandoz AG
Current assignee: Sandoz AG
Priority date: 1978-04-07
Filing date: 1979-04-05
Publication date: 1989-07-21
Also published as: CH635583A5; ES479408A1; GB2018243A; FR2421898A2; BE875359R; DE2912197C2; JPS54148791A; FR2421898B2; GB2018243B; DE2912197A1; NL7902588A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はチオキサントン類の製造に関する。更に詳しく述べるならば、本発明はチオキサン
トン類の製造方法を提供するものであつて、この
方法は対応する０，0′―ジハロゲンベンゾフエノ
ンを硫黄と又は硫化金属又は水硫化化金属と反応
させ、但し硫化金属又は水硫化金属を用いる場合
には相転移触媒の存在下に２相系で反応を実施
し、硫黄が用いられる場合にはアルカリ性媒体中
で反応を実施することを含んでなる。本発明で用いられる出発原料は下記式で示さ
れる化合物である。上式中、R₁及びR₂はそれぞれ独立に水素、
（C_1〜4）アルキル、（C_1〜12）アルコキシ又はハロ
ゲンを表わし、R₃はそれぞれ独立に（C_1〜4）ア
ルキルを表わし、R₄はそれぞれ独立に（C_1〜4）
アルキルを表わし、ｎ及びｍはそれぞれ独立に
０，１，２又は３を表わし、Ha１又はハロゲン
は塩素又は臭素を表わす。従つて、形成されるチオキサントン類は下記式
を有するものである。 R₁及び／又はR₂としてのいかなるアルキルも
１又は４個の炭素原子を有するのが好ましく、１
個の炭素原子を有するのが更に好ましい。 R₁及び／又はR₂としてのいかなるアルコキシ
も１〜８個、特に１〜４個の炭素原子を有するの
が好ましく、C₁及びC₄アルコキシ基、特にメト
キシ、であるのがもつとも好ましい。 R₁はR₁′即ち（C_1〜4）アルキル、（C_1〜8）アルコ
キシ又はハロゲンであるのが好ましい。R₁″はR₁
即ち（C_1〜4）アルコキシ又はハロゲンであるのが
更に好しい。もつとも好ましいR₁はハロゲンで
あり、塩素が特に好ましい。 R₂はR₂′即ち水素、ハロゲン又は（C_1〜4）アル
キルであるのが好ましい。R₂はR₂″即ち水素又は
ハロゲン、特に水素であるのが更に好ましい。 R₃はR₃′即ちメチル又はエチル、特にメチル、
好ましくは１位及び／又は４位にあるもの、であ
るのが好ましい。 R₄はR′₄即ちメチル又はエチル、特にメチル、
好ましくは５位及び／又は８位にあるもの、であ
るのが好ましい。 Halは好ましくは塩素である。ｎは好ましくはn′即ち０，１又は２、更に好ま
しくはn″即ち０又は１である。ｍは好ましくはm′即ち０又は１、もつとも好
ましくは０である。従つて、好ましい出発原料は式においてR₁
及びR₂がそれぞれR₁′及びR₂′であり、ｍがm′で
あり、ｎがn′である化合物、特にR₂が水素又はハ
ロゲンである化合物である。更に好ましい出発原料は下記式′で示される
化合物である。上式中、R₁″，R₃′及びn″は前記規定に同一のも
のを表わす。特に、R₁″がハロゲン、好ましくは
塩素である化合物が好ましく、Halが塩素である
化合物がもつとも好ましい。０，0′―ジハロゲンベンゾフエノンがアルカリ
性媒体中で硫黄と反応される場合、反応は溶剤の
存在下に又はその介在なしに実施することができ
る。しかしながら、溶剤を用いる方が好ましい。溶剤を用いる場合、その性質は特に制限されな
い。従つて、非極性溶剤又は極性溶剤を用いるこ
とができる。エーテル、カルボニル、ヒドロキシ
ル、シアニド、スルホキシド及びスルホン基の如
き極性基を含む溶剤を用いるのが好ましい。これ
らのうちでは、エーテル、カルボニル、ヒドロキ
シル及びスルホキシドから選ばれる１個又はそれ
以上の基を含む溶剤が好ましい。更に、異なる溶
剤の混合物、例えば極性溶剤と非極性溶剤との混
合物、を用いることもできる。適当な溶剤として
はメタノール、エタノール、プロパノール、ブタ
ノール、高級アルコール、グリコール、ポリグリ
コール、２―メトキシエタノール、ジエチレング
リコール―ｎ―モノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリ
コール及び関連化合物、ジメチルスルホキシド、
Ｎ，Ｎ―ジメチルアセトアミド、Ｎ―メチルピロ
リドン、ヘキサメチル燐酸アミド又はスルホラン
がある。好ましい溶剤は極性基を有し、80℃以上
の融点を有するものである。用いられる溶剤は水
を含んでいてもよい。しかしながら、水の量はベ
ンゾフエノン出発原料を溶液から析出させるよう
な量より少なく保持しなければならない。用いられる溶剤の量は特に制限されない。反応
混合物はベンゾフエノン１モル当り約50〜100ml
の溶剤を含むペーストであつてもよい。用いられ
る溶剤の量は反応混合物が容易に撹拌されるに十
分なものであるのが好ましく、これは反応温度と
反応混合物の融点とに大きく依存する。反応は硫黄とジハロベンゾフエノン出発原料と
を少くとも1.5：１の比で用いて実施される。ア
ルカリ性反応化合物はベンゾフエノン化合物に対
して３：１の比で用いられる。アルカリ性媒体を与えるのに適当な化合物は水
酸化物、炭酸塩、重炭酸塩及びアルコラートであ
る。アルカリ又はアルカリ±化合物は30〜50％水
溶液及び／又はアンモニア中で用いられるのが好
ましい。好ましいアルカリ化合物は水酸化アルカ
リ又は炭酸アルカリであり、ナトリウム又はカリ
ウム化合物、特に水酸化ナトリウム又はカリウム
がもつとも好ましい。反応が溶剤なしにメルトに
おいて実施される場合、攻撃性の小さい炭酸塩を
用いるのが好ましい。反応温度は特に制限されない。適当な反応温度
は50〜250℃、好ましくは60〜160℃、更に好まし
くは70〜140℃の範囲であり、75〜120℃であるの
がもつとも好ましい。反応が２相系において硫黄、硫化金属又は水硫
化金属を用いて実施される場合、この系は水相と
有機相とからなる。適当な有機溶剤は水相に不溶
なもの、例えばベンゼン、トルエンその他、であ
る。しかしながら、用いられる有機溶剤は出発原
料及び相転移触媒が少くとも部分的にそれに溶解
されるようなものでなければならない。反応条件
はベンゾフエノンが実質的に全部有機相中にあ
り、無機反応物が水相中にあるように選ばれる。好ましい反応温度は２相系反応に対しては約70
℃である。更に、単一相系で硫黄を用いる反対に対して前
述した如きアルカリ性化合物は硫黄を用いる２相
系反応に対しても用いられる。また、硫化金属又
は水硫化金属が２相系反応に用いられる場合に
は、反応媒体はそのようなアルカリ性媒体を含む
のが好ましい。用いられる硫黄の量は単一相反応に対する場合
と同じである。硫化金属又は水硫化金属とジハロ
ベンゾフエノンとは等モル量で用いられるのが適
当である。硫化物又は水硫化物は10〜30モル％過
剰で用いられるのが好ましく、これにより水相に
おけるその濃度は飽和に近いものとなる。相転移触媒はオニウム塩、好ましくはアンモニ
ウム又はホスホニウム塩である。このようなオニ
ウム塩はそれ自体公知である。それらの例は、ト
リエチルベンジルアンモニウムクロリド、メチル
トリカプリルアンモニウムクロリド、メチルトリ
オクチルアンモニウムクロリド又はヘキサデシル
トリブチルホスホニウムブロミドの如き第四級ア
ンモニウム塩又は第四級ホスホニウム塩を含む。
しかしながら、好ましい触媒はテトラブチルアン
モニウム、テトラドデシルアンモニウム、テトラ
ブチルホスホニウム等の如きより多きなカチオン
を有するものである。オニウム塩の濃度は特に制限されない。ベンゾ
フエノン出発原料に対して好ましくは１〜100モ
ル％、更に好ましくは１〜20モル％のオニウム塩
が用いられる。本発明で用いられる硫化金属及び水硫化金属は
硫化もしくは水硫化アルカリ金属もしくはアルカ
リ土類金属である。硫化ナトリウムを用いるのが
特に好ましい。式の出発原料は公知であるか又は入手可能な
出発原料から公知の方法に従つて製造することの
できるものである。本発明の方法に従つて製造されたチオキサント
ン類はフオトイニシエーターとして有用である。下記の例は本発明を更に説明するためのもので
ある。例中、温度は摂氏で示す。例１ 12.5ｇの２，2′―ジクロロベンゾフエノン及び
４ｇの硫黄を40mlのＮ―メチルピロリドンに添加
した。90〜97゜のこの懸濁液を、７ｇの水中７ｇ
の水酸化ナトリウムの溶液を１時間で添加して処
理した。これにより茶色味の混合物が得られた。
次に、混合物を90゜で0.5時間撹拌し、この比較的
濃い混合物を20mlのメタノール及び20mlの水で処
理した。沈澱を10゜で吸引過し、水洗し、90゜で
乾燥した。10ｇの下記式のチオキサントンが得ら
れた（融点217〜218゜）。例２ 14.3ｇの２，2′，５―トリクロロベンゾフエノ
ン及び４ｇの硫黄を40mlの２―メトキシエタノー
ルに添加した。この混合物に７ｇの水中７ｇの
NaOHの溶液を107〜113゜において45分間で少し
づつ添加し、これにより反応生成物が一部沈澱し
た。混合物を約107゜で更に３時間撹拌し、冷却
し、20mlのメタノール及び10mlの水で処理した。
沈澱を吸引過し、水洗し、90゜で乾燥し、11.6
ｇの下記式の２―クロロチオキサントンを得た
（融点154〜155゜）。上記と同様にし、２―メトキシエタノールの代
りに同じ量のＮ―メチルピロリドンを、また
NaOHの代りに15ｇのNa₂CO₃を用いて、同じ生
成物を得た。例３ 14.3ｇの２―2′，５―トリクロロベンゾフエノ
ン及び3.2ｇの硫黄を撹拌器及び還流コンデンサ
ーを備えた三ツ口フラスコ中で40mlのエタノール
に添加した。この混合物に75℃において１時間で
20.7ｇのK₂CO₃を添加し、これにより混合物は茶
色になつた。４時間撹拌後、混合物を４mlの水で
処理し、次いで還流下に13時間沸騰した。沈澱を
10゜で吸引過し、エタノールで洗浄し、中性に
なるまで水洗し、ウオーター真空中80゜で乾燥し
た。10.2ｇの２―クロロチオキサントンが得られ
た（融点154〜155゜）。例４ 14.3ｇの２，2′，５―トリクロロベンゾフエノ
ン、40mlのベンゼン、3.2ｇの硫黄、20ｇの50％
水酸化ナトリウム及び5.1ｇのヘキサデシルトリ
ブチルホスホニウムブロミドを窒素雰囲気中70゜
の温度で撹拌した。反応の間に更に3.2ｇの硫黄
と３ｇのヘキサデシルトリブチルホスホニウムブ
ロミド（１ｇづつ３回添加）とを添加した。22時
間の反応時間後、反応混合物を室温まで冷却し
た。20mlのメタノールを添加後、沈澱を過し、
メタノール及び水で洗浄し、乾燥した。11ｇの２
―クロロチオキサントンが得られた（融点155゜）。例５ 14.3ｇの２，2′，５―トリクロロベンゾフエノ
ン、40mlのベンゼン、7.4ｇの硫化ナトリウム三
水塩、20mlの50％水酸化ナトリウム及び5.1ｇの
ヘキサデシルトリブチルホスホニウムブロミドを
窒素雰囲気下、スルホン化容器中、70゜で撹拌し
た。４時間後、１ｇのヘキサデシルトリブチルホ
スホニウムブロミドを添加した。更に２時間撹拌
後、混合物を冷却し、沈殿を過し、メタノール
及び水で洗浄し、乾燥した。8.6ｇの２―クロロ
チオキサントンが得られた（融点154゜）。例１〜５に述べた操作と同様にして下記の表に
示す化合物を製造することができた。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１下記式、〔上式中、R₁およびR₂はそれぞれ独立に水素、
（C_1〜4）アルキル、（C_1〜12）アルコキシ、塩素ま
たは臭素を表し、R₃およびR₄はそれぞれ独立に
（C_1〜4）アルキルを表し、ｍおよびｎはそれぞれ
独立に０，１，２または３を表す〕で示されるチオキサントン化合物を製造するに当
り、下記式、〔上式中、R₁，R₂，R₃，R₄，ｍおよびｎは前
記規定に同一のものも表し、Halは塩素または臭
素を表す〕で示される化合物をアルカリ性媒体中で硫黄と反
応させることを特徴とする方法。２ R₁が水素、メチル、塩素または臭素であり、
R₂が水素、メチルまたは塩素であり、R₃および
R₄がメチルであり、ｍが０または１であり、ｎ
が０，１または２である、請求項１記載の方法。３ Halが塩素である。請求項１または２記載の
方法。４下記式、〔上式中、R₁およびR₂はそれぞれ独立に水素、
（C_1〜4）アルキル、（C_1〜12）アルコキシ、塩素ま
たは臭素を表し、R₃およびR₄はそれぞれ独立に
（C_1〜4）アルキルを表し、ｍおよびｎはそれぞれ
独立に０，１，２または３を表す〕で示されるチオキサントン化合物を製造するに当
り、下記式、〔上式中、R₁，R₂，R₃，R₄，ｍおよびｎは前
記規定に同一のものも表し、Halは塩素または臭
素を表す〕で示される化合物を相転移触媒の存在下に２相系
で硫化アルカリ金属、硫化アルカリ土類金属また
はこれらの金属の１種の水硫化物と反応させるこ
とを特徴とする方法。５ R₁が水素、メチル、塩素または臭素であり、
R₂が水素、メチルまたは塩素であり、R₃および
R₄がメチルであり、ｍが０または１であり、ｎ
が０，１または２である、請求項４記載の方法。６ Halが塩素である、請求項４または５記載の
方法。７反応が硫化ナトリウムを用いて行われる、請
求項４記載の方法。