WO2007094217A1 - 樹脂積層体及びその製造方法、表示装置用材料、並びに表示装置及び液晶表示装置 - Google Patents

樹脂積層体及びその製造方法、表示装置用材料、並びに表示装置及び液晶表示装置 Download PDF

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WO2007094217A1
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photosensitive
transfer
display device
substrate
photosensitive resin
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Junichi Yoneda
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Fujifilm Corporation
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    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Definitions

  • the present invention relates to a resin laminate suitable for producing a resin structure by a transfer method using a photosensitive transfer material having a photosensitive resin layer, a method for producing the same, and the resin laminate.
  • the present invention relates to a display device material, a display device, and a liquid crystal display device.
  • a photosensitive laminate material in which a photosensitive material layer such as a photosensitive resin layer is laminated on a substrate such as a glass substrate or a hard resin substrate is used as a resin laminate for producing printed wiring boards and color filters. It's being used.
  • One of the problems with 1S liquid crystal panels that have liquid crystal panels is the reduction of manufacturing costs. In particular, in color filters, increasing the yield of color filters, which account for a large proportion of the cost of liquid crystal panels, greatly contributes to the cost reduction of liquid crystal panels.
  • a laminator (hereinafter referred to as two-clad laminator) that can supply a plurality of photosensitive transfer materials having a width smaller than the transfer area width in parallel. It is known that laminating with a wide width is possible without depending on the coating width of the photosensitive transfer material. For example, see Patent Document 1). In addition, by combining a plurality of narrow transfer materials, the material utilization efficiency can be increased.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-333616
  • the present invention has been made in view of the above situation, and the amount of seepage to the mating portion between the webs when transferring a plurality of photosensitive transfer materials (webs) on the same substrate was suppressed.
  • a resin laminate and a method for producing the same are provided.
  • the present invention provides a display device material (including a color filter) capable of displaying a good image with few image defects due to adhesion of foreign matter, a display device and a liquid crystal display device with good display quality.
  • the transfer device provided with at least a delivery mechanism for delivering a plurality of long photosensitive transfer materials and a joining mechanism for joining the sent photosensitive transfer materials to the same substrate.
  • ⁇ 2> The method for producing a resin laminate according to ⁇ 1>, wherein the bonding mechanism force S includes a laminate roll, and an outer diameter of the laminate roll is 10 Omm or less.
  • ⁇ 3> The method for producing a resin laminate according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein a step on the surface of the substrate is 0.5 ⁇ m or less.
  • ⁇ 4> A resin laminate obtained by the method for producing a resin laminate according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>.
  • ⁇ 5> A display device material obtained by exposing and developing the photosensitive resin layer of the resin laminate according to ⁇ 4>.
  • a display device comprising the display device material according to ⁇ 5>.
  • a liquid crystal display device comprising the display device material according to ⁇ 5>.
  • ⁇ 9> The method for producing a resin laminate according to ⁇ 1>, wherein a gap force between the photosensitive resin layers formed on the same substrate using a plurality of transfer materials is 20 mm to 20 mm. It is.
  • the photosensitive resin layer includes a polymer substance, a polymerizable monomer, and a photopolymerization initiator.
  • the ratio BZA is 0.3 to 1.2.
  • ⁇ 14> A color filter obtained by exposing and developing the photosensitive resin layer of the resin laminate according to ⁇ 4>.
  • a resin laminate and a method for producing the same in which the amount of seepage into the mating portion between the webs when transferring a plurality of photosensitive transfer materials (webs) on the same substrate, is suppressed.
  • a display device material including a color filter
  • a display device capable of displaying a good image with few image defects due to adhesion of foreign matter
  • a display device and a liquid crystal display device with good display quality.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an entire example of a transfer apparatus according to the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic sectional view showing a layer structure of a photosensitive transfer material.
  • FIG. 3 is an enlarged view showing a schematic configuration of a transfer material feed mechanism, a processing mechanism, and a transfer conveyance mechanism.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining a transfer area on a substrate.
  • FIG. 5 is a perspective view showing installation positions of tension adjusting mechanisms for two photosensitive transfer materials.
  • FIG. 6 is a view showing a transfer pattern of a photosensitive transfer material.
  • FIG. 7 is a view showing another transfer pattern of a photosensitive transfer material.
  • the resin laminate of the present invention and the production method thereof will be described in detail, and the display device material, the display device, and the liquid crystal of the present invention configured using the resin laminate of the present invention.
  • the display device will also be described in detail.
  • a feeding mechanism that feeds a plurality of long photosensitive transfer materials and a plurality of sent photosensitive transfer materials do not cross each other.
  • a device having at least a bonding mechanism for bonding to the same substrate is used, and each photosensitive resin layer constituting each of the plurality of photosensitive transfer materials has a predetermined gap (joint) on the same substrate. And transcribe.
  • a transfer material in particular, a temporary support is provided without providing a resin layer such as a thermoplastic resin layer for providing cushioning properties at the time of transfer, between the temporary support Z photosensitive resin layers. Use a transfer material with a photosensitive resin layer directly on the body.
  • a photosensitive resin layer is formed directly on the surface of the temporary support, or a thickness equal to or less than the thickness of the photosensitive resin layer on the temporary support.
  • a photosensitive resin layer is formed through a thin intermediate layer (oxygen barrier layer), or a form of deviation.
  • Contamination of the substrate surface may cause image defects in the display device material such as a color filter to be formed.
  • the present invention does not have a resin layer mainly composed of a resin component, such as a thermoplastic resin layer, or contains a large amount of the resin component, and the resin component does not ooze out.
  • a transfer material that is provided with a photosensitive resin layer directly on top, it is possible to suppress seepage at the seam. As a result, transfer to a mask in the exposure process and generation of defects due to adhesion of foreign matters in the development process can be prevented.
  • a display device material including a color filter
  • a display device and a liquid crystal display device that are excellent in display quality when an image is displayed with few image defects can be provided.
  • the transfer device is bonded to the same substrate so that at least a delivery mechanism that sends out a plurality of long photosensitive transfer materials and a plurality of sent-out photosensitive transfer materials do not cross each other. And a joining mechanism that is provided at least.
  • This apparatus transfers each photosensitive resin layer constituting each of a plurality of photosensitive transfer materials on the same substrate with a predetermined gap (joint) so as not to overlap. If necessary, a calorific mechanism and a transfer conveyance mechanism can be further provided.
  • a laminator described in JP-A-2004-333616, which can transfer a plurality of transfer materials to a single substrate is suitable.
  • it has a delivery mechanism for feeding out a plurality of long photosensitive transfer materials, a laminate roll pair, and two backup rolls in contact with each laminating roll of the laminate roll pair, and a plurality of sent out photosensitive transfers.
  • An apparatus having a bonding mechanism for bonding the photosensitive resin layer of the material to the same substrate (preferably integrally and in parallel) is preferable.
  • an apparatus using two photosensitive transfer materials hereinafter also simply referred to as “transfer materials”.
  • the above-mentioned joining mechanism for joining in parallel and in parallel means that a plurality of transfer materials are carried at the same speed in the same direction while maintaining a predetermined gap (joint) between adjacent transfer materials. It refers to the entire mechanism for performing multiple transfer processes in a stable manner, specifically the frame body and adjustment mechanism.
  • the gap (joint) between the photosensitive resin layers formed on the same substrate using a plurality of transfer materials prevents bleeding and reduces the joint area (enlarges the effective transfer area). From the viewpoint, it is preferably 1 to 20 mm, independently of 1 to: LOmm, and more preferably 3 to 8 mm.
  • the outer diameter of the laminate roll constituting the joining mechanism of the transfer device is provided with a layer using a thermoplastic resin (a so-called cushion layer), and is sensitive to the transfer material according to the present invention.
  • the thickness is preferably 100 mm or less, more preferably 50 to 80 mm.
  • the hardness of the laminate roll is preferably 40 to 80 degrees, more preferably 50 to 70 degrees, from the viewpoint of preventing lami bubbles and unevenness in steps.
  • the outer diameter of the backup roll constituting the joining mechanism of the transfer device is preferably 50 to 300 mm, more preferably 100 to 200 mm, from the viewpoint of uniformizing the laminating pressure in the width direction.
  • the backup roll is preferably a crown roll.
  • the crown amount in the crown roll that is, the difference in diameter between the end of the laminate roll and the center of the laminate roll is preferably 3 mm or less. 0.1-3. Omm is more preferred. 0.1-2 mm It is even more preferable that it is 0.5-2 mm.
  • the heating temperature of the substrate by the substrate preheating device is preferably 60 to 140 ° C.
  • the rubber roller temperature is in the range of 80 to 140 ° C.
  • the lamination pressure (linear pressure) is in the range of 50 to 200 NZcm.
  • the conveying speed is preferably in the range of 1 to 5 mZ.
  • the feeding mechanism constituting the transfer device of the present invention feeds a plurality of photosensitive transfer materials.
  • This is a mechanism that provides a mounting shaft to which a plurality of photosensitive transfer materials are attached.
  • the processing mechanism is composed of a photosensitive resin layer of the photosensitive transfer material according to the length of the substrate, a half cutter part for putting a half cut into the cover film, and a peeling mechanism for peeling the cover film.
  • the transfer transport mechanism is a mechanism that stabilizes the transport of the photosensitive transfer material before the crimping section (laminate section), that is, a tension adjusting mechanism having a knock tension controller, a film position control device, and a base film after transfer (temporary support). ).
  • the delivery mechanism, the processing mechanism, and the transfer / conveying mechanism described above can be configured by arranging a plurality, an integrated unit, and a parallel unit.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an overview of an example of a transfer apparatus according to the present invention.
  • a plurality of transfer materials having a width smaller than the width of the transfer area on the substrate are supplied in parallel, and the photosensitive resin is applied almost over the entire transfer area. Transfer the layer.
  • the transfer device 2 includes a substrate supply unit 10, a preheating unit 11, a bonding mechanism (thermocompression unit) 12, a cooling unit 13, a substrate takeout unit 15, a transfer material delivery mechanism 16 (The transfer material mounting shafts 37 and 38), the processing mechanisms 39 to 42, the transfer conveyance mechanism (the peeling portion 14, the film position control device 57, and the tension adjustment mechanisms 43 and 44) are provided.
  • a substrate supply unit 10 a preheating unit 11, a bonding mechanism (thermocompression bonding unit) 12, a cooling unit 13 and a substrate take-out unit 15 are shown as a set. Substrates may be laminated in parallel.
  • the transfer material delivery mechanism 16 has transfer material attachment shafts 37 and 38, and the transfer material attachment shafts 37 and 38 have long transfer materials 17a and 17b, respectively, as shown in FIG.
  • the transfer material rolls 18a and 18b are set in a roll shape.
  • the transfer material delivery mechanism 16 pulls out the transfer materials 17a and 17b from the transfer material rolls 18a and 18b, respectively, and supplies them in parallel to the conveyance path.
  • each transfer material 17a, 17b is directly above the temporary support 19 (here, directly on the surface of the temporary support 19), and is a photosensitive resin for constituting a color filter.
  • a layer 20 is provided, and a cover film 21 for protecting the photosensitive resin layer 20 is provided above the photosensitive resin layer 20.
  • three color transfer materials for R, G, and B that correspond to the three color filters R (red), G (green), and B (blue) 17a , 17b are sequentially transferred onto the substrate 22.
  • a transfer material which is mainly composed of a resin component such as a cushion layer or does not have a layer containing a large amount of a resin component is supplied in parallel to perform two-time simultaneous transfer on the same substrate. As a result, the amount of the oil component that oozes out at the joint between the transfer materials can be suppressed.
  • R transfer material rolls 18 a and 18 b are set, and the photosensitive resin layer for R is transferred to the glass substrate 22.
  • the transferred photosensitive resin layer is exposed and developed by photolithography to form a filter pattern.
  • the photosensitive resin layer on which the filter pattern is formed is beta-fixed on the substrate.
  • the glass substrate 22 on which the R filter is formed is returned to the transfer device 2 again.
  • the G transfer material rolls 18 a and 18 b are set, and the G photosensitive resin layer is further transferred to the R filter forming surface of the glass substrate 22.
  • the transferred photosensitive resin layer for G like the photosensitive resin layer for R, is formed with a filter pattern and fixed with beta.
  • the B photosensitive resin layer is similarly transferred to form the B filter.
  • a photosensitive resin layer for K black
  • the substrate 22 is supplied to the preheating unit 11 by the robot hand 23 of the substrate supply unit 10 with the transfer surface facing downward at regular intervals.
  • the substrate 22 has a size including, for example, four panels, and is divided into four after the color filter is formed.
  • the preheating unit 11 includes a substrate transfer device 24 and heaters 25 and 26.
  • the substrate transport device 24 includes an air levitation plate 27 and a feed roller 28.
  • the air levitation plate 27 is disposed so as to face the transfer surface side of the substrate 22 and blows clean air toward the transfer surface so that the substrate 22 is levitated.
  • the feed roller 28 is in contact with both side edges of the transfer surface of the substrate 22 that has floated and rotates.
  • the substrate 22 is conveyed toward the bonding mechanism (thermocompression bonding section) 12.
  • the photosensitive resin layer 20 is not transferred to both side edges of the transfer surface of the substrate 22, and the peripheral surface of the feed roller 28 does not contact the photosensitive resin layer 20.
  • the feed roller 28 is composed of a roller with a collar, and a collar (not shown) functions as a guide for the substrate 22 and positions the substrate 22 in the width direction.
  • a plurality of heaters 25 and 26 are arranged vertically so as to sandwich the transport path of the substrate 22 of the substrate transport device 24, and heat the substrate 22 to a temperature of, for example, 50 to L 10 ° C.
  • the substrate 22 heated by the preheating unit 11 is sent out to the joining mechanism (thermocompression unit) 12 by the feed roller 28.
  • the joining mechanism (thermocompression bonding part) 12 includes a pair of lami rolls 29 and a backup roller 30.
  • the lami roll pair 29 also includes a lami roll 29a that contacts the substrate 22 and a force 29b that contacts the transfer material 17. Heaters are built in the lami rolls 29a and 29b and the backup roller 30.
  • the lami roll pair 29 sandwiches and conveys the substrate 22 and the transfer material 17 so that the transfer material 17 is bonded to the substrate 22 by thermocompression bonding.
  • the knock-up roller 30 rotates in contact with the lami rolls 29a and 29b and suppresses the stagnation of the lami rolls 29a and 29b, thereby enabling thermocompression bonding with a uniform force.
  • the joining mechanism (thermocompression bonding part) 12 sends a feed start signal to the substrate transport device 24 when a half cut line of a half cutter 45 described later passes a predetermined position.
  • the photosensitive resin layer 20 of the transfer material 17 is transferred to the substrate 22 in a state where the half cut line and the substrate 22 are aligned.
  • the temporary support 19 is also sent to the downstream side in the feed direction of the roll pair 29 as the substrate 22 moves.
  • the cooling unit 13 includes a cooling air blowing board 31 and a conveyance roller 32.
  • the cooling air blowing board 31 blows clean cooling air that has passed through the HEPA filter toward the substrate 22 and cools the temperature of the substrate 22 conveyed by the conveying roller 32 to substantially room temperature (30 ° C. or lower).
  • the peeling portion 14 which is a part of the transfer conveyance mechanism is composed of a peeling roller 33 and a base film scooping mechanism 34.
  • the temporary support 19 is continuously peeled from the substrate 22, and this temporary support 19 is wound around the collecting shaft 34a in a roll shape.
  • the collection shaft 34a is rotated by a scraping motor (not shown). This scraping motor is torque controlled
  • the tension of the temporary support 19 after the pair of lami rolls 29 is kept constant so that no stagnation occurs in the temporary support 19.
  • a substrate take-out portion 15 including an air levitation plate 35 is provided on the downstream side of the peeling portion 14.
  • the air levitation plate 35 is configured in the same manner as the air levitation plate 27 of the preheating unit 11.
  • the substrate 22 sent out from the peeling unit 14 to the substrate taking-out unit 15 is taken out with its upper surface adsorbed by the robot hand 36.
  • the transfer device 2 includes cutter units 39 and 40 and cover film peeling mechanisms 41 and 42 as processing mechanisms, and, in addition to the peeling unit, a knock tenter as a transfer conveyance mechanism.
  • Tension adjusting mechanisms 43 and 44 having sill rollers and a film position control device 57 are provided independently.
  • Transfer material rolls 18a and 18b are set on transfer material mounting shafts 37 and 38, respectively.
  • the cutter parts 39, 40 leave the temporary supports 19a, 19b of the respective transfer materials 17a, 17b, and the photosensitive resin layer according to the length of the transfer area 22a of the substrate 22 (see FIG. 4).
  • a half cutter 45 is provided for cutting the cuts 20a and 20b and the cover films 21a and 21b.
  • the half cutter 45 is composed of two blades whose longitudinal direction extends along the width direction of each transfer material 17a, 17b. The distance between the two blades corresponds to the distance at which the plurality of substrates 22 are continuously conveyed. That is, the distance between the two blades corresponds to the distance between the rear end of the transfer area 22a of one substrate 22 and the front end of the transfer area 22a of the next substrate 22. By turning it once, a break is made at these positions simultaneously.
  • the cover film peeling mechanisms 41, 42 peel the upper cover films 21a, 21b of the cut photosensitive resin layers 20a, 20b from the transfer materials 17a, 17b.
  • the cover film peeling mechanisms 41 and 42 attach the adhesive tape 47 drawn from the adhesive tape roll 46 to the cover film 21 by the pressing roller 48, and the adhesive tape 47 to which the cover film 21 is attached is attached to the tape. Take up the take-up shaft 49 and collect it.
  • the tension adjusting mechanisms 43 and 44 of the transfer / conveying mechanism are configured with knock tension rollers 50 and 51, motors 52 and 53, and tension sensors 54 and 55.
  • the back tension rollers 50 and 51 are connected to the roll rollers based on the tension values detected by the tension sensors 54 and 55.
  • the tension of the transfer materials 17a and 17b before 29 is kept constant so that no stagnation occurs in the transfer materials 17a and 17b.
  • the tension value detected by the tension sensors 54 and 55 is sent to the controller 56 (see Fig. 5), and the rotation speed and rotation amount of the motors 52 and 53 are controlled so that the tension is adjusted. Become.
  • the film position control device 57 of the transfer conveyance mechanism holds the distance between the two transfer materials 17a and 17b conveyed in parallel at a predetermined interval to stabilize the conveyance of the transfer materials 17a and 17b.
  • the film position control device 57 may be installed at various places so that the transfer materials 17a and 17b can be accurately conveyed.
  • the width W2 of each transfer material 17a, 17b is narrower than the total width W1 of the transfer area 22a on the substrate 22, for example, W2 ⁇ 1Z2′W1.
  • the photosensitive resin layer 20 is transferred to substantially the entire transfer area 22a.
  • the photosensitive resin layer is transferred to substantially the entire surface of the wide transfer area without widening the transfer material. be able to.
  • W1 ⁇ 2′W2 represents a gap (joint) between a plurality of photosensitive transfer materials.
  • the back tension rollers 50 and 51 in the tension adjusting mechanisms 43 and 44 are provided coaxially.
  • Each back tension roller 50, 51 is driven by a separate motor 52, 53, respectively.
  • the controller 56 adjusts the tension of each transfer material independently by controlling these motors 52 and 53 independently.
  • a tension adjusting mechanism is provided for each transfer material, and these are controlled independently to keep the tension of each transfer material constant.
  • the resin laminate can be produced as follows using the transfer device described above.
  • the substrate 22 supplied to the preheating unit 11 is heated by the heaters 25 and 26. It is heated and sent to the joining mechanism (thermocompression bonding part) 12. Then, the transfer material 17a, 17b having a photosensitive resin layer formed on the temporary support is directly transferred from the transfer material feed mechanism 16 to the substrate 22 fed to the bonding mechanism (thermocompression bonding section) 12. Are supplied in parallel with a gap (joint) of.
  • the transfer materials 17a and 17b are formed on the temporary support Z without providing a resin layer such as a thermoplastic resin layer for providing cushioning properties between the temporary support Z and the photosensitive resin layer.
  • a photosensitive resin layer is formed.
  • the controller 56 controls the transfer material delivery mechanism 16 independently to transfer the transfer materials 17a and 17b.
  • processing is performed.
  • the transfer materials 17a and 17b are cut in accordance with the length of the transfer area 22a of the substrate 22 by the half cutters 45 of the cut portions 39 and 40, and sent to the cover film peeling mechanisms 41 and 42.
  • the cover film peeling mechanisms 41 and 42 the upper cover films 21a and 21b of the cut photosensitive resin layers 20a and 20b are peeled off from the transfer materials 17a and 17b.
  • the transfer materials 17a and 17b that have passed through the cover film peeling mechanisms 41 and 42 are bonded to each other with the tension of the transfer materials 17a and 17b kept constant by the tension adjusting mechanisms 43 and 44. Supplied to 12.
  • the transfer materials 17a and 17b supplied from the transfer material delivery mechanisms 16 are positioned between the transfer rolls 22a of the substrate 22 and between the laminate roll pair 29 of the bonding mechanism (thermocompression bonding section) 12.
  • the photosensitive resin layers 20a and 20b of the transfer materials 17a and 17b are transferred to the transfer area 22a (see FIG. 4) of the substrate 22.
  • the substrate 22 on which the photosensitive resin layers 20a and 20b of the transfer materials 17a and 17b are transferred is sent to the cooling unit 13 and cooled by receiving the cooling air from the cooling air blowing board 31. Then, it is sent to the peeling unit 14.
  • the peeling unit 14 the temporary support of the transfer materials 17a and 17b is wound around the collection shaft 34a and peeled off.
  • the substrate 22 from which the temporary supports of the transfer materials 17a and 17b have been peeled off is sent to the substrate take-out unit 15, and the upper side surface is adsorbed and taken out by the robot hand.
  • the transfer material feeding mechanism 16 that supplies the transfer materials 17a and 17b having a width smaller than the width of the transfer area 22a of the substrate 22 in parallel is provided to widen the conveyance system of the apparatus. Therefore, the cost of modifying the apparatus can be reduced and the photosensitive resin layer can be transferred onto the entire surface of the wide substrate. In addition, since a transfer material with a narrow width is used, the handling and property of the transfer material, which is difficult to generate wrinkles, is not impaired.
  • a photosensitive material of a different color may be supplied, such as supplying the photosensitive material for G, and supplying the photosensitive material for G from the other second supply unit.
  • two transfer material supply units are provided.
  • two or more transfer material supply units may be provided.
  • each transfer material supplied by each transfer material supply unit has been described as being equal to or less than 1Z2 of the transfer area, and each is the same width, but one is the width of 1Z3 in the transfer area.
  • the width of each transfer material does not have to be the same, such that the other has a width of 2Z3, and it does not have to be less than 1Z2 of the transfer area. In this way, if the width of each transfer material is changed, it is possible to effectively utilize the transfer material having an end width that is generated in the manufacturing process of the transfer material.
  • FIG. 7 shows the transfer for K for supplying the transfer material for R from the second supply unit located in the center and transferring the first and third supply unit force alignment marks located on both sides thereof.
  • the alignment mark is a positioning mark for adjusting the transfer position of each color.
  • thermoplastic resin layer for imparting cushioning properties at the time of transfer such as a layer mainly composed of a resin component or containing a large amount of the resin component, is provided between the temporary support Z photosensitive resin layer.
  • a transfer material in which a photosensitive resin layer is formed directly on the temporary support without using it is used.
  • the transfer material according to the present invention may have a temporary support Z-photosensitive resin layer as a basic structure, and the following structures (1) to (4)! /.
  • the transfer device of the present invention preferably has the following configuration.
  • the outer diameter of the laminate roll constituting the joining mechanism shall be 100 mm or less.
  • the outer diameter of the laminate tool is as described above.
  • the step on the surface of the substrate shall be 0.5 m or less.
  • the level difference existing on the substrate surface is within the above range, mixing of bubbles can be effectively reduced when laminating.
  • a method for measuring the level difference and a method for setting the level difference within the range will be described later.
  • a flexible support that does not cause significant deformation, shrinkage or elongation under pressure or under pressure and heating can be selected and used.
  • Specific examples include a polyethylene terephthalate film, a cellulose triacetate film, a polystyrene film, a polycarbonate film, and a polyester.
  • a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable.
  • the structure of the temporary support can be appropriately selected depending on the purpose without particular limitation, and may be either a single layer structure or a laminated structure.
  • the temporary support is preferably an undercoating layer such as gelatin which is preferably not subjected to surface treatment such as glow discharge from the viewpoint of ensuring good releasability between the photosensitive resin layer or the intermediate layer.
  • an undercoating layer such as gelatin which is preferably not subjected to surface treatment such as glow discharge from the viewpoint of ensuring good releasability between the photosensitive resin layer or the intermediate layer.
  • the temporary support may have a conductive layer on at least one surface thereof, or the temporary support itself may have conductivity.
  • the temporary support is configured to have conductivity
  • the temporary support is peeled off after the transfer material provided with the temporary support is brought into close contact with the transfer target, the temporary support is transferred to the transfer target.
  • the dust does not adhere to the photosensitive resin layer even after the temporary support is peeled off, and excess unexposed in the subsequent exposure process. Effectively prevent the formation of pinholes due to the formation of parts Can.
  • the surface electrical resistance on the surface of the conductive layer on the temporary support or the temporary support having conductivity is preferably 10 13 ⁇ or less.
  • the temporary support having conductivity is obtained by containing a conductive substance in the temporary support.
  • the conductive substance is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include metal oxides and antistatic agents.
  • Examples of the metal oxide include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, aluminum oxide, indium oxide, silicon oxide, magnesium oxide, barium oxide, and molybdenum oxide. These may be used alone or in combination of two or more. Examples of the form of the metal oxide include crystal fine particles and composite fine particles. Examples of the antistatic agent include alkyl phosphate-based surfactants such as Electro Stripper Sakai (manufactured by Kao Corporation), Elenon No.
  • Nonionic surfactants such as ion surfactants, polyoxyethylene alkylphenol ethers, polyhydric alcohol fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene alkylamines, etc. It is. These can be used alone or in combination of two or more.
  • the conductive layer can be formed by appropriately selecting from a configuration using a known conductive material, and the conductive material can obtain a stable conductive effect without being affected by the humidity environment.
  • a known conductive material for example, ZnO, TiO, SnO, AlO, InO, SiO, MgO, BaO, MoO
  • the volume resistance value of the metal oxide or the conductive material is preferably 10 7 ⁇ ′cm or less, more preferably 10 5 ⁇ ′cm or less.
  • the particle diameter of the metal oxide or the conductive material is preferably 0.01 to 0.7 111 m, more preferably 0.02 to 0.5 m force! /,
  • a binder for example, gelatin, cellulose nitrate, Cellulose ester such as cenololose triacetate, cenololose diacetate, cenololose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, vinylidene chloride, butyl chloride, styrene, acrylonitrile, butyl acetate, alkyl acrylate with 1 to 4 carbon atoms, Homopolymers or copolymers including bull pyrrolidone, soluble polyester, polycarbonate, soluble polyamide, and the like can be used.
  • the thickness of the temporary support is not particularly limited but is generally in the range of 5 to 300 m, and particularly in the range of 10 to 150 / ⁇ ⁇ in terms of ease of handling and versatility. preferable.
  • the temporary support tends to be broken when the temporary support is peeled off, and when exposure is performed through the temporary support, the resolution tends to decrease when the thickness exceeds 300 m.
  • the temporary support may be transparent or may contain dyed silicon, alumina sol, chromium salt, zirconium salt, etc., but in the case of exposure through the temporary support. Those having transparency are preferred.
  • the photosensitive resin layer is a layer constituting a resin structure such as a colored pixel (color material), a spacer, a black matrix (black material), an orientation control material, etc. constituting the color filter.
  • the photosensitive resin layer can be formed using a photosensitive resin composition containing at least a polymer substance, a polymerizable monomer, and a photopolymerization initiator, and further contains a colorant and other components as necessary. Can be configured. In the case of containing a colorant, a colored pixel, a black matrix, or the like constituting a color filter can be formed.
  • the polymer substance functions as a binder component when forming a resin structure such as a spacer colored pixel.
  • phenol resin polyamide resin, fluorine resin, polyacetal resin , ABS resin, polyimide, polyethylene, ethylene acetate butyl copolymer resin (EVA), ethylene ethyl acrylate copolymer resin (EEA), ethylene metal acrylate copolymer resin, polychlorinated butyl, polycarbonate resin, methacrylic resin Resin
  • the polymer substance may be either a monomer homopolymer appropriately selected according to the purpose or a copolymer having a plurality of monomer forces. Make sure to use more than one species.
  • Examples of the above-mentioned “polymer having a polar group such as a carboxylic acid group and a carboxylic acid group in the side chain” include JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12.
  • the cellulose derivative which has a carboxylic acid group in a side chain and the thing which added the cyclic acid anhydride to the polymer which has a hydroxyl group can be mentioned.
  • Particularly preferred examples include a copolymer of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid described in US Pat. No. 4,139,391, benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid, Mention may be made of multi-component copolymers with other monomers.
  • the monomer of the “polymeric resin having an aryl group” the resin described in Paragraph Nos. [0031] to [0054] of JP-A No. 2003-131379 is preferable.
  • the mass average molecular weight of the high molecular weight material is 50000-100,000 in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC), or 8,000-50,000. Is more preferable. When the mass average molecular weight is within the above range, the film strength is improved.
  • the content of the polymer substance in the photosensitive resin layer is preferably from 15 to 95% by mass, more preferably from 30 to 85% by mass, based on the total solid content of the layer. More preferred is 75% by weight.
  • the polymerizable monomer includes at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group. As long as it has, it can be appropriately selected according to the purpose without any limitation. Examples include ester compounds, amido compounds, and other compounds.
  • ester compound examples include monofunctional (meth) acrylic acid esters, polyfunctional (meth) acrylic acid esters, itaconic acid esters, crotonic acid esters, isocrotonic acid esters, maleic acid esters, and other ester compounds. , Etc. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, monofunctional (meth) acrylic acid esters, polyfunctional (meth) acrylic acid esters, etc. are preferred. ,.
  • Examples of the monofunctional (meth) acrylic acid ester include polyethylene glycol mono
  • polyfunctional (meth) acrylic acid ester examples include polyethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3 butanediol.
  • a polyfunctional alcohol such as glycerin or trimethylolethane is added with ethylene oxide or propylene oxide and then (meth) atalate toy, JP-B 48-41708, JP-B Urethane acrylates described in JP 50-6034 and JP 51-37193, polyesters described in JP 48-64183, JP 49 43191, and JP 52-30490 Atarylates, epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, (meth) acrylic esters and urethane (meth) acrylates described in JP-A-60-258539 Nabi -Luester, etc.
  • ester compound examples include, for example, trimethylolpropane tri (atallylooxypropyl) ether, tri (atariloy mouth kichetil) isocyanurate.
  • amidy compound examples include an amide (monomer) of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound.
  • Specific examples include methylene bis (meth) acrylamide, 1, 6 —Hexamethylenebis- (meth) acrylamide, diethylenetriamine tris (meth) acrylamide, xylylenebis (meth) acrylamide, and the like.
  • (meth) acrylic acid amide described in JP-A-60-258539 may be mentioned.
  • Examples of the "other compounds” include aryl compounds described in JP-A-60-258539.
  • the polymerizable monomer may be used in combination of two or more, in addition to being used alone, the content of the polymerizable monomer in the photosensitive resin layer is the total solid content of the layer. On the other hand, 10 to 60% by mass is preferable, and 20 to 50% by mass is more preferable.
  • the ratio BZA between the content A (mass%) of the polymer substance and the content (mass%) B of the polymerizable monomer in the photosensitive resin layer is as follows. 3 to 1.2 is preferred. By setting the ratio BZA within the above range, the generation of reticulation can be more effectively suppressed, and alkali development does not take a long time. A more preferable range of the ratio BZ A is 0.3 to 0.9.
  • photopolymerization initiator those containing at least one component having a molecular extinction coefficient of about 50 or more in a wavelength region of about 300 to 500 nm are preferred.
  • JP-A-2-48664 Aromatic ketones, oral fin dimers, benzoin, benzoin ethers, polyhalogens, halogenated hydrocarbon derivatives, ketone compounds, ketoxime compounds described in Kaihei 1-152449 and JP-A-2-153353 , Organic peroxides, thio compounds, hexaarylbiimidazoles, aromatic salts, ketoximes Tell, etc.
  • Two or more kinds of photopolymerization initiators may be used in combination in addition to one kind alone.
  • 0.1-20 mass% is preferable with respect to the quantity of the said polymerizable monomer, and 0.5-10 mass% is more preferable.
  • the photosensitive resin layer according to the present invention may contain a colorant such as a dye or a pigment in addition to the above-described polymer substance, polymerizable monomer, and photopolymerization initiator.
  • a colorant such as a dye or a pigment
  • the description in JP-A-11-149008 can be selected as appropriate.
  • a colorant such as a pigment
  • a colored pixel can be formed.
  • additives, such as surfactant can also be added as needed.
  • a pigment can be generally used.
  • an organic pigment or an inorganic pigment usually used for a resist material in which a pigment is dispersed can be used.
  • Examples of the inorganic pigment include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts. Specifically, iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, Examples thereof include metal oxides such as zinc and antimony, and composite metal oxides. Further, specific examples of the organic pigment and the inorganic pigment include compounds classified as Pigment by Color Index (Published by The Society of Dyers and Colorists). These include, but are not limited to, the following compounds with color index (CI) numbers.
  • CI color index
  • Victoria 'Pure One Blue BO (CI 42595), Auramin (CI 41000), Fat Black HB (CI 26150), CI Pigment' Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 5, 16, 17 , 20, 24, 31, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 93, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114 , 116, 117, 119, 120, 126, 127, 128, 129, 138, 139, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 168, 175, 180, 185;
  • the pigment is preferably used as a dispersion.
  • This dispersion can be prepared by adding and dispersing a composition obtained by previously mixing a pigment and a pigment dispersant in an organic solvent (or vehicle) described later.
  • the vehicle is a medium part that disperses the pigment when the paint is in a liquid state, a liquid part that binds to the pigment and hardens the coating film (binder), and a component that dissolves and dilutes the medium. (Organic solvent).
  • the disperser used for dispersing the pigment is not particularly limited. For example, it is described in Kazuzo Asakura, “Encyclopedia of Pigments”, first edition, Asakura Shoten, 2000, page 438.
  • the photosensitive resin layer preferably contains a surfactant from the viewpoint of effectively preventing coating unevenness (unevenness due to film thickness fluctuation).
  • Surfactants are disclosed in paragraphs [0015] to [0024] of JP-A-2003-337424, paragraph numbers [0012] of JP-A-2003-177522, and paragraphs of JP-A-2003-177523. No. [0012] [0015], JP 2003-177521, paragraph No. [0010 TO [0013], JP 2003-177519, paragraph Nos. [0010] to [0013], JP 2003-177520 The surfactants described in paragraph Nos. [0 012 to [0015] and paragraph Nos.
  • JP-A-11-133600 and JP-A-6-16684 are preferred.
  • fluorine-based surfactant and Z or silicon-based surfactant fluorine-based surfactant or silicon-based surfactant, containing both fluorine and silicon atoms
  • fluorosurfactants which preferably contain either one or two or more surfactants.
  • the following commercially available surfactants can also be used as they are.
  • Commercially available surfactants that can be used include, for example, F-top EF301, EF303 (manufactured by Shin-Akita Kasei Co., Ltd.), FUJIRAD FC430, 431 (manufactured by Sumitomo 3EM Co., Ltd.), MegaFuck F171 F173, F176, F189, R08 (Dainippon Ink Co., Ltd.), Surflon S-382, SC101, 102, 103, 104, 105, 106 (Asahi Glass Co., Ltd.) Fluorine-based surfactants such as, or silicon-based surfactants.
  • Polysiloxane polymers KP-341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and Troisol S-366 (manufactured by Troy Chemical Co., Ltd.) can also be used as silicon surfactants.
  • the fluorine atom number of the fluorine-containing substituent in the surfactant molecule is preferably 1 to 38, more preferably 5 to 25, and most preferably 7 to 20.
  • the solubility in a solvent is good, and it is effective in terms of the effect of improving unevenness.
  • the photosensitive resin layer contains a thermal polymerization inhibitor.
  • thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, p-methoxyphenol, —T-Butyl-p Cresol, pyrogallol, t-Butinore power Teconole, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl 6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6 t-butylphenol) 2 Mercaptobenzimidazole, phenothiazine and the like.
  • the content of the thermal polymerization inhibitor with respect to the total solid content of the photosensitive resin layer is generally from 0.01 to 1% by mass, and preferably from 0.02 to 7% by mass. 5% by mass is particularly preferred.
  • the protective film may have the same or similar material strength as the temporary support, but as an example of a material that it is desirable to select a material that can be easily separated from the photosensitive resin layer, Silicon paper, polyolefin, and polytetrafluoroethylene sheets are suitable.
  • an intermediate layer can be further provided for the purpose of increasing the sensitivity during exposure.
  • an oxygen blocking film having an oxygen blocking function which is described as “separation layer” in JP-A-5-72724, can be provided.
  • the exposure sensitivity is improved, the time load of the exposure machine is reduced, and the productivity is improved.
  • the oxygen-blocking film As the oxygen-blocking film, a known medium force that exhibits low oxygen permeability and is preferably dispersed or dissolved in water or an aqueous alkali solution can be appropriately selected. Of these, the combination of polybulal alcohol and polybulurpyrrolidone is particularly preferred.
  • the thickness of the intermediate layer is preferably 0.5 to 3. O / zm.
  • the photosensitive transfer material is prepared, for example, by applying a solution for forming a photosensitive resin layer on a temporary support and drying to form a photosensitive resin layer, and a protective film is adhered to the surface of the photosensitive resin layer. It is possible to make it from Sako. When a plurality of photosensitive resin layers are laminated, an intermediate layer may be provided between the photosensitive resin layers. [0088] In addition to the above, a sheet provided with a photosensitive resin layer (and an intermediate layer as necessary) on a temporary support and a protective film is prepared, and the temporary support and the photosensitive resin layer are prepared. A photosensitive transfer material can also be produced by bonding to each other so as to be in contact with each other.
  • the thickness of the photosensitive resin layer is preferably 1.0 to 5.0 ⁇ m, more preferably 1.0 to 4.0 ⁇ m, and 1.0 to 3.0 m. Particularly preferred. When the layer thickness is within the above range, a coating film can be obtained without producing pinholes during production, and unexposed portions can be satisfactorily removed during development.
  • each layer other than the photosensitive resin layer is not particularly limited.
  • 0.5 to 3.0 m force is preferably 4 to 40 m in the protective film.
  • the force that can be applied using a known coating device or the like in the present invention is preferably performed by a coating device (slit coater) using a slit nozzle.
  • a coating device (slit coater) using a slit-shaped nozzle is a coating device that applies a slit-shaped nozzle having a slit-shaped hole in a portion from which liquid is discharged.
  • a slit-shaped nozzle and a slit coater are preferred.
  • a transparent substrate is used.
  • Specific examples include a soda glass plate having an acid silicon film on the surface, a known glass plate such as a low expansion glass, a non-alkali glass and a quartz glass plate, or a plastic film.
  • the substrate preferably has a surface level difference of 0.5 ⁇ m or less.
  • the step is more preferably 0.2 m or less.
  • the level difference is measured using a surface roughness meter P-10 (manufactured by TENCOR).
  • a method for setting the step on the substrate within the above range a method for forming a flat film for flattening the substrate surface, a method for polishing the step using a known polishing machine, and the like are suitable.
  • the substrate can be used as it is when it is black-colored in advance and has flatness.
  • the substrate can be subjected to a coupling treatment in advance to improve the close contact with the transfer material.
  • a coupling treatment a method described in JP-A-2000-39033 is suitable.
  • the film thickness of the substrate is not particularly limited, but generally 700 to 1200 / zm is preferable.
  • the display device material of the present invention is obtained by exposing and developing the above-described resin laminate of the present invention. Since it is comprised using the resin laminated body of this invention, the favorable image display with few image defects produced by foreign material adhesion is possible.
  • the display device material of the present invention uses the resin laminate of the present invention in which a photosensitive resin layer is transferred and formed on a substrate. It can be produced by a known method such as repeating the number (the number of color patterns).
  • a predetermined mask is disposed above the photosensitive resin layer formed on the substrate of the resin laminate (the side opposite to the side of the photosensitive resin layer where the substrate is present), and the mask Further, a light source is disposed above the light source, and light is irradiated from above the mask through a mask (and optionally an intermediate layer and Z or a temporary support). At this time, it is possible to pattern-expose the photosensitive resin layer with light passing through the mask.
  • a power capable of irradiating light in a wavelength region capable of curing the photosensitive resin layer can be appropriately selected.
  • Specific examples include an ultra-high pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal lamp, and a ride lamp.
  • the exposure dose is usually about 5 to 300 miZcm 2 , preferably about 10 to 100 miZcm 2 .
  • Development can be performed using a developer after exposure.
  • the developer known developers such as those described in JP-A-5-72724, which are not particularly limited, can be used.
  • the developer has a dissolution type image behavior of the photosensitive resin layer.
  • add a small amount of organic solvent that is miscible with water A little.
  • Examples of the organic solvent miscible with water include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethenoate, and ethylene glycol monomethenoate.
  • Tenole, Ethylene glycol mono-n-butyl ether, benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ⁇ force prolatatone, ⁇ butyrolatatane, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, lactate, ethyl lactate, ⁇
  • the concentration of the organic solvent is preferably 0.1 to 30% by mass.
  • a known surfactant can be further added to the developer.
  • the concentration of the surfactant is preferably 0.01 to 10% by mass.
  • a development method a known method such as paddle development, shower development, shower & spin development, dip development or the like can be used.
  • the uncured portion can be removed by spraying the developer onto the exposed photosensitive resin layer by shower.
  • the photosensitive resin layer has low solubility before development! It is preferable to spray an alkaline liquid by shower or the like to remove the intermediate layer and the like in advance. Also, after development, it is preferable to remove the development residue by spraying a cleaning solution with a shower and rubbing with a brush.
  • the cleaning liquid As the cleaning liquid, a known one can be used. T-SD1 manufactured by Fuji Film Co., Ltd.
  • the developer temperature is preferably 20-40 ° C, and the developer pH is preferably 8-13.
  • the material for a display device of the present invention includes a color filter constituting a liquid crystal display device, a PDP, an EL, etc. [a structure of a color image (so-called pixel), a black matrix, a spacer, a liquid crystal alignment control protrusion, etc. Includes everything. ) Etc. are included. [0105]
  • the display device material of the present invention is a color filter
  • the above-described resin laminate of the present invention is exposed as described above, and developed to produce a color filter.
  • a spacer can be formed by forming a transparent electrode on a color filter and further overlapping projections for split orientation. In this case, the cost can be reduced.
  • the display device of the present invention is configured by providing a display device material (display device material of the present invention) obtained by exposing and developing the above-described resin laminate of the present invention. Since the resin laminate of the present invention is used, it is possible to display an image with good display quality with few image defects.
  • the display device of the present invention includes a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display display device, an EL display device, and a CRT display device.
  • a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display display device, an EL display device, and a CRT display device.
  • Display Devices As the definition of display devices and explanation of each display device, refer to “Electronic Display Devices” (Akio Sasaki, Industrial Research Group, 1990), “Display Devices” (Junaki Ibuki, Sangyo Tosho) ), Issued in 1989, etc.!
  • a liquid crystal display device is particularly preferable.
  • the liquid crystal display device of the present invention is configured by providing a display device material (display device material of the present invention) obtained by exposing and developing the resin laminate of the present invention described above. Further, a form having a polarizing plate is preferable. As described above, the liquid crystal display device of the present invention has few image defects and can display an image with good display quality.
  • the liquid crystal display device is described in, for example, “Next Generation Liquid Crystal Display Technology” (edited by Tatsuo Uchida, Industrial Research Co., Ltd., published in 1994).
  • the liquid crystal display device is not particularly limited.
  • the liquid crystal display device can be applied to various types of liquid crystal display devices described in the “next generation liquid crystal display technology”.
  • ECB Electrically Controlled Birefringence, TN (Twisted Nematic), IPS (in- Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystal), OCB (Optically Compensatory Bend), STN (Supper Twisted Nematic), VA (Vertically Aligned)
  • Various display modes such as HAN (Hybrid Aligned Nematic), GH (Guest Host), etc. can be adopted, and even among these display modes, VA (Vertically Aligned) Display mode is preferred! / ⁇ .
  • a color TFT liquid crystal display device is particularly effective.
  • the color TFT liquid crystal display device is described in, for example, “Color TFT liquid crystal display” (Kyoritsu Shuppan Co., Ltd., issued in 1996).
  • liquid crystal display devices with a wide viewing angle, such as horizontal electric field drive methods such as IPS and pixel division methods such as MVA. These methods are described in, for example, “EL, PDP, LCD display technology and the latest trends in Kayaba” (Toray Research Center, Research Division, 43 pages, published in 2001).
  • liquid crystal display devices such as notebook personal computer displays and television monitors.
  • the colored photosensitive resin composition K1 used for the production of the photosensitive transfer material K1 is a colored photosensitive resin composition Rl, Gl having the composition shown in Table 1 below.
  • photosensitive transfer materials Rl, G1, and B1 were prepared in the same manner as in the preparation of the photosensitive transfer material K1 except that it was replaced with B1.
  • a non-alkali glass substrate (hereinafter simply referred to as “glass substrate”) is washed with a rotating brush with nylon bristles while spraying a glass cleaner solution adjusted to 25 ° C. for 20 seconds with a shower.
  • Silane coupling solution N- ⁇ (aminoethyl) ⁇ -aminopir pyrtrimethoxysilane 0.3 mass% aqueous solution, trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • KBM603 trade name: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • the transfer device is configured as shown in Fig. 1 and Figs. 3 to 4, web width 520mm x 2 c, web interval 5mm, laminate roll outer diameter 80mm, laminate roll hardness 70 degrees, backup roll diameter
  • a 2-cutter laminator was used with a 250mm crown and a crown of 2mm (difference in diameter between roll center and end) (center is thick).
  • the substrate and mask (quartz exposure mask with image pattern) are set up vertically using a proximity-type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) with an ultra-high pressure mercury lamp. in, it sets the distance between the mask surface and the photosensitive ⁇ layer 200 m, and an exposure energy of 70miZcm 2.
  • carbonate Na based developer sodium bicarbonate 0.38 mol Z l, sodium carbonate 0.47 mol Z l, 5 mass 0/0 of dibutyl sodium naphthalene sulfonate, ⁇ - O emissions interface
  • activator, defoamer and stabilizer trade name: T CD1 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) diluted 5 times with pure water)
  • cone type nozzle at 29 ° C for 30 seconds
  • shower development was performed at a pressure of 0.15 MPa, the black photosensitive resin layer was developed and removed, and patterned.
  • cleansing agent containing phosphate, silicate, non-ionic surfactant, antifoaming agent and stabilizer, trade name: T-SD1, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.
  • pure water 10 Diluted twice, used at 33 ° C for 20 seconds, pressure removed by a cone-type nozzle with a pressure of 0.02 MPa and a rotating brush with nylon bristles, with a height of 2.4 m black (K) I got an image.
  • K 2.4 m black
  • the glass substrate on which the K image was formed was again cleaned with a brush as described above. After cleaning with a pure water shutter, the silane coupling solution was not used, and the substrate was preheated at 100 ° C using a substrate preheating device.
  • the red (R) A pixel and a 28 x 28 m square red (R) pattern were formed.
  • the exposure was 40 miZ cm 2 and development with a sodium carbonate developer was 35 ° C. for 35 seconds.
  • the layer thickness of the red (R) pixel is 2.0 m and the pigment C.I. pigment 'Red 254, C
  • I. Pigment 'coating amount of Red 177 was respectively 0. 88g / m 2, 0. 22g / m 2.
  • the glass substrate on which the R pixel is formed is again cleaned with a brush as described above, and after pure water shower cleaning, without using a silane coupling liquid, the substrate is preheated by a substrate preheating device.
  • the layer thickness of the green (G) pixel is 2. O / z m and the pigment C.I. pigment 'green 3
  • the glass substrate on which the K image, R pixel and G pixel are formed is again cleaned with a brush as described above, and after pure water shower cleaning, the substrate is preheated without using a silane coupling liquid.
  • the apparatus was heated at 100 ° C for 2 minutes.
  • the layer thickness of the blue (B) pixel is 2. O / zm, and the coating amounts of pigment CI pigment 'Blue 15: 6 and CI pigment' Violet 23 are 0.63 gZm 2 and 0.07 g / m 2 , respectively. It was.
  • the glass substrate on which the K image, R pixel, G pixel, and B pixel were formed was beta-treated at 240 ° C for 50 minutes to produce the color filter of the present invention.
  • this is referred to as a “color filter side substrate”.
  • the colored photosensitive resin composition K1 is obtained as follows.
  • K pigment dispersion 1 and propylene glycol monomethyl ether acetate in the amounts shown in Table 1 above are removed by force, mixed at a temperature of 24 ° C ( ⁇ 2 ° C), and stirred at 150 rpm for 10 minutes. Stir.
  • the colored photosensitive resin composition R1 is obtained as follows.
  • composition R1 shown in Table 1 The details of each composition in the composition R1 shown in Table 1 are as follows. The same components as in composition K1 are as described above.
  • the colored photosensitive resin composition G1 was obtained as follows.
  • the amount of G pigment dispersion 1, Y pigment dispersion 1, and propylene glycol monomethyl ether acetate in the amounts shown in Table 1 above are removed by force and mixed at a temperature of 24 ° C ( ⁇ 2 ° C) to 150r. Stir for 10 minutes.
  • composition G1 The details of each composition in the composition G1 described in Table 1 are as follows. The same components as in composition K1 are as described above.
  • Colored photosensitive resin composition B1 is obtained as follows.
  • composition B1 Details of each composition in the composition B1 described in Table 1 are as follows. The same components as in composition K1 are as described above.
  • an ITO film Indium Tin Oxide
  • liquid crystal alignment control protrusions were formed as follows.
  • Photosensitive transfer material A1 was prepared in the same manner as the preparation of photographic material K1. Then, using the photosensitive transfer material A1, the liquid crystal alignment control protrusion was formed on the existing ITO transparent electrode. At this time, exposure, development, and a beta process were performed by the method shown below.
  • a proximity exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) is placed so that the predetermined photomask is at a distance of 100 ⁇ m from the surface of the photosensitive resin layer, and the Proximity exposure was performed with an irradiation energy of 150mi / cm 2 using a high-pressure mercury lamp. Subsequently, 2.38% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution was developed by spraying the substrate at 33 ° C. for 30 seconds with a shower type developing device.
  • a liquid crystal display substrate substrate having a liquid crystal alignment control projection made of a photosensitive resin layer patterned in a desired shape is obtained on the color filter side substrate. It was.
  • the substrate for liquid crystal display device on which the liquid crystal alignment control protrusion was formed was beta-treated at 230 ° C. for 30 minutes to form a cured liquid crystal alignment control protrusion on the liquid crystal display device substrate.
  • a polarizing plate (manufactured by Sanritsu Co., Ltd., HLC2-2518) is attached to both sides of this liquid crystal cell to constitute a backlight of a three-wavelength cold cathode tube light source (F WL18EX-N manufactured by Toshiba Lighting & Technology Corp.) A liquid crystal display device was obtained.
  • the seepage width was less than 100.
  • the bleeding width was 100 or more and less than 120.
  • the bleeding width was 120 or more.
  • Example 1 the height of the black (K) image was changed to 2. Force 3. After forming the ITO film, the following photosensitive transfer material for photospacer was used above the existing K image. A color filter side substrate was produced and a liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the photospacer was formed as follows. In the present invention, the spacer structure formed by laminating the R pattern and G pattern of Example 1 was not formed.
  • PET temporary support On a polyethylene terephthalate film temporary support (PET temporary support) with a thickness of 75 ⁇ m, apply a coating solution for the photosensitive resin layer with the following formulation power and dry it to obtain a dry layer thickness of 4. l ⁇ m A photosensitive resin layer was laminated. Thereafter, a polypropylene film having a thickness of 12 m was applied as a cover film on the surface of the photosensitive resin layer by heating and pressing to produce a photosensitive transfer material PH1 for spacers.
  • PET temporary support polyethylene terephthalate film temporary support
  • the obtained photosensitive transfer material for spacer PH1 is peeled off, and the exposed surface of the photosensitive resin layer is coated on the color filter substrate on which the film prepared above is sputtered.
  • the laminate roll was laminated in the same manner as in Example 1 except that the outer diameter of the laminating roll was changed to 60 mm, and the PET roll was temporarily supported using the same two-layer laminator (transfer device) as in Example 1.
  • the body was peeled, exposed and developed to obtain a pattern (space server pattern).
  • the resulting spacer pattern was a column having a diameter of 16 ⁇ m and an average height of 3.7 ⁇ m.
  • Example 1 the height of the black (K) image was changed to 2.4 m force to 2.5 m, and after the formation of the ITO film, the same photospace as in Example 2 was placed above the existing K image.
  • a color filter side substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that a photospacer was formed in the same manner as in Example 2 using the photosensitive transfer material PH1 for one substrate, and a liquid crystal display device was produced.
  • the degree of the oozing of the grease and the mixture of bubbles when two photosensitive transfer materials for photospacers are laminated is determined by the same method as in Example 1. evaluated. The evaluation results are shown in Table 2 below.
  • the step on the substrate surface is 0.5 m between the existing K image on the glass substrate and the R, G, and B pixels.
  • Example 1 the photosensitive transfer material K1 was replaced with the photosensitive transfer material K2 further provided with a cushion layer and an intermediate layer as described below.
  • a substrate was fabricated, a liquid crystal display device was fabricated, and the same evaluation as in Example 1 was performed.
  • the evaluation results are shown in Table 2 below.
  • the height of the formed black (K) image is 2.4 ⁇ m and 7 pieces.
  • a slit layer nozzle was used to apply a cushion layer coating solution consisting of the following formulation HI, and then dried to form a cushion layer. Then, an intermediate layer coating solution having the following formulation P1 was applied on the formed cushion layer and dried to laminate the intermediate layer. Thereafter, the same colored photosensitive resin composition K1 as in Example 1 was further applied onto this intermediate layer, dried, and a cushion layer having a dry film thickness of 3 ⁇ m and a dry film thickness on the temporary support. A 1.6 ⁇ m intermediate layer and a black photosensitive resin layer were applied. Then, a protective film (12 m thick polypropylene resin) was pressure-bonded to the surface of the black photosensitive resin layer.
  • a protective film (12 m thick polypropylene resin
  • Example 2 the same as Example 2, except that the photosensitive transfer material PH1 for spacers was replaced with the photosensitive transfer material PH2 for spacers further provided with a cushion layer and an intermediate layer as described below. (However, the outer diameter of the laminate roll was set to 80 mm.) A color filter side substrate was produced, a liquid crystal display device was produced, and the same evaluation as in Example 2 was performed. The evaluation results are shown in Table 2 below. The height of the formed photo spacer is as described in section 4.
  • a photosensitive transfer material PH2 for spacers having a laminated structure of a PET temporary support cushion layer intermediate layer (oxygen barrier film) Z photosensitive resin layer / protective film was prepared.
  • the color filters and spacers which are materials for display devices, are practically acceptable even if there is no occurrence or slight occurrence of exudation or foam mixing during transfer.
  • a liquid crystal display device could be stably produced.
  • Example 1 in which lamination was performed on the surface of a flat glass substrate, mixing of bubbles was suppressed, and exudation of the resin component was effectively eliminated while ensuring good laminating properties. It was possible.
  • Comparative Examples 1 and 2 defects due to exudation of the resin component from the photosensitive resin layer at the time of transfer in the mating part were observed, and it was difficult to perform stable production.
  • the color filter manufactured using the transfer material of the present invention has few image defects due to the adhesion of foreign matter, and the liquid crystal display device including this color filter has a defect on any screen.
  • the displayed image was good.
  • the display image was inferior due to the influence of the image defect.
  • Transfer material mounting shaft Transfer material feed mechanism

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Abstract

　仮支持体の直上に感光性樹脂層が形成された複数の感光性転写材料（ウェブ）を送り出す送出機構と、送り出された複数のウェブを同一基板に接合する接合機構とを少なくとも備えた転写装置を用いて、複数のウェブの各感光性樹脂層を互いに交差しないように同一基板上に転写する樹脂積層体の製造方法である。

Description

明 細 書
樹脂積層体及びその製造方法、表示装置用材料、並びに表示装置及び 液晶表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、感光性榭脂層を有する感光性転写材料を用いて転写法により榭脂構 造物を作製するのに好適な榭脂積層体及びその製造方法、並びにこの榭脂積層体 を用いた表示装置用材料並びに表示装置及び液晶表示装置に関する。
背景技術
[0002] ガラス基板や硬質榭脂基板などの基板の上に感光性榭脂層などの感光材料層を 積層した感光性積層材料は、プリント配線基板やカラーフィルタの作製に用いる榭脂 積層体として利用されている。このような榭脂積層体の用途として、液晶パネルがある 1S 液晶パネルの課題の一つに製造コストの低減がある。とりわけ、カラーフィルタは 、液晶パネルに占めるコストの比率が高ぐカラーフィルタの歩留まりを上げることが 液晶パネルのコストダウンに大きく寄与する。
[0003] 感光性転写材料を用いて榭脂積層体を形成する製造方法にお!ヽて、転写エリア幅 より狭い幅の感光性転写材料を複数枚並列に供給できるラミネータ（以下、 2丁ラミネ ータと略称するが、 2丁に限定されるものではない。）を用いて感光性転写材料の塗 布幅に依存することなぐ広い幅のラミネートが可能になることが知られている（例え ば、特許文献 1参照)。また、複数の狭幅の転写材料を組み合わせることで、材料の 利用効率をも高めることができる。
特許文献 1 :特開 2004— 333616号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] ところが、同一基板上に長尺状の複数の転写材料を転写しょうとすると、基板上の 転写エリア内に被転写領域となる合わせ部が形成されてしまい、画像表示の可能な 有効エリアが制約されてしまうことになる。基板を有効に利用するためには、この合わ せ部を最小限に抑えることが重要である。しかし、転写に用いる長尺状の転写材料（ 以下、単にウェブともいう。）の端部に、熱可塑性榭脂などの榭脂成分が露出し、ラミ ネート時の加熱、加圧によって、榭脂成分が仮支持体で覆われた領域を超えて基板 上に染み出し、基板面を汚染する一因となる。
[0005] すなわち、例えば 2つのウェブを交差しないように並べて配置し、ともに同一基板上 にラミネートする 2丁ラミネートの場合に、有効エリアを増すために合わせ部の間隔を 小さくしていくと、 2つのウェブの双方からウェブ間の狭い合わせ部に榭脂成分の染 み出しが起こり、その相乗効果によって大きな染み出し領域が形成されることがある。 この場合には、染み出しがその後の露光プロセスでカラーフィルタの欠陥の原因とな り、安定製造の妨げとなっていた。
[0006] 本発明は、上記状況に鑑み成されたものであり、同一基板上に複数の感光性転写 材料 (ウェブ)を転写する場合のウェブ間の合わせ部への染み出し量が抑えられた榭 脂積層体及びその製造方法を提供する。
また、異物付着による画像欠陥が少なぐ良好な画像表示が可能な表示装置用材 料 (カラーフィルタを含む。）、表示品位の良好な表示装置及び液晶表示装置を提供 する。
課題を解決するための手段
[0007] 前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
< 1 > 長尺状の複数の感光性転写材料を送り出す送出機構と送り出された前記 複数の感光性転写材料を同一基板に接合する接合機構とを少なくとも備えた転写装 置を用いて、前記複数の感光性転写材料の各感光性榭脂層を互いに交差しな 、よ うに同一基板上に転写する榭脂積層体の製造方法であって、前記感光性転写材料 力 仮支持体の直上に感光性榭脂層を形成して構成されて ヽる榭脂積層体の製造 方法である。
< 2> 前記接合機構力 Sラミネートロールを有し、前記ラミネートロールの外径が 10 Omm以下であることを特徴とする前記 < 1 >に記載の榭脂積層体の製造方法である
< 3 > 前記基板の表面における段差が 0. 5 μ m以下であることを特徴とする前記 < 1 >又は < 2 >に記載の榭脂積層体の製造方法である。 [0008] <4> 前記 < 1 >〜< 3 >のいずれか 1つに記載の榭脂積層体の製造方法により 得られた榭脂積層体である。
< 5> 前記 <4>に記載の榭脂積層体の感光性榭脂層を露光し、現像して得ら れた表示装置用材料である。
< 6 > 前記 < 5 >に記載の表示装置用材料を備えた表示装置である。 < 7> 前記 < 5 >に記載の表示装置用材料を備えた液晶表示装置である。
[0009] < 8> 前記接合機構は、ラミネートロール対、及び該ラミネートロール対の各ラミネ 一トロールと当接する 2つのバックアップロールを有することを特徴とする前記 < 1 > に記載の榭脂積層体の製造方法である。
< 9 > 複数の転写材料を用いて同一基板上に形成された前記感光性榭脂層間 の間隙力^〜 20mmであることを特徴とする前記く 1 >に記載の榭脂積層体の製造 方法である。
< 10> 前記ラミネートロールの外径が 50〜80mmであることを特徴とする前記く 2 >に記載の榭脂積層体の製造方法である。
く 11 > 前記ラミネートロールの硬度が 50〜70度であることを特徴とする前記く 2 >に記載の榭脂積層体の製造方法である。
< 12> 前記バックアップロールは、クラウンロール化されたクラウンロールであつ て、該クラウンロールにおけるクラウン量が 0. 1〜3. Ommであることを特徴とする前 記 < 8 >に記載の榭脂積層体の製造方法である。
< 13> 前記感光性榭脂層が高分子物質、重合性モノマー及び光重合開始剤を 含み、前記高分子物質の含有量 A (質量％)と前記重合性モノマーの含有量 (質量 %) Bとの比 BZAが 0. 3〜1. 2であることを特徴とする前記 < 1 >に記載の榭脂積 層体の製造方法である。
< 14> 前記く 4>に記載の榭脂積層体の感光性榭脂層を露光し、現像して得ら れたカラーフィルタである。
発明の効果
[0010] 本発明によれば、同一基板上に複数の感光性転写材料 (ウェブ)を転写する場合 のウェブ間の合わせ部への染み出し量が抑えられた榭脂積層体及びその製造方法 を提供することができる。また、本発明によれば、異物付着による画像欠陥が少なぐ 良好な画像表示が可能な表示装置用材料 (カラーフィルタを含む）、表示品位の良 好な表示装置及び液晶表示装置を提供することができる。
図面の簡単な説明
[0011] [図 1]本発明における転写装置の一例の全体を示す概略構成図である。
[図 2]感光性転写材料の層構成を示す概略断面図である。
[図 3]転写材料送り出し機構、加工機構、及び転写搬送機構の概略構成を示す拡大 図である。
[図 4]基板上の転写エリアを説明するための説明図である。
[図 5]2つの感光性転写材料のテンション調節機構の設置位置を示す斜視図である。
[図 6]感光性転写材料の転写パターンを示す図である。
[図 7]感光性転写材料の他の転写パターンを示す図である。
発明を実施するための最良の形態
[0012] 以下、本発明の榭脂積層体及びその製造方法について詳細に説明すると共に、 本発明の榭脂積層体を用いて構成される本発明の表示装置用材料、表示装置、及 び液晶表示装置についても詳述することにする。
[0013] <榭脂積層体及びその製造方法 >
本発明の榭脂積層体の製造方法においては、転写装置として、複数の長尺状の感 光性転写材料を送り出す送出機構と、送り出された複数の感光性転写材料を互 ヽに 交差しないように同一基板に接合する接合機構とを少なくとも備えた装置を用い、同 一基板上に、複数の感光性転写材料の各々を構成する各感光性榭脂層を所定の 間隙 (合わせ目）を有して転写する。このとき、本発明においては特に転写材料として 、特に転写時にクッション性を付与するための熱可塑性榭脂層などの榭脂層を仮支 持体 Z感光性榭脂層間に設けずに、仮支持体の直上に感光性榭脂層を形成した転 写材料を用いる。
[0014] ここで、直上とは、仮支持体の表面に直接、感光性榭脂層を形成するか、あるいは 仮支持体上に、感光性榭脂層と同等の厚みもしくは同等の厚み以下の薄い中間層（ 酸素遮断層）を介して感光性榭脂層を形成するか、の 、ずれかの形態をさす。 [0015] 2つ以上のウェブ状の転写材料を同一基板上に接合、転写するラミネート（多丁ラミ ネート)では、通常、同一基板の中央付近に複数の転写材料の間隙に合わせ目がで きる。ラミネートする際に、この合わせ目の部分で材料中から榭脂成分の一部が染み 出し、染み出した榭脂成分カ^ミネートロールに堆積し、ラミネート後の過程でこれが 基板側に転写したり基板面を汚染する等して、形成されるカラーフィルタ等の表示装 置用材料の画像欠陥の原因になる。本発明においては、例えば熱可塑性榭脂層な ど主として榭脂成分で構成されたあるいは榭脂成分を多く含む榭脂層を有さず、榭 脂成分の染み出しの少ない、すなわち仮支持体の直上に感光性榭脂層を設けて構 成された転写材料を選択的に用いるようにすることで、合わせ目の部分での染み出 しを抑制できる。ひいては、露光工程でのマスクへの転写、現像工程での異物付着 による欠陥の発生などを防止することができる。これにより、画像欠陥が少なく画像表 示した際の表示品位に優れた表示装置用材料 (カラーフィルタを含む。）、及び表示 装置、液晶表示装置を提供することができる。
[0016] 〜転写装置〜
本発明における転写装置は、少なくとも、複数の長尺状の感光性転写材料を送り 出す送出機構と、送り出された複数の感光性転写材料を互 ヽに交差しな 、ように同 一基板に接合する接合機構とを少なくとも設けて構成された装置である。この装置は 、同一基板上に複数の感光性転写材料の各々を構成する各感光性榭脂層を重なり が生じないように所定の間隙 (合わせ目）を有して転写する。必要に応じて更に、カロ 工機構、転写搬送機構を設けて構成することができる。
以下、具体的に説明する。
[0017] 転写装置としては、特開 2004— 333616号公報に記載の、複数の転写材料を 1枚 の基板に転写可能なラミネータが好適である。中でも、長尺の複数の感光性転写材 料を送り出す送出機構と、ラミネートロール対及び該ラミネートロール対の各ラミネ一 トロールと当接する 2つのバックアップロールを有し、送り出された複数の感光性転写 材料の感光性榭脂層を同一基板に (好ましくは一体的、並列的に)接合する接合機 構とを備えた装置が好ましい。特に、 2枚の感光性転写材料 (以下、単に「転写材料」 ともいう。）を用いる装置が好ましい。 ここで、上記の一体的、並列的に接合する接合機構とは、隣り合う転写材料間にお V、て所定の間隙 (合わせ目）を保って複数の転写材料を同一方向に同一速度で搬 送し、複数の転写プロセスを安定的に行なうための機構全般をさし、具体的にはフレ ーム本体、調整機構などをさす。
[0018] 複数の転写材料を用いて同一基板上に形成された感光性榭脂層間の間隙 (合わ せ目）としては、染み出し防止と合わせ目の部分の縮小 (有効転写エリアの拡大)の 観点から、それぞれ独立に、 l〜20mmであることが好ましぐ 1〜： LOmmであること 力 り好ましぐ 3〜8mmが特に好ましい。
[0019] 転写装置の接合機構を構成するラミネートロールの外径は、熱可塑性榭脂を用い た層（ 、わゆるクッション層）が設けられて ヽな 、本発明に係る転写材料を用いて感 光性榭脂層を転写形成する場合に、ラミネート時における泡 (ラミ泡）の混入を効果 的に防止する観点から、 100mm以下が好ましぐより好ましくは 50〜80mmである。 さらに、ラミ泡や段ムラ防止の点で、ラミネートロールの硬度は 40〜80度が好ましく 、 50〜70度がより好ましい。
[0020] また、転写装置の接合機構を構成するバックアップロールの外径は、幅方向ラミネ ート圧力の均一化の観点から、 50〜 300mm力好ましく、より好ましくは 100〜200m mである。このバックアップロールは、クラウンロール化されていることが好ましい。クラ ゥンロールにおけるクラウン量、すなわちラミネートロール端とラミネートロール中央部 とにおける直径の差が 3mm以下であるのが好ましぐ 0. 1〜3. Ommであるのがより 好ましぐ 0. l〜2mmであるのがさらに好ましぐ 0. 5〜2mmであるのが特に好まし い。
[0021] 転写プロセスの条件については、基板予備加熱装置による基板の加熱温度は 60 〜140°Cが好ましい。また、転写プロセスのその他の条件として、ゴムローラ温度は 8 0〜140°Cの範囲力 ラミネート圧力（線圧）は 50〜200NZcmの範囲力 搬送速度 は l〜5mZ分の範囲が好ましい。ゴムローラ温度については、 140°Cを超えると転 写材料にシヮが入りやすくなり、 80°C未満であると感光性榭脂層の密着が弱くなるこ とがある。
[0022] 本発明における転写装置を構成する送出機構は、複数の感光性転写材料を送り 出す機構であり、複数の感光性転写材料を取り付ける取付け軸を設けて構成された ものである。
また、加工機構は、基板の長さに合わせて感光性転写材料の感光性榭脂層及び カバーフィルムにハーフカットを入れるハーフカッター部、及びカバーフィルムを剥離 する剥離機構より構成されるものである。転写搬送機構は、圧着部 (ラミネート部)前 の感光性転写材料の搬送を安定化させる機構、すなわちノックテンションコントロー ラを有するテンション調節機構、フィルム位置制御装置と転写後のベースフィルム (仮 支持体)の剥離部より構成されるものである。
上記の送出機構、加工機構、及び転写搬送機構は、複数、一体的、並列的に配置 して構成することができる。
[0023] 本発明における転写装置について、 2枚の転写材料を用いて同一基板に接合、転 写 (2丁ラミネート)する装置を例に図 1〜7を参照して具体的に説明する。図 1は、本 発明における転写装置の一例の全体の概要を示す概略図である。
[0024] 本発明の榭脂積層体の製造方法では、基板上の転写エリアの幅よりも狭い幅の転 写材料を複数枚並列に供給して、前記転写エリアの略全面に感光性榭脂層を転写 する。
図 1及び図 3に示すように、転写装置 2は、基板供給部 10、予備加熱部 11、接合機 構 (熱圧着部） 12、冷却部 13、基板取り出し部 15、転写材料送出機構 16 (転写材料 取り付け軸 37、 38)、加工機構 39〜42、転写搬送機構 (剥離部 14、フィルム位置制 御装置 57、テンション調節機構 43, 44)を設けて構成されている。
これらのうち、基板供給部 10、予備加熱部 11、接合機構 (熱圧着部） 12、冷却部 1 3、基板取り出し部 15は一式を示すが、これらも複数、並列的に配置し、複数の基板 を同時並列的にラミネートしてもよい。
[0025] 転写材料送出機構 16は、転写材料取り付け軸 37, 38を有し、この転写材料取り付 け軸 37, 38には、図 3のように、それぞれ長尺の転写材料 17a, 17bをローノレ状に卷 いた転写材料ロール 18a, 18bがセットされる。転写材料送出機構 16は、それぞれ 転写材料ロール 18a, 18bからそれぞれの転写材料 17a, 17bを引き出して、搬送路 に並列に供給する。 [0026] 各転写材料 17a, 17bは、図 2に示すように、仮支持体 19の直上に (ここでは仮支 持体 19の表面に直接)、カラーフィルタを構成するための感光性榭脂層 20を層設し たものであり、感光性榭脂層 20の上層には感光性榭脂層 20を保護するカバーフィ ルム 21が設けられている。カラーディスプレイのパネルを製造する場合には、 R (レツ ド）， G (グリーン）， B (ブルー）の 3色のカラーフィルタに対応する R用， G用， B用の 3 色の転写材料 17a, 17bが、基板 22上に順次に転写される。このように、本発明では 、クッション層など主として榭脂成分で構成されたあるいは榭脂成分を多く含む層を 有しない転写材料を並列に供給して同一基板上に 2丁同時転写を行なうようにする ので、転写材料間の合わせ目での榭脂成分の染み出し量が抑えられる。
[0027] 例えば、まず、 R用の転写材料ロール 18a, 18bがセットされて、 R用の感光性榭脂 層がガラス基板 22に転写される。この転写の後、フォトリソグラフィ法により、転写され た感光性榭脂層に対して露光，現像が行われてフィルタパターンが形成される。フィ ルタパターンが形成された感光性樹脂層は、ベータされて基板上に固定される。 このベータ後、 R用のフィルタが形成されたガラス基板 22は、再び転写装置 2に戻 される。そして、 G用の転写材料ロール 18a, 18bがセットされて、 G用の感光性榭脂 層がガラス基板 22の R用のフィルタ形成面にさらに転写される。転写された G用の感 光性榭脂層は、 R用の感光性榭脂層と同様に、フィルタパターンが形成され、ベータ により固定される。 G用のフィルタが形成された後、同様に、 B用の感光性榭脂層が 転写されて、 B用のフィルタが形成される。これら 3色のカラーフィルタを形成した後、 それらの隙間を埋めるために、 K (ブラック)用の感光性榭脂層が転写される。
[0028] 図 1において、基板 22は、基板供給部 10のロボットハンド 23によって、一定間隔で 転写面を下側に向けた状態で予備加熱部 11に供給される。この基板 22は、例えば 、 4枚分のパネルを含む大きさであり、カラーフィルタが形成された後、 4分割される。
[0029] 予備加熱部 11は、基板搬送装置 24とヒータ 25, 26とから構成されている。基板搬 送装置 24は、エアー浮上プレート 27と送りローラ 28とで構成されている。エアー浮 上プレート 27は、基板 22の転写面側に対面するように配置されており、転写面に向 けてクリーンなエアーを吹き出して、基板 22を浮上させるようになつている。
[0030] 送りローラ 28は、浮上した基板 22の転写面の両側縁部に接触し、回転することで 基板 22を接合機構 (熱圧着部） 12へ向けて搬送する。基板 22の転写面の両側縁部 には感光性榭脂層 20は転写されず、送りローラ 28の周面が感光性榭脂層 20に接 触することはない。この送りローラ 28はつば付きローラで構成されており、図示しない つばが基板 22のガイドとして機能し、基板 22の幅方向を位置決めするようになって いる。
[0031] ヒータ 25, 26は、基板搬送装置 24の基板 22の搬送路を挟むように上下に複数個 配置されており、基板 22を例えば 50〜： L 10°Cの温度に加熱する。予備加熱部 11で 加熱された基板 22は、送りローラ 28により接合機構 (熱圧着部） 12に送り出される。
[0032] 接合機構 (熱圧着部） 12は、ラミロール対 29とバックアップローラ 30とから構成され ている。ラミロール対 29は、基板 22に接触するラミロール 29aと、転写材料 17に接触 する 29bと力も構成されている。ラミロール 29a, 29b及びバックアップローラ 30にはヒ ータが内蔵されている。ラミロール対 29は、基板 22と転写材料 17とを挟持して搬送 することにより、転写材料 17を基板 22に熱圧着して貼り付ける。ノ ックアップローラ 3 0は、ラミロール 29a、 29bに接触して従動回転し、ラミロール 29a、 29bの橈みを抑え て、均一な力による熱圧着を可能にするものである。
[0033] 接合機構 (熱圧着部） 12は、後述するハーフカッター 45のハーフカット線が所定の 位置を通過すると、基板搬送装置 24に送り込み開始信号を送出する。これにより、ハ ーフカット線と基板 22との位置合わせが行なわれた状態で、転写材料 17の感光性 榭脂層 20が基板 22に転写される。このとき、仮支持体 19も基板 22の移動に伴いラミ ロール対 29の送り方向下流側に送られる。
[0034] 冷却部 13は、冷却風吹き出しボード 31と、搬送ローラ 32とから構成される。冷却風 吹き出しボード 31は、 HEPAフィルタを通過したクリーンな冷却風を基板 22に向けて 吹き出し、搬送ローラ 32で搬送される基板 22の温度をほぼ室温（30°C以下）に冷却 する。
[0035] 転写搬送機構の一部である剥離部 14は、剥離ローラ 33及びベースフィルム卷取り 機構 34で構成されており、基板 22から仮支持体 19を連続的に剥離し、この仮支持 体 19を回収軸 34aにロール状に巻き取る。回収軸 34aは、図示しない卷取りモータ によって回転駆動されるようになっている。この卷取りモータは、トルク制御されており 、ラミロール対 29以降の仮支持体 19の張力を一定に保持して、仮支持体 19に橈み が発生しないようにしている。
[0036] 剥離部 14の下流側には、エアー浮上プレート 35からなる基板取り出し部 15が設け られている。このエアー浮上プレート 35は、予備加熱部 11のエアー浮上プレート 27 と同様に構成されている。剥離部 14から基板取り出し部 15に送り出された基板 22は 、ロボットハンド 36によってその上側面を吸着されて取り出される。
[0037] 図 3に示すように、転写装置 2は、加工機構として、カッター部 39, 40と、カバーフィ ルム剥離機構 41, 42とを備え、転写搬送機構として、前記剥離部の他に、ノックテン シヨンローラを有するテンション調節機構 43, 44とフィルム位置制御装置 57とを独立 に備えている。
転写材料ロール 18a, 18bは、転写材料取り付け軸 37, 38にそれぞれセットされる
[0038] カッター部 39, 40は、それぞれの転写材料 17a, 17bの仮支持体 19a, 19bを残し て、基板 22の転写エリア 22aの長さ（図 4参照）に合わせて感光性榭脂層 20a, 20b 及びカバーフィルム 21a, 21bに切れ目を入れるハーフカッター 45を備えている。ハ ーフカッター 45は、その長手方向が各転写材料 17a, 17bの幅方向に沿って延びた 2枚の刃からなる。 2枚の刃の間隔は、複数の基板 22が連続的に搬送される間隔に 対応している。すなわち、 2枚の刃の間隔は、 1枚の基板 22の転写エリア 22aの後端 と、次の基板 22の転写エリア 22aの前端との間隔に対応しており、 2枚の刃を同時に 1回動作させることにより、それらの位置に同時に切れ目が入れられる。
[0039] カバーフィルム剥離機構 41, 42は、カットされた各感光性榭脂層 20a, 20bの上層 のカバーフィルム 21a, 21bを各転写材料 17a, 17bから剥離する。このカバーフィル ム剥離機構 41, 42は、粘着テープロール 46から引き出された粘着テープ 47を、押 さえローラ 48によりカバーフィルム 21へ貼り付け、このカバーフィルム 21が貼り付い た粘着テープ 47をテープ卷取り軸 49に巻き取って回収する。
[0040] 転写搬送機構のテンション調節機構 43, 44は、ノックテンションローラ 50, 51、モ ータ 52, 53、及びテンションセンサ 54, 55で構成されている。バックテンションローラ 50, 51は、テンションセンサ 54, 55から検出される張力値に基づいて、ラミロール対 29以前の転写材料 17a, 17bの張力を一定に保持して、転写材料 17a, 17bに橈み が発生しないようにしている。テンションセンサ 54, 55で検出された張力値は、コント ローラ 56 (図 5参照）に送られて、モータ 52, 53の回転速度や回転量が制御され、こ れによりテンションが調節されるようになって 、る。
[0041] 転写搬送機構のフィルム位置制御装置 57は、並列に搬送される 2枚の転写材料 1 7a, 17bの間の距離を所定間隔に保持して、転写材料 17a, 17bの搬送を安定させ る。なお、フィルム位置制御装置 57を随所に設置して転写材料 17a, 17bを精度よく 搬送するようにしてもよ ヽ。
[0042] 図 4に示すように、各転写材料 17a, 17bの幅 W2は、基板 22上の転写エリア 22a の全幅 W1よりも狭ぐ例えば W2≤1Z2'W1である。こうした転写材料 17a, 17bが 並列に供給されることで、転写エリア 22aの略全面に感光性榭脂層 20が転写される 。このように、基板上の転写エリアよりも幅が狭い転写材料を複数枚並列に供給する ことにより、転写材料を幅広化することなぐ幅広の転写エリアの略全面に感光性榭 脂層を転写することができる。
ここで、 W1— 2 'W2は、複数の感光性転写材料の間隙 (合わせ目）を表す。
[0043] 図 5に示すように、テンション調節機構 43, 44におけるバックテンションローラ 50, 5 1は、同軸上に設けられている。各バックテンションローラ 50, 51は、それぞれ別々の モータ 52, 53で駆動されるようになっている。コントローラ 56は、これらのモータ 52, 53を独立に制御することで、各転写材料の張力をそれぞれ独立に調節する。複数の 転写材料を 1つのバックテンションローラに引っかけて搬送しょうとすると、いずれか の転写材料に滑りが生じるため、各転写材料の張力を一定に保持することができな い。そこで、本発明における転写装置では、各転写材料に対して、テンション調節機 構を設けて、これらを独立に制御することで、各転写材料の張力が一定に保持される ようにしている。
[0044] 本発明の榭脂積層体の製造方法においては、上記した転写装置を用いて以下の ようにして榭脂積層体を作製することができる。
図 1に示すように、基板供給部 10のロボットノヽンド 23によって基板 22が予備加熱部 11に供給されると、予備加熱部 11に供給された基板 22は、ヒータ 25, 26によって加 熱されて接合機構 (熱圧着部） 12に送り出される。そして、接合機構 (熱圧着部） 12 に送り出された基板 22に対して、転写材料送出機構 16から、仮支持体の直上に感 光性榭脂層が形成された転写材料 17a, 17bが所定の間隙 (合わせ目）を有して並 列に供給される。
この転写材料 17a, 17bは、仮支持体の直上に、特に転写時にクッション性を付与 するための熱可塑性榭脂層などの榭脂層を仮支持体 Z感光性榭脂層間に設けず に、感光性榭脂層を形成してなるものである。
[0045] 各転写材料 17a, 17bが接合機構 (熱圧着部） 12に供給される以前には、コント口 ーラ 56が転写材料送出機構 16を独立に制御して、転写材料 17a, 17bに対して各 転写材料ロール 18a, 18b各部の処理を実行する。転写材料 17a, 17bは、各カット 部 39, 40のハーフカッター 45によって基板 22の転写エリア 22aの長さに合わせて切 れ目を入れられて、各カバーフィルム剥離機構 41, 42に送られる。各カバーフィル ム剥離機構 41, 42では、カットされた各感光性榭脂層 20a, 20bの上層のカバーフ イルム 21a, 21bが転写材料 17a, 17bから剥離される。各カバーフィルム剥離機構 41 , 42を通過した転写材料 17a, 17bは、各テンション調整機構 43, 44によって転 写材料 17a, 17bの張力が一定に保持された状態で、接合機構 (熱圧着部） 12に供 給される。
[0046] 各転写材料送出機構 16から供給された転写材料 17a, 17bは、基板 22の転写エリ ァ 22aに位置合わせされた状態で、接合機構 (熱圧着部） 12のラミネートロール対 29 の間を搬送されて、基板 22の転写エリア 22a (図 4参照）に転写材料 17a, 17bの各 感光性榭脂層 20a, 20bが転写される。その後、各転写材料 17a, 17bの感光性榭 脂層 20a, 20bが転写された基板 22は、冷却部 13に送られて、冷却風吹き出しボー ド 31からの冷却風を受けて冷却された後、剥離部 14に送られる。剥離部 14では、各 転写材料 17a, 17bの仮支持体が回収軸 34aに巻き取られて剥離される。各転写材 料 17a, 17bの仮支持体が剥離された後の基板 22は、基板取り出し部 15に送り出さ れ、ロボットハンド 36によってその上側面を吸着されて取り出される。
[0047] 上述したように、基板 22の転写エリア 22aの幅よりも狭い幅の転写材料 17a, 17bを 並列に供給する転写材料送出機構 16を備えることにより、装置の搬送系を幅広化す る必要がないから、装置の改造費用が抑えられるとともに、幅広の基板の全面に感光 性榭脂層を転写することができる。また、狭い幅の転写材料が使用されるから、しわ が発生しにくぐ転写材料の取り扱 、性を損なうことがな 、。
[0048] 上記の例では、各転写材料送出機構から、同じ色用の感光材料を供給する例で説 明したが、図 6に示すように、転写材料送出機構の第 1供給部から R用の感光材料を 供給し、他方の第 2供給部から G用の感光材料を供給する等、異なる色の感光材料 を供給するようにしてもよい。また、上記の例では、転写材料供給部を 2つ設けた例 で説明したが、 2つ以上設けてもよい。
また、上記の例では、各転写材料供給部が供給する各転写材料の幅を、転写エリ ァの 1Z2以下として、それぞれを同じ幅とした例で説明したが、一方が転写エリアの 1Z3の幅を持ち、他方が 2Z3の幅を持つというように、各転写材料の幅は同じでな くてもよいし、転写エリアの 1Z2以下でなくてもよい。このように、各転写材料の幅を 変更すれば、転写材料の製造工程で発生する端尺幅の転写材料を有効に活用する ことちでさる。
[0049] 図 7は、中央に位置する第 2供給部から R用の転写材料を供給し、その両側に位置 する第 1及び第 3供給部力 ァライメントマークを転写するための K用の転写材料を 供給する例である。ァライメントマークは、各色の転写位置を合わせるための位置決 めマークである。
[0050] 〜転写材料〜
次に、転写材料について詳細に説明する。
本発明にお ヽては、転写時にクッション性を付与するための熱可塑性榭脂層など 主として榭脂成分で構成されたあるいは榭脂成分を多く含む層を仮支持体 Z感光性 榭脂層間に設けずに、仮支持体の直上に感光性榭脂層を形成した転写材料を用い る。
[0051] 本発明における転写材料は、仮支持体 Z感光性榭脂層を基本構成とし、下記 (1) 〜(4)の!、ずれの構成であってもよ！/、。
(1)仮支持体 Z感光性樹脂層
(2)仮支持体 Z感光性樹脂層 Z保護フィルム (3)仮支持体 Z中間層 (酸素遮断層) Z感光性樹脂層
(4)仮支持体 Z中間層 (酸素遮断層) Z感光性樹脂層 Z保護フィルム
これらの構成では、ラミネートする際に泡 (ラミ泡）が混入しやすいため、本発明の転 写装置にぉ 、ては下記構成とすることが好ま 、。
(a)接合機構を構成するラミネートロールの外径を 100mm以下とする。ラミネート口 ールの外径にっ ヽては既述の通りである。
(b)基板の表面における段差を 0. 5 m以下とする。基板表面に存在する段差が 前記範囲内であると、ラミネートする際に泡の混入を効果的に低減することができる。 段差の測定方法、並びに段差を前記範囲内にする方法については後述する。
[0052] また、公知のラミネート方法、例えば、特開平 6— 333808号公報、特開平 7—125
071号公報に記載の真空ラミネート、減圧ラミネートと組み合わせてもよい。
[0053] 〈仮支持体〉
仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下又は、加圧及び加熱下において著しい 変形、収縮もしくは伸びを生じないものを選択して用いることができる。具体例として は、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィ ルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステル等を挙げることができ、中でも 2軸延伸 ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
[0054] 仮支持体の構造としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ 、単層構造、積層構造のいずれであってもよい。また、仮支持体には、感光性榭脂層 又は中間層との間に良好な剥離性を確保する観点から、グロ一放電等の表面処理 を行なわないことが好ましぐゼラチン等の下塗り層は設けることもできるが設けないこ とが好ましい。
[0055] 仮支持体としては、その少なくとも一方の表面に導電性層を有する、あるいは仮支 持体自体が導電性を有してもよい。仮支持体が導電性を有する構成であると、仮支 持体を備えた転写材料を被転写体上に密着させた後に仮支持体を剥離する場合に 、該仮支持体ゃ該被転写体等が帯電して周囲のゴミ等を引き寄せることがなぐその 結果、該仮支持体を剥離した後も感光性榭脂層上にゴミ等が付着せず、その後の露 光過程で余分な未露光部ができることに伴なうピンホールの形成を効果的に防止す ることができる。仮支持体上の導電性層又は導電性を有する仮支持体の表面におけ る表面電気抵抗としては、 1013 Ω以下が好ましい。
[0056] 導電性を有する仮支持体は、仮支持体中に導電性物質を含有することで得られる 。導電性物質としては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができるが、 例えば、金属酸化物、帯電防止剤などが挙げられる。
前記金属酸化物としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミ二 ゥム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化モリブデン などが挙げられる。これらは 1種単独で用いる以外に 2種以上を併用してもよい。また 、金属酸ィ匕物の形態としては、結晶微粒子、複合微粒子などが挙げられる。また、前 記帯電防止剤としては、例えば、エレクトロストリッパー Α (花王 (株)製）、エレノン No . 19 (第一工業製薬 (株)製)等のアルキル燐酸塩系ァ-オン界面活性剤、ァモーゲ ン K (第一工業製薬 (株)製)等のベタイン系両性界面活性剤、ニッサンノ-オン L (日 本油脂 (株)製)等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル系非イオン界面活性剤、ェ マルゲン 106、同 120、同 147、同 420、同 220、同 905、同 910 (花王（株）製）や- ッサンノ-オン E (日本油脂 (株)製)等のポリオキシエチレンアルキルエーテル系非ィ オン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフエノールエーテル系、多価アルコー ル脂肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル系、ポリオキシェ チレンアルキルアミン系等のその他の非イオン系界面活性剤が挙げられる。これらは 1種単独で使用してもょ 、し、 2種以上を併用してもょ 、。
前記導電性層は、公知の導電性物質を用いた構成の中から適宜選択して形成す ることができ、該導電性物質としては、湿度環境に影響されず安定した導電効果が得 られる点で、例えば、 ZnO、 TiO、 SnO、 Al O、 In O、 SiO、 MgO、 BaO、 MoO
2 2 2 3 2 3 2 3 などが好ましい。これらは、 1種単独で用いる以外に 2種以上を併用してもよい。
前記金属酸ィ匕物又は前記導電性物質の体積抵抗値としては、 107 Ω 'cm以下が 好ましぐ 105 Ω 'cm以下がより好ましい。また、前記金属酸化物又は前記導電性物 質の粒子径としては、 0. 01〜0. 7 111カ 子ましく、 0. 02〜0. 5 m力より好まし!/、
[0057] 前記導電性層には、バインダーとして、例えば、ゼラチン、セルロースナイトレート、 セノレローストリアセテート、セノレロースジアセテート、セノレロースアセテートブチレート、 セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル、塩化ビ-リデン、塩化 ビュル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビュル、炭素数 1〜4のアルキルアタリレート 、ビュルピロリドン等を含むホモポリマー又はコポリマー、可溶性ポリエステル、ポリ力 ーボネート、可溶性ポリアミド、などを使用することができる。
[0058] 仮支持体の厚さとしては、特に制限はなぐ 5〜300 mの範囲が一般的であり、特 に 10〜150 /ζ πιの範囲内が取り扱い易さ、汎用性などの点で好ましい。厚みが、 5 m未満であると仮支持体を剥離する際に破れやすくなる傾向があり、また、仮支持体 を介して露光する場合において、 300 mを超えると解像度が低下する傾向がある。 また、仮支持体は、透明性でもよいし、染料化ケィ素、アルミナゾル、クロム塩、ジル コ -ゥム塩などを含有していてもよいが、仮支持体を介して露光する場合には、透明 性を有するものが好ましい。
[0059] 〈感光性榭脂層〉
感光性榭脂層は、カラーフィルタを構成する着色画素 (色材)、スぺーサ、ブラック マトリクス (黒材)、配向制御材等の樹脂構造物を構成する層である。
感光性榭脂層は、少なくとも高分子物質と重合性モノマーと光重合開始剤とを含む 感光性榭脂組成物を用いて形成することができ、さらに必要に応じて着色剤や他の 成分を用いて構成することができる。着色剤を含有する場合には、カラーフィルタを 構成する着色画素、ブラックマトリクスなどを形成することができる。
[0060] (高分子物質）
高分子物質は、スぺーサゃ着色画素等の榭脂構造物を形成する場合に、バインダ 一成分として機能するものであり、例えば、フエノール榭脂、ポリアミド榭脂、フッ素榭 脂、ポリアセタール榭脂、 ABS榭脂、ポリイミド、ポリエチレン、エチレン酢酸ビュル共 重合体榭脂 (EVA)、エチレンェチルアタリレート共重合体榭脂 (EEA)、エチレンメ タアタリレート共重合体樹脂、ポリ塩化ビュル、ポリカーボネート樹脂、メタクリル樹脂
、ポリプロピレン、ポリスチレン、ユリア榭脂、エポキシ榭脂、ジァリルフタレート榭脂、 PRO NORYL榭脂、アイオノマー榭脂などが挙げられ、具体的には、「高分子材料 便覧」（コロナ社発行、社団法人高分子学会編集、昭和 48年 2月 20日発行)、 102 頁表 1 · 1に記載の榭脂や、 103頁表 1 · 2に記載の榭脂や、側鎖にカルボン酸基、力 ルボン酸塩基などの極性基を有するポリマー、それ自体重合性を持つ光重合可能な ァリル基を有する高分子榭脂が好ましい例として挙げられる。
[0061] 高分子物質は、目的に応じて適宜選択した単量体の単独重合体、複数の単量体 力もなる共重合体のいずれであってもよぐ 1種単独で用いる以外に、 2種以上を併 用するようにしてちょい。
[0062] 前記「側鎖にカルボン酸基、カルボン酸塩基などの極性基を有するポリマー」の例 としては、特開昭 59— 44615号公報、特公昭 54— 34327号公報、特公昭 58— 12 577号公報、特公昭 54— 25957号公報、特開昭 59— 53836号公報、及び特開昭 59— 71048号公報に記載のメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、ィタコン酸 共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共 重合体等を挙げることができる。また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導 体、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも挙げることができる。 また、特に好ましい例として、米国特許第 4139391号明細書に記載のベンジル (メ タ）アタリレートと (メタ)アクリル酸との共重合体や、ベンジル (メタ)アタリレートと (メタ） アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。
また、前記「ァリル基を有する高分子榭脂」の単量体としては、特開 2003— 13137 9号公報の段落番号 [0031]〜 [0054]に記載の榭脂が好適なものとして挙げられる
[0063] 前記高分子物質の質量平均分子量としては、ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィ 一（GPC)測定値のポリスチレン換算値で、 5, 000〜100, 000力 子ましく、 8, 000 〜50, 000がより好ましい。該質量平均分子量が前記範囲内であると、膜強度を良 化する。
[0064] 高分子物質の感光性榭脂層中における含有量としては、該層の全固形分に対して 、 15〜95質量％が好ましぐ 30〜85質量％がより好ましぐ 40〜75質量％が更に 好ましい。
[0065] (重合性モノマー）
重合性モノマーとしては、少なくとも 1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を 有するものであれば、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができる。例 えば、エステル化合物、アミドィ匕合物、並びにその他の化合物が挙げられる。
[0066] 前記エステル化合物としては、例えば、単官能 (メタ)アクリル酸エステル、多官能（ メタ）アクリル酸エステル、ィタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エス テル、マレイン酸エステル、その他のエステル化合物、などが挙げられる。これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよいが、これらの中でも、単官能（ メタ)アクリル酸エステル、多官能 (メタ)アクリル酸エステル等が好ま U、。
[0067] 前記単官能 (メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ
(メタ）アタリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アタリレート、フエノキシェチル モノ (メタ）アタリレートなどが挙げられる。
前記多官能 (メタ）アクリル酸エステルしては、例えば、ポリエチレングリコールジ (メ タ）アタリレート、エチレングリコールジ (メタ）アタリレート、トリエチレングリコールジ (メ タ）アタリレート、 1, 3 ブタンジオールジ (メタ）アタリレート、テトラメチレングリコール ジ (メタ）アタリレート、へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールトリ（ メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールテトラ (メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトール ジ (メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトー ルテトラ (メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アタリレート、ジペンタ エリスリトールポリ（メタ）アタリレート、ソルビトールトリ（メタ）アタリレート、ソルビトール テトラ (メタ)アタリレート、トリメチロールェタントリ（メタ）アタリレート、ネオペンチルグリ コールジ (メタ）アタリレート、へキサンジオールジ (メタ）アタリレートなどが挙げられる。 中でも特に、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アタリレートが好ましい。
さらに他の例として、グリセリンやトリメチロールェタン等の多官能アルコールにェチ レンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後 (メタ)アタリレートイ匕したもの、 特公昭 48— 41708号公報、特公昭 50— 6034号公報、特開昭 51— 37193号公報 に記載のウレタンアタリレート類、特開昭 48— 64183号公報、特公昭 49 43191号 公報、及び特公昭 52— 30490号公報に記載のポリエステルアタリレート類、ェポキ シ榭脂と (メタ)アクリル酸との反応生成物であるエポキシアタリレート類、特開昭 60— 258539号公報に記載の（メタ）アクリル酸エステルやウレタン (メタ）アタリレートゃビ -ルエステル、などが挙げられる。
また、前記「その他のエステルイ匕合物」としては、例えば、トリメチロールプロパントリ (アタリロイルォキシプロピル）エーテル、トリ（アタリロイ口キシェチル)イソシァヌレート
、 日本接着協会誌 Vol. 20, No. 7,第 300〜308頁に記載の光硬化性モノマー及 びオリゴマー、などが挙げられる。
[0068] 前記アミドィ匕合物としては、例えば、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物と のアミド (モノマー）などが挙げられ、具体的には、メチレンビス一（メタ)アクリルアミド、 1, 6—へキサメチレンビス—（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリァミントリス (メタ）ァク リルアミド、キシリレンビス (メタ)アクリルアミド、などが挙げられる。また、特開昭 60— 2 58539号公報に記載の (メタ）アクリル酸アミド、などが挙げられる。
[0069] 前記「その他の化合物」としては、例えば、特開昭 60— 258539号公報に記載のァ リル化合物、などが挙げられる。
[0070] 重合性モノマーは、 1種単独で用いる以外に、 2種以上を併用するようにしてもよい 重合性モノマーの感光性榭脂層中における含有量としては、該層の全固形分に対 して、 10〜60質量％が好ましぐ 20〜50質量％がより好ましい。
[0071] 本発明においては、感光性榭脂層中における、前記高分子物質の含有量 A (質量 %)と前記重合性モノマーの含有量 (質量％) Bとの比 BZAとしては、 0. 3〜1. 2が 好ましい。この比 BZAを前記範囲にすることで、より効果的にレチキユレーシヨンの 発生を抑止でき、アルカリ現像に長時間要することもない。また、より好ましい比 BZ Aの範囲は 0. 3〜0. 9である。
[0072] (光重合開始剤）
光重合開始剤としては、およそ 300〜500nmの波長領域に約 50以上の分子吸光 係数を有する成分を少なくとも 1種含有しているものが好ましぐ例えば、特開平 2— 4 8664号公報、特開平 1— 152449号公報、及び特開平 2— 153353号公報に記載 の芳香族ケトン類、口フィン 2量体、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類、ポリハロゲン 類、ハロゲン化炭化水素誘導体、ケトン化合物、ケトォキシム化合物、有機過酸化物 、チォ化合物、へキサァリールビイミダゾール、芳香族ォ -ゥム塩、ケトォキシムエー テル、などが挙げられる。
[0073] 上記の中でも、 4, 4'—ビス（ジェチルァミノ）ベンゾフエノンと 2— (o クロ口フエ- ル） 4, 5 ジフエ-ルイミダゾール 2量体との組合せ、 4—〔ρ—Ν, Ν'—ジ（エトキシ カルボ-ルメチル） 2, 6 ジ（トリクロロメチル） s トリァジン〕、 2, 4 ビス一（トリ クロロメチル）— 6— [4'— (Ν, Ν'—ジビスエトキシカルボ-ルメチルァミノ）—3'—ブ ロモフエ-ル]— s トリァジンなどが好ましい。
[0074] 光重合開始剤は、 1種単独で用いる以外に、 2種以上を併用するようにしてもよい。
光重合開始剤の含有量としては、前記重合性モノマーの量に対して、 0. 1〜20質 量％が好ましぐ 0. 5〜10質量％がより好ましい。
[0075] 本発明に係る感光性榭脂層には、上記した高分子物質、重合性モノマー、及び光 重合開始剤のほか、染料、顔料等の着色剤を含有してもよい。好ましい顔料の種類 、サイズ等については、例えば特開平 11— 149008号公報の記載力も適宜選択す ることができる。顔料等の着色剤を含有させた場合は、着色画素を形成することがで きる。また、必要に応じて界面活性剤等の添加剤を添加することもできる。
[0076] (着色剤）
着色剤としては、一般に顔料を用いることができ、例えば顔料を分散したレジスト材 料に通常用いられる有機顔料又は無機顔料が使用できる。
[0077] 前記無機顔料としては、金属酸ィ匕物や金属錯塩のような金属化合物が挙げられ、 具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、ク ロム、亜鉛、アンチモンなどの金属の酸ィ匕物又は複合金属酸ィ匕物が挙げられる。ま た、前記有機顔料及び無機顔料として具体的には、カラーインデックス (Colour In dex (The Society of Dyers and Colourists 出版)で、ピグメント (Pigment )に分類されている化合物が挙げられる。より具体的には、以下のようなカラーインデ ックス (C. I. )番号の化合物が挙げられる力 これらに限定されるものではない。
[0078] 例えば、ビクトリア 'ピュア一ブルー BO (C. I. 42595)、オーラミン（C. I. 41000) 、フアット ·ブラック HB (C. I. 26150)、 C. I.ビグメント 'イェロー 1、 3、 12、 13、 14 、 5、 16、 17、 20、 24、 31、 55、 60、 61、 65、 71、 73、 74、 81、 83、 93、 95、 97、 98、 100、 101、 104、 106、 108、 109、 110、 113、 114、 116、 117、 119、 120、 126、 127、 128、 129、 138、 139、 150、 151、 152、 153、 154、 155、 156、 166 、 168、 175、 180、 185;
C. I.ビグメント，オレンジ 1、 5、 13、 14、 16、 17、 24、 34、 36、 38、 40、 43、 46 、 49、 51、 61、 63、 64、 71、 73;
C. I.ピグメントノィォレツ卜 1、 19、 23、 29、 32、 36、 38;
C. I.ビグメント ·レッド 1、 2、 3、 4、 5、 6、 7、 8、 9、 10、 11、 12、 14、 15、 16、 17 、 18、 19、 21、 22、 23、 30、 31、 32、 37、 38、 40、 41、 42、 48:1、 48:2、 48:3、 48:4、 49:1、 49:2、 50:1、 52:1、 53:1、 57、 57:1、 57:2、 58:2、 58:4、 60:1 、 63:1、 63:2、 64:1、 81:1、 83、 88、 90:1、 97、 101、 102、 104、 105、 106、 1 08、 112、 113、 114、 122、 123、 144、 146、 149、 150、 151、 166、 168、 170、 171、 172、 174、 175、 176、 177、 178、 179、 180、 185、 187、 188、 190、 193 、 194、 202、 206、 207、 208、 209、 215、 216、 220、 224、 226、 242、 243、 24 5、 254、 255、 264、 265;
C. I.ビグメント，ブルー 15、 15:3、 15:4、 15:6、 60;
C. I.ビグメント 'グリーン 7、 36;
C. I.ピグメント.ブラウン 23、 25;
C. I.ビグメント 'ブラック 1、 7;
等が挙げられる。
前記顔料は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、顔料と顔料分 散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒 (又はビヒクル）に添カロ して分散させることによって調製することができる。ビビクルとは、塗料が液体状態に ある時に顔料を分散させて 、る媒質の部分を 、、液状であって前記顔料と結合し て塗膜を固める部分 (バインダー）と、これを溶解希釈する成分 (有機溶媒)とを含む 。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなぐ例えば、朝 倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、 2000年、 438頁に記載されている- ーダ一、ローノレミノレ、アトライダー、スーパーミル、ディゾノレバ、ホモミキサー、サンドミ ル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献 310頁記載の機械的摩砕により、摩 擦力を利用し微粉砕してもよ!ヽ。 [0080] (界面活性剤）
感光性榭脂層には、塗布ムラ (膜厚変動によるムラ)を効果的に防止するという観点 から、界面活性剤を含有させることが好ましい。界面活性剤は、特開 2003— 33742 4号公報の段落番号 [0015]〜 [0024]、特開 2003— 177522号公報の段落番号 [ 0012ト [0017]、特開 2003— 177523号公報の段落番号 [0012ト [0015]、特 開 2003— 177521号公報の段落番号 [0010ト [0013]、特開 2003— 177519 号公報の段落番号 [0010]〜 [0013]、特開 2003— 177520号公報の段落番号 [0 012ト [0015]、特開平 11— 133600号公報の段落番号 [0034ト [0035]、特 開平 6— 16684号公報に記載の界面活性剤が好適なものとして挙げられる。より高 い効果を得るためには、フッ素系界面活性剤及び Z又はシリコン系界面活性剤 (フッ 素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤、フッ素原子とケィ素原子の両方を含 有する界面活性剤）のいずれか、あるいは 2種以上を含有することが好ましぐフッ素 系界面活性剤が最も好ま ヽ。
[0081] また、下記市販の界面活性剤をそのまま用いることもできる。使用できる市販の界 面活性剤としては、例えば、エフトップ EF301、同 EF303 (新秋田化成 (株)製）、フ 口ラード FC430、同 431 (住友スリーェム（株）製）、メガファック F171、同 F173、同 F 176、同 F189、同 R08 (大日本インキ（株）製）、サーフロン S— 382、同 SC101、同 102、同 103、同 104、同 105、同 106 (旭硝子 (株)製)等のフッ素系界面活性剤、 又はシリコン系界面活性剤を挙げることができる。また、ポリシロキサンポリマー KP— 341 (信越化学工業 (株)製)、トロイゾル S - 366 (トロイケミカル (株)製)もシリコン系 界面活性剤として用いることができる。
[0082] フッ素系界面活性剤を用いる場合、界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ 素原子数は 1〜38が好ましぐ 5〜25がより好ましぐ 7〜20が最も好ましい。フッ素 原子数が前記範囲内であると、溶媒に対する溶解性が良好であり、ムラの改善効果 の点でも有効である。
[0083] (熱重合防止剤）
感光性榭脂層は、熱重合防止剤を含有することが好ましい。熱重合防止剤の例と しては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、 p—メトキシフエノール、ジ —tーブチルー p クレゾール、ピロガロール、 tーブチノレ力テコーノレ、ベンゾキノン、 4 , 4'—チォビス（3—メチル 6— t—ブチルフエノール）、 2, 2'—メチレンビス（4—メ チルー 6 t—ブチルフエノール）、 2 メルカプトべンズイミダゾール、フエノチアジン 等が挙げられる。
感光性榭脂層の全固形分に対する熱重合防止剤の含有量は、 0. 01〜1質量％ が一般的であり、 0. 02-0. 7質量％が好ましぐ 0. 05〜0. 5質量％が特に好まし い。
[0084] 〈保護フィルム〉
感光性榭脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護する目的で、薄い保護 フィルムを設けることが好まし 、。
保護フィルムは、仮支持体と同一又は類似の材料力もなるものでもよいが、感光性 榭脂層から容易に分離させることができるものを選択することが望ましぐ材料の例と しては、シリコン紙、ポリオレフイン、ポリテトラフルォロエチレンシートが適当である。
[0085] 〈中間層〉
上記以外に、露光時の感度を上げる目的で、さらに中間層を設けることができる。 中間層としては、特開平 5— 72724号公報に「分離層」として記載されている、酸素 遮断機能のある酸素遮断膜を設けることができる。この場合、露光感度が向上し、露 光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
[0086] 酸素遮断膜としては、低 ヽ酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は 溶解するものが好ましぐ公知のものの中力 適宜選択することができる。これらのう ち、特に好ましいのは、ポリビュルアルコールとポリビュルピロリドンとの組み合わせで ある。
中間層（酸素遮断膜)の厚みとしては、 0. 5〜3. O /z mが好ましい。
[0087] 〜感光性転写材料の作製方法〜
感光性転写材料は、例えば、仮支持体上に感光性榭脂層形成用の溶液を塗布、 乾燥して感光性榭脂層を形成し、この感光性榭脂層の表面に保護フィルムを密着さ せること〖こより作製することができる。なお、感光性榭脂層を複数積層するときには、 感光性榭脂層間に中間層を設けてもょ ヽ。 [0088] 上記以外に、仮支持体上及び、保護フィルム上に感光性榭脂層（及び必要に応じ て中間層）を設けたシートを用意し、仮支持体と感光性榭脂層とが接するように相互 に貼り合わせることによつても、感光性転写材料を作製することができる。
[0089] 感光性榭脂層の層厚としては、 1. 0〜5. 0 μ mが好ましぐ 1. 0〜4. 0 μ mがより 好ましぐ 1. 0〜3. 0 mが特に好ましい。該層厚が前記範囲内であると、製造時に ピンホールの発生のな 、塗布膜が得られ、現像時に未露光部を良好に除去すること ができる。
また、感光性榭脂層以外の他の各層の好ましい厚みについては、特に限定はない 力 中間層では 0. 5〜3. 0 m力 保護フィルムでは 4〜40 mが一般に好ましい。
[0090] 前記塗布は、公知の塗布装置等を用いて行なうことができる力 本発明においては 、スリット状ノズルを用いた塗布装置 (スリットコータ）によって行なうことが好ましい。 スリット状ノズルを用いた塗布装置 (スリットコータ）は、液が吐出する部分にスリット 状の穴を有するスリット状ノズルによって塗布する塗布装置であり、具体的には、特開 2004— 89851号公報、特開 2004— 17043号公報、特開 2003— 170098号公報 、特開 2003— 164787号公報、特開 2003— 10767号公報、特開 2002— 79163 号公報、特開 2001— 310147号公報等に記載のスリット状ノズル、及びスリットコー ターが好適である。
[0091] 〈基板〉
基板としては、特に制限されるものではないが、好ましくは透明基板が用いられる。 具体的な例としては、表面に酸ィ匕ケィ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス 、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、あるいはプラスチックフィル ム等を挙げることができる。
[0092] 基板は、その表面の段差が 0. 5 μ m以下であることが好ま 、。基板表面に存在 する段差が前記範囲内であると、ラミネートする際に泡の混入を効果的に低減するこ とができる。前記段差としては、 0. 2 m以下がより好ましい。段差の値は、表面粗さ 計 P— 10 (TENCOR社製）を用いて測定されるものである。
また、基板上の段差を前記範囲内にする方法として、基板面を平坦化する平坦ィ匕 膜を形成する方法、段差を公知の研磨機を用いて研磨する方法等が好適である。 基板は、予め黒着色されて平坦性を有している場合はそのまま用いることができる
[0093] また、基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、転写材料との密着を良 好にすることができる。カップリング処理としては、特開 2000— 39033号公報に記載 の方法が好適である。なお、基板の膜厚としては、特に限定はないが、 700〜1200 /z mが一般に好ましい。
[0094] <表示装置用材料 >
本発明の表示装置用材料は、既述の本発明の榭脂積層体を露光し、現像してなる ものである。本発明の榭脂積層体を用いて構成されるので、異物付着によって生じる 画像欠陥が少なぐ良好な画像表示が可能である。
[0095] 本発明の表示装置用材料は、基板上に感光性榭脂層が転写形成された本発明の 榭脂積層体を用い、感光性榭脂層を露光し、さらに現像する操作を色相数 (色バタ ーンの数)だけ繰り返して行なう等の公知の方法によって作製することができる。
[0096] 露光は、榭脂積層体の基板上に形成された感光性榭脂層の上方 (感光性榭脂層 の基板のある側と逆の側）に所定のマスクを配置し、該マスクの更に上方に光源を配 置し、マスク (及び場合により中間層及び Z又は仮支持体)を介してマスク上方から 光を照射することにより行なうことができる。このとき、マスクを通過した光により感光性 榭脂層をパターン露光することが可能である。
[0097] 前記光源としては、感光性榭脂層を硬化し得る波長域の光 (例えば 365nm、 405η mなど)を照射できるもの力も適宜選択することができる。具体的には、超高圧水銀灯 、高圧水銀灯、メタルノ、ライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、通常 5〜300miZcm2程度であり、好ましくは 10〜100miZcm2 程度である。
[0098] 現像は、露光後に現像液を用いて行なうことができる。
現像液としては、特に制約はなぐ特開平 5— 72724号公報に記載のものなど、公 知の現像液を使用することができる。なお、現像液は、感光性榭脂層が溶解型の現 像挙動を示すものが好ましぐ例えば、 1^&= 7〜13のィ匕合物を0. 05〜5molZL の濃度で含むものが好ま ヽが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加して ちょい。
[0099] 水と混和性を有する有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、 2 プロパ ノーノレ、 1 プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモ ノメチノレエーテノレ、エチレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、エチレングリコーノレモノ n ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルェチルケトン、シクロへ キサノン、 ε —力プロラタトン、 γ ブチロラタトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルァ セトアミド、へキサメチルホスホルアミド、乳酸ェチル、乳酸メチル、 ε 一力プロラタタム 、 Ν—メチルピロリドン等を挙げることができる。有機溶剤の濃度は、 0. 1〜30質量％ が好ましい。
[0100] 現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度 は 0. 01〜10質量％が好ましい。
[0101] 現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー &スピン現像、ディップ 現像等の公知の方法を用いることができる。
[0102] ここで、前記シャワー現像にっ 、て説明する。露光後の感光性榭脂層に現像液を シャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。なお、現像 の前には、感光性榭脂層の溶解性が低！、アルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付 け、予め中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄液などを シャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好まし い。
[0103] 前記洗浄液としては、公知のものを使用できる力 富士フィルム (株)製の T—SD1
(燐酸塩、珪酸塩、ノ-オン界面活性剤、消泡剤及び安定剤含有)、あるいは富士フ イルム (株)製の T— SD2 (炭酸ナトリウム及びフエノキシォキシエチレン系界面活性 剤含有)ゃ富士フィルム (株)製の Τ SD3が好まし 、。
現像液の液温度は、 20〜40°Cが好ましぐまた、現像液の pHは 8〜 13が好ましい
[0104] 本発明の表示装置用材料には、液晶表示装置、 PDP、 ELなどを構成するカラー フィルタ〔カラー画像 (いわゆる画素）、ブラックマトリクス、スぺーサ、及び液晶配向制 御用突起等の構造物全てを包含するもの。）等が含まれる。 [0105] 本発明の表示装置用材料がカラーフィルタである場合においては、既述の本発明 の榭脂積層体を上記のように露光し、現像してカラーフィルタを作製し、作製された力 ラーフィルタの上に透明電極を形成し、更に分割配向用の突起を重ねることでスぺ ーサを形成することができる。この場合、コスト低減が可能である。
[0106] <表示装置、液晶表示装置 >
本発明の表示装置は、既述の本発明の榭脂積層体を露光し、現像してなる表示装 置用材料 (本発明の表示装置用材料)を設けて構成されたものである。本発明の榭 脂積層体を用いて構成されるので、画像欠陥が少なぐ表示品位の良好な画像表示 が可能である。
[0107] 本発明の表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、 EL表 示装置、 CRT表示装置などの表示装置などが含まれる。表示装置の定義や各表示 装置の説明については、例えば「電子ディスプレイデバイス」（佐々木昭夫著、（株） 工業調査会、 1990年発行)、「ディスプレイデバイス」（伊吹順章著、産業図書 (株)、 平成元年発行)などに記載されて!、る。
上記のうち、液晶表示装置が特に好ましい。
[0108] 本発明の液晶表示装置とは、既述の本発明の榭脂積層体を露光し、現像してなる 表示装置用材料 (本発明の表示装置用材料)を設けて構成されたものであり、さら〖こ 偏光板を有する形態が好ましい。本発明の液晶表示装置は上記同様に、画像欠陥 が少なく、表示品位の良好な画像表示が可能である。
[0109] 液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術」（内田龍男編集 、（株)工業調査会、 1994年発行）に記載されている。液晶表示装置には、特に制限 はなぐ例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方 式の液晶表示装置に適用できる。例えば、 ECB (Electrically Controlled Birefr ingence 、 TN (Twisted Nematic)、 IPS (in— Plane Switching)、 FLC (Ferr oelectric Liquid Crystal)、 OCB (Optically Compensatory Bend)、 STN ( Supper Twisted Nematic)、 VA (Vertically Aligned)、 HAN (Hybrid Alig ned Nematic)、 GH (Guest Host)等の様々な表示モードが採用できる。これら の表示モードの中でも、特に高 、表示品位の表示装置を提供できる VA (Vertically Aligned)表示モードが好まし!/ヽ。
[0110] これらの中でも、特にカラー TFT方式の液晶表示装置が有効である。カラー TFT 方式の液晶表示装置については、例えば「カラー TFT液晶ディスプレイ」（共立出版 (株）、 1996年発行）に記載されている。
さらに、 IPSなどの横電界駆動方式、 MVAなどの画素分割方式などの視野角が拡 大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については、例えば「EL、 PD P、 LCDディスプレイ 技術と巿場の最新動向一」（東レリサーチセンター調査研究 部門、 43ページ、 2001年発行）に記載されている。
また、ノートパソコン用ディスプレイやテレビモニター等の大画面の液晶表示装置等 にも好適に用いることができる。
実施例
[0111] 以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越え ない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部 」は質量基準である。
[0112] (実施例 1)
感光性転写材料の作製
(1)厚さ 75 μ mのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（PET仮支持体）の表 面に直接、スリット状ノズルを用いて、下記表 1に記載の組成よりなる着色感光性榭脂 組成物 K1を塗布し、乾燥させて黒色感光性榭脂層を塗設した。そして、黒色感光性 榭脂層の表面に保護フィルム (厚さ 12 mポリプロピレンフィルム）を圧着し、感光性 転写材料を作製した。以下、これを感光性転写材料 K1と称する。
[0113] (2)次に、前記感光性転写材料 K1の作製に用いた着色感光性榭脂組成物 K1を、 下記表 1に記載の組成よりなる着色感光性榭脂組成物 Rl、 Gl、又は B1に代えたこ と以外は、上記の感光性転写材料 K1の作製と同様にして、感光性転写材料 Rl、 G 1、及び B1を作製した。
なお、着色感光性榭脂組成物 Kl、 Rl、 Gl、及び B1の詳細については後述する。
[0114] 次いで、以下に示すように、榭脂積層体を作製し、露光、現像する操作を複数回繰 り返し行なってカラーフィルタを作製した。 [0115] —ブラック (K)画像の形成一
無アルカリガラス基板 (以下、単に「ガラス基板」という。）を、 25°Cに調整したガラス 洗浄剤液をシャワーにより 20秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗 浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液 (N— β (アミノエチル） Ύ—アミノプ 口ピルトリメトキシシラン 0. 3質量％水溶液、商品名： KBM603、信越化学工業 (株） 製)をシャワーにより 20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備 加熱装置を用いて 100°Cで 2分間加熱した。
[0116] 次いで、感光性転写材料 K1の保護フィルムを剥離後、下記の転写装置を用いて、 100°Cで 2分間加熱されたガラス基板に、ゴムローラ温度 120°C、線圧 100N/cm、 搬送速度 2. 2mZ分の条件でラミネートした。ここで、洗浄、加熱後の前記ガラス基 板には形成物はなぐ基板表面の段差としては 0 mである。
[0117] 転写装置は、図 1並びに図 3〜図 4に示すように構成され、ウェブ幅 520mm X 2丁 、ウェブ間隔 5mm、ラミネートロールの外径 80mm、ラミネートロールの硬度 70度、 バックアップロール径 250mm、クラウン量 2mm (ロール中央と端部の直径の差）とし た（中央が太 、） 2丁ラミネータを用いた。
[0118] 仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティ型露光機（日立ハイテク 電子エンジニアリング株式会社製)で、基板とマスク (画像パターンを有す石英露光 マスク）を垂直に立てた状態で、マスク面と感光性榭脂層との間の距離を 200 mに 設定し、露光量 70miZcm2でパターン露光した。
[0119] 次に、炭酸 Na系現像液（0. 38モル Zリットルの炭酸水素ナトリウム、 0. 47モル Z リットルの炭酸ナトリウム、 5質量0 /0のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ァ-ォ ン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有、商品名： T CD1 (富士フィルム (株)製） を純水で 5倍に希釈した液）を用い、 29°Cで 30秒間、コーン型ノズルにより圧力 0. 1 5MPaでシャワー現像し、黒色感光性榭脂層を現像除去し、パターユングした。
[0120] 次 ヽで、洗浄剤 (燐酸塩、珪酸塩、ノ-オン界面活性剤、消泡剤及び安定剤含有、 商品名： T—SD1、富士フィルム (株)製）を純水で 10倍に希釈して用い、 33°Cで 20 秒間、コーン型ノズルにより圧力 0. 02MPaでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラ シにより残渣除去を行ない、高さ 2. 4 mのブラック (K)画像を得た。その後さらに、 このガラス基板に対して、 K画像が形成されて ヽる側力ゝら超高圧水銀灯により 500mJ
Zcm2の光をポスト露光した後、 220°Cで 15分間さらに熱処理した。
[0121] K画像が形成されたガラス基板を再び、上記のようにしてブラシで洗浄し、純水シャ ヮー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により 100°Cで
2分間加熱した。
[0122] レッド (R)画素の形成
次に、感光性転写材料 R1を用い、ブラック (K)画像が形成されたガラス基板の K画 像形成面に、前記感光性転写材料 K1を用いた場合と同様の方法により、レッド (R) 画素と 28 X 28 mの角形のレッド (R)パターンを形成した。但し、露光量は 40miZ cm2とし、炭酸 Na系現像液による現像は 35°C、 35秒間とした。
ここで、レッド (R)画素の層厚は 2. 0 mであり、顔料 C. I.ビグメント 'レッド 254、 C
. I.ビグメント 'レッド 177の塗布量はそれぞれ 0. 88g/m2、0. 22g/m2とした。
[0123] その後、 R画素が形成されたガラス基板を再び、上記のようにブラシで洗浄し、純水 シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により 100
°Cで 2分間加熱した。
[0124] —グリーン (G)画素の形成—
次に、感光性転写材料 G1を用い、前記 K画像及び R画素が形成されたガラス基板 の K画像等形成面に、前記感光性転写材料 K1を用 ヽた場合と同様の方法により、 グリーン (G)画素を形成すると共に、 Rパターン上に該 Rパターン全体を覆うようにし てグリーン (G)パターンを形成した。但し、露光量は 40mjZcm2とし、炭酸 Na系現 像液による現像は 34°C、 45秒間とした。
ここで、グリーン（G)画素の層厚は 2. O /z mであり、顔料 C. I.ビグメント 'グリーン 3
6、 C. I.ビグメント 'イェロー 150の塗布量はそれぞれ 1.
Figure imgf000032_0001
0. 48gZm2とし た。
[0125] その後、 K画像並びに R画素及び G画素が形成されたガラス基板を再び、上記のよ うにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板 予備加熱装置により 100°Cで 2分間加熱した。
[0126] ブルー（B)画素の形成 次に、感光性転写材料 Blを用い、前記 K画像並びに R画素及び G画素が形成さ れたガラス基板の K画像等形成面に、感光性転写材料 K1を用いた場合と同様の方 法により、ブルー（B)画素を形成した。但し、露光量は 30mjZcm2とし、炭酸 Na系 現像液による現像は 36°C、 40秒間とした。
ここで、ブルー（B)画素の層厚は 2. O /z mであり、顔料 C. I.ビグメント 'ブルー 15 : 6、 C. I.ビグメント 'バイオレット 23の塗布量はそれぞれ 0. 63gZm2、 0. 07g/m2と した。
[0127] その後、 K画像並びに R画素、 G画素及び B画素が形成されたガラス基板を 240°C で 50分間ベータ処理し、本発明のカラーフィルタを作製した。以下、これを「カラーフ ィルタ側基板」という。
[0128] [表 1]
単位:部
Figure imgf000034_0001
[0129] ここで、前記表 1に記載の着色感光性榭脂組成物 Kl、 Rl、 Gl、及び Blの調製に ついて説明する。
[0130] 着色感光性榭脂組成物 K1は、下記のようにして得られたものである。
まず、前記表 1に記載の量の K顔料分散物 1、プロピレングリコールモノメチルエー テルアセテートをは力り取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150r.p.m.で 10分間攪 拌した。次いで、前記表 1に記載の量のメチルェチルケトン、ノインダー 1、ハイドロキ ノンモノメチルエーテル、 DPHA液、 2, 4 ビス（トリクロロメチル） 6— [4'— (N, N —ビスエトキシカルボ-ルメチル）ァミノ— 3'—プロモフエ-ル]— s トリァジン、及び 界面活性剤 1をは力り取り、温度 25°C (± 2°C)でこの順に添加して、温度 40°C (± 2 °C)で 150r.p.m.で 30分間攪拌した。
[0131] なお、前記表 1に記載の組成物 K1中の各組成の詳細は以下の通りである。
*K顔料分散物 1
'カーボンブラック… 13. 1部
(デグッサ社製、商品名 Special Black 250)
•5— [3—ォキソ 2— [4— [3, 5 ビス（3 ジェチルァミノプロピルアミノカルボ- ル）フエ-ル]ァミノカルボ-ル]フエ-ルァゾ] -ブチロイルァミノべンズイミダゾロン- · - 0. 65咅
•ポリマー〔ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸（ = 72Z28 [モル比])のランダム共 重合物（質量平均分子量 37, 000)〕· -6. 72部
'プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート · · · 79. 53部
[0132] *バインダー 1
•ポリマー〔ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸（ = 78Z22 [モル比])のランダム共 重合物（質量平均分子量 40, 000) " 27部
'プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート · · · 73部
[0133] * DPHA液
'ジペンタエリスリトールへキサアタリレート（重合禁止剤 MEHQを 500ppm含有、 商品名： KAYARAD DPHA、 日本化薬 (株）製）… 76部
•プロピレングリコールモノメチルエーテルァセテート… 24部
[0134] *界面活性剤 1
メガファック F 780 F (大日本インキ化学工業 (株)製）
〔組成〕 -C F CH CH OCOCH = CH 40部と H (OCH (CH ) CH ) OCOCH =
6 13 2 2 2 3 2 7
CH 55部と H (OCH CH ) OCOCH = CH 5部との共重合体、質量平均分子量 3
2 2 2 7 2
万〕… 30部 •メチルェチルケトン… 70部
[0135] 着色感光性榭脂組成物 R1は、下記のようにして得られたものである。
まず、前記表 1に記載の量の R顔料分散物 1、 R顔料分散物 2、プロピレングリコー ルモノメチルエーテルアセテートをは力り取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150r.p .m.で 10分間攪拌した。次いで、表 1に記載の量のメチルェチルケトン、バインダー 2 、 DPHA液、 2 トリクロロメチル— 5— (p—スチリルスチリル）— 1, 3, 4—ォキサジァ ゾール、 2, 4 ビス（トリクロロメチル） 6— [4'— (N, N—ビスエトキシカルボ-ルメ チル）ァミノ一 3'—プロモフエ-ル]— s トリァジン、フエノチアジンをは力り取り、温度 24°C (± 2°C)でこの順に添カ卩して 150r.p.m.で 10分間攪拌した。次いで、前記表 1 に記載の量の添加剤 1をは力り取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150r.p.m.で 20 分間攪拌した。更に、前記表 1に記載の量の界面活性剤 1をはかり取り、温度 24°C ( 士 2°C)で添カ卩して 30r.p.m.で 30分間攪拌し、ナイロンメッシュ # 200で濾過した。
[0136] なお、前記表 1に記載の組成物 R1中の各組成の詳細は以下の通りである。なお、 組成物 K1と同じ成分については前記の通りである。
*R顔料分散物 1
•C. I.ピグメント'レッド 254 (商品名： Irgaphor Red B— CF、チノく'スペシャル ティ'ケミカルズ (株)製）… 8. 0部
•5— [3—ォキソ 2— [4— [3, 5 ビス（3 ジェチルァミノプロピルアミノカルボ- ル）フエ-ル]ァミノカルボ-ル]フエ-ルァゾ] -ブチロイルァミノべンズイミダゾロン- · - 0. 8咅
•ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸（ = 72Z28 [モル比])のランダム共 重合物、質量平均分子量 3. 7万）… 8. 0部
'プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート · · · 83. 2部
*R顔料分散物 2
•C. I.ビグメント 'レッド 177 (商品名： Cromophtal Red A2B、チノく'スペシャル ティ ·ケミカルズ (株)製）… 18部
•ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸（ = 72Z28 [モル比])のランダム共 重合物、質量平均分子量 3. 7万）… 12部 •プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート' · · 70部
*バインダー 2
'ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 Zメチルメタタリレート（ = 38Z25Z 37 [モル比])のランダム共重合物、分子量： 3万）… 27部
'プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート · · · 73部
*添加剤 1
HIPLAAD ED152 (楠本化成 (株)製；燐酸エステル系特殊活性剤） [0137] 着色感光性榭脂組成物 G1は、下記のようにして得られたものである。
まず、前記表 1に記載の量の G顔料分散物 1、 Y顔料分散物 1、プロピレングリコー ルモノメチルエーテルアセテートをは力り取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150r.p .m.10分間攪拌した。次いで、前記表 1に記載の量のメチルェチルケトン、シクロへキ サノン、バインダー 1、 DPHA液、 2 トリクロロメチル一 5— (p—スチリルスチリル） 1, 3, 4—ォキサジァゾール、 2, 4 ビス（トリクロロメチル） 6— [4'— (N, N ビス エトキシカルボ-ルメチル）アミノー 3'—プロモフエ-ル]— s トリァジン、及びフエノ チアジンをは力り取り、温度 24°C (± 2°C)でこの順に添カ卩して 150r.p.m.30分間攪 拌した。更に、前記表 1に記載の量の界面活性剤 1をはかり取り、温度 24°C (± 2°C) で添カ卩して 30r.p.m.で 5分間攪拌し、ナイロンメッシュ # 200で濾過した。
[0138] なお、前記表 1に記載の組成物 G1中の各組成の詳細は以下の通りである。なお、 組成物 K1と同じ成分については前記の通りである。
* G顔料分散物 1
商品名： GT— 2 (富士フィルムエレクト口-クスマテリアルズ (株)製）
*Y顔料分散物 1
商品名： CFエロー ΕΧ3393 (御国色素 (株)製）
[0139] 着色感光性榭脂組成物 B1は、下記のようにして得られたものである。
まず、前記表 1に記載の量の Β顔料分散物 1、 Β顔料分散物 2、プロピレングリコー ルモノメチルエーテルアセテートをは力り取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150r.p .m.で 10分間攪拌した。次いで、前記表 1に記載の量のメチルェチルケトン、バイン ダー 3、 DPHA液、 2 トリクロロメチル— 5— (ρ—スチリルスチリル）— 1, 3, 4—ォキ サジァゾール、フエノチアジンをはかり取り、温度 25°C (± 2°C)でこの順に添カ卩して、 温度 40°C (± 2°C)で 150r.p.m.で 30分間攪拌した。更に、前記表 1に記載の量の 界面活性剤 1をは力り取り、温度 24°C (± 2°C)で添加して 30r.p.m.で 5分間攪拌し、 ナイロンメッシュ # 200で濾過した。
[0140] なお、前記表 1に記載の組成物 B1中の各組成の詳細は以下の通りである。なお、 組成物 K1と同じ成分については前記の通りである。
* B顔料分散物 1
商品名： CFブルー EX3357 (御国色素 (株)製）
* B顔料分散物 2
商品名： CFブルー EX3383 (御国色素 (株)製）
*バインダー 3の組成は、
'ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 Zメチルメタタリレート（ = 36Z22Z 42 [モル比])のランダム共重合物（質量平均分子量 3万）… 27部
'プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート · · · 73部
[0141] MVA用液晶表示装置の作製
上記で得たカラーフィルタ上に、透明電極として ITO膜（Indium Tin Oxide)をスパッ タリングにより形成した。
[0142] 次に、以下のようにして、液晶配向制御用突起を形成した。
前記感光性転写材料 K1の作製に用いた着色感光性榭脂組成物 K1を、下記の処 方 A1よりなるポジ型感光性榭脂層用塗布液に代えたこと以外は、上記の感光性転 写材料 K1の作製と同様にして、感光性転写材料 A1を作製した。そして、作製した感 光性転写材料 A1を用いて、既設の ITO透明電極上に液晶配向制御用突起を形成 した。このとき、露光、現像、及びベータ工程は以下に示す方法で行なった。
[0143] 所定のフォトマスクが感光性榭脂層の表面から 100 μ mの距離となるようにプロキシ ミティ露光機 (日立ハイテク電子エンジニアリング (株)製)を配置し、該フォトマスクを 介して超高圧水銀灯により照射エネルギー 150mi/cm2でプロキシミティ露光した。 続いて、 2. 38%テトラメチルアンモ-ゥムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装 置にて 33°Cで 30秒間基板に噴霧しながら現像した。こうして、感光性榭脂層の不要 部 (露光部）を現像除去することにより、カラーフィルタ側基板上に、所望の形状にパ ターニングされた感光性榭脂層よりなる液晶配向制御用突起が形成された液晶表示 装置用基板を得た。次いで、液晶配向制御用突起が形成された液晶表示装置用基 板を 230°C下で 30分間ベータすることにより、液晶表示装置用基板上に硬化された 液晶配向制御用突起を形成した。
[0144] くポジ型感光性榭脂層用塗布液の処方 Al〉
'ポジ型レジスト液 - --53. 3部
(FH— 2413F、富士フィルムエレクト口-クスマテリアルズ (株）製）
•メチルェチルケトン ".46. 7部
•メガファック F— 780F (大日本インキ化学工業 (株)製）… 0. 04部
[0145] 続いて、上記で得られた液晶表示装置用基板上にポリイミドの配向膜を設けた後、 カラーフィルタを構成する画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相 当する位置に、スぺーサ粒子を含有するエポキシ榭脂のシール剤を印刷し、液晶表 示装置用基板を別途用意した対向基板 (TFT基板)と貼り合わせた。次いで、貼り合 わされたガラス基板を熱処理し、シール剤を硬化させて 2枚のガラス基板の積層体を 得た。この積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して 2枚のガラス基板の間 隙に MVAモード用の液晶を注入した。注入終了後、注入口部分を接着剤を用い紫 外線照射して封止し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に偏光板（(株)サンリツ ッ製、 HLC2— 2518)を貼り付けて 3波長冷陰極管光源 (東芝ライテック (株)製の F WL18EX-N)のバックライトを構成し、液晶表示装置とした。
[0146] 評価
上記の「ブラック (K)画像の形成」にお 、て、感光性転写材料 K1を 2丁ラミネートし たときの樹脂の染み出し、泡の混入の程度を下記のようにして評価した。評価結果は 下記表 2に示す。
[0147] (1)染み出し
並列に供給された感光性転写材料 K1を 2丁ラミネートしている際に、感光性転写 材料間の合わせ目の部分に染み出して 、る幅 (転写材料の側端力 の距離)を計測 し、平均値を求めて染み出し幅 m)とし、下記評価基準にしたがって評価した。 [評価基準]
A:染み出し幅が 100未満であった。
B:染み出し幅が 100以上 120未満であつた。
C :染み出し幅が 120以上であった。
[0148] (2)泡混入
並列に供給された感光性転写材料 K1を 2丁ラミネートしている際の泡の巻き込み を目視により観察し、下記評価基準にしたがって評価した。
[評価基準]
A：泡の巻き込みの発生はな力つた。
B:泡の巻き込みが少し発生したが、画素領域での発生はなぐ実用上許容範囲内 であった。
C：泡の巻き込みが発生した。
[0149] (実施例 2)
実施例 1において、ブラック（K)画像の高さを 2. 力 3. に変更すると 共に、 ITO膜の形成後に更に、既設の K画像の上方に下記フォトスぺーサー用感光 性転写材料を用いて以下のようにしてフォトスぺーサーを形成したこと以外、実施例 1と同様にして、カラーフィルタ側基板を作製し、液晶表示装置を作製した。なお、本 発明では、実施例 1の Rパターンと Gパターンとを積層してなるスぺーサ構造は形成 しなかった。
また、下記の「フォトスぺーサ一の形成」の際に、フォトスぺーサー用感光性転写材 料を 2丁ラミネートしたときの榭脂の染み出し、泡の混入の程度を実施例 1と同様の方 法により評価した。評価結果は下記表 2に示す。なお、フォトスぺーサ一形成前は、 ガラス基板上の既設の K画像と R画素、 G画素及び B画素とで基板表面の段差は 1. O /z mになっている。
[0150] フォトスぺーサ一の形成
(1)フォトスぺーサー用感光性転写材料 PH1の作製
厚さ 75 μ mのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（PET仮支持体）上に、 下記処方力 なる感光性榭脂層用塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚 4. l ^ m の感光性榭脂層を積層した。その後、感光性榭脂層の表面にカバーフィルムとして 厚み 12 mのポリプロピレン製フィルムを加熱'加圧して貼り付け、スぺーサ用感光 性転写材料 PH1を作製した。
[0151] 〈処方〉
'コロイダルシリカ分散物 - -- 140. 9部
(コロイダルシリカ： 30部、メチルイソプチルケトン： 70部、 日産化学工業 (株)製、 M IBKst)
•1ーメトキシ 2 プロピルアセテート ' ··347. 6部
-メタクリル酸 Ζァリルメタタリレート（ = 20Ζ80 [モル比])共重合体 (質量平均分子量
= 3. 6万） … 93. 43部
•DPHA液 … 92. 20部
(ジペンタエリスリトールへキサアタリレート： 76部、 1ーメトキシ 2 プロピルァセテ ート： 24部）
•ハイドロキノンモノメチルエーテル … 0. 036部
•2, 4 ビス一（トリクロロメチル） -6' - [4- (Ν, Ν'—ビスエトキシカルボ-ルメチル )— 3'—ブロモフエ-ル]— s トリアジン … 2. 297部
•ビクトリア ·ピュア一ブルー ΒΟΗΜ … 1. 027部
(保土ケ谷化学工業 (株)製）
•メガファック F— 780— F (大日本インキ化学工業 (株)製）… 0. 323部
•メチルェチルケトン "·300. 6部
•メタノーノレ … 19. 50咅
[0152] (2)フォトスぺーサ一の形成
得られたスぺーサ用感光性転写材料 PH1のカバーフィルムを剥離し、露出した感 光性榭脂層の表面を、上記で作製した ΙΤΟ膜がスパッタ形成されたカラーフィルタ基 板の ΙΤΟ膜上に重ね合わせ、ラミネートロールの外径を 60mmに変更した以外は実 施例 1と同様に構成された 2丁ラミネータ (転写装置)を用いて、実施例 1と同様にして ラミネートし、 PET仮支持体の剥離、露光、現像を行なってパターン (スぺ一サーバタ ーン)を得た。 得られたスぺーサーパターンは、直径 16 μ m、平均高さ 3. 7 μ mの柱状であった。
[0153] (実施例 3)
実施例 1において、ブラック (K)画像の高さを 2. 4 m力 2. 5 mに変更すると 共に、 ITO膜の形成後に更に、既設の K画像の上方に実施例 2と同様のフォトスぺ 一サー用感光性転写材料 PH1を用いて実施例 2と同様にフォトスぺーサーを形成し たこと以外、実施例 1と同様にして、カラーフィルタ側基板を作製し、液晶表示装置を 作製した。
また、「フォトスぺーサ一の形成」の際に、フォトスぺーサー用感光性転写材料を 2 丁ラミネートしたときの榭脂の染み出し、泡の混入の程度を実施例 1と同様の方法に より評価した。評価結果は下記表 2に示す。なお、フォトスぺーサ一形成前は、ガラス 基板上の既設の K画像と R画素、 G画素及び B画素とで基板表面の段差は 0. 5 m になっている。
[0154] (比較例 1)
実施例 1において、感光性転写材料 K1を、下記のようにクッション層と中間層とをさ らに設けた感光性転写材料 K2に代えたこと以外、実施例 1と同様にして、カラーフィ ルタ側基板を作製し、液晶表示装置を作製すると共に、実施例 1と同様の評価を行 なった。評価結果は下記表 2に示す。なお、形成したブラック (K)画像の高さは、 2. 4 μ mであつ 7こ。
[0155] 感光性榭脂転写材料 K2の作製
厚さ 75 μ mのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（PET仮支持体）の上に 、スリット状ノズルを用いて、下記処方 HIからなるクッション層用塗布液を塗布し、乾 燥させてクッション層を形成し、形成されたクッション層上に下記処方 P 1からなる中間 層用塗布液を塗布し、乾燥させて中間層を積層した。その後、この中間層上に更に、 実施例 1と同様の着色感光性榭脂組成物 K1を塗布し、乾燥させ、仮支持体上に乾 燥膜厚が 3 μ mのクッション層と乾燥膜厚が 1. 6 μ mの中間層と黒色感光性榭脂層 を塗設した。そして、黒色感光性榭脂層の表面に保護フィルム (厚さ 12 mポリプロ ピレンフイノレム）を圧着した。
このようにして仮支持体 Zクッション層 Z中間層 (酸素遮断膜) Z黒色感光性榭脂 層 Z保護フィルムの積層構造に構成された感光性榭脂転写材料 K2を作製した。
[0156] 〈クッション層用塗布液の処方 HI〉
•メタノーノレ 1
'プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート … 6. 4部
•メチルェチルケトン ".52. 4部
'メチルメタタリレート /2—ェチルへキシルアタリレート/ベンジルメタタリレート/メ タクリル酸共重合体 (共重合比（モル比） = 55Zl l. 7/4. 5/28. 8、質量平均分 子量 10万、 Tg 70。C) … 5. 83部
•スチレン Zアクリル酸共重合体 (共重合比（モル比） =63/37,質量平均分子量 = 1¾", Tg= 100°C) "· 13. 6部
•2, 2 ビス [4— (メタクリロキシポリエトキシ)フエ-ル]プロパン (新中村ィ匕学 (株） 製） … 9. 1部
•前記界面活性剤 1 … 0. 54部
[0157] く中間層用塗布液の処方 Pl〉
'ポリビュルアルコール … 2. 1部
(PVA— 205 (鹼ィ匕率 =88%)； (株)クラレ製）
•ポリビュルピロリドン … 0. 95部
(PVP、 K— 30 ;アイエスピ一'ジャパン (株)製）
•メタノーノレ - --44
•蒸留水 一53部
[0158] (比較例 2)
実施例 2において、スぺーサ用感光性転写材料 PH1を、下記のようにクッション層 と中間層とをさらに設けたスぺーサ用感光性転写材料 PH2に代えたこと以外、実施 例 2と同様 (但し、ラミネートロールの外径を 80mmとした。）にして、カラーフィルタ側 基板を作製し、液晶表示装置を作製すると共に、実施例 2と同様の評価を行なった。 評価結果は下記表 2に示す。なお、形成したフォトスぺーサ一の高さは、 4. で めつに。
[0159] ースぺーサ用感光性転写材料 PH2の作製 厚さ 75 μ mのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（PET仮支持体）上に、 比較例 1と同様の処方 HIからなるクッション層用塗布液を塗布し、乾燥させて乾燥層 厚 6. O /z mのクッション層を形成し、形成されたクッション層上に比較例 1と同様の処 方 P1からなる中間層用塗布液を塗布し、乾燥させて乾燥層厚 1. の中間層を 積層した。その後、この中間層上に更に、実施例 2と同様の感光性榭脂層用塗布液 を塗布し、乾燥させて、感光性樹脂層を積層した。そして、黒色感光性榭脂層の表 面に保護フィルム（厚さ 12 mポリプロピレンフィルム）を圧着した。
このようにして PET仮支持体 クッション層 中間層（酸素遮断膜) Z感光性樹脂 層/保護フィルムの積層構造に構成されたスぺーサ用感光性転写材料 PH2を作製 した。
[表 2]
Figure imgf000044_0001
前記表 2に示すように、実施例では、表示装置用材料であるカラーフィルタ及びス ぺーサは、転写時に染み出しや泡混入などの発生がなぐあるいは若干発生はあつ ても実用上許容できる範囲であり、安定的に液晶表示装置を作製することができた。 特に、平坦なガラス基板の表面にラミネートを行なった実施例 1では、泡の混入が抑 えられ、ラミネート性を良好に確保しながら榭脂成分の染み出しをも効果的に解消す ることがでさた。
これに対し、比較例 1〜2では、合わせ部における転写時の感光性榭脂層からの榭 脂成分の染み出しによる欠陥が見られ、安定した製造が行なえな力つた。
また、作製した液晶表示装置のうち、本発明の転写材料を用いて作製されたカラー フィルタでは異物付着による画像欠陥が少なぐこのカラーフィルタを備えた液晶表 示装置では、いずれの画面にも欠陥がなく表示画像は良好であった。これに対し、 比較の転写材料を用いて作製されたカラーフィルタを備えた液晶表示装置では、画 像欠陥の影響により表示画像は劣っていた。
符号の説明
[0162] 2…転写装置
12…接合機構 (熱圧着部）
14···剥離部 (転写搬送機構）
16···転写材料送り出し機構
17a, 17b…感光性転写材料
20a, 20b…感光性榭脂層
21···カバーフィルム
22···基板
22a---転写エリア
29…ラ ローノレ対
30···バックアップロール
37, 38···転写材料取り付け軸 (転写材料送り出し機構）
39, 40···カッター部 (加工機構）
41, 42···カバーフィルム剥離機構 (加工機構）
43, 44···テンション調整機構 (転写搬送機構）
57· ··フィルム位置制御装置 (転写搬送機構）
[0163] 日本出願 2006— 37154の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる 本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、 特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記さ れた場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims

請求の範囲
[I] 長尺状の複数の感光性転写材料を送り出す送出機構と送り出された前記複数の 感光性転写材料を同一基板に接合する接合機構とを少なくとも備えた転写装置を用
V、て、前記複数の感光性転写材料の各感光性榭脂層を互いに交差しな 、ように同 一基板上に転写する榭脂積層体の製造方法であって、前記感光性転写材料が、仮 支持体の直上に感光性榭脂層を形成して構成されている榭脂積層体の製造方法。
[2] 前記接合機構力 Sラミネートロールを有し、前記ラミネートロールの外径が 100mm以 下であることを特徴とする請求項 1に記載の榭脂積層体の製造方法。
[3] 前記基板の表面における段差が 0. 5 μ m以下であることを特徴とする請求項 1に 記載の榭脂積層体の製造方法。
[4] 請求項 1に記載の榭脂積層体の製造方法により得られた榭脂積層体。
[5] 請求項 4に記載の榭脂積層体の感光性榭脂層を露光し、現像して得られた表示装 置用材料。
[6] 請求項 5に記載の表示装置用材料を備えた表示装置。
[7] 請求項 5に記載の表示装置用材料を備えた液晶表示装置。
[8] 前記接合機構は、ラミネートロール対、及び該ラミネートロール対の各ラミネートロー ルと当接する 2つのバックアップロールを有することを特徴とする請求項 1に記載の榭 脂積層体の製造方法。
[9] 複数の転写材料を用いて同一基板上に形成された前記感光性榭脂層間の間隙が l〜20mmであることを特徴とする請求項 1に記載の榭脂積層体の製造方法。
[10] 前記ラミネートロールの外径が 50〜80mmであることを特徴とする請求項 2に記載 の榭脂積層体の製造方法。
[II] 前記ラミネートロールの硬度が 50〜70度であることを特徴とする請求項 2に記載の 樹脂積層体の製造方法。
[12] 前記バックアップロールは、クラウンロール化されたクラウンロールであって、該クラ ゥンロールにおけるクラウン量が 0. 1〜3. Ommであることを特徴とする請求項 8に記 載の樹脂積層体の製造方法。
[13] 前記感光性榭脂層が高分子物質、重合性モノマー及び光重合開始剤を含み、前 記高分子物質の含有量 A (質量％)と前記重合性モノマーの含有量 (質量％) Bとの 比 BZAが 0. 3〜1. 2であることを特徴とする請求項 1に記載の榭脂積層体の製造 方法。
[14] 請求項 4に記載の榭脂積層体の感光性榭脂層を露光し、現像して得られたカラー フイノレタ。
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