JP2003015280A - 感光性シート - Google Patents
感光性シートInfo
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- JP2003015280A JP2003015280A JP2001203461A JP2001203461A JP2003015280A JP 2003015280 A JP2003015280 A JP 2003015280A JP 2001203461 A JP2001203461 A JP 2001203461A JP 2001203461 A JP2001203461 A JP 2001203461A JP 2003015280 A JP2003015280 A JP 2003015280A
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- photosensitive sheet
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- sheet
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】均一な塗布面状を有し、画像視認性に優れた感
光性シートを提供する。 【解決手段】染料もしくは顔料及び感光性フォトレジス
トを同一層若しくは別層に含有する感光性シートであっ
て、下記一般式(1)のフッ素系界面活性剤が含有され
ている感光性シート。 一般式(1): CnF2n+1−L−CH2CH2−O−C(=O)−
CR=CH2 (一般式(1)中、nは2〜14の整数を示す。Rは水
素原子、又は炭素数1〜10のアルキル基を示す。L
は、単結合、または、酸素原子、窒素原子、硫黄原子お
よび炭素原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含む
二価有機基を示す。)
光性シートを提供する。 【解決手段】染料もしくは顔料及び感光性フォトレジス
トを同一層若しくは別層に含有する感光性シートであっ
て、下記一般式(1)のフッ素系界面活性剤が含有され
ている感光性シート。 一般式(1): CnF2n+1−L−CH2CH2−O−C(=O)−
CR=CH2 (一般式(1)中、nは2〜14の整数を示す。Rは水
素原子、又は炭素数1〜10のアルキル基を示す。L
は、単結合、または、酸素原子、窒素原子、硫黄原子お
よび炭素原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含む
二価有機基を示す。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は印刷版、返し用フィ
ルム、カラーテストプリント、カラープルーフ及びドラ
イフィルムレジストなどに用いられる感光性シートに関
する。
ルム、カラーテストプリント、カラープルーフ及びドラ
イフィルムレジストなどに用いられる感光性シートに関
する。
【0002】
【従来の技術】従来より、印刷、写真および金属等の微
細加工など種々の分野で使用されている画像形成材料
は、基本的に支持体(転写型の画像形成材料においては
仮支持体とも称される)と、その上に設けられたフォト
ポリマーからなる感光性樹脂層とから実質的に構成され
ている。例えば、このような構成を有する転写型の画像
形成材料(感光性転写シート)は色校正に用いられる。
色校正用のカラープルーフィングシートは、各色版用の
分解網フィルムを通して画像形成材料を露光、現像して
感光性樹脂層上に分解画像を形成し、このシートのまま
観察するか、あるいはこの分解画像を受像シート上に一
度転写し、その後、永久支持体上に再転写することによ
り得ることができる。また、多色画像は、上記支持体に
更に別色の分解画像を転写する工程を繰り返すことによ
り得ることもできる。
細加工など種々の分野で使用されている画像形成材料
は、基本的に支持体(転写型の画像形成材料においては
仮支持体とも称される)と、その上に設けられたフォト
ポリマーからなる感光性樹脂層とから実質的に構成され
ている。例えば、このような構成を有する転写型の画像
形成材料(感光性転写シート)は色校正に用いられる。
色校正用のカラープルーフィングシートは、各色版用の
分解網フィルムを通して画像形成材料を露光、現像して
感光性樹脂層上に分解画像を形成し、このシートのまま
観察するか、あるいはこの分解画像を受像シート上に一
度転写し、その後、永久支持体上に再転写することによ
り得ることができる。また、多色画像は、上記支持体に
更に別色の分解画像を転写する工程を繰り返すことによ
り得ることもできる。
【0003】更に、上記転写工程を簡略化するために、
支持体と感光性樹脂層との間に剥離層が設けられた画像
形成材料も知られている(特公昭49−441号、特開
昭47−41830号公報等参照)。いずれにしても、
画像形成材料は実質的に支持体と感光性樹脂層とからな
り、必要に応じてこの感光性樹脂層の上には保護層が設
けられるが、その製造は常法により行われる。すなわ
ち、長尺シート状のポリエチレンテレフタレート等から
なる支持体上に、感光性樹脂層用の塗布液(以下、感光
液と略す)を塗布したあと、一定の温度で加熱乾燥させ
(乾燥工程)、そのまま連続的に巻き取る(巻き取り工
程)ことにより製造される。保護層が設けられる場合に
は、一旦巻き取った後に保護層用の塗布液を感光性樹脂
層上に塗布、乾燥することにより製造される。さらに、
巻き取られた画像形成材料は所望の規格寸法に裁断する
等の後処理が施され(加工工程)、製品化される。
支持体と感光性樹脂層との間に剥離層が設けられた画像
形成材料も知られている(特公昭49−441号、特開
昭47−41830号公報等参照)。いずれにしても、
画像形成材料は実質的に支持体と感光性樹脂層とからな
り、必要に応じてこの感光性樹脂層の上には保護層が設
けられるが、その製造は常法により行われる。すなわ
ち、長尺シート状のポリエチレンテレフタレート等から
なる支持体上に、感光性樹脂層用の塗布液(以下、感光
液と略す)を塗布したあと、一定の温度で加熱乾燥させ
(乾燥工程)、そのまま連続的に巻き取る(巻き取り工
程)ことにより製造される。保護層が設けられる場合に
は、一旦巻き取った後に保護層用の塗布液を感光性樹脂
層上に塗布、乾燥することにより製造される。さらに、
巻き取られた画像形成材料は所望の規格寸法に裁断する
等の後処理が施され(加工工程)、製品化される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように、画像形成
に用いられる感光性シートは塗布方法によって形成され
る。感光性シートの画像が良好に形成されるためには、
感光性シートは均一な塗布面状が必要とされる。塗布面
が不均一であると、表面の凹凸や表面エネルギーや接着
力にむらが生じ画像性能が悪化する。本発明の目的は、
画像形成にあって、均一な塗布面状を有し、画像視認性
に優れた感光性シートを提供することにある。
に用いられる感光性シートは塗布方法によって形成され
る。感光性シートの画像が良好に形成されるためには、
感光性シートは均一な塗布面状が必要とされる。塗布面
が不均一であると、表面の凹凸や表面エネルギーや接着
力にむらが生じ画像性能が悪化する。本発明の目的は、
画像形成にあって、均一な塗布面状を有し、画像視認性
に優れた感光性シートを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記構
成の感光性シートが提供されて、上記本発明の目的が達
成される。 1.支持体上に、(i)染料もしくは顔料を含有する感
光性フォトレジスト層を有する感光性シート、または
(ii)染料もしくは顔料を含有する色材層と感光性フォ
トレジスト層とを有する感光性シートにおいて、上記
(i)の感光性シートの場合は感光性フォトレジスト層
に、上記(ii)の感光性シートの場合は色材層および感
光性フォトレジスト層の少なくとも一方の層に、下記一
般式(1)で示される重合性モノマーの単独重合体から
なり、かつ重量平均分子量Mwが2000以上のフッ素
系界面活性剤が含有されていることを特徴とする感光性
シート。一般式(1): CnF2n+1−L−CH2CH2−O−C(=O)−CR=
CH2 (一般式(1)中、nは2〜14の整数を示す。Rは水
素原子、又は炭素数1〜10のアルキル基を示す。L
は、単結合、または、酸素原子、窒素原子、硫黄原子お
よび炭素原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含む
二価有機基を示す。) 2.一般式(1)のLが−CH2CH2SO2N(−R1)
−(ここで、R1は一般式(1)のRと同義である)で
示される二価有機基であることを特徴とする上記1に記
載の感光性シート。 3.感光性フォトレジスト組成物が光重合系組成物であ
ることを特徴とする上記1または2に記載の感光性シー
ト。
成の感光性シートが提供されて、上記本発明の目的が達
成される。 1.支持体上に、(i)染料もしくは顔料を含有する感
光性フォトレジスト層を有する感光性シート、または
(ii)染料もしくは顔料を含有する色材層と感光性フォ
トレジスト層とを有する感光性シートにおいて、上記
(i)の感光性シートの場合は感光性フォトレジスト層
に、上記(ii)の感光性シートの場合は色材層および感
光性フォトレジスト層の少なくとも一方の層に、下記一
般式(1)で示される重合性モノマーの単独重合体から
なり、かつ重量平均分子量Mwが2000以上のフッ素
系界面活性剤が含有されていることを特徴とする感光性
シート。一般式(1): CnF2n+1−L−CH2CH2−O−C(=O)−CR=
CH2 (一般式(1)中、nは2〜14の整数を示す。Rは水
素原子、又は炭素数1〜10のアルキル基を示す。L
は、単結合、または、酸素原子、窒素原子、硫黄原子お
よび炭素原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含む
二価有機基を示す。) 2.一般式(1)のLが−CH2CH2SO2N(−R1)
−(ここで、R1は一般式(1)のRと同義である)で
示される二価有機基であることを特徴とする上記1に記
載の感光性シート。 3.感光性フォトレジスト組成物が光重合系組成物であ
ることを特徴とする上記1または2に記載の感光性シー
ト。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明の感光性シートは、支持体上
に、(i)染料もしくは顔料を含有する感光性フォトレ
ジスト層を有する感光性シート、または(ii)染料もし
くは顔料を含有する色材層と感光性フォトレジスト層と
を有する。本発明の感光性シートにあっては、感光性フ
ォトレジスト層が画像形成層をなす。そして、上記
(i)の感光性シートの場合は感光性フォトレジスト層
が、上記(ii)の感光性シートの場合は色材層および感
光性フォトレジスト層の少なくともいずれかの層が、上
記一般式(1)で示される重合性モノマーの単独重合体
であるフッ素系界面活性剤を含有する。該単独重合体の
重量平均分子量は、2000以上、好ましくは3000
以上、さらに好ましくは6000〜30000である。
感光性シートを構成する各層は、各層を形成するための
塗布液を塗布することにより形成されるが、塗布液中に
上記フッ素系界面活性剤を含有することにより塗布され
る被塗布物表面とのなじみが改善されて、被塗布物表面
に生じる塗布液がはじかれる現象、塗布後の乾燥工程で
溶剤蒸発が不均一となり膜厚が不均一になる現象等が抑
制される。その結果、塗布層表面が均一となる。特に、
光重合系感光性樹脂層を形成するための塗布液中にフッ
素系界面活性剤が配合されると、光重合系感光性樹脂層
表面は均一となり安定した4色の画像が形成され、良好
性能を有するカラープルーフ(オーバーレイ方式)が得
られる。上記フッ素系界面活性剤は、塗布液中に、好ま
しくは0.005〜1質量部、より好ましくは0.01
〜0.5質量部配合される。
て詳細に説明する。本発明の感光性シートは、支持体上
に、(i)染料もしくは顔料を含有する感光性フォトレ
ジスト層を有する感光性シート、または(ii)染料もし
くは顔料を含有する色材層と感光性フォトレジスト層と
を有する。本発明の感光性シートにあっては、感光性フ
ォトレジスト層が画像形成層をなす。そして、上記
(i)の感光性シートの場合は感光性フォトレジスト層
が、上記(ii)の感光性シートの場合は色材層および感
光性フォトレジスト層の少なくともいずれかの層が、上
記一般式(1)で示される重合性モノマーの単独重合体
であるフッ素系界面活性剤を含有する。該単独重合体の
重量平均分子量は、2000以上、好ましくは3000
以上、さらに好ましくは6000〜30000である。
感光性シートを構成する各層は、各層を形成するための
塗布液を塗布することにより形成されるが、塗布液中に
上記フッ素系界面活性剤を含有することにより塗布され
る被塗布物表面とのなじみが改善されて、被塗布物表面
に生じる塗布液がはじかれる現象、塗布後の乾燥工程で
溶剤蒸発が不均一となり膜厚が不均一になる現象等が抑
制される。その結果、塗布層表面が均一となる。特に、
光重合系感光性樹脂層を形成するための塗布液中にフッ
素系界面活性剤が配合されると、光重合系感光性樹脂層
表面は均一となり安定した4色の画像が形成され、良好
性能を有するカラープルーフ(オーバーレイ方式)が得
られる。上記フッ素系界面活性剤は、塗布液中に、好ま
しくは0.005〜1質量部、より好ましくは0.01
〜0.5質量部配合される。
【0007】一般式(1)において、nは2〜14、好
ましくは6〜12の整数である。Rは、水素原子または
炭素数1〜10のアルキル基であり、好ましくは水素原
子または炭素数1〜4のアルキル基である。アルキル基
の具体例としては、CH 3、C2H5、n−C3H7、is
o−C3H7、n−C4H9、iso−C4H6、tert−
C4H9等が挙げられる。Lは、単結合、または、酸素原
子、窒素原子、硫黄原子、および炭素原子から選ばれる
少なくとも1つの原子を含む二価有機基を示す。好まし
いLとしては、単結合、−O−、−SO2−、−NH
−、−SO2NH−、−CH2−、−CH2CH2SO2N
(−R1)−(ここで、R1は一般式(1)のRと同義で
ある)等が挙げられる。
ましくは6〜12の整数である。Rは、水素原子または
炭素数1〜10のアルキル基であり、好ましくは水素原
子または炭素数1〜4のアルキル基である。アルキル基
の具体例としては、CH 3、C2H5、n−C3H7、is
o−C3H7、n−C4H9、iso−C4H6、tert−
C4H9等が挙げられる。Lは、単結合、または、酸素原
子、窒素原子、硫黄原子、および炭素原子から選ばれる
少なくとも1つの原子を含む二価有機基を示す。好まし
いLとしては、単結合、−O−、−SO2−、−NH
−、−SO2NH−、−CH2−、−CH2CH2SO2N
(−R1)−(ここで、R1は一般式(1)のRと同義で
ある)等が挙げられる。
【0008】一般式(1)で表される好ましいモノマー
の具体例を、下記表1に示す。
の具体例を、下記表1に示す。
【0009】
【表1】
【0010】一般式(1)で表されるモノマーの、重量
平均分子量が2000以上の単独重合体は、該モノマー
を通常のラジカル重合法等により重合することにより得
ることができる。また、このようなフッ素系界面活性剤
は市販されており、用いることができる。市販品として
は、大日本インキ化学工業社製 商品名メガファック
F−176PF、F−178K、F−470、F−47
5、F−476等が挙げられる。
平均分子量が2000以上の単独重合体は、該モノマー
を通常のラジカル重合法等により重合することにより得
ることができる。また、このようなフッ素系界面活性剤
は市販されており、用いることができる。市販品として
は、大日本インキ化学工業社製 商品名メガファック
F−176PF、F−178K、F−470、F−47
5、F−476等が挙げられる。
【0011】本発明の代表的な感光性シートは、支持体
上に、染料もしくは顔料を含有する感光性フォトレジス
ト層形成用塗布液を塗布するか、または染料もしくは顔
料を含有する色材層形成用塗布液と感光性フォトレジス
ト層形成用塗布液とを塗布して製造することができる
が、これだけに限定されるものではない。例えば、バッ
ク層や保護層を設けてもよく、支持体と感光性フォトレ
ジスト層との間に各種の中間層を設けてもよい。以下、
本発明の感光性シートについて詳しく述べる。
上に、染料もしくは顔料を含有する感光性フォトレジス
ト層形成用塗布液を塗布するか、または染料もしくは顔
料を含有する色材層形成用塗布液と感光性フォトレジス
ト層形成用塗布液とを塗布して製造することができる
が、これだけに限定されるものではない。例えば、バッ
ク層や保護層を設けてもよく、支持体と感光性フォトレ
ジスト層との間に各種の中間層を設けてもよい。以下、
本発明の感光性シートについて詳しく述べる。
【0012】支持体の材料としては、化学的及び熱的に
安定であって、かつ撓曲性を有する物質が用いられる。
必要に応じて化学光線透過性であっても良い。具体的に
は、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロ
ゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロ
ース、セロハン等のセルロース誘導体類、ポリアミド
類、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド類が
挙げられる。これらの中で特に好ましいものは、寸法安
定性及び透明性において優れた2軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルムである。
安定であって、かつ撓曲性を有する物質が用いられる。
必要に応じて化学光線透過性であっても良い。具体的に
は、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロ
ゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロ
ース、セロハン等のセルロース誘導体類、ポリアミド
類、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド類が
挙げられる。これらの中で特に好ましいものは、寸法安
定性及び透明性において優れた2軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルムである。
【0013】この支持体の感光性フォトレジスト層が設
けられる側と反対側の表面には、バック層を設けること
ができる。バック層の例としては、マット剤がアセチル
セルロース中に分散状態で含有されている層が挙げられ
る。アセチルセルロースとしては、例えばモノアセチル
セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセル
ロース、アセチルブチルセルロースを挙げることができ
る。アセチルセルロースは、特にその酢化度(アセチル
化度)が40〜60%の範囲にあるのが好ましく、かつ
平均重合度が50〜400の範囲にあるのが好ましい。
マット剤としては、例えば二酸化ケイ素(コロイダルシ
リカを含む)、酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウ
ム、水酸化アルミニウム、二酸化チタン、炭酸カルシウ
ム、酸化亜鉛等の微粒子状の無機化合物、及び架橋ポリ
スチレンなどの溶剤に不溶の有機重合体で微粒子状のも
のを挙げることができる。これらのマット剤の平均粒径
は、バック層の層厚によっても異なるが、0.005〜
10μmの範囲にあるのが好ましい。上記マット剤は単
独で使用してもよいし、あるいは2種以上を併用しても
よい。アセチルセルロースとマット剤との比率は、アセ
チルセルロース100質量部に対してマット剤が1〜6
0質量部の範囲にあるように調整するのが好ましい。マ
ット剤の含有比率がこの範囲を越えると、バック層と支
持体との接着性が不十分となる場合がある。
けられる側と反対側の表面には、バック層を設けること
ができる。バック層の例としては、マット剤がアセチル
セルロース中に分散状態で含有されている層が挙げられ
る。アセチルセルロースとしては、例えばモノアセチル
セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセル
ロース、アセチルブチルセルロースを挙げることができ
る。アセチルセルロースは、特にその酢化度(アセチル
化度)が40〜60%の範囲にあるのが好ましく、かつ
平均重合度が50〜400の範囲にあるのが好ましい。
マット剤としては、例えば二酸化ケイ素(コロイダルシ
リカを含む)、酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウ
ム、水酸化アルミニウム、二酸化チタン、炭酸カルシウ
ム、酸化亜鉛等の微粒子状の無機化合物、及び架橋ポリ
スチレンなどの溶剤に不溶の有機重合体で微粒子状のも
のを挙げることができる。これらのマット剤の平均粒径
は、バック層の層厚によっても異なるが、0.005〜
10μmの範囲にあるのが好ましい。上記マット剤は単
独で使用してもよいし、あるいは2種以上を併用しても
よい。アセチルセルロースとマット剤との比率は、アセ
チルセルロース100質量部に対してマット剤が1〜6
0質量部の範囲にあるように調整するのが好ましい。マ
ット剤の含有比率がこの範囲を越えると、バック層と支
持体との接着性が不十分となる場合がある。
【0014】バック層の形成には、まず上記アセチルセ
ルロースとマット剤とを適当な溶剤を用いて混合し、塗
布液を調製する。この場合の溶剤としては、例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサンなどのケト
ン類;酢酸メチル、酢酸エチルなどの酢酸エステル類;
メチルセロソルブ、ジオキサン、テトラヒドロフランな
どのエーテル類;及び塩化メチレン、ジアセトンアルコ
ールを挙げることができる。これらのものは単独で使用
してもよいし、あるいは2種以上の混合溶媒として用い
てもよい。バック層は上記塗布液を通常の方法を用いて
支持体上に塗布、乾燥することにより形成することがで
きる。なお、塗布液には必要に応じて、ポリエチレンテ
レフタレート(支持体)との密着性を高める目的でレゾ
ルシンなどのエッチング剤やアンチハレーション剤を添
加してもよい。バック層の層厚は一般に0.01〜5μ
mの範囲にあるのが好ましく、特に好ましくは0.1〜
0.5μmの範囲である。
ルロースとマット剤とを適当な溶剤を用いて混合し、塗
布液を調製する。この場合の溶剤としては、例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサンなどのケト
ン類;酢酸メチル、酢酸エチルなどの酢酸エステル類;
メチルセロソルブ、ジオキサン、テトラヒドロフランな
どのエーテル類;及び塩化メチレン、ジアセトンアルコ
ールを挙げることができる。これらのものは単独で使用
してもよいし、あるいは2種以上の混合溶媒として用い
てもよい。バック層は上記塗布液を通常の方法を用いて
支持体上に塗布、乾燥することにより形成することがで
きる。なお、塗布液には必要に応じて、ポリエチレンテ
レフタレート(支持体)との密着性を高める目的でレゾ
ルシンなどのエッチング剤やアンチハレーション剤を添
加してもよい。バック層の層厚は一般に0.01〜5μ
mの範囲にあるのが好ましく、特に好ましくは0.1〜
0.5μmの範囲である。
【0015】支持体のもう一方の側には、画像形成層と
なる感光性フォトレジスト層が設けられる。該感光性フ
ォトレジスト層が光重合系感光性樹脂層の場合は、通常
は、常圧で150℃以上の沸点を有し、少なくとも一個
の付加重合によって光重合体を形成し得る多官能ビニル
モノマー又はビニリデン化合物などのモノマー化合物、
有機重合体結合剤、及び活性光線によって活性化される
光重合開始剤からなり、必要に応じて熱重合禁止剤が添
加される。
なる感光性フォトレジスト層が設けられる。該感光性フ
ォトレジスト層が光重合系感光性樹脂層の場合は、通常
は、常圧で150℃以上の沸点を有し、少なくとも一個
の付加重合によって光重合体を形成し得る多官能ビニル
モノマー又はビニリデン化合物などのモノマー化合物、
有機重合体結合剤、及び活性光線によって活性化される
光重合開始剤からなり、必要に応じて熱重合禁止剤が添
加される。
【0016】光重合系感光性樹脂層の形成に使用できる
ビニルモノマー又はビニリデン化合物は、たとえば、ポ
リオールの不飽和エステル、特にアクリル酸又はメタク
リル酸のエステルが好ましい。具体例としては、エチレ
ングリコールジアクリレート、グリセリントリアクリレ
ート、ポリアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、1,3−プロパンジオールジメタクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、1,
2,4−ブタントリオールトリメタクリレート、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ペンタエリトリット
ジメタクリレート、ペンタエリトリットトリメタクリレ
ート、ペンタエリトリットテトラメタクリレート、ペン
タエリトリットジアクリレート、ペンタエリトリットト
リアクリレート、ペンタエリトリットテトラアクリレー
ト、ジペンタエリトリットポリアクリレート、1,3−
プロパンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジ
オールジメタクリレート、200〜400の範囲の分子
量を有するポリエチレングリコールのビスアクリレー
ト、ビスメタクリレート及び類似の化合物を挙げること
ができる。またモノマー化合物として不飽和アミドを用
いることもでき、その例としてはα,ω−ジアミンを有
するアクリル酸及びメタクリル酸の不飽和アミド及びエ
チレンビスメタクリルアミドを挙げることができる。不
飽和アミドのアルキレン鎖は炭素原子によって開かれて
いてもよい。光重合性モノマーはこれらの化合物に限定
されるものではない。
ビニルモノマー又はビニリデン化合物は、たとえば、ポ
リオールの不飽和エステル、特にアクリル酸又はメタク
リル酸のエステルが好ましい。具体例としては、エチレ
ングリコールジアクリレート、グリセリントリアクリレ
ート、ポリアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、1,3−プロパンジオールジメタクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、1,
2,4−ブタントリオールトリメタクリレート、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ペンタエリトリット
ジメタクリレート、ペンタエリトリットトリメタクリレ
ート、ペンタエリトリットテトラメタクリレート、ペン
タエリトリットジアクリレート、ペンタエリトリットト
リアクリレート、ペンタエリトリットテトラアクリレー
ト、ジペンタエリトリットポリアクリレート、1,3−
プロパンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジ
オールジメタクリレート、200〜400の範囲の分子
量を有するポリエチレングリコールのビスアクリレー
ト、ビスメタクリレート及び類似の化合物を挙げること
ができる。またモノマー化合物として不飽和アミドを用
いることもでき、その例としてはα,ω−ジアミンを有
するアクリル酸及びメタクリル酸の不飽和アミド及びエ
チレンビスメタクリルアミドを挙げることができる。不
飽和アミドのアルキレン鎖は炭素原子によって開かれて
いてもよい。光重合性モノマーはこれらの化合物に限定
されるものではない。
【0017】光重合開始剤としては、たとえば、ベンゾ
フェノン、ミヒラーケトン[4,4’−ビス(ジメチル
アミノ)ベンゾフェノン]、4,4’−ビス(ジエチル
アミノ)ベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン、2−エチルアントラキノン、
フェナントラキノン、及びその他の芳香族ケトンのよう
な芳香族ケトン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインフェニ
ルエーテルのようなベンゾインエーテル類;メチルベン
ゾイン、エチルベンゾイン及びその他のベンゾイン類;
ならびに2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)
−4,5−(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量
体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)
−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−
メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール
二量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フ
ェニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメトキシ
フェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、
2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフ
ェニルイミダゾール二量体、及び米国特許第3,47
9,185号、同3,784,557号、英国特許1,
047,569号の各明細書に記載されているような
2,4,5−トリアクリルイミダゾール二量体を挙げる
ことができる。
フェノン、ミヒラーケトン[4,4’−ビス(ジメチル
アミノ)ベンゾフェノン]、4,4’−ビス(ジエチル
アミノ)ベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン、2−エチルアントラキノン、
フェナントラキノン、及びその他の芳香族ケトンのよう
な芳香族ケトン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインフェニ
ルエーテルのようなベンゾインエーテル類;メチルベン
ゾイン、エチルベンゾイン及びその他のベンゾイン類;
ならびに2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェ
ニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)
−4,5−(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量
体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)
−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−
メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール
二量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フ
ェニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメトキシ
フェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、
2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフ
ェニルイミダゾール二量体、及び米国特許第3,47
9,185号、同3,784,557号、英国特許1,
047,569号の各明細書に記載されているような
2,4,5−トリアクリルイミダゾール二量体を挙げる
ことができる。
【0018】有機重合体結合剤としては、上記モノマー
化合物及び光重合開始剤との相溶性の点から特にビニル
系高分子物質が良好である。ビニル系高分子物質として
は、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリア
クリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル
酸ブチル、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸メチ
ル、ポリビニルエーテル、ポリビニルアセタール及びこ
れらの共重合物等の種々のものが挙げられるが、これら
に限定されるものではない。ここで、モノマー化合物と
有機重合体結合剤との混合比は、使用されるモノマー化
合物と有機重合体結合剤の組み合わせによってもその適
正比は異なるが、一般には1/10〜2/1(質量比:
モノマー化合物/有機重合体結合剤)の範囲が好まし
い。またこのとき、光重合開始剤の添加量はモノマー化
合物の使用重量に対して0.01〜20質量%の範囲が
好ましい。
化合物及び光重合開始剤との相溶性の点から特にビニル
系高分子物質が良好である。ビニル系高分子物質として
は、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリア
クリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル
酸ブチル、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸メチ
ル、ポリビニルエーテル、ポリビニルアセタール及びこ
れらの共重合物等の種々のものが挙げられるが、これら
に限定されるものではない。ここで、モノマー化合物と
有機重合体結合剤との混合比は、使用されるモノマー化
合物と有機重合体結合剤の組み合わせによってもその適
正比は異なるが、一般には1/10〜2/1(質量比:
モノマー化合物/有機重合体結合剤)の範囲が好まし
い。またこのとき、光重合開始剤の添加量はモノマー化
合物の使用重量に対して0.01〜20質量%の範囲が
好ましい。
【0019】熱重合禁止剤としては、たとえば、p−メ
トキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル又はアリ
ール置換ハイドロキノン、ターシャリーブチルカテコー
ル、ピロガロール、ナフチルアミン、β−ナフトール、
フェナチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、o−トル
キノン、アリールホスファイトを挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。
トキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル又はアリ
ール置換ハイドロキノン、ターシャリーブチルカテコー
ル、ピロガロール、ナフチルアミン、β−ナフトール、
フェナチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、o−トル
キノン、アリールホスファイトを挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。
【0020】また、感光性フォトレジスト層が光解離系
樹脂層の場合は、光解離する化合物として米国特許第
2,766,118号、同第3,647,443号等に
記載されているオルトキノンジアジド化合物、特開昭5
6−17345号に記載されている主鎖にオルトエステ
ル基を有する化合物、特開昭60−37549号に記載
された主鎖にシリルエーテル基を有する化合物等が挙げ
られる。この場合は、有機重合体結合剤は必ずしも必要
ではないが、ノボラック型フェノール樹脂等の結合剤を
用いることができる。結合剤は光解離系樹脂層の約40
〜90質量%の範囲で用いることができる。
樹脂層の場合は、光解離する化合物として米国特許第
2,766,118号、同第3,647,443号等に
記載されているオルトキノンジアジド化合物、特開昭5
6−17345号に記載されている主鎖にオルトエステ
ル基を有する化合物、特開昭60−37549号に記載
された主鎖にシリルエーテル基を有する化合物等が挙げ
られる。この場合は、有機重合体結合剤は必ずしも必要
ではないが、ノボラック型フェノール樹脂等の結合剤を
用いることができる。結合剤は光解離系樹脂層の約40
〜90質量%の範囲で用いることができる。
【0021】感光性フォトレジスト層の層厚は、一般に
0.1〜150μmの範囲にあり、好ましくは0.5〜
100μmの範囲にある。
0.1〜150μmの範囲にあり、好ましくは0.5〜
100μmの範囲にある。
【0022】本発明の感光性シートを構成する感光性フ
ォトレジスト層のその他の材料及びその形成方法の詳細
については、例えば特公昭46−15326号、同46
−35682号、特開昭47−41830号、同48−
93337号、同49−441号、同51−5101
号、同59−97140号などの各公報に記載されてい
る。
ォトレジスト層のその他の材料及びその形成方法の詳細
については、例えば特公昭46−15326号、同46
−35682号、特開昭47−41830号、同48−
93337号、同49−441号、同51−5101
号、同59−97140号などの各公報に記載されてい
る。
【0023】本発明の感光性シートでは、染料や顔料等
の着色物質が使用される。着色物質は感光性樹脂層に含
有されてもよいし、あるいは別に色材層を設けてこの中
に含有されてもよい。色材層は感光性フォトレジスト層
の上部及び下部のどちらにでも設けることができるが、
画像露光工程における感光性樹脂層の感度(光重合性)
の点から、色材層の上に感光性フォトレジスト層を設け
るのが好ましい。また、着色物質としては、公知の顔料
及び染料を用いることができる。着色物質及び色材層の
詳細については、たとえば特開昭59−97140号公
報に開示されている。
の着色物質が使用される。着色物質は感光性樹脂層に含
有されてもよいし、あるいは別に色材層を設けてこの中
に含有されてもよい。色材層は感光性フォトレジスト層
の上部及び下部のどちらにでも設けることができるが、
画像露光工程における感光性樹脂層の感度(光重合性)
の点から、色材層の上に感光性フォトレジスト層を設け
るのが好ましい。また、着色物質としては、公知の顔料
及び染料を用いることができる。着色物質及び色材層の
詳細については、たとえば特開昭59−97140号公
報に開示されている。
【0024】さらに、本発明の画像形成材料は、酸素に
よる感度の低下を防止する意味から酸素透過性の小さい
保護層を設けることもできる。保護層は、たとえばポリ
ビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、メチルビニルエー
テル、無水マレイン酸共重合体、ポリビニルピロリド
ン、ゼラチン、アラビアゴムなどの高分子物質の溶液を
塗布、乾燥することにより形成することができる。保護
層の膜厚としては0.1〜5μm、好ましくは0.2〜
3μm、より好ましくは0.2〜2μmである。保護層
には各種マット剤、滑り剤、帯電防止剤等を必要に応じ
て添加することができる。
よる感度の低下を防止する意味から酸素透過性の小さい
保護層を設けることもできる。保護層は、たとえばポリ
ビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、メチルビニルエー
テル、無水マレイン酸共重合体、ポリビニルピロリド
ン、ゼラチン、アラビアゴムなどの高分子物質の溶液を
塗布、乾燥することにより形成することができる。保護
層の膜厚としては0.1〜5μm、好ましくは0.2〜
3μm、より好ましくは0.2〜2μmである。保護層
には各種マット剤、滑り剤、帯電防止剤等を必要に応じ
て添加することができる。
【0025】
レゾルシン(エッチング剤) 2.8kg
ジアセチルセルロース 0.3kg
(酢化度:55±0.5%、平均重合度:160、アセテートフレクスV−A
C、ダイセル(株)製)
二酸化ケイ素 0.1kg
(平均粒径:40nm、TT−600、日本アエロジル(株)製)
メタノール 8kg
メチルエチルケトン 30kg
【0026】この塗布液をポリエチレンテレフタレート
フィルム(支持体、厚さ:100μm、長さ:2000
m)上に均一に塗布し、乾燥(乾燥温度:120℃)し
て、乾燥膜厚が0.3μmの実質的にジアセチルセルロ
ースと二酸化ケイ素からなるバック層を設けた後、巻き
取った。
フィルム(支持体、厚さ:100μm、長さ:2000
m)上に均一に塗布し、乾燥(乾燥温度:120℃)し
て、乾燥膜厚が0.3μmの実質的にジアセチルセルロ
ースと二酸化ケイ素からなるバック層を設けた後、巻き
取った。
【0027】次に、感光性フォトレジスト層形成用の塗
布液として、下記組成を有する溶液を調製した。この場
合に、下記の組成を有する色材分散液は別に調製してお
き、混合した。 〔色材分散液〕 色材 9.8kg ベンジルメタアクリレート・メタクリル酸共重合体 16.4kg (モル比:72/27、25℃のメチルエチルケトン溶液の極限粘度:0.1 2cps) メチルエチルケトン 36.9kg メチルセロソルブアセテ−ト 36.9kg ここで、色材として、各々下記の染料あるいは顔料を用
いた。 ・黄:セイカファーストイエロー H−0755(大日
精化(株)) ・マゼンタ:セイカファーストカーミン 1483(大
日精化(株)) ・シアン:シアニンブルー 4920(大日精化
(株)) ・ブラック:三菱カーボンブラックMA−100(三菱
化学(株)) 色材分散液の調製は、試験用の分散機(東洋精機(株)
製ペイントシェーカー)で6時間行った。
布液として、下記組成を有する溶液を調製した。この場
合に、下記の組成を有する色材分散液は別に調製してお
き、混合した。 〔色材分散液〕 色材 9.8kg ベンジルメタアクリレート・メタクリル酸共重合体 16.4kg (モル比:72/27、25℃のメチルエチルケトン溶液の極限粘度:0.1 2cps) メチルエチルケトン 36.9kg メチルセロソルブアセテ−ト 36.9kg ここで、色材として、各々下記の染料あるいは顔料を用
いた。 ・黄:セイカファーストイエロー H−0755(大日
精化(株)) ・マゼンタ:セイカファーストカーミン 1483(大
日精化(株)) ・シアン:シアニンブルー 4920(大日精化
(株)) ・ブラック:三菱カーボンブラックMA−100(三菱
化学(株)) 色材分散液の調製は、試験用の分散機(東洋精機(株)
製ペイントシェーカー)で6時間行った。
【0028】感光性フォトレジスト層用塗布液は、10
分間の撹拌操作の後超音波分散操作を10分間施した。 〔感光性フォトレジスト層用塗布液〕 メチルエチルケトン 15kg メチルセロソルブアセテート 7.4kg ベンジルメタアクリレート・メタクリル酸共重合体 4.5kg (モル比:72/27、25℃のメチルエチルケトン溶液の極限粘度:0.1 2cps) ペンタエリスリトールテトラアクリレート 5.5kg ミヒラーケトン 0.15kg 2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ ルビイミダゾール 0.15kg 二酸化ケイ素 0.4kg (#266、富士デビイソン(株)製) 色材分散液 24kg フッ素系界面活性剤(表1に記載の化合物No.1〜No.9) 0.046kg なお、表1に記載の化合物No.1〜No.9が、それ
ぞれ実施例1〜9に相当する。
分間の撹拌操作の後超音波分散操作を10分間施した。 〔感光性フォトレジスト層用塗布液〕 メチルエチルケトン 15kg メチルセロソルブアセテート 7.4kg ベンジルメタアクリレート・メタクリル酸共重合体 4.5kg (モル比:72/27、25℃のメチルエチルケトン溶液の極限粘度:0.1 2cps) ペンタエリスリトールテトラアクリレート 5.5kg ミヒラーケトン 0.15kg 2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニ ルビイミダゾール 0.15kg 二酸化ケイ素 0.4kg (#266、富士デビイソン(株)製) 色材分散液 24kg フッ素系界面活性剤(表1に記載の化合物No.1〜No.9) 0.046kg なお、表1に記載の化合物No.1〜No.9が、それ
ぞれ実施例1〜9に相当する。
【0029】このようにして調製した感光性フォトレジ
スト層形成用塗布液を支持体の上記バック層とは反対側
の表面に塗布し、乾燥(乾燥温度:100℃)して、乾
燥膜厚が2.4μmの感光性フォトレジスト層を設け、
巻き取った。別に、下記組成の保護層形成用の塗布液を
調製し、この塗布液をこの感光性フォトレジスト層の上
に塗布し、乾燥(乾燥温度:100℃)して、乾燥膜厚
が1.5μmの保護層を設けた。 〔保護層用の塗布液〕 ポリビニルアルコール 6kg (GL−05H、日本合成化学工業(株)製) 水 97kg メタノール 3kg
スト層形成用塗布液を支持体の上記バック層とは反対側
の表面に塗布し、乾燥(乾燥温度:100℃)して、乾
燥膜厚が2.4μmの感光性フォトレジスト層を設け、
巻き取った。別に、下記組成の保護層形成用の塗布液を
調製し、この塗布液をこの感光性フォトレジスト層の上
に塗布し、乾燥(乾燥温度:100℃)して、乾燥膜厚
が1.5μmの保護層を設けた。 〔保護層用の塗布液〕 ポリビニルアルコール 6kg (GL−05H、日本合成化学工業(株)製) 水 97kg メタノール 3kg
【0030】このようにして得られた4色の感光性シー
ト(ネガ型着色感光シート)を作製した。
ト(ネガ型着色感光シート)を作製した。
【0031】比較例1
実施例1において、感光性フォトレジスト層用塗布液中
に含有させたフッ素系界面活性剤を、表2に記載した界
面活性剤に変更したこと以外は、実施例1と同様に行う
ことにより、4色の感光性シートを作製した。
に含有させたフッ素系界面活性剤を、表2に記載した界
面活性剤に変更したこと以外は、実施例1と同様に行う
ことにより、4色の感光性シートを作製した。
【0032】比較例2
実施例1において、感光性フォトレジスト層用塗布液に
フッ素系界面活性剤を用いなかったこと以外は、実施例
1と同様に行うことにより、3色の感光性シートを作製
した。
フッ素系界面活性剤を用いなかったこと以外は、実施例
1と同様に行うことにより、3色の感光性シートを作製
した。
【0033】以上作製した感光性シートにつき、下記方
法で塗布表面の面状の均一性および画像視認性を評価し
た。結果を表2に示した。
法で塗布表面の面状の均一性および画像視認性を評価し
た。結果を表2に示した。
【0034】〔感光性シートの評価〕
(1)塗布表面の面状の均一性
感光性シートの支持体上に形成された感光性フォトレジ
スト層のサンプルを、シャーカステン上で目視観察し下
記3段階評価を行った。 ○:ハジキやムラがない △:ハジキやムラが部分的にある ×:ハジキやムラが全面的にある
スト層のサンプルを、シャーカステン上で目視観察し下
記3段階評価を行った。 ○:ハジキやムラがない △:ハジキやムラが部分的にある ×:ハジキやムラが全面的にある
【0035】(2)画像視認性
感光性シートの支持体上に形成された4色の画像シート
を位置合わせをして重ねた4色の画像シートを白色紙上
において目視判断し、下記の3段階評価を行った。 A:画像が鮮明に見える B:画像がやや不鮮明に見える C:画像が歪んで見える
を位置合わせをして重ねた4色の画像シートを白色紙上
において目視判断し、下記の3段階評価を行った。 A:画像が鮮明に見える B:画像がやや不鮮明に見える C:画像が歪んで見える
【0036】なお、上記評価において、露光光源として
は、2Kw超高圧水銀灯ジェットライト2000(オー
ク製作所製)を、現像液としては下記組成のものを用い
た。 NaOH 6g 界面活性剤 100g (花王アトラス社製:ペレックスNBL) 蒸留水 900g
は、2Kw超高圧水銀灯ジェットライト2000(オー
ク製作所製)を、現像液としては下記組成のものを用い
た。 NaOH 6g 界面活性剤 100g (花王アトラス社製:ペレックスNBL) 蒸留水 900g
【0037】
【表2】
【0038】表2に示される結果から、本発明の感光性
シートは、均一な塗布面状を有し、画像形成層に形成さ
れた画像が視認性に優れることが明らかである。
シートは、均一な塗布面状を有し、画像形成層に形成さ
れた画像が視認性に優れることが明らかである。
【0039】
【発明の効果】本発明の感光性シートは、欠陥、塗布む
らのない均一な塗布面状を有し、画像視認性に優れる。
らのない均一な塗布面状を有し、画像視認性に優れる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 2H025 AA14 AA17 AA18 AB01 AB09
AB11 AC01 AD01 BC13 BC42
CA00 CC04 CC11 EA08
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体上に、(i)染料もしくは顔料を
含有する感光性フォトレジスト層を有する感光性シー
ト、または(ii)染料もしくは顔料を含有する色材層と
感光性フォトレジスト層とを有する感光性シートにおい
て、 上記(i)の感光性シートの場合は感光性フォトレジス
ト層に、上記(ii)の感光性シートの場合は色材層およ
び感光性フォトレジスト層の少なくとも一方の層に、下
記一般式(1)で示される重合性モノマーの単独重合体
からなり、かつ重量平均分子量Mwが2000以上のフ
ッ素系界面活性剤が含有されていることを特徴とする感
光性シート。一般式(1): CnF2n+1−L−CH2CH2−O−C(=O)−CR=
CH2 (一般式(1)中、nは2〜14の整数を示す。Rは水
素原子、又は炭素数1〜10のアルキル基を示す。L
は、単結合、または、酸素原子、窒素原子、硫黄原子お
よび炭素原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含む
二価有機基を示す。) - 【請求項2】 一般式(1)のLが−CH2CH2SO2
N(−R1)−(ここで、R1は一般式(1)のRと同義
である)で示される二価有機基であることを特徴とする
請求項1に記載の感光性シート。 - 【請求項3】 感光性フォトレジスト組成物が光重合系
組成物であることを特徴とする請求項1または2に記載
の感光性シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001203461A JP2003015280A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | 感光性シート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001203461A JP2003015280A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | 感光性シート |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003015280A true JP2003015280A (ja) | 2003-01-15 |
Family
ID=19040095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001203461A Pending JP2003015280A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | 感光性シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003015280A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007094217A1 (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-23 | Fujifilm Corporation | 樹脂積層体及びその製造方法、表示装置用材料、並びに表示装置及び液晶表示装置 |
-
2001
- 2001-07-04 JP JP2001203461A patent/JP2003015280A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007094217A1 (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-23 | Fujifilm Corporation | 樹脂積層体及びその製造方法、表示装置用材料、並びに表示装置及び液晶表示装置 |
JP2007219020A (ja) * | 2006-02-14 | 2007-08-30 | Fujifilm Corp | 樹脂積層体及びその製造方法、表示装置用材料、並びに表示装置及び液晶表示装置 |
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