JPH01282880A - レーザ発振装置 - Google Patents
レーザ発振装置Info
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- JPH01282880A JPH01282880A JP11160188A JP11160188A JPH01282880A JP H01282880 A JPH01282880 A JP H01282880A JP 11160188 A JP11160188 A JP 11160188A JP 11160188 A JP11160188 A JP 11160188A JP H01282880 A JPH01282880 A JP H01282880A
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- Japan
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- electrode
- anode electrode
- discharge
- oscillation device
- laser oscillation
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Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、各種加工用として使用されるレーザ発振装置
に関するものであり、特に、その放電部において、アー
クの発生を防止し、安定な放電を保つための技術に係る
。
に関するものであり、特に、その放電部において、アー
クの発生を防止し、安定な放電を保つための技術に係る
。
（従来の技術）
加工用炭酸ガス・レーザ発振装置は、長時間に渡り様々
な加工に利用されるため、長時間安定な放電を保ち続け
ることが要求される。従って、アークを発生し難い状態
にしなければならない。第４図は、このようなレーザ発
振装置の放電部を示している。第４図において、レーザ
ガスを充填した放電容器１内には、複数のピン状のカソ
ード電極２と棒状のアノード電極３とが対向して配置さ
れ、バラスト抵抗４を介し、外部の直流電源５に接続さ
れている。また、放電容器１内に充填されたレーザガス
は、図示しない送ＪＩＩ［によって、図中６の矢印に示
すように、カソード電極２側からアノード電極３側に流
れるようになっている。
な加工に利用されるため、長時間安定な放電を保ち続け
ることが要求される。従って、アークを発生し難い状態
にしなければならない。第４図は、このようなレーザ発
振装置の放電部を示している。第４図において、レーザ
ガスを充填した放電容器１内には、複数のピン状のカソ
ード電極２と棒状のアノード電極３とが対向して配置さ
れ、バラスト抵抗４を介し、外部の直流電源５に接続さ
れている。また、放電容器１内に充填されたレーザガス
は、図示しない送ＪＩＩ［によって、図中６の矢印に示
すように、カソード電極２側からアノード電極３側に流
れるようになっている。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、第４図に示した従来の炭酸ガス・レーザ
発振装置の放電部においては、図中６として示すように
、カソード電極２側からアノード電極３側ヘレーザガス
を送風しているため、スパッタリングによって生じた絶
縁性の酸化物が、アノード電極３に付着し、この付着し
た酸化物により放電が不均一となって集中し、アークを
引起こす。このように、放電に異常を起こすと、安定し
たレーザ出力が得られなくなり、装置の信頼性が大きく
損われてしまう。
発振装置の放電部においては、図中６として示すように
、カソード電極２側からアノード電極３側ヘレーザガス
を送風しているため、スパッタリングによって生じた絶
縁性の酸化物が、アノード電極３に付着し、この付着し
た酸化物により放電が不均一となって集中し、アークを
引起こす。このように、放電に異常を起こすと、安定し
たレーザ出力が得られなくなり、装置の信頼性が大きく
損われてしまう。
本発明は、このような従来技術の問題点を解決して、ア
ノード電極への酸化物の付着を防止し、或いは付着した
酸化物を除去して、アークを発生することなく、安定し
た放電を行い得るような優れたレーザ発振装置を提供す
ることを目的としている。
ノード電極への酸化物の付着を防止し、或いは付着した
酸化物を除去して、アークを発生することなく、安定し
た放電を行い得るような優れたレーザ発振装置を提供す
ることを目的としている。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
本発明のレーザ発振装置は、カソード電極とアノード電
極との間で直流放電を行うレーザ発振装置において、前
記アノード電極の近傍に、誘電体をコーティングした補
助電極を配置し、このアノード電極と補助電極とを、交
流電源に接続することを特徴としている。
極との間で直流放電を行うレーザ発振装置において、前
記アノード電極の近傍に、誘電体をコーティングした補
助電極を配置し、このアノード電極と補助電極とを、交
流電源に接続することを特徴としている。
（作用）
以上のような構成を有する本発明においては、誘電体を
コーティングした補助電極と７ノード電極との間で交流
放電を行うことによりプラズマを発生させ、このプラズ
マによって、アノード電極への酸化物の付着を防ぎ、且
つ付着した酸化物を除去すると共に、プラズマ自体をア
ノード電極として作用させられるため、カソード電極と
の間で、安定した直流放電を行える。
コーティングした補助電極と７ノード電極との間で交流
放電を行うことによりプラズマを発生させ、このプラズ
マによって、アノード電極への酸化物の付着を防ぎ、且
つ付着した酸化物を除去すると共に、プラズマ自体をア
ノード電極として作用させられるため、カソード電極と
の間で、安定した直流放電を行える。
（実施例）
以下に、本発明によるレーザ発振装置の実施例を図面を
参照して具体的に説明する。なお、第４図に示した従来
技術と同一部分には同一符号を付し、説明を省略する。
参照して具体的に説明する。なお、第４図に示した従来
技術と同一部分には同一符号を付し、説明を省略する。
第１図は、本発明の基本的な実施例を示している。第１
図において、カソード電極２とアノード電極３の基本的
な配置構成は従来と同様であり、画電極２，３は、バラ
スト抵抗４を介して、外部の直流電源５に接続されてい
る。そして、アノード電極３の近傍には、補助電極７が
並べて配置され、その表面は誘電体８にてコーティング
されている。アノード電極３と補助電極７とは、交流電
源９に接続されている。
図において、カソード電極２とアノード電極３の基本的
な配置構成は従来と同様であり、画電極２，３は、バラ
スト抵抗４を介して、外部の直流電源５に接続されてい
る。そして、アノード電極３の近傍には、補助電極７が
並べて配置され、その表面は誘電体８にてコーティング
されている。アノード電極３と補助電極７とは、交流電
源９に接続されている。
以上のような構成の第１図の実施例において、交流電源
９によりアノード電極３と補助電極７との間に交流電圧
を印加すると、画電極３，７の間で交流放電が起こり、
プラズマ１０が発生する。
９によりアノード電極３と補助電極７との間に交流電圧
を印加すると、画電極３，７の間で交流放電が起こり、
プラズマ１０が発生する。
この状態において、直流電源５によりカソード電極２と
アノード電極３の間に直流電圧を印加すると、スパッタ
リングによって絶縁性の酸化物が生じても、この酸化物
は、プラズマ１０によってアノード電極３への付着を妨
げられる。従って、アノード電極３の電界条件を良好に
維持でき、アークの発生を効果的に防止できる。しかも
、プラズマ１０がアノード電極と同様の作用を果すため
に、長時間安定した直流放電を行うことができる。
アノード電極３の間に直流電圧を印加すると、スパッタ
リングによって絶縁性の酸化物が生じても、この酸化物
は、プラズマ１０によってアノード電極３への付着を妨
げられる。従って、アノード電極３の電界条件を良好に
維持でき、アークの発生を効果的に防止できる。しかも
、プラズマ１０がアノード電極と同様の作用を果すため
に、長時間安定した直流放電を行うことができる。
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
電極の配置構成は適宜変更可能である。
電極の配置構成は適宜変更可能である。
例えば、第２図に示すように、隣接するアノード電極３
，３の間のカソード電極２よりに補助電極７を配置する
構成も可能でおる。第３図は、第２図における７ノ一ド
電１１３周辺を立体的に示す図である。ざらに、ガス流
の方向をアノード電極３側からカソード電極２側に転換
することにより、スパッタリングに伴う酸化物のアノー
ド電極３への付着を、より効果的に防止できる。
，３の間のカソード電極２よりに補助電極７を配置する
構成も可能でおる。第３図は、第２図における７ノ一ド
電１１３周辺を立体的に示す図である。ざらに、ガス流
の方向をアノード電極３側からカソード電極２側に転換
することにより、スパッタリングに伴う酸化物のアノー
ド電極３への付着を、より効果的に防止できる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明のレーザ発振装置によれば
、７ノード電極に付着しようとする酸化物をプラズマで
除去でき、且つこのプラズマをアノード電極として機能
させられるため、従来問題となっていたアノード電極へ
の酸化物の付着を防止でき、アークを発生することなく
、安定した長時間放電を行うことができる。
、７ノード電極に付着しようとする酸化物をプラズマで
除去でき、且つこのプラズマをアノード電極として機能
させられるため、従来問題となっていたアノード電極へ
の酸化物の付着を防止でき、アークを発生することなく
、安定した長時間放電を行うことができる。
第１図は本発明によるレーザ発ｉ装置の一実施例におけ
る放電部を示す断面図、第２図は本発明の他の実施例を
示す平面図、第３図は第２図のアノード電極周辺を示す
斜視図、第４図は従来のレーザ発振装置の放電部を示す
断面図である。 １・・・放電容器、２・・・カソード電極、３・・・ア
ノード電極、４・・・バラスト抵抗、５・・・直流電源
、６・・・ガスの流れ、７・・・補助電極、８・・・誘
電体、９・・・交流電源、１０・・・プラズマ。
る放電部を示す断面図、第２図は本発明の他の実施例を
示す平面図、第３図は第２図のアノード電極周辺を示す
斜視図、第４図は従来のレーザ発振装置の放電部を示す
断面図である。 １・・・放電容器、２・・・カソード電極、３・・・ア
ノード電極、４・・・バラスト抵抗、５・・・直流電源
、６・・・ガスの流れ、７・・・補助電極、８・・・誘
電体、９・・・交流電源、１０・・・プラズマ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レーザガスを充填した放電容器内にカソード電極とア
ノード電極を対向して配置し、このカソード電極とアノ
ード電極とを放電容器の外部の直流電源に接続して両電
極間で直流放電を行うレーザ発振装置において、 前記アノード電極の近傍に、誘電体をコーティングした
補助電極を配置し、このアノード電極と補助電極とを、
交流電源に接続したことを特徴とするレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11160188A JPH01282880A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | レーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11160188A JPH01282880A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | レーザ発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01282880A true JPH01282880A (ja) | 1989-11-14 |
Family
ID=14565490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11160188A Pending JPH01282880A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | レーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01282880A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999060676A1 (fr) * | 1998-05-20 | 1999-11-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Dispositif laser a gaz pulse |
-
1988
- 1988-05-10 JP JP11160188A patent/JPH01282880A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999060676A1 (fr) * | 1998-05-20 | 1999-11-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Dispositif laser a gaz pulse |
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