JPH01320793A - 電弧装置 - Google Patents

電弧装置

Info

Publication number
JPH01320793A
JPH01320793A JP63119461A JP11946188A JPH01320793A JP H01320793 A JPH01320793 A JP H01320793A JP 63119461 A JP63119461 A JP 63119461A JP 11946188 A JP11946188 A JP 11946188A JP H01320793 A JPH01320793 A JP H01320793A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
electric arc
gap
arc
coils
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63119461A
Other languages
English (en)
Inventor
Vasiliev Voronin Alexandr
アレクサンドル バシリエビチ ボローニン
Mikhajlov Kuznetsov Vladimir
フラディミール ミハイロビチ クズネトソフ
Petrov Peregud Boris
ボリス ペトロビチ ペレグド
Ivanov Rusakov Alexandr
アレクサンドル イバノビチ ルサコフ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FIZ TECH INST IM AF IOFFE AN SSR
Original Assignee
FIZ TECH INST IM AF IOFFE AN SSR
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FIZ TECH INST IM AF IOFFE AN SSR filed Critical FIZ TECH INST IM AF IOFFE AN SSR
Publication of JPH01320793A publication Critical patent/JPH01320793A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B7/00Heating by electric discharge
    • H05B7/18Heating by arc discharge

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気工学の技術に関し、さらに詳しくは電弧装
置に関する。それは真空電弧炉における溶接、溶解のご
とき導体の熱処理およびスプレィによって金属を沈澱さ
せる冶金技術に応用できる。
〔従来技術〕
真空電弧炉における金属の熱処理において、ある場合電
極間の電弧間隙における電弧の位置を安定化し電弧が電
極の側壁についたり真空室の壁についたりすることを防
いで爆発の場合にも室から燃え出すことを防くことが要
求される。さらに電弧間隙における電弧装置の安定化は
溶接において電極の溶接の高品質化のみならず電弧炉に
おける金属の溶解においても要求される。
従来の電弧装置(US、A、2978525)は電弧間
隙によって分離された2つの並べられた電極と電極をと
りかこみそれと同軸にマウントされたソレノイドを有す
る。電弧間隙におけるソレノイドによって発生する−様
な磁界は電弧を電弧間隙の帯域に限定して電極や真空室
の側壁□に電−が達しないようにしている。しかしなが
ら電弧間隙における電弧装置は安定しておらず電弧は電
極間でランダムに動いていた。
また従来の他の電弧装置(US 、 A 、 3636
228)は電弧間隙によって分離された2つの並べられ
た電極と電極と同軸に動作表面に近い負電極の内側にマ
ウントされたコイルを有する。この装置においては、コ
イルによって生ずる不均一磁界の影響をうける電弧が負
電極の動作面をこえて移動して電極間隙における電弧装
置の安定が得られない。
また従来のさらに他の電弧装置(SU、 A、 126
7633)は−線にマウントされその間に電弧間隙を形
成する2つの円筒状電極と電極軸と垂直な電弧間隙の中
央を通る面に電極のまわりにそれと同軸□に配置された
円筒状コイルとして形成された電弧間隙に電弧の位置を
安定化させる手段を含んでいる。コイルは電弧を電極軸
に限定する。この装置はさらに電弧を電極のまわりにそ
の軸と平行に等しい間をおいてもうけた少くとも3つの
電流導体ロンドとして形成された電極の表面を移動させ
る手段を有している。
この装置の欠点は電弧を電極軸に限定するに要する本質
的な電力消費である!これは電弧間隙のコイルによって
発生する非一様な磁界はむしろ低平均強度レヘルと電極
軸からその周辺に発生する磁界強度の低勾配のためであ
る。そこで電弧装置の安定を効果的にするために、コイ
ルを励磁するために充分な高電力消費を必要とすメ。か
くして直径200+amの電極軸に近く50A直流電弧
を□維持するために5kW以下でない出力をもった電源
がコイルを励磁するために必要となる。
SKI、 A、 1267633による装置のみならず
、電弧を電極の表面にわたって動かすためには実質的な
電力消費をともなう。これが電流導体ロンドに対する高
電力損失に追加される。
〔解決すべき課題〕
本発明の主たる目的は磁界が電極の周辺に向って高強度
上昇勾配をもって発生され電弧間隙における電弧装置を
安定にするための電力消費を少なくすることの可能な電
弧装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
この目的を達成するために電弧間隙によって分離された
2つの並べられた電極とその電極をかこむ円筒状コイル
を含みその軸に垂直な面にマウントされた電弧間隙に電
弧装置を安定化する手段を含む電弧装置に於て、本発明
によれば電弧間隙に電弧装置を安定化させる手段が前記
電極をとりかこみ前記第1のコイルから電弧間隙の値よ
り小さい位置に前記第1のコイルとともに配置されたさ
らに円筒状コイルを有し、前記コイルはその中を流れる
電流の方向が反対になるように電源に接続され、電弧間
隙の中央を通る平面に対する前記コイルの位置は前記平
面に対して対称である前記コイルの第1の位置とこの平
面にあるコイルと負電極#か槃に向って移動する他のコ
イルの位置によって制限されることを特徴とする電弧装
置が提供される。
前記のように逆に電気的に接続されて配列された2つの
円筒状のコイルは電弧間隙の帯域において増加する平均
強度とコイルの軸から放射状方向に急に上昇する磁界を
発生する。か・る磁界は電弧位置の安定により改良され
た特性を示し、コイルを励磁するに要する電力消費を減
少させることができる。電極軸に垂直な電弧間隙の中央
を通る面に対するコイルの位置の限界は実験によって決
められたものである。
この主たる目的を達成するためにさらに電弧間隙によっ
て分離された2つの並べられた電極とコイルを含む電弧
間隙に於る電弧を安定化する手段を含む電弧装置におい
て、本発明によれば電弧間隙に電弧の位置を安定化する
ための手段が少くともさらに1つのコイルをそなえ各コ
イルは円筒状表面のまわりに曲げられた矩形ループとし
て形成され、前記コイルは前記電極のまわりにその弓形
の側がそれぞれ2つの周辺を形成しその中心が前記電極
の軸に平行な線上にあるようにマウントされ、近隣のコ
イルの相となり合せる直線側に沿って流れる電流がその
方向が逆になるように電源に接続され、各コイルの直線
側の長さが電弧間隙の値よりも小であり電極の軸に垂直
な電弧間隙の中央を通る面に対するコイルの位置が2つ
の位置すなわちコイルが前記平面に対称である第1の位
置および前記コイルが負電極に向って移動し弓形の側が
前記平面にある第2の位置によって制限されることを特
徴とする電弧装置が提案される。
この電弧装置の実施例においては、矩形コイルの弓形側
はあたかも2つの円筒状コイルが矩形コイルの直線側の
長さに等しい距離に離れておかれるように形成される。
矩形コイルの弓形側にそって逆方向に流れる電流は同様
の形の磁界、すなわちまかれたコイルが曲げられた円筒
状の表面の軸に沿ってさらにシャープに限定された最小
強度を有しより高い平均レベル強度をもった磁界を発生
する。こ・に電弧装置の2つの実施例は電弧間隙におけ
る電弧位置の安定度の改良に関する限り設計は等価であ
る。第1の実施例に比べて第2の実施例は付加的機能を
遂行できる。すなわち電弧を電極の面にわたって動かし
、この動かすことにより消費される電力はSO,A、1
267633に開示された従来の装置に比べて減少して
いる。
以下本発明にか・る実施例を図面により詳細に説明する
〔実施例〕
本発明にか・る電弧装置は正電極1とそれと一線に並べ
られ配置された負電極2を有しく第1図)、これらは例
えば真空室3内において電流リード5を介して電源4に
接続される。電極1および2の端面はその間に放電間隙
6を形成する。
装置はさらに電極1および2のまわりに例えばそれらと
同軸にマウントされた2つの同様なコイルアおよび8に
よって形成されて電弧間隙における電弧の位置を安定化
する手段を有する。一般の場合には、コイル7.8を電
極1,2と同軸に配置することは必ずしも必要ではない
。もし電弧が電極1.2の軸でなく電弧間隙6の他の場
所に維持さるべきときにはコイル7.8の軸は電極1゜
2の軸に対して対応する距離だけ移動させなければなら
ない。
コイル7.8のおのおのの直径はその厚さや高さに比べ
て非常に大きい。この場合に非一様磁界の生成に関する
限りコイルは電流ループに類似である。
コイル7.8は直流もしくは交流電源9に接続されそこ
を流れる電流は逆方向になるようになっている。第1図
はコイル7.8が直列に接続された場合を示しているが
これらは並列に接続することも可能である。さらにまた
コイル7.8のおのおのは個々の電源に接続することも
可能である。
これらコイルの電源への接続はコイルの1つに流れる電
流の方向が他のコイルに流れる電流の方向と反対である
ことが重要である。何となればこの場合のみコイル7.
8によって生じた磁界の相互作用により合成磁界が要求
される配列となるからである。
コイル7.8は摩擦または他の適当な手段でチャンバー
3に保持または固定される。
コイル7.8間の最小間隔は電源間隙の値に等しい。こ
の条件は全電源の位置をコイル7.8によって生じた限
られた磁界領域の中に保つために必要である。もしコイ
ル7.8の間隔が電源間隙よりも小さいと電弧の部分が
限られた領域からはみ出して電源制御不能の過程が観測
される。
コイル7.8の最大間隔は電源間隙6の所望の点に合理
的な電力消費をもって電弧を効果的な範囲に提供する磁
界の発生の要求によってきめられる。
電弧が電極1,2の表面にわたって移動するために、装
置はSll、 A、 1267633に対応する装置に
用いられたロッドと同様な電流導通ロッド10 (第2
図)を有する。ロッド10は電極1.2のまわりにその
軸に平行に等しい間隔をもっておかれる。
ロッド10を付勢するための電源および電弧の経路を電
極1.2の表面に所定のように提供する手段は第1、第
2図には図示しない。それは本発明の要部とは関係ない
からである。
電極1,2の軸に沿ったコイル7.8の位置はまた電源
間F!6内に好都合に制限された特性をもった磁界を提
供するように限定される。実験によればこの条件はコイ
ル7.8がつぎの2つの極限の位置の間にあるときに満
たされることがわかった。その第1の極限の位置はコイ
ル7.8が電極1.2の軸に垂直に電源間隙6の中央を
通る平面11に対して対称である位置であり、第2の極
限の位置はコイルの1つたとえばコイル8がこの平面に
あり他のコイル7がコイル8に対して負電極2に向って
移動した位置である。第1図においてこの平面11は点
線で示しである。換言すればコイルの1つ、例えばコイ
ル8が平面11から正電極1の方向に0からβ/2(こ
−にβはコイル7゜8間の距離である)の範囲にある距
離にまたコイ−ルアが平面11から負電極2に向ってI
l/2からβの範囲にある距離に向って移動した位置で
ある。
前記平面11に対するコイル7.8の他の位置に対して
はコイル7.8によって形成される磁界が電弧を限定す
る能力を失い、電弧はランダムに電極1.2の表面を移
動する。発明者等はコイル7゜8の最適位置はコイル8
が正電極1の端表面の平面にありコイル7,8間の距離
が電源間隙6の2倍である場合であることを見出した。
(こ・にまた今後「コイルが平面にあるという表現」は
電源間隙6に面するコイルの端面がこの平面に配置され
ることを意味する。) コイル7.8の直径、捲数、電流のごときパラメータは
電弧のパラメータ、電極1.2の直径、電源間隙6の値
、によって計算もしくは実験的に選択される。
第3図および第4図は前の実施例とは異なる他の実施例
を示し、電源間隙に電弧の位置を安定化させるための手
段が第1および第2図に示すコイル7.8とはことなっ
た構成の例えば3つの同しく13) コイル12を有している。コイル12のおのおのは円筒
状表面のまわりに折れ曲った矩形ループをなしておって
コイルは2つの弓形側13 、14と2つの直線側15
有している。コイル12はサポート16でチャンバー3
のまわりにマウントされ、その直線側15は電極1,2
の軸と平行であり弓状側はその中心が電極1,2の軸に
平行な線上にあるそれぞれ2つの周辺を形成する。第3
および第4図の特殊な場合においてはコイル12の弓状
側13 、14によって形成される側の中心が電極1.
2の軸にある。各コイル12の直線側15の長さは電源
間隙6の値よりも小でない。またコイル12間の距離は
できるだけ小であるべきで、好ましくは相となるコイル
12の相となる直線側は第4図に示すように接近してと
なり合うように形成される。
コイル12は電源9に接続され、お互に直列に接続され
となり合せる直線側15(第3図)に沿って流れる電流
が反対方向になるようになっている。この場合1平面上
の弓形状側13もしくは14に流れる電流は同一方向で
あって弓形状側13に流れる電流の方向は弓形状側14
に流れる電流とは逆方向である。コイル12を電源9に
接続する他の方法(第4図)もまた可能である。例えば
それぞれがお互に並列に接続されることもでき、または
それらが別々の電源によって付勢されることも可能であ
る。電源9は直流電源でもよく交流電源でもよい。
各コイル12のリードの間に可変抵抗17がおかれる。
抵抗17の代りに電弧の経路に対して要求されるように
コイル12の電流を変えることのできる制御回路を用い
ることも可能である。めいる回路は当業者により従来周
知の回路であるから第3図および第4図には示さない。
本発明に力いる第1の実施例として、コイル12の厚さ
はコイルの曲げられている円筒状表面の半径よりもまた
その直線側15 (第3図)の長さよりも小さい寸法で
ある。この場合コイル12は同じ形状の電流ループと同
しような形状の磁界を提供する。
電極1.2の軸に沿ったコイル12の位置は第1図およ
び第2図に示すように2つの極限の位置によって限定さ
れる。第1の極限の位置においてはコイル12の位置は
電極1.2の軸に垂直な電源間隙6の中央を通過する平
面11に対して対称であり、第2の極限の位置において
はコイル12は負電極に向って移動し弓形状側14は平
面11の上にある。コイル12の好ましき位置は弓形状
側14が正電極1の端面にありその直線側15の長さが
電源間隙6の値の2倍であるときである。
第1.2図および第3,4図に示す装置の実施例は電源
間゛隙6の中に電弧位置を効果的に安定させる磁界を電
源間隙6に発生する問題を解決する点において等価であ
る。この両方の場合、磁界は軸によって分離され電流が
逆方向に流れるように電気的に逆に接続された電極1,
2をとのかこむ環状素子によって発生する。第1図およ
び第2図に示した本発明の第1の実施例においては、そ
のような環状素子は円筒状コイル7.8によって形成さ
れ、第3図および第4図に示した第2の実施例において
は、1つの環状素子はコイル12の弓形状の側13によ
って形成され、他の環状素子は弓形状側14によって形
成される。本発明の第1の実施例に比べると第2の実施
例は他の付加機能、すなわち電源間隙6において電弧を
移動する機能を果すことができる。この機能はコイル1
2に種々の値の電流を流すことによって行なわれる。
もし電弧の位置および電弧の一方向の移動のみ行うこと
が必要なときは、第3図および第4図に示す装置におけ
るコイル12の最少数は2である。
もし電弧をその位置を安定に任意の方向に移動させる必
要がある場合はコイル12の最小数は3である。
以上述べた本発明の実施例は等価であるから、第1図お
よび第2図による装置の説明においてのべたコイルパラ
メータに関する考慮は第3図および第4図に示した装置
にも適用できる。
電源装置はつき゛のごとく動作する。
電源4 (第1図)を投入すると電極が励磁され電源間
隙6に電気放電を発生するに充分な電圧が印加される。
同時に電源9が投入される。これにより逆方向の電流が
コイル7.8を通して流れる。
電源間隙6に非一様の磁界が形成され、これは1つのコ
イルによって等電力消費をもって生成された磁界に比べ
てコイル7.8の軸にシャープに限定された最小強度を
有している。これは第5図に示すように、第1図の装置
においてコイル7゜8に垂直で電源間隙6の中央を通る
面における磁界強度のモジュラスの分布が実線によって
示されている。コイル7.8は電源間隙6に等しい距離
におかれ電源間隙6の値はコイル7.8の半径に等しい
。磁界強度のモジュラス(H)とコイル7゜8の軸から
の距離ρの値は相対単位で示されている。比較のために
、電源間隙の半分に等しい距離にあるコイルから遠い面
に同じパラメータをもつ単一コイルによって発生する磁
界強度のモジュールの分布を点線にて示す。
反磁性質を呈する電弧は電源間隙6内に磁性強度の最小
領域に配置される。そうすると磁界強度の高い勾配によ
って、電弧位置のさらに有力な安定が電源間院内に得ら
れる。もし同じ磁界限定性質をSU、 A、 1267
633による装置に持続することができるならばこの磁
界を生ずるときの電力消費はそれに対応して減少する。
等しい値の電流が第3図および第4図に示す装置のコイ
ル12に流れると、隣り合うコイル12の相となる直線
側15に沿って流れる電流によって発生される磁界は互
に相殺される。この場合、コイル12によって形成され
る円筒の軸に沿って電弧位置を安定化させ装置の動作は
第1図、第2図に示した装置と同様にすることも可能で
ある。
電弧を電源間院内を移動させるためにミ1もしくは2つ
のコイル12の電流値がそれぞれの抵抗によって変化さ
れる。たとえば、コイル12のいずれかの電流を減らす
と電弧はこのコイルの中心を通る半径に沿ってこのコイ
ルに近づく。コイル12に流れる電流をそれぞれ変える
ことによって、電源間隙6内における電弧の経路を要求
された通りに提供することが可能である。そうすること
によって、電弧を移動させるために消費される電力はS
U、 A、 1267633による装置において消費さ
れる同様な電力に比べて減少する。何となればコイル1
2における電流値の変動によって、電源間隙6において
最小磁界強度領域が移動し電弧がこの領域にとパまるか
らである。電弧位置の安定および電弧の移動に関するか
ぎり電弧位置の制御に消費される全電力はそれぞれ減少
するからである。
第1、第2図および第3、第4図に示される装置の実施
例を比較すると、第3、第4図に力いる装置の利点は電
弧の移動のために特殊な素子を必要とせず電弧を制御す
るための全電力消費が減少できる点にあるということが
できる。さらに第3、第4図に力いる装置の構成は装置
の他の素子を取り外すことなくコイルをとり外すことが
できるのでサービス面においてさらに好都合である。同
時に、真空電弧炉内でチタニウムを溶解するごとき電源
装置のある応用分野においては、チャンバーの水冷壁を
通して電弧が燃焼して爆発を生ずることがある。これを
考慮に入れると、第3、第4図に力いる装置の実施例は
操作の信頼性は低い。何となればコイル12の1つが故
障すると電弧が移動して真空室の壁に達するからである
本発明に力いる電源装置の特殊な実施例における数値的
特性を下記に示す。
第1図、第2図にか・る電源装置 電極の直径:  200mm 電極の材料:チタニウム 電源間隙の値:5Qmm 電弧の直径:15mII 電源電流:5〇八dc コイル直径:250鰭 コイル厚さおよび高さ:251m 各コイルの巻数:500 コイル間の距離:100 1つのコイルは正電極の端子函にある 各コイルの電流:5Adc コイルの消費型カニ〇。5V 第3図、第4図に力いる電源装置 電極の直径:  200m璽 電極の材料:チタニウム 電源間隙の値=50龍 電弧の直径:15鰭 電源電流: 50 A dc コイルの数=3 コイルの厚さ:25N 各コイルの巻数:500 コイルの弓形側の半径:  125mmコイルの直線側
の半径:  100mm各コイルの電流: 5’A d
c 以上のデータに見られるように、本発明によれば電弧の
位置を制御するための消費電力を10分の1に減少する
ことができる。
〔発明の効果〕
本発明は真空電弧炉内にて金属を溶接もしくは熔解した
り、スプレィによって金属を沈澱したりするような導体
の熱処理に対する冶金技術に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の1つにか・る電源装置を示し
、 第2図は第1図の線n−nに沿った断面図を示し、 第3図は本発明の他の実施例にか・る電源装置を示し、 第4図は第3図の線IV−TVに沿った断面図を示し、 第5図は本発明にめいる装置と従来装置において電極間
隙における磁界強度のモジュラスの分布をブロソトシた
図である。 記号の説明 ■・・・正電極、     2・・・負電極、3・・・
真空室、      4・・・dc電源、5・・・電流
IJ −1”、   6・・・電弧間隙、7.8・・・
コイル、    9・・・電源、10・・・電流導通ロ
ッド、 11・・・電極の軸に垂直な電弧間隙の中央を通る面、 12・・・コイル、 13 、14・・・コイルの弓形側、 15・・・コイルの直線側、 16・・・サポート、   17・・・抵抗、β・・・
コイル7.8間の距離、 IHI・・・磁界強度のモジュール、 ρ・・・コイル7.8の軸よりの距離。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、電弧間隙(6)によって分離された2つの並べられ
    た電極(1、2)と該電極(1、2)を囲む円筒状コイ
    ル(7)を含みその軸に垂直な面にマウントされた電弧
    間隙に電弧位置を安定化する手段を含む電弧装置におい
    て、電弧間隙に電弧位置を安定化させる手段が前記電極
    (1、2)をとりかこみ前記第1のコイル(7)から電
    弧間隙(6)の値より小さい位置に前記第1のコイル(
    7)とともに配置されたさらに円筒状コイル(8)を有
    し、前記コイル(7、8)はその中を流れる電流の方向
    が反対になるように電源(9)に接続され、電弧間隙(
    6)の中央を通る平面(11)に対する前記コイル(7
    、8)の位置は前記平面(11)に対して対称である前
    記コイル(7、8)の第1の位置とこの平面(11)に
    あるコイル(8)と負電極(8)に向って移動する他の
    コイル(7)の位置によって制限されることを特徴とす
    る電弧装置。 2、電弧間隙(6)によって分離された2つの並べられ
    た電極(1、2)と、コイル(12)を含む電弧間隙に
    おける電弧を安定化する手段を含む電弧装置において、
    電弧間隙に電弧の位置を安定化するための手段が少くと
    もさらに1つのコイル(12)をそなえ各コイル(12
    )は円筒状表面のまわりに曲げられた矩形ループとして
    形成され、前記コイル(12)は前記電極のまわりにそ
    の弓形の側(13、14)がそれぞれ2つの周辺を形成
    しその中心が前記電極(1、2)の軸に平行な線上にあ
    るようにマウントされ、近隣のコイル(12)の相とな
    り合せる直線側(15)に沿って流れる電流がその方向
    が逆になるように電源(9)に接続され、各コイル(1
    2)の直線側(15)の長さが電弧間隙(6)の値より
    も小であり、電極(1、2)の軸に垂直な電弧間隙(6
    )の中央を通る面(11)に対するコイル(12)の位
    置が2つの位置すなわちコイル(12)が前記平面(1
    1)に対称である第1の位置および前記コイル(12)
    が負電極(2)に向って移動し弓形の側(14)が前記
    平面(11)にある第2の位置によって制限されること
    を特徴とする電弧装置。
JP63119461A 1988-05-03 1988-05-18 電弧装置 Pending JPH01320793A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE8801660A SE461761B (sv) 1988-05-03 1988-05-03 Elektrisk ljusbaaganordning

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01320793A true JPH01320793A (ja) 1989-12-26

Family

ID=20372209

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63119461A Pending JPH01320793A (ja) 1988-05-03 1988-05-18 電弧装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4931702A (ja)
JP (1) JPH01320793A (ja)
DE (1) DE3816772A1 (ja)
FR (1) FR2631507B1 (ja)
GB (1) GB2218604A (ja)
SE (1) SE461761B (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05159851A (ja) * 1991-12-06 1993-06-25 Mitsubishi Electric Corp 高電流密度グロー放電スイッチ
JP2861757B2 (ja) * 1992-11-10 1999-02-24 三菱電機株式会社 真空バルブの電極装置
US5708677A (en) * 1995-04-21 1998-01-13 Sandia Corporation Arc voltage distribution skewness as an indicator of electrode gap during vacuum arc remelting
JP3456066B2 (ja) * 1995-09-19 2003-10-14 三菱電機株式会社 アーク制御装置
IT1289001B1 (it) * 1996-10-14 1998-09-25 Danieli Off Mecc Sistema per l'agitazione elettromagnetica del metallo liquido in forni elettrici ad arco a corrente continua
US5956366A (en) * 1997-02-26 1999-09-21 Nkk Steel Engineering, Inc. Arc furnace and method in which molten material is stirred and the arc is guided
US6549557B1 (en) 2001-05-18 2003-04-15 Ucar Carbon Compan, Inc. AC arc furnace with auxiliary electromagnetic coil system for control of arc deflection
US7893588B1 (en) * 2007-02-22 2011-02-22 Galaxy, LLC Magnetic electron exciter and methods
CN104661349B (zh) * 2014-12-11 2016-05-11 中国航天空气动力技术研究院 高压低烧蚀管式电极
JP7316573B2 (ja) * 2018-12-19 2023-07-28 パナソニックIpマネジメント株式会社 溶接システム及びそれを用いたワークの溶接方法
CN111912227A (zh) * 2020-07-30 2020-11-10 清华大学 一种动态加载耦合交变电流的快速烧结设备及烧结方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB252037A (en) * 1924-12-11 1926-05-11 George Evreynoff Improvements in or relating to electric furnaces
US2164024A (en) * 1935-12-07 1939-06-27 Ig Farbenindustrie Ag Electric arc furnace
US2978525A (en) * 1957-06-11 1961-04-04 Heraeus Gmbh W C Magnetic field coil for concentrating the arc in a vacuum arc furnace
GB1130594A (en) * 1966-05-05 1968-10-16 Vnii Elketrosvarochnogo Oboru A device for the welding of articles with a closed weld line
DE1758726A1 (de) * 1968-07-30 1971-03-11 Roechlingsche Eisen & Stahl Lichtbogen-Stahlschmelzofen mit erhoehter Haltbarkeit der Ausmauerung
US3629553A (en) * 1969-01-10 1971-12-21 Westinghouse Electric Corp Recurrent arc heating process
BE758297A (fr) * 1969-11-03 1971-04-01 Siemens Ag Dispositif de protection des electrodes d'une installation destinee a la production d'un jet de gaz
US3636228A (en) * 1970-09-04 1972-01-18 Westinghouse Electric Corp Apparatus for monitoring arc rotation on an electrode
US3793468A (en) * 1972-09-22 1974-02-19 Westinghouse Electric Corp Furnace apparatus utilizing a resultant magnetic field or fields produced by mutual interaction of at least two independently generated magnetic fields and methods of operating an electric arc furnace
GB1525394A (en) * 1974-10-02 1978-09-20 Daido Steel Co Ltd Heat treating apparatus and method
SE396265B (sv) * 1975-01-14 1977-09-12 Asea Ab Anordning for likstromsmatade ljusbagsugnar
DE3115279A1 (de) * 1981-04-15 1982-12-30 Vsesojuznyj naučno-issledovatel'skij institut Metiznoj promyšlennosti VNIIMETIZ, Magnitogorsk, Čeljabinskaja oblast' Verfahren zur lichtbogenbearbeitung der oberflaeche von werkstuecken
NO162440C (no) * 1983-03-15 1989-12-27 Skf Steel Eng Ab Anordning ved elektrisk oppvarming av gasser.
SU1267633A1 (ru) * 1983-04-01 1986-10-30 Ордена Ленина физико-технический институт им.А.Ф.Иоффе Устройство дл перемещени электрической дуги в нагревательной установке
EP0173583B1 (en) * 1984-08-31 1990-12-19 Anelva Corporation Discharge apparatus
US4859908A (en) * 1986-09-24 1989-08-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Plasma processing apparatus for large area ion irradiation

Also Published As

Publication number Publication date
FR2631507A1 (fr) 1989-11-17
SE8801660L (sv) 1989-11-04
DE3816772A1 (de) 1989-11-30
SE8801660D0 (sv) 1988-05-03
GB2218604A (en) 1989-11-15
US4931702A (en) 1990-06-05
FR2631507B1 (fr) 1990-08-31
SE461761B (sv) 1990-03-19
GB8810904D0 (en) 1988-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01320793A (ja) 電弧装置
CA2429533C (en) Systems and methods for ignition and reignition of unstable electrical discharges
US6040548A (en) Apparatus for generating and deflecting a plasma jet
CN1049555C (zh) 一种用于化学过程的炬装置
AU2002230485A1 (en) Systems and methods for ignition and reignition of unstable electrical discharges
KR101051979B1 (ko) 방전플라즈마 처리장치
CN107032597B (zh) 玻璃母材用加热炉
JPS5813826B2 (ja) 直流ア−ク炉用装置
JPH10182109A (ja) オゾン発生器
KR20230002643A (ko) 효과적인 자기 전력 전달 (magnetic power transfer) 을 위한 RF 차폐 구조체를 갖는 변압기 절연기 (isolation transformer)
JPH07211365A (ja) 超電導線の接続方法および装置ならびに超電導コイル装置
JPH03123005A (ja) 超電導マグネット装置
JPH03198974A (ja) 移送流路内の溶融金属の流動制御装置
RU2059344C1 (ru) Устройство для создания плазменного потока
KR100500432B1 (ko) 라디칼 자기흐름 발생용 전극구조를 이용한 대기압플라즈마처리장치
US20030230386A1 (en) Magnetic neutral line discharge plasma processing system
JPH04131694A (ja) 移行式プラズマトーチ
SU886091A1 (ru) Индуктивный накопитель энергии
JPH04139384A (ja) 移行式プラズマトーチ
JPH06140242A (ja) 超電導コイルのガス冷却式電流リード
JPH0729681A (ja) アーク加熱器
JP3167040B2 (ja) 超伝導装置
SU681583A1 (ru) Способ стабилизации электродугового разр да в плазмотроне
SU1540038A1 (ru) Электродуговое устройство
JPH05218513A (ja) 酸化物超電導体電流リード