JPH01282544A - 画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は印刷版、返し用フィルム、カラーテストプリン
ト、カラープルーフ及びドライフィルムレジストなどに
用いられるネガ型またはポジ型画像形成材料に関するも
のである。

「従来の技術」 従来より、印刷、写真および金属等の微細加工など種々
の分野で使用されている画像形成材料は、基本的に支持
体く転写型の画像形成材料においては仮支持体とも称さ
れる）と、その上に設けられたフォトポリマーからなる
感光性樹脂層とから実質的に構成されている。

例えば、このような構成を有する転写型の画像形成材料
（感光性転写シート）は色校正に用いられる０色校正用
のカラープルーフィングシートは、各色版用の分解網フ
ィルムを通して画像形成材料を露光、現像して感光性樹
脂層上に分解画像を形成し、このシートのまま観察する
か、あるいはこの分解画像を任意の支持体（受像面）上
に転写することにより得ることができる。また、多色画
像は、上記支持体上に更に別色の分解画像を転写する工
程を繰り返すことにより得ることもできる。

更に、上記転写工程を簡略化するために、支持体と感光
性樹脂層との間に剥離層が設けられた画像形成材料も知
られている（特公昭４９−４４１号、特開昭４７−４１
８３０号公報等参照）。

いずれにしても、画像形成材料は実質的に支持体と感光
性樹脂層とからなり、必要に応じてこの感光性樹脂層の
上には保護層が設けられるが、その製造は常法により行
われる。すなわち、長尺シート状のポリエチレンテレフ
タレート等からなる支持体上に、感光性樹脂層用の塗布
液（以下、感光液と略す）を塗布したあと、一定の温度
で加熱乾燥させ（乾燥工程）、そのまま連続的に巻き取
る（巻き取り工程）ことにより製造される。保護層が設
けられる場合には、−旦巻き取った後に保護層用の塗布
液を感光性樹脂層上に塗布、乾燥することにより製造さ
れる。さらに、巻き取られた画像形成材料は所望の規格
寸法に裁断する等の後処理が施され（加工工程）、製品
化される。

画像形成材料を露光する場合、紫外線を用いる事が通常
行われる０画像形成材料に入射した紫外線が未照射部に
散乱した場合、ネガ型画像形成材料の場合には、画像部
の太りあるいは高網点部（シャド一部）での現像抜は不
良、ポジ型画像形成材料の場合には画像部の細り、ある
いはハイライト部でのドツト飛び現象を生じる事になる
。この対策として、感光性フォトレジスト組成物層の下
側あるいは支持体の裏側にアンチハレーション層を設け
、紫外線吸収剤、場合によっては染料や顔料を添加する
方法が考えられるが、層を多くするこ造コストが高くな
る欠点がある。別の対策としては、感光性フォトレジス
ト組成物層中に紫外線吸収剤を添加する方法があるが、
従来の紫外線吸収剤ではハレーションを防止するほど添
加すると感度が大きく落ちてしまう、感光性フォトレジ
スト組成物層表面に移行して効果が失われてしまう、あ
るいは紫外線吸収剤自身に可視部の吸収があり着色して
いる、といった問題点を生じていた。

「本発明が解決しようとする問題点」 本発明は、安価で感度の減少が少なく、かつ十分なハレ
ーション防止効果を有する画像形成材料を提供すること
をその目的とするものである。

ｒ問題点を解決するための手段」 本発明の目的は、支持体上に染料もしくは顔料を含有す
る感光性フォトレジスト組成物層を塗布して成る、また
は染料もしくは顔料を含有する色材層と感光性フォトレ
ジスト組成物層とを積層して成る感光性画像形成材料□
において、該感光性フォトレジスト組成物層に２０℃に
おける蒸気圧が１×１０−５Ｐａより小さい紫外線吸収
剤を含有せしめることを特徴とする画像形成材料により
達成された。

以下に本発明の詳細な説明する。

本発明に使用する紫外線吸収剤は、下記一般式［１］で
表されるものが好ましい。

ここでＲは水素原子、それぞれ置換もしくは無置換のア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、アラルキル基、スルホニル基もしくはアリールスル
ホニル基、Ｎ−置換のカルバモイル基もしくはスルファ
モイル基、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール
基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基をそれぞれ
有するオキサリル基、オキサモイル基、オキシカルボニ
ル基もしくはオキサアセチル基を示し、Ｒ，、Ｒ２゜Ｒ
，、Ｒ，、Ｒ，は水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置
換又は無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基
、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ
アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、ニトロ基、スルホン酸基又はそ
のエステルもしくは塩、カルボン酸基又はそのエステル
もしくは塩、又はへテロ環基を表す、Ｒ１とＲ１は閉環
して炭素原子からなる５又は６員環を形成しても良い。

これらのうち、下記一般式［１］で表される構造を有す
るものがより好ましい。

一般式［ＩＩ］ ここでＲ６〜Ｒ１□は水素原子、ハロゲン原子、それぞ
れ置換または無置換のアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基
、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシル
アミノ基、スルホンアミド基、ニトロ基、スルホン酸基
又はそのエステルもしくは塩、カルボン酸基又はそのエ
ステルもしくは塩、又はヘテロ環基を表す８具体例とし
ては、下記構造式で表される化合物が好ましい。

２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α”−ジメ
チルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール 分子ｆｉｔ：４４７．６　　融点：１３５〜１４３℃比
重く２０℃”）：　１．２２　　蒸気圧（２０℃）：２
、ｌＸ１Ｏ−１０Ｐａ　　ｉｌ大吸収波長：３４６ｎｍ
商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ　　２３４ ２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール 分子量：３２３．４　　融点：１５２〜１５６℃比重（
２０℃）＝１．１８　蒸気圧＜２０’Ｃ）ニア、２Ｘ１
０−５Ｐａ　　最大吸収波長：３４５ｎｍ商品名　ＴＩ
ＮＵＶＩＮ　　３２０ スミソーブ　３２０ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　５８２ ２−　（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
フェニル）−５−クロロペンゾトリアゾール分子量：３
１５．８　　融点：１３７〜１４１℃比重（２０℃）：
　１．３２　　蒸気圧（２０℃）〜７．５Ｘ１０−５Ｐ
ａ　　最大吸収波長：３５３ｎｍ商品名　ＴＩＮＵＶＩ
Ｎ　　３２６ スミソーブ　３００ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　５５０ ２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール分子量：３５７．
９　　融点：１５４〜１５８℃比重（２０℃）：　１．
２６　　蒸気圧（２０℃）：１、１×１０−５Ｐａ　　
最大吸収波長：３５２ｎｍ商品名　ＴＩＮＵＶＩＮ　　
３２７ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　５８０ ２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール 分子量：３５１．５　　融点＝８０℃以上　比重（２０
℃）：１．１７　　蒸気圧（２０℃’）：４．７ｘ１０
−５Ｐａ　　最大吸収波長：３４６ｎｍ商品名　ＴＩＮ
ＵＶＩＮ　　３２８ スミソーブ　３５０ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　５９１ 蒸気圧（２０℃）；約１０−’　〜１０−’Ｐ　ａ商品
名　スミソーブ　３４０ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　　５８３ これらの中でより好ましいのは構造式（１）。

（３）及び（６）で表される化合物であり、最も好まし
いのは構造式（１）で表される化合物である。

これらの紫外線吸収剤の好ましい添加量は、１ｍ２当た
り０．１〜１０００ｍｇ、より好ましくは２〜５００ｍ
ｇ、更に好ましくは２０〜２００ｍｇである。好ましく
は、感光性フォトレジスト層の紫外線透過が５０％〜９
５％となるように添加される。紫外線の透過量が多いほ
ど感度の低下が小さくなるので、吸収剤の添加量はなる
べく少ない方が望ましく、重合系の感光性フォトレジス
ト層を用いる場合は、光重合開始剤の０．０１〜１００
００％の範囲が好ましい。

本発明の代表的な画像形成材料は、透明支持体上に染料
もしくは顔料を含有する感光性フォトレジスト組成物層
を塗布し、または染料もしくは顔料を含有する色材層と
感光性フォトレジスト組成物層とを積層してなる構成を
有するものであるが、これだけに限定されるものではな
く、例えば、バック層、及び／あるいは保護層があって
も良く、支持体と感光性フォトレジスト層との間に各種
の中間層が設けられた構成であっても良い、　上記のよ
うな構成を有する本発明の画像形成材料は、例えば以下
に述べるような方法により製造することができる。

支持体の材料としては、化学的及び熱的に安定であって
、かつ撓曲性を有する物質が用いられる。

必要に応じて化学光線透過性であっても良い、具体的に
は、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロ
ゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロ
ース、セロハン等のセルロース誘導体類、ポリアミド類
、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド類が挙
げられる。

これらの中で特に好ましいものは、寸法安定性及び透明
性において優れた２軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムである。

この支持体の光重合系感光性樹脂層が設けられる側と反
対側の表面には、バック層を設けることができる。バッ
ク層の例としては、マット剤がアセチルセルロース中に
分散状態で含有支持されてなる層がある。アセチルセル
ロースとしては、例えばモノアセチルセルロース、ジア
セチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチル
ブチルセルロースを挙げることができる。アセチルセル
ロースは、特にその酢化度（アセチル化度）が４０〜６
０％の範囲にあるのが好ましく、かつ平均重合度が５０
〜４００の範囲にあるのが好ましい。

マット剤としては、例えば二酸化ケイ素（コロイダルシ
リカを含む）、酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム
、水酸化アルミニウム、二酸化チタン、炭酸カルシウム
、酸化亜鉛等の微粒子状の無機化合物、及び架橋ポリス
チレンなどの溶剤に不溶の有機重合体で微粒子状のもの
を挙げることができる。これらのマット剤の平均粒径は
、バック層の層厚によっても異なるが、０．００５〜１
０μｍの範囲にあるのが好ましい、上記マット剤は単独
で使用してもよいし、あるいは２種以上を併用してもよ
い。

アセチルセルロースとマット剤との比率は、アセチルセ
ルロースに対するマット剤の含有比率が１〜６０重旦％
重量囲にあるように調整するのが好ましい。マット剤の
含有比率がこの範囲を越えると、バック層と支持体との
接着性が不十分となる場合がある。バック層の形成にお
いては、まず上記アセチルセルロースとマット剤とを適
当な溶剤を用いて混合し、塗布液を調製する。この場合
の溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン
、シクロヘキサンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エ
チルなどの酢酸エステル類；メチルセロソルブ、ジオキ
サン、テトラヒドロフランなどのエーテル類；及び塩化
メチレン、ジアセトンアルコールを挙げることができる
。これらのものは単独で使用してもよいし、あるいは２
種以上の混合溶媒として用いてもよい。

バック層は上記塗布液を通常の方法を用いて支持体上に
塗布、乾燥することにより形成することができる。

なお、塗布液には必要に応じて、ポリエチレンテレフタ
レート（支持体）との密着性を高める目的でレゾルシン
などのエツチング剤やアンチハレーション剤を添加して
もよい。

バック層の層厚は一般に０．０１〜５μｍの範囲にある
のが好ましく、特に好ましくは０．１〜０．５μｍの範
囲である。

次に、支持体のもう一方の側には感光性フォトレジスト
組成物層が設けられる。該感光性フォトレジスト組成物
層が光重合系感光性樹脂層の場合は、通常は、常圧で１
５０℃以上の沸点を有し、少なくとも一個の付加重合に
よって光重合体を形成し得る多官能とニルモノマー又は
ビニリデン化合物などのモノマー化合物、有機重合体結
合剤、及び活性光線によって活性化される光重合開始剤
からなり、必要に応じて熱重合禁止剤が添加される。

光重合系感光性樹脂層の形成に使用できるとニルモノマ
ー又はビニリデン化合物は、たとえば、ポリオールの不
飽和エステル、特にアクリル酸又はメタクリル酸のエス
テルが好ましい、具体例としては、エチレングリコール
ジアクリレート、グリセリントリアクリレート、ポリア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１
，３−プロパンジオールジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールジメタクリレート、１，２．４−ブタント
リオールトリメタクリレート、トリメチロールエタント
リアクリレート、ペンタエリトリットジメタクリレート
、ペンタエリトリットトリメタクリレート、ペンタエリ
トリットテトラメタクリレート、ペンタエリトリットジ
アクリレート、ペンタエリトリットトリアクリレート、
ペンタエリトリットテトラアクリレート、ジペンタエリ
トリットポリアクリレート、１．３−プロパンジオール
ジアクリレート、１．５−ベンタンジオールジメタクリ
レート、２００〜４００の範囲の分子量を有するポリエ
チレングリコールのビスアクリレート、ビスメタクリレ
ート及び類似の化合物を挙げることができる。

またモノマー化合物としては、不飽和アミドを用いるこ
ともでき、その例としてはα、ω−ジアミンを有するア
クリル酸及びメタクリル酸の不飽和アミド及びエチレン
ビスメタクリルアミドを挙げることができる。不飽和ア
ミドのアルキレン鎖は炭素原子によって開かれていても
よい、ただし、光重合性モノマーはこれらの化合物に限
定されるものではない。

光重合開始剤としては、たとえば、ベンゾフェノン、ミ
ヒラーケトン［４，４°−ビス（ジメチルアミノ）ベン
ゾフェノン］、４．４’−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベン
ゾフェノン、２−エチルアントラキノン、フエナントラ
キノン、及びその他の芳香族ケトンのような芳香族ケト
ン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル及びベンゾインフェニルエーテルの
ようなベンゾインエーテル類；メチルベンゾイン、エチ
ルベンゾイン及びその他のベンゾイン類；すらびに２−
（ｏ−クロロフェニル）−４゜５−ジフェニルイミダゾ
ール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−（
ｍ−メトキシフェニル）イミダゾールニ量体、２−（０
−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾー
ル二量体、２−（０−メトキシフェニル）−４，５−ジ
フェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２．
４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダ
ゾールニ量体、２−（２゜４−ジメトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
チルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、及び米国特許第３．４７９．１８５号、
同３．７８４．５５７号、英国特許１，０４７，５６９
号の各明細書に記載されているような２，４．５−トリ
アクリルイミダゾールニ量体を挙げることができる。

有機重合体結合剤としては、上記モノマー化合物及び光
重合開始剤との相溶性の点から特にビニル系高分子物質
が良好である。ビニル系高分子物質としては、例えば、
ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸メチ
ル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、ポ
リメタクリル酸、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニル
エーテル、ポリビニルアセクール及びこれらの共重合物
等の種々のものが挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。

ここで、モノマー化合物と、有機重合体結合剤の混合比
は、使用されるモノマー化合物と有機重合体結合剤の組
み合わせによってもその適正比は異なるが、一般には１
：１０〜２：１（重量比）の範囲が好ましい、またこの
とき、光重合開始剤の添加量はモノマー化合物の使用重
量に対して０゜０１〜２０重量％の範囲が好ましい。

熱重合禁止剤としては、たとえば、ｐ−メトキシフェノ
ール、ハイドロキノン、アルキル又はアリール置換ハイ
ドロキノン、ターシャリ−ブチルカテコール、ピロガロ
ール、ナフチルアミン、β−ナフトール、ツェナチアジ
ン、ピリジン、ニトロベンゼン、０−トルキノン、アリ
ールホスファイトを挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。

また、感光性フォトレジスト組成物層が光解離系樹脂層
の場合は、光解離する化合物として米国特許第２，７６
６．１１８号、同第３．６４７．４４３号等に記載され
ているオルトキノンジアジド化合物、特開昭５６−１７
３４５号に記載されている主鎖にオルトエステル基を有
する化合物、特開昭６０−３７５４９号に記載された主
鎖にシリルエーテル基を有する化合物等が挙げられる。

この場合は、有機重合体結合剤は必ずしも必要ではない
が、ノボラック型フェノール樹脂等を用いることができ
る。結合剤は光解離系樹脂層の約４０〜９０重量％の範
囲で用いることができる。

感光性フォトレジスト組成物層の層厚は、一般に０．１
〜１５０μｍの範囲にあり、好ましくは０．５〜１００
μｍの範囲にある。

これらの感光性フォトレジスト組成物層の材料及びその
形成方法の詳細については、例えば特公昭４６−１５３
２６号、同４６−３５６８２号、特開昭４７−４１８３
０号、同４８−９３３３７号、同４９−４４１号、同５
１−５１０１号、同５９−９７１４０号などの各公報に
記載されている。

着色物質を使用する場合には、着色物質は感光性樹脂層
に含有されてもよいし、あるいは別に色材層を設けてこ
の中に含有させてもよい０色材層は感光性フォトレジス
ト組成物層の上部及び下部のどちらにでも設けることが
できるが、画像露光工程における感光性樹脂層の感度（
光重合性）の点から、色材層の上に感光性フォトレジス
ト組成物層を設けるのが好ましい、また、着色物質とし
ては、公知の顔料及び染料を用いることができる。

着色物質及び色材層の詳細については、たとえば特開昭
５９−９７１４０号公報に開示されている。

さらに、本発明の画像形成材料は酸素による感度の低下
を防止する意味から酸素透過性の小さい保護層を設ける
こともできる。保護層は、たとえばポリビニルアルコー
ル、ポリ酢酸ビニル、メチルビニルエーテル・無水マレ
イン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、ア
ラビアゴムなとの高分子物質の溶液を塗布、乾燥するこ
とにより形成することができる。保’ＡＮの膜厚として
は０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜３μｍ、より好
ましくは０．２〜２μｍである。

保護層には各種マット剤、滑り剤、帯電防止剤等を必要
に応じて添加することができる。

なお、本発明において紫外線透過量は以下の様に定義さ
れる。紫外線吸収剤を添加した試料及び添加しない試料
の３２５〜４２５ｎｍの吸収スペクトルを測定し、それ
ぞれの試料のこの波長範囲における全透過量を求め、後
者の透過量を１００としたときの前者の透過量とする。

本発明の紫外線吸収剤の効果の程度は、使用する色材の
種類及び量で変わってくる。即ち、上記の波長範囲に大
きな吸収を持つ色材を多量に用いたときには、色材その
ものが紫外線吸収剤の効果を発現するため、別に添加さ
れた本発明の紫外線吸収剤の効果は顕著には現れない。

一方、この波長範囲の吸収が小さい色材、もしくは吸収
は太きくても色材の使用量が少ない場合には効果はより
顕著に現れる。

紫外線吸収剤を含有しない色材層を有する試料の紫外線
透過量を上記の波長範囲で測定したとき、紫外線透過量
が約５％以上のときに、本発明の紫外線吸収剤を添加し
た効果が顕著に現れる。

以下に本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１ バック層形成用塗布液として、下記組成を有する溶液を
調製した。

バ・・　−ず− レゾルシン（エツチング剤）　　　　２．８Ｋｇジアセ
チルセルロース（酢化度：　　０．３Ｋｇ５５土０．５
％、平均重合度： １６０　　アセテートフレクスＶ−ＡＣ、ダイセル（株
）製） 二酸化ケイ素（平均粒径：４０　　０．ＩＫｇｎｍ、Ｔ
Ｔ−６００、日本アエロジル（株）製）メタノール　　
　　　　　　　　　　　８Ｋｇメチルエチルケトン　　
　　　　　　３０Ｋｇこの塗布液をポリエチレンテレフ
タレートフィルム（支持体、厚さ＝１００μｍ、長さ：
２０００ｍ）上に均一に塗布し、乾燥（乾燥温度：１２
０’Ｃ）して、乾燥膜厚が０．３μｍの実買的にジアセ
チルセルロースと二酸化ケイ素とからなるバック層を設
けた後、巻き取った。

次に、感光性フォトレジスト層形成用の塗布液として、
下記組成を有する溶液を調製した。この場合に、下記の
組成を有する色材分散液は別に調製しておき、混合した
。

色林立監亘 色材　　　　　　　　　　　　　　９，８Ｋｇベンジル
メタアクリレート・メ　１６．４Ｋｇタクリル酸共重合
体（モル 比ニア２／２７．２５℃の メチルエチルケトン溶液の 極限粘度：０．１２ｃｐｓ） メチルエチルケトン　　　　　　３６．９Ｋｇメチルセ
ロソルブアセテート　　３６．９Ｋｇここで、色材とし
ては 黄：セイ力ファーストイエロー　Ｈ−０７５５（大日精
化（株）） マゼンタ：セイ力ファーストカーミン １４８３　　　　　（大日精化（株））シアン：シアニ
ンブルー　４９２０ （大日精化（株）） を用いた。

分散液の調製は、試験用の分散機（東洋精機（株）製ペ
イントシェーカー）で６時間行った。

感光性フォトレジスト層用塗布液は、１０分間の撹拌操
作の後超音波分散操作を１０分間施した。

へ・　　　　　：′ｊ メチルエチルケトン　　　　　　　　１５Ｋｇメチルセ
ロソルブアセテート　　　７．４Ｋｇベンジルメタアク
リレート・メタ　４．５Ｋｇクリル酸共重合体（モル比
ニ ア　２／２７．２５℃のメチルエ チルケトン溶液の極限粘度： ０．１２ｃｐｓ） ペンタエリスリトールテトラアク　５．５Ｋｇリレート ミヒラーケトン　　　　　　　　０．１５Ｋｇ２．２″
−ビス（ｏ−り００７　０．１５Ｋｇエニル）−４，４
°、５．５’ 一テトラフェニルビイミダゾ ール 二酸化ケイ素　　　　　　　　　　０．４Ｋｇ（＃２６
６、富士デビイソン（株）製）色材分散液　　　　　　
　　　　　　２４Ｋｇ紫外線吸収剤　　　　　　　　　
　０．５Ｋｇこのようにして調製した感光性フォトレジ
スト層形成用塗布液を支持体の上記バック層とは反対側
の表面に塗布し、乾燥（乾燥温度＝１００℃）して、乾
燥膜厚が２．４μｍの感光性フォトレジスト層を設け、
巻き取った。

別に、下記組成の保護層形成用の塗布液を調製し、この
塗布液をこの感光性フォトレジスト層の上に塗布し、乾
燥（乾燥温度：１００℃）して、乾燥膜厚が１４５μｍ
の保護層を設けた。

呑　　　、　・ ポリビニルアルコール　　　　　　　　６Ｋｇ（ＧＬ−
０５８、日本合成化学工業（株）製）水　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　９７　Ｋ　ｇメタノ
ール　　　　　　　　　　　　　３Ｋｇこのようにして
得られた画像形成材料を下記の方法で評価した。

（１）画像部の太り 富士コントロールステップウェッジ（Δ０Ｄ＝０．１５
）を用い、５段ペタ段数を与える標準露光量の２倍の露
光量を与えて現像したときの、オリジナルが１０％の網
点部分のオリジナル原稿に対する太りをドツトサイズで
比較した。

太り　　　　　　　評価 １％以下　　　　　　Ａクラス １％を越え３％以下　Ｂクラス ３％を越え５％以下　Ｃクラス ５％を越える　　　　Ｄクラス 実用上はＣクラス以上、好ましくはＢクラス以上で、更
に好ましくはＡクラスが良い。

（２）高網点部での現像不良 （１）と同様の条件で露光、現像したときの９０％網点
部の非画像部の抜けを調べた。

抜は不良　　　　　　　　評価 ０％（完全に抜けている）　Ａクラス ０％を越え１％以下　　　　Ｂクラス １％を越え３％以下　　　　Ｃクラス ３％を越える　　　　　　　Ｄクラス 実用上はＣクラス以上、好ましくはＢクラス以上で、更
に好ましくはＡクラスが良い。

（３）感度の変動 く１）と同様の条件で露光、現僅したときのベタ段数の
変動から感度の変動を調べた。

感度の変動　　　　評価 ±１段以内　　　Ａクラス １２段以内　　　Ｂクラス ±３段以内　　　Ｃクラス １３段を越える　Ｄクラス 実用上はＢクラス以上で、更に好ましくはＡクラスが良
い。

表−１に評価結果を示す、これから、本発明によるサン
プル１〜１８では、紫外線吸収剤を含有しない比較例１
９〜２１に比べ、良好な性能が得られることが判る。な
お、露光光源としては、２Ｋｗ超高圧水銀灯ジェットラ
イト２０００　（オーク製作新製）を、現像液としては
下記組成のものを用いた。

ＮａＯＨ６ｇ 界面活性剤（花王アトラス社製：　　　１００ｇペレッ
クスＮＢＬ） 蒸留水　　　　’　　　　　　　　　　　９００ｇ実施
例２ 下記処方より成る顔料分散液用の母液Ａ、Ｂを調製した
。

ｉ征ム スチレンと無水マレイン酸の共重合体　２０ｇノルマル
プロパツール　　　　　　　　８０ｇ１櫃玉 メトキシメチル化ナイロン　　　　　　１０ｇ（トレジ
ンＭＦ−３０帝国化学） メタノール　　　　　　　　　　　　　９０ｇ次に母液
Ａ、Ｂを用いて下記組成の３色の顔料分散液を調製した
。

分散は試験用分散機（東洋精機（株）製ペイントシェー
カー）で６時間行った１次に下記処方より成る顔料分散
液の希釈液を調製した。

権Ｒ蓋 ノルマルプロパツール　　　　　　　　４０ｇアセトン
　　　　　　　　　　　　　　　２８ｇフッ素系界面活
性剤　　　　　　　　０．２ｇ（フロラードＦＣ−４３
０） ３色の顔料分散液を上記希釈液により、下表の重量比で
希釈したのち撹拌１０分、超音波分散１０分を施し、色
材層塗布液を得た０色材層塗布液を東洋濾紙Ｎｏ、６３
フイルターで濾過後、厚さ１００μｍの２軸延伸ポリエ
チレンテレフタレートフイルム上にホエラーを用いて塗
布し、１００℃で２分間乾燥して、３色それぞれの色材
層を作成した。

色相顔料分散液／　膜厚フィルター光学濃度希釈液 黄：３．５／４６．５　　２．１　　　　青　　　　０
．５マゼンタ：４／４６　０．６５　　緑　　　０．７
５シアン　：４／４６　０．７５　　赤　　　０．６５
更に３色それぞれの色材層の上に、下記組成から成るポ
ジ型感光液をＮｏ、６３フイルターで濾過後ホエラーで
塗布し１００℃で２分間乾燥して、３色それぞれの着色
感光シートを作成した。

芯ｉ呈塵洸羞 アセトンとピロガロールの縮合物　　　１５ｇ（平均重
合度３）と２−ジアゾ −１−ナフトール−４−スルフ フオニルクロリドとの付加物 ノボラック型フェノール−ホルム　　　３０ｇアルデヒ
ドレジン （住友デュレス（株）製、ＰＲ−５０９０４）シクロへ
キサノン　　　　　　　　　１２０ｇ酢酸ｎ−プロピル
　　　　　　　　　２８０ｇ紫外線吸収剤　　　　　　
　　　　　２．５ｇこの様にして得られた画像形成材料
を下記方法で評価した。

（４）画像の細り （１）と同様の条件で露光、現像したときのオリジナル
１０％網点部分のオリジナル原稿に対する細りをドツト
のサイズで比較した。

細り　　　　　　　　　評価 １％以下　　　　　　　Ａクラス １％を越え３％以下　　Ｂクラス ３％を越え５％以下　　Ｃクラス ５％を越える　　　　　Ｄクラス 実用上はＣクラス以上、好ましくはＢクラス以上、更に
好ましくはＡクラスが良い８ （５）感度の変動 （１）と同様のコントロールステップウェッジを用い、
５段クリアー段数を与える標準露光量の３倍の露光量を
与えて、ベタ段数の変動から感度の変動を調べた。

±１段以内　　　Ａクラス ±２段以内　　　Ｂクラス ±３段以内　　　Ｃクラス ±３段を越える　Ｄクラス 実用上はＢクラス以上、好ましくはＡクラスが良い。

表−２に、評価結果を示す。これから、本発明によるサ
ンプル２２〜３９では、紫外線吸収剤を含有しない比較
例４０〜４２に比べ、良好な性能が得られることが判る
。

特許出願人　富士写真フィルム株式会社手続補正書 １．）　　　　　　　森 昭和６３年６月ｔｐ日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　支持体上に染料もしくは顔料を含有する感光性フォ
   トレジスト組成物層を塗布して成る、または染料もしく
   は顔料を含有する色材層と感光性フォトレジスト組成物
   層とを積層して成る感光性画像形成材料において、感光
   性フォトレジスト組成物層に２０℃における蒸気圧が１
   ×１０＾−＾５Ｐａより小さい紫外線吸収剤を含有せし
   めることを特徴とする画像形成材料。 ２　請求項１において、該紫外線吸収剤が下記一般式［
   I ］で表されることを特徴とする画像形成材料。 一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼ ここでＲは水素原子、それぞれ置換もしくは無置換のア
   ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
   基、アラルキル基、スルホニル基もしくはアリールスル
   ホニル基、Ｎ−置換のカルバモイル基もしくはスルファ
   モイル基、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール
   基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基をそれぞれ
   有するオキサリル基、オキサモイル基、オキシカルボニ
   ル基もしくはオキサアセチル基を示し、Ｒ＿１、Ｒ＿２
   、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は水素原子、ハロゲン原子、
   それぞれ置換又は無置換のアルキル基、アルケニル基、
   アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオ
   キシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチ
   オ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ア
   シルアミノ基、スルホンアミド基、ニトロ基、スルホン
   酸基又はそのエステルもしくは塩、カルボン酸基又はそ
   のエステルもしくは塩、又はヘテロ環基を表す。Ｒ＿４
   とＲ＿５は閉環して炭素原子からなる５又は６員環を形
   成しても良い。 ３　請求項１において、該感光性フォトレジスト層が光
   重合系組成物である事を特徴とする画像形成材料。 ４　請求項１において、該感光性フォトレジスト層の紫
   外線透過が５０％以上となる様紫外線吸収剤を含有せし
   め事を特徴とする画像形成材料。 ５　請求項１において該感光性フォトレジスト層が酢酸
   セルロースフィルム、ポリプロピレンフィルム又はポリ
   エステルフィルムでドライラミネートされている事を特
   徴とする画像形成材料。