CN104066581A - 形成有光固化性树脂层的基板及其形成方法、静电电容型输入装置及图像显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种形成有光固化性树脂层的基板的制造方法,其包括:在具有凹部或凸部区域的大致四边形的基板当中确定想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的工序;将所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边与具有层压辊的层压机的压接部所成的角度a控制为1°~89°的工序;将所述基板的四个边当中最先完成所述层压机的压接部的通过的边与所述层压机的压接部所成的角度b控制为1°~89°的工序;以及使具有设于临时支撑体上的光固化性树脂层的感光性膜的与该临时支撑体相反一侧的表面、与所述基板的想要抑制层压时的缺陷的产生的凹部或凸部区域侧的表面相对置,在维持所述角a及角b的同时使之通过所述层压机而将两者压接的工序,根据本发明,可以利用简便的工序高品质地制造能够实现薄层/轻型化的静电电容型输入装置。
Description
技术领域
本发明涉及形成有光固化性树脂层的基板及其形成方法、使用所述形成有光固化性树脂层的基板制造的静电电容型输入装置及作为构成要素具备该静电电容型输入装置的图像显示装置。
背景技术
在便携电话、导航仪、个人电脑、售票机、银行的终端等电子机器中,近年来,在液晶装置等的表面配置输入板(tablet)型的输入装置,通过在参照显示于液晶装置的图像显示区域中的指示图像的同时,使手指或触控笔等触碰显示有该指示图像的部位,来进行与指示图像对应的信息的输入。
在此种输入装置(触摸屏)中,有电阻膜型、静电电容型等。但是,电阻膜型的输入装置是利用膜与玻璃的2片结构将膜按下而使之短路的结构,因此具有动作温度范围窄、对经时变化不耐受的缺点。
与之不同,静电电容型的输入装置具有只要在仅仅一片的基板上形成透光性导电膜即可的优点。该静电电容型的输入装置中,例如有如下的类型,即,使电极图案沿彼此交叉的方向延伸,在手指等接触时,通过感测电极间的静电电容变化而检出输入位置(例如参照下述专利文献1)。
另外,作为静电电容型的输入装置,还有如下的类型,即,对透光性导电膜的两端施加同相、同电位的交流电流,通过感测手指接触或靠近而形成电容器时流过的微弱电流来检出输入位置。作为此种静电电容型输入装置,公开了如下的静电电容型输入装置,即,具备多个第一透明电极图案,它们是将多个垫片(pad)部分经由连接部分沿第一方向延伸而形成;以及多个第二透明电极图案,它们夹隔着层间绝缘层与所述第一透明电极图案电绝缘,由沿与第一方向交叉的方向延伸形成的多个垫片部分构成(例如参照下述专利文献2)。但是,由于该静电电容型输入装置在所制作的静电电容型输入装置上层叠前面板,因此会有静电电容型输入装置变厚、变重的问题。
此外,公开了在前面板的非接触侧表面一体化地形成掩模层、感应电路、层间绝缘层的静电电容型触摸屏(例如参照下述专利文献3)。在该专利文献3中,有静电电容型触摸屏因将前面板与静电电容型输入装置一体化而可以实现薄层/轻型化的记载,然而对于详细的制造方法没有记载。
另一方面,公开了如下的方法,即,作为第一及第二透明电极的材质使用ITO(氧化铟锡),在进行利用真空蒸镀、液体抗蚀剂的图案化形成(曝光/显影)后,对没有被液体抗蚀剂覆盖的部分进行蚀刻处理,形成所需的透明电极图案(例如参照专利文献4)。但是,若利用该方法,则会有制造装置价格高、不容易降低成本的问题。
另外,作为将包含单一或多个基板及排列在这些基板上而形成的电极图案的触摸屏主体与设于触摸屏主体的外侧(靠近接触面的一侧)的保护板(玻璃或亚克力板)粘接的方法,公开了如下的方法,即,使用压敏粘接性片材,防止在触摸屏主体与保护板之间产生空气层,从而防止由空气层界面的反射造成的亮度·对比度降低的方法(例如参照专利文献5);在减压下涂布固化性树脂而贴合的方法(例如参照专利文献6)。但是,由于压敏粘接片材价格高,因此附加的材料成本大,另外由于压敏粘接片材厚,因此还有难以实现薄层化、或粘接层厚度的均匀化的问题。
此外,还公开了如下的透明电极图案的制造方法,即,利用丝网印刷、胶版印刷、喷墨印刷将作为第一及第二透明电极的材质的(金属)纳米粒子分散液加以图案化,其后进行烧成(例如参照专利文献7)。根据该制造方法,透明电极图案的制造简便,容易削减成本,另外可以在保护板中直接设置电导元件组(电极图案)或绝缘层,因此可以实现薄层/轻型化(例如参照专利文献7)。但是,即使利用该方法,也有电极图案的膜化或图案的直线性不充分的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2007-122326号公报
专利文献2:日本专利第4506785号公报
专利文献3:日本特开2009-193587号
专利文献4:美国专利申请公开第2008-0264699号公报
专利文献5:日本特开2008-083491号公报
专利文献6:日本特开2004-325788号公报
专利文献7:日本特开2010-146283号公报
发明内容
发明所要解决的问题
另一方面,开发并发表了如下产品,即,在液晶或有机EL显示器上具备静电电容型触摸屏的智能手机或输入板PC中在前面板(直接用手指接触的面)中使用了以Corning公司的Gorilla玻璃为代表的强化玻璃的产品。另外,在所述前面板的一部分中形成用于设置压敏(并非借助静电电容变化、而是借助按压的机械性机构)开关的开口部的产品已经上市。由于这些强化玻璃强度高、加工困难,因此要形成所述开口部,一般来说要在强化处理前形成开口部,之后进行强化处理。
当想要在该具有开口部的强化处理后的基板上使用蚀刻用的液体抗蚀剂形成透明电极图案时,就会产生抗蚀剂成分从开口部中的泄漏、或抗蚀剂成分从需要将遮光图案形成至前面板的边界最大限度为止的掩模层中的玻璃端的溢出,从而会有污染基板背侧的问题。另外,在临时支撑体上形成了光固化性树脂层的使用干膜抗蚀剂形成掩模层或透明电极图案的方法中,存在有在所述的开口部周边产生皱纹状的缺陷、或在遮光性的掩模层的厚度差的部分残留气泡的问题。
本发明的目的在于,提供可以利用简便的工序高品质地制造能够实现薄层/轻型化的静电电容型输入装置的形成有光固化性树脂层的基板及其形成方法、使用所述形成有光固化性树脂层的基板制造的静电电容型输入装置及使用了该静电电容型输入装置的图像显示装置。
用于解决问题的方法
[1]一种形成有光固化性树脂层的基板的形成方法,其特征在于,
包括:
在具有至少1个凹部或凸部区域的大致四边形的基板当中确定想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的工序;
将所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边(其中,在不存在最长边的情况下则表示最长轴。另外,在具有多个最长边的情况下则表示其中的一个边)与具有层压辊的层压机的压接部所成的角度a控制为1°~89°的工序;
将所述基板的四个边当中最先完成所述层压机的压接部的通过的边(其中,在所述基板的两个边同时最先完成通过的情况下则表示其中的一个边)与所述层压机的压接部所成的角度b控制为1°~89°的工序;以及
使具有设于临时支撑体上的光固化性树脂层的感光性膜的与该临时支撑体相反一侧的表面、与所述基板的想要抑制层压时的缺陷的产生的凹部或凸部区域侧的表面相对置,在维持所述角a及角b的同时使它们通过所述层压机而将两者压接的工序。
[2][1]中记载的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法优选所述基板的想要抑制所述层压缺陷的产生的凹部或凸部区域是突起、槽及开口部当中的至少1种。
[3][1]或[2]中记载的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法优选将所述角a控制为5°~85°。
[4][1]~[3]中任一项记载的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法优选将所述角b控制为5°~85°。
[5][1]~[4]中任一项记载的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法优选在所述临时支撑体与光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。
[6]一种形成有光固化性树脂层的基板,其特征在于,使用[1]~[5]中任一项记载的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法形成。
[7]一种形成有光固化性树脂层的基板,其特征在于,对于至少1个凹部或凸部区域,在进行光固化时,在来自相对于基板面垂直方向的所述凹部或凸部区域的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为3个/cm2以下。
[8]一种静电电容型输入装置,其特征在于,使用[6]或[7]中记载的形成有光固化性树脂层的基板制造。
[9]一种图像显示装置,其特征在于,具备[8]中记载的静电电容型输入装置。
发明效果
根据本发明,可以提供能够利用简便的工序高品质地制造能够实现薄层/轻型化的静电电容型输入装置的形成有光固化性树脂层的基板及其形成方法、使用所述形成有光固化性树脂层的基板制造的静电电容型输入装置及使用了该静电电容型输入装置的图像显示装置。
附图说明
图1是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的剖面图。
图2是表示本发明的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。
图3是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的俯视图。
图4是表示形成有掩模层的前面板的一例的俯视图。
图5是表示形成有掩模层及第一透明电极图案的前面板的一例的俯视图。
图6是表示形成有掩模层及第一、第二透明电极图案的前面板的一例的俯视图。
图7是表示形成有掩模层、第一、第二透明电极图案、以及其他的导电性要素的前面板的一例的俯视图。
图8是表示感光性膜的构成的一例的剖面简图。
图9是分别表示层压机的压接部与想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边所成的角度a以及与基板的最先完成所述层压机的压接部的通过的边所成的角度b的说明图。
图10是表示在本发明中将基板与感光性膜层压的方式的一例的简图。
具体实施方式
以下,对本发明的形成有光固化性树脂层的基板及其形成方法、静电电容型输入装置及图像显示装置进行说明。以下记载的构成要件的说明有基于本发明的代表性实施方式进行的情况,然而本发明并不限定于此种实施方式。而且,本申请说明书中所谓“~”是以将记载于其前后的数值作为下限值及上限值包含的意味使用的。
[形成有光固化性树脂层的基板的形成方法]
本发明的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法(以下有时简称为“本发明的形成方法”。),其特征在于,
包括:
在具有至少1个凹部或凸部区域的大致四边形的基板当中确定想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的工序;
将所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边(其中,在不存在最长边的情况下则表示最长轴。另外,在具有多个最长边的情况下则表示其中的一个边)与具有层压辊的层压机的压接部所成的角a控制为1°~89°的工序;
将所述基板的四个边当中最先完成所述层压机的压接部的通过的边(其中,在所述基板的两个边同时最先完成通过的情况下则表示其中的一个边)与所述层压机的压接部所成的角b控制为1°~89°的工序;以及
使具有设于临时支撑体上的光固化性树脂层的感光性膜的与该临时支撑体相反一侧的表面、与所述基板的想要抑制层压时的缺陷的产生的凹部或凸部区域侧的表面相对置,在维持所述角a及角b的同时使所述层压机通过而将两者压接的工序。
像这样,通过在使用具有设于临时支撑体上的光固化性树脂层的感光性膜利用辊层压机压接时,将基板相对于层压辊的压接部倾斜地压接而形成,就可以在想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的附近抑制皱纹状的缺陷或气泡的产生,还可以抑制针孔的产生。
《本发明的感光性膜》
对本发明的形成方法中所用的本发明的感光性膜进行说明。本发明的感光性膜至少具有临时支撑体和光固化性树脂层。
根据需要,也可以在临时支撑体与光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层,此外,可以在光固化性树脂层与热塑性树脂层之间设置中间层、或在光固化性树脂层的表面设置保护膜等而合适地构成。
本发明中所用的感光性膜既可以是负型材料也可以是正型材料。
<临时支撑体>
作为临时支撑体,可以使用具有挠曲性、且在加压下或在加压及加热下不产生明显的变形、收缩或伸长的材料。作为此种支撑体的例子,可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等,其中特别优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
对于临时支撑体的厚度,没有特别限制,一般为5~200μm的范围,从处置容易度、通用性等方面考虑,特别优选10~150μm的范围。
另外,临时支撑体也可以是透明的,还可以含有染料化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。
另外,对于本发明的临时支撑体,可以利用日本特开2005-221726记载的方法等赋予导电性。
<光固化性树脂层>
本发明的感光性膜可以根据其用途向光固化性树脂层中加入添加物。即,在掩模层的形成中使用所述感光性膜的情况下,使光固化性树脂层中含有着色剂。另外,在本发明的感光性膜具有导电性光固化性树脂层的情况下,可以在所述光固化性树脂层中含有导电性纤维等。
在本发明的感光性膜为负型材料的情况下,优选在光固化性树脂层中含有碱可溶性树脂、聚合性化合物、聚合引发剂或聚合引发体系。
作为本发明中所用的感光性膜中所含的碱可溶性树脂,可以使用日本特开2011-95716号公报的[0025]段、日本特开2010-237589号公报的[0033]~[0052]段中记载的聚合物。
作为所述聚合性化合物,可以使用日本专利第4098550号的[0023]~[0024]段中记载的聚合性化合物。
作为所述聚合引发剂或聚合引发体系,可以使用日本特开2011-95716号公报中记载的[0031]~[0042]中记载的聚合性化合物。
(掩模层(着色剂))
另外,在将本发明中所用的感光性膜作为掩模层使用的情况下,可以在光固化性树脂层中使用着色剂。作为本发明中所用的着色剂,可以合适地使用公知的着色剂(有机颜料、无机颜料、染料等)。而且,本发明中,除了黑色着色剂以外,还可以使用红色、蓝色、绿色等颜料的混合物等。
在将所述光固化性树脂层作为黑色的掩模层使用的情况下,从光学浓度的观点考虑,优选含有黑色着色剂。作为黑色着色剂,例如可以举出炭黑、钛黑、氧化铁、石墨等,其中优选炭黑。
在将所述光固化性树脂层作为白色的掩模层使用的情况下,可以使用日本特开2005-7765公报的[0015]或[0114]段中记载的白色颜料,其中,优选二氧化钛。为了作为其他的颜色的掩模层使用,也可以混合使用日本专利第4546276号公报的[0183]~[0185]等段中记载的颜料、或染料。具体来说,可以合适地使用日本特开2005-17716号公报的段落编号[0038]~[0054]中记载的颜料及染料、日本特开2004-361447号公报的段落编号[0068]~[0072]中记载的颜料、日本特开2005-17521号公报的段落编号[0080]~[0088]中记载的着色剂等。
所述着色剂(优选为颜料、更优选为炭黑、二氧化钛)最好作为分散液使用。该分散液可以通过将预先混合所述着色剂与颜料分散剂而得的组合物添加到后述的有机溶剂(或载色剂)中并分散来制备。所述所谓载色剂是指涂料处于液体状态时使颜料分散的介质的部分,包含作为液状且与所述颜料结合而形成涂膜的成分(粘合剂)、和将其溶解稀释的成分(有机溶剂)。
作为分散所述颜料时使用的分散机,没有特别限制,例如可以举出朝仓邦造著、《颜料的百科辞典》、第一版、朝仓书店、2000年、438项中记载的捏合机、辊磨机、磨碎机(attritor)、高速研磨机(supermill)、溶解器、均质搅拌机、砂磨机等公知的分散机。此外也可以借助该文献310页记载的机械的磨碎利用摩擦力进行微粉碎。
本发明中所用的着色剂从分散稳定性的观点考虑优选数均粒径为0.001μm~0.1μm的着色剂,更优选0.01μm~0.08μm的着色剂。而且,这里所说的所谓“粒径”是指将粒子的电子显微镜照片图像设为相同面积的圆时的直径,另外所谓“数均粒径”是针对多个粒子求出所述的粒径,是指这100个的平均值。
对于含有着色剂的光固化性树脂层的层厚,从与其他层的厚度差的观点考虑,优选为0.5~100μm,更优选为0.8~50μm,特别优选为1~10μm。作为本发明的着色感光性树脂组合物的固体成分中的着色剂的含有率,没有特别限制,然而从充分地缩短显影时间的观点考虑,优选为15~70质量%,更优选为20~60质量%,进一步优选为25~50质量%。
本说明书中所说的所谓全部固体成分是指从着色感光性树脂组合物中除去溶剂等后的不挥发成分的总质量。
(导电性光固化性树脂层(导电性纤维))
另外,在将本发明中所用的感光性膜用于透明电极图案等的形成的情况下,可以将以下的导电性纤维等用于光固化性树脂层中。
作为导电性纤维的结构,没有特别限制,可以根据目的适当地选择,然而优选为实心结构及空心结构的任意一种。
这里,有时将实心结构的纤维称作“线”,有时将空心结构的纤维称作“管”。另外,有时将平均短轴长度为5nm~1,000nm、平均长轴长度为1μm~100μm的导电性纤维称作“纳米线”。
另外,有时将平均短轴长度为1nm~1,000nm、平均长轴长度为0.1μm~1,000μm、具有空心结构的导电性纤维称作“纳米管”。
作为所述导电性纤维的材料,只要具有导电性,就没有特别限制,可以根据目的适当地选择,然而优选金属及碳的至少任意一种,在它们当中,所述导电性纤维特别优选金属纳米线、金属纳米管、以及碳纳米管的至少任意一种。
对于含有导电性纤维的光固化性树脂层的层厚,从涂布液的稳定性、涂布时的干燥、图案化时的显影时间等工艺适应性的观点考虑,优选为0.1~20μm,更优选为0.5~18μm,特别优选为1~15μm。对于所述导电性纤维相对于包括所述导电性纤维的光固化性树脂层的全部固体成分的含量,从导电性和涂布液的稳定性的观点考虑,优选为0.01~50质量%,更优选为0.05~30质量%,特别优选为0.1~20质量%。而且,在使用所述感光性膜形成绝缘层的情况下,从维持绝缘性的观点考虑,光固化性树脂层的层厚优选为0.1~5μm,更优选为0.3~3μm,特别优选为0.5~2μm。
(透明保护层)
在使用所述感光性膜形成透明保护层的情况下,从发挥足够的表面保护能力的观点考虑,光固化性树脂层的层厚优选为0.5~10μm,更优选为0.8~5μm,特别优选为1~3μm。
(光固化性树脂层中的添加剂)
此外,所述光固化性树脂层也可以使用添加剂。作为所述添加剂,例如可以举出日本专利第4502784号公报的[0017]段、日本特开2009-237362号公报的[0060]~[0071]段中记载的表面活性剂、日本专利第4502784号公报的[0018]段中记载的热阻聚剂、以及日本特开2000-310706号公报的[0058]~[0071]段中记载的其他添加剂。
另外,作为利用涂布制造本发明的感光性膜时的溶剂,可以使用日本特开2011-95716号公报的[0043]~[0044]段中记载的溶剂。
虽然以上以本发明的感光性膜为负型材料的情况为中心进行了说明,然而所述感光性膜也可以是正型材料。在所述感光性膜为正型材料的情况下,在光固化性树脂层中例如可以使用日本特开2005-221726记载的材料等,然而并不限定于此。
<热塑性树脂层>
可以设于本发明的感光性膜的临时支撑体与着色感光性树脂层之间的热塑性树脂层优选为碱可溶性。热塑性树脂层是为了可以吸收基底表面的凹凸(也包括由已经形成的图像等造成的凹凸等。)而担负作为缓冲材料的作用的材料,优选具有可以与对象面的凹凸对应地变形的性质。
热塑性树脂层优选为作为成分含有日本特开平5-72724号公报中记载的有机高分子物质的形态,特别优选为含有选自基于维卡(Vicat)法〔具体来说,是基于美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测定法〕得到的软化点约为80℃以下的有机高分子物质中的至少1种的形态。
具体来说,可以举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的乙烯共聚物、乙烯与丙烯酸酯或其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的氯乙烯共聚物、聚偏氯乙烯、偏氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯与(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等的乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯与乙酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二甲基氨基化尼龙等聚酰胺树脂等有机高分子。
热塑性树脂层的层厚优选为3~30μm。在热塑性树脂层的层厚小于3μm的情况下,层压时的追随性不充分,从而会有无法完全地吸收基底表面的凹凸的情况。另外,在层厚大于30μm的情况下,在向临时支撑体上形成热塑性树脂层时的干燥(除去溶剂)中会增加负荷、或在热塑性树脂层的显影中需要时间,从而有使得工艺适应性恶化的情况。作为所述热塑性树脂层的层厚,更优选为4~25μm,特别优选为5~20μm。
热塑性树脂层可以通过涂布含有热塑性的有机高分子的调制液等方式来形成,涂布等时所用的调制液可以使用溶剂来调制。对于溶剂,只要是可以溶解构成该层的高分子成分的溶剂就没有特别限制,例如可以举出甲乙酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇、2-丙醇等。
<其他层>
在本发明中所用的感光性膜中,出于防止涂布多个层时及涂布后的保存时的成分的混合的目的,优选设置中间层。作为中间层,优选日本特开平5-72724号公报中作为“分离层”记载的具有氧阻断功能的氧阻断膜,曝光时的灵敏度提升,可以减少曝光机的时间负荷,提高生产性。
作为所述中间层及保护膜,可以适当地使用日本特开2006-259138号公报的[0083]~[0087]及[0093]段中记载的材料。
<感光性膜的制作方法>
本发明的感光性膜可以依照日本特开2006-259138号公报的[0094]~[0098]段中记载的感光性转印材料的制作方法来制作。
具体来说,在形成具有热塑性树脂层以及中间层的本发明的感光性膜的情况下,可以通过如下操作来合适地制作,即,在临时支撑体上涂布与热塑性的有机高分子一起还溶解有添加剂的溶解液(热塑性树脂层用涂布液)并干燥而设置热塑性树脂层后,在该热塑性树脂层上涂布向不溶解热塑性树脂层的溶剂中加入树脂或添加剂而调制的调制液(中间层用涂布液)并干燥而层叠中间层,在该中间层上再涂布使用不溶解中间层的溶剂调制的着色感光性树脂层用涂布液并干燥而层叠着色感光性树脂层。
《本发明的静电电容型输入装置的制造方法》
如上所述,本发明的静电电容型输入装置使用在临时支撑体上具有光固化性树脂层的感光性膜形成。
在使用所述感光性膜形成所述掩模层、绝缘层及透明保护层、或使用导电性光固化性树脂层时的第一透明电极图案、第二透明电极图案及导电性要素等永久材料的情况下,在将感光性膜层压在基板上后,曝光成必需的图案样式,通过在负型材料的情况下,将非曝光部分显影处理而除去,在正型材料的情况下,将曝光部分显影处理而除去,就可以得到图案。此时,显影可以是将热塑性树脂层和光固化性层利用不同的显影液显影除去,也可以利用相同的显影液除去。根据需要,也可以组合刷子或高压喷射等公知的显影设备。在显影后,根据需要,也可以进行后曝光、后烘烤。
另外,为了提高后面的转印工序中的借助层压的感光性树脂层的密合性,可以预先对基板(前面板)的非接触面实施表面处理。作为所述表面处理,优选实施使用了硅烷化合物的表面处理(硅烷偶联处理)。作为硅烷偶联剂,优选具有与感光性树脂相互作用的官能团的材料。例如利用喷淋器喷送20秒的硅烷偶联液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量%水溶液、商品名:KBM603、信越化学(株)制),进行纯水喷淋清洗。之后,利用加热使之反应。也可以使用加热槽,还可以利用层压机的基板预加热来促进反应。
另外,也可以将本发明的感光性膜作为剥离材料使用,形成第一透明电极层、第二透明电极层及其他的导电性构件。该情况下,在使用本发明的感光性膜进行图案化后,在基板整面形成透明导电层,其后通过连同所堆积的透明导电层一起进行本发明的光固化性树脂层的溶解除去,就可以得到所需的透明导电层图案(剥离法)。
(使用本发明的感光性膜形成永久材料的情况)
对于使用本发明的感光性膜形成永久材料的情况,以形成掩模层(黑色)的方法为例,对使用本发明的感光性膜的图案化方法进行说明。
形成所述掩模层的方法可以举出如下的方法,即,具有:从本发明的感光性膜中除去所述覆盖膜的覆盖膜除去工序、将除去了所述覆盖膜的所述感光性转印材料的所述感光性树脂层转印到基板上的转印工序、将转印到基板上的所述感光性树脂层曝光的曝光工序、将曝光了的感光性树脂层显影而得到图案图像的显影工序。
-转印工序-
所述转印工序是将除去了所述覆盖膜的所述感光性膜的所述光固化性树脂层转印到基板上的工序。
光固化性树脂层向基板表面的转印(贴合)是通过将光固化性树脂层叠加在基板表面并加压、加热而进行。在贴合中,只要可以实施后述的层压方法,则可以使用任意的层压机,可以使用层压机、真空层压机、以及可以进一步提高生产性的自动开料层压机等公知的层压机。另外,层压机只要具有至少1个层压辊即可,可以用层压辊和任意的夹压面夹住而加压。其中,优选所述任意的夹压面也为层压辊那样的所谓轧辊型的层压机。
本发明中,作为所述层压辊,从抑制气泡等缺陷的产生的观点考虑,也可以优选使用在辊宽度方向上中央部分的直径大于端部的直径的中凸辊。
另外,本发明中,作为所述层压辊优选使用橡胶辊,例如优选肖氏A硬度为50HS以上的,更优选60HS以上的,特别优选70HS以上的。
·层压方法:
本发明的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法中,使用具有如下特征的层压方法,即,包括:在具有至少1个凹部或凸部区域的大致四边形的基板当中确定想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的工序;将所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长轴(其中,在具有多个最长边的情况下则为其中的一个边)与具有层压辊的层压机的压接部所成的角度a控制为1°~89°的工序;将所述基板的最先完成通过所述压接部的边(其中,在所述基板的两个边同时最先完成通过的情况下则为其中的一个边)与所述层压机的压接部所成的角度b控制为1°~89°的工序;以及使具有设于临时支撑体上的光固化性树脂层的感光性膜的与该临时支撑体相反一侧的表面、与所述基板的想要抑制层压时的缺陷的产生的凹部或凸部区域侧的表面相对置,在维持所述角a及角b的同时使所述层压机通过而将两者压接的工序。
本发明的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法中首先在具有至少1个凹部或凸部区域的大致四边形的基板当中确定想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域。在想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域在基板中具有多个凹部或凸部区域的情况下,可以任意地选择1个。另外,也可以对于具有多个凹部或凸部区域的基板,将面积最大的凹部或凸部区域作为想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域来确定。
所述凹部或凸部区域既可以仅由凹部构成,也可以仅由凸部构成,还可以是同时具有凹部和凸部的凹凸区域。
本发明的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法中,优选所述基板的所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域为突起、和/或槽、和/或开口部。
基板只要是具有至少1个凹部或凸部区域的大致四边形就没有特别限制,在本说明书中,所谓大致四边形,是指具有至少4个边。即,基板既可以将角部修饰为弧状,也可以具有角,还可以设置比所述4个边短的直线。
所述凹部或凸部区域从基板表面算起的高度没有特别限制,只要是因层压而有缺陷的产生的程度的高度就可以应用本发明的形成方法。虽然根据应用本发明的形成方法的用途而定,然而例如所述凹部或凸部区域的从基板表面算起的高度优选为10nm~10mm,更优选为20nm~10mm。
在所述凹部或凸部区域是处于基板中的突起、槽、开口部的情况下,这些突起、槽、开口部有属于使用光刻胶材料等预先在基板上图案化而成的先行像素(preceding pixels)的情况、属于利用物理研磨或化学蚀刻等形成的情况。
对于所述突起的高度及槽的深度,在属于使用光刻胶材料等预先在基板上图案化而成的先行像素的情况下,有时为数十nm到数十μm。另外,有时先行像素的宽度为十μm左右~数cm,有时还设置数十μm左右的锥形,都可以应用本发明的形成方法。
另外,所述开口部的厚度与基板的厚度同等,有时为数百μm到数mm,而在此种情况下也可以应用本发明的形成方法。
另外,本发明的形成方法中,将所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边(其中,在不存在最长边的情况下则表示最长轴。另外,在具有多个最长边的情况下则表示其中的一个边)与具有层压辊的层压机的压接部所成的角a控制为1°~89°。所述角a的范围为1°~89°,优选为2°~88°,更优选为3°~87°,特别优选为5°~85°,更特别优选为10°~80°。而且,虽然也要兼顾后述的角a与角b的差,然而在本发明的形成方法中,在特别重视通过提高层压速度(效率)来抑制缺陷的产生的情况下,也优选将角a控制为75°~85°。
在所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边不存在的情况下,如上所述以所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长轴为基准。这里,所谓“凹部或凸部区域的最长边不存在”,是指例如为圆形、楕圆形、或由其他曲线构成的形状,此种形状下的所谓凹部或凸部区域的最长轴,是指连结该凹部或凸部区域的任意的2处的端部的线段达到最长的线段。另外,本发明中,在“凹部或凸部区域的最长边不存在”的情况下,也可以包括任意的凹部或凸部区域的最长边的长度为该凹部或凸部区域的最长轴的长度的50%以下的情况。
作为角a的控制方法或用于在维持角b的同时使层压机通过的方法没有特别限制,可以通过将基板预先设定为所需的角度而在搬送辊上搬送、或将所述具有层压辊的层压机设为轧辊而搬送来实现。
本发明的形成方法中,将具有层压辊的层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成所述层压机的压接部的通过的边(其中,在所述基板的两个边同时最先完成通过的情况下则表示其中的一个边)所成的角b控制为1°~89°,在维持该角b的同时保持角度地将基板与感光性膜压接。所述角b的范围为1°~89°,优选为1°~45°,更优选为2°~30°,特别优选为3°~20度。另外,根据用途也优选控制为10°~80°。从提高层压速度(效率)的观点考虑,所述基板的四个边当中最先完成所述层压机的压接部的通过的边优选为基板的最短边。
作为角b的控制方法或用于在维持角b的同时通过层压机的方法没有特别限制,可以通过将基板预先设定为所需的角度而在搬送辊上搬送、或将所述具有层压辊的层压机设为轧辊而搬送来实现。
角a与角b的关系没有特别限制。例如在所述基板的四个边当中最先完成所述层压机的压接部的通过的边与所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边平行的情况下,从提高层压速度(效率)的观点考虑,角a与角b的差优选为±45°以内,更优选为±10°以内,进一步优选为±3°以内,特别优选为±1°以内,尤其优选为±0.5°。
另外,在反复2次以上地进行本发明的形成方法的情况下,在将第二层的光感光性膜层压在层压有第一层的光感光性膜的基板(也包括从层压有第一层的光感光性膜的基板中除去了临时支撑体、或光固化、或任意地蚀刻的基板)上时,会有使得层压有第一层的光感光性膜的基板的凹部或凸部区域的凹凸被放大的情况。该情况下,也可以应用本发明的形成方法。另外,在将第二层的光感光性膜层压在层压有第一层的光感光性膜的基板上时,第一层的角a与第二层的角a优选为±10°以内,更优选为±3°以内,特别优选为±1°以内,尤其优选为±0.5°。另外,第一层的角b与第二层的角b优选为±10°以内,更优选为±3°以内,特别优选为±1°以内,尤其优选为±0.5°。
然后,本发明的形成方法中使具有设于临时支撑体上的光固化性树脂层的感光性膜的与该临时支撑体相反一侧的表面与所述基板的想要抑制层压时的缺陷的产生的凹部或凸部区域侧的表面相对置,在维持所述角a及角b的同时,通过所述层压机而将两者压接。
所述层压方法中的搬送速度只要不违反本发明的主旨就没有特别限制,然而例如优选为0.3~10m/分钟,更优选为0.5~5m/分钟,在基板为小型基板时,优选为0.3~3m/分钟,特别优选为0.4~2.5m/分钟。从所述感光性膜难以弯曲、可以抑制层压后的皱纹的产生的观点考虑,搬送速度优选为0.3m/分钟以上。另一方面,从抑制层压后的气泡的产生的观点考虑,搬送速度优选为10m/分钟以下。
所述层压方法中的线压力优选为60~200N/cm,更优选为70~160N/cm,特别优选为80~120N/cm。
所述层压方法中的层压辊的温度优选为90~150℃,更优选为95~145℃,特别优选为100~140℃。另外,在通过层压机的压接部之前的基板温度优选为80~150℃,更优选为90~145℃,特别优选为100~140℃。
将以上的本发明的形成方法的层压方法的优选的方式表示于图10中。
图10中,使用图8中所示的构成的包含临时支撑体18、热塑性树脂层14、光固化性树脂层16的感光性膜20,从任意地配置的辊中,朝向具有层压辊42的层压机41卷出。另外,将具有想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域22的基板21朝向层压机的压接部43设置。此时,如图9所示,将想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边与层压机的压接部所成的角a、和基板的四个边当中最先完成压接部的通过的边与层压机的压接部所成的角b控制为特定的范围。另外,将基板的想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域22与所述感光性膜20的光固化性树脂层16侧相对置地配置,以使彼此由层压机的压接部43压接的方式配置。可以将基板21在用可以任意地配置的搬送辊44搬送的同时通过层压机。
另外,既可以相对于基板21并列地设置2个以上的所述感光性膜20,也可以相对于感光性膜20并列地设置2个以上的基板21。
-曝光工序、显影工序、以及其他工序-
作为所述曝光工序、显影工序、以及其他工序的例子,在本发明中可以合适地使用日本特开2006-23696号公报的段落编号[0035]~[0051]中记载的方法。
所述曝光工序是将转印到基板上的所述光固化性树脂层曝光的工序。
具体来说,可以举出如下的方法,即,在形成于所述基板上的光固化性树脂层的上方配置规定的掩模,其后夹隔着该掩模、热塑性树脂层、以及中间层从掩模上方进行曝光。
这里,作为所述曝光的光源,只要是可以照射能够将光固化性树脂层固化的波长区域的光(例如365nm、405nm等)的光源,就可以适当地选择使用。具体来说,可以举出超高压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯等。作为曝光量,通常为5~200mJ/cm2左右,优选为10~100mJ/cm2左右。
所述显影工序是将曝光了的光固化性树脂层显影的工序。
所述显影可以使用显影液进行。作为所述显影液,没有特别限制,可以使用日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知的显影液。而且,显影液优选使光固化性树脂层显示出溶解型的显影行为的显影液,例如优选以0.05~5mol/L的浓度含有pKa=7~13的化合物的显影液,此外也可以少量添加与水具有混合性的有机溶剂。作为与水具有混合性有机溶剂,可以举出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苄醇、丙酮、甲乙酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。该有机溶剂的浓度优选为0.1质量%~30质量%。另外,在所述显影液中,可以还添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选为0.01质量%~10质量%。
作为所述显影的方式,可以是桨式(paddle)显影、喷淋显影、喷淋&旋涂显影、浸渍显影等的任意一种。这里,如果对所述喷淋显影进行说明,则通过利用喷淋器对曝光后的光固化性树脂层吹送显影液,就可以将未固化部分除去。而且,在设置热塑性树脂层或中间层的情况下,优选在显影前利用喷淋器等吹送光固化性树脂层的溶解性低的碱性的液体,先将热塑性树脂层、中间层等除去。另外,优选在显影后,利用喷淋器吹送清洗剂等,在用毛刷等擦拭的同时,除去显影残渣。显影液的液温优选为20℃~40℃,另外,显影液的pH优选为8~13。
本发明的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法也可以具有后曝光工序、后烘烤工序等其他工序。
而且,图案化曝光既可以在剥离临时支撑体后进行,也可以在剥离临时支撑体之前曝光,其后将临时支撑体剥离。既可以是夹隔着掩模的曝光,也可以是使用激光器等的数字曝光。
(作为抗蚀层使用本发明的感光性膜的情况下)
在将本发明的感光性膜作为抗蚀层(蚀刻图案)使用的情况下,也可以与所述方法相同地获得抗蚀剂图案。所述蚀刻可以利用日本特开2010-152155公报的[0048]~[0054]等段中记载的公知的方法来应用蚀刻、抗蚀剂剥离。
例如,作为蚀刻的方法,可以举出普遍采用的浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。湿式蚀刻中所用的蚀刻液只要与蚀刻的对象匹配地适当地选择酸性类型或碱性类型的蚀刻液即可。作为酸性类型的蚀刻液,可以例示出盐酸、硫酸、氢氟酸、磷酸等单独酸性成分的水溶液、酸性成分与氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等盐的混合水溶液等。酸性成分也可以使用组合了多个酸性成分的物质。另外,作为碱性类型的蚀刻液,可以例示出氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、四甲基氢氧化铵之类的有机胺的盐等单独碱成分的水溶液、碱成分与高锰酸钾等盐的混合水溶液等。碱成分也可以使用组合了多个碱成分的物质。
蚀刻液的温度没有特别限定,然而优选为45℃以下。本发明中作为蚀刻掩模(蚀刻图案)使用的树脂图案通过使用上述的光固化性树脂层来形成,对于此种温度范围的酸性及碱性的蚀刻液可以发挥特别优异的耐受性。所以,可以防止在蚀刻工序中树脂图案剥离,选择性地蚀刻不存在树脂图案的部分。
在所述蚀刻后,为了防止生产线污染,也可以进行清洗工序·干燥工序。对于清洗工序,例如在常温下用纯水对基板进行10~300秒的清洗,对于干燥工序,只要使用鼓风机,适当地调整鼓风压力(0.1~5kg/cm2左右)即可。
然后,作为树脂图案的剥离方法,没有特别限定,然而例如可以举出在30~80℃、优选在50~80℃下将基板在搅拌中的剥离液中浸渍5~30分钟的方法。本发明中作为蚀刻掩模使用的树脂图案如上所述,在45℃以下显示出优异的耐药液性,然而当药液温度达到50℃以上时,就会显示出因碱性的剥离液而膨胀的性质。利用此种性质,当使用50~80℃的剥离液进行剥离工序时,就会缩短工序时间,因而具有树脂图案的剥离残渣变少的优点。即,通过在所述蚀刻工序与剥离工序之间在药液温度方面设置差别,本发明中作为蚀刻掩模使用的树脂图案就会在蚀刻工序中发挥良好的耐药液性,另一方面,在剥离工序中显示出良好的剥离性,因而对于耐药液性和剥离性这样相反的特性可以双方都满足。
作为剥离液,例如可以举出将氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分、或叔胺、季铵盐等有机碱成分溶解于水、二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮、或它们的混合溶液中的溶液。也可以使用所述的剥离液,利用喷雾法、喷淋法、桨式法等剥离。
[形成有光固化性树脂层的基板]
本发明的形成有光固化性树脂层的基板的特征在于,对于至少1个凹部或凸部区域,在进行光固化时,在相对于基板面来说垂直方向的所述凹部或凸部区域的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为3个/cm2以下。
此种本发明的形成有光固化性树脂层的基板可以利用本发明的形成方法来形成。
本发明的形成有光固化性树脂层的基板对于至少1个凹部或凸部区域,在进行光固化时,在相对于基板面来说垂直方向的所述凹部或凸部区域的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔优选为1个/cm2以下,更优选为0.5个/cm2以下。
而且,相似放大的中心点设为将所述基板的所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域从相对于基板面来说的垂直方向投影而得的图形的重心。
[静电电容型输入装置、以及作为构成要素具备静电电容型输入装置的图像显示装置]
利用本发明的形成方法得到的静电电容型输入装置、以及作为构成要素具备该静电电容型输入装置的图像显示装置可以应用《最新触摸屏技术》(2009年7月6日发行(株)Techno Times)、三谷雄二主编、“触摸屏的技术与开发”、CMC出版(2004,12)、FPD International2009Forum T-11讲演教材、Cypress Semiconductor Corporation应用手册AN2292等中公开的构成。
[实施例]
以下将举出实施例对本发明进行更具体的说明。以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等只要不脱离本发明的主旨,就可以适当地变更。所以,本发明的范围并不限定为以下所示的具体例。而且,只要没有特别指出,“%”及“份”就是质量基准。
[实施例1]
《掩模层的形成》
<掩模层形成用感光性膜K1的制备>
在厚75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜临时支撑体上,使用狭缝状喷嘴,涂布由下述配方H1构成的热塑性树脂层用涂布液并干燥。然后,涂布由下述配方P1构成的中间层用涂布液并干燥。此外,涂布由下述配方K1构成的黑色光固化性树脂层用涂布液并干燥。像这样在临时支撑体上设置干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层、和以使光学浓度为4.0的方式设置的干燥膜厚为2.8μm的黑色光固化性树脂层,最后压接保护膜(厚12μm聚丙烯膜)。这样就制作出使临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(氧阻断膜)和黑色光固化性树脂层变为一体的转印材料,将样品名设为掩模层形成用感光性膜K1。
(热塑性树脂层用涂布液:配方H1)
·甲醇:11.1质量份
·丙二醇单甲醚乙酸酯:6.36质量份
·甲乙酮:52.4质量份
·甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚组成比(摩尔比)=55/11.7/4.5/28.8、分子量=10万、Tg≈70℃):5.83质量份
·苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚组成比(摩尔比)=63/37、重均分子量=1万、Tg≈100℃):13.6质量份
·单体1(商品名:BPE-500、新中村化学工业(株)制):9.1质量份
·氟系聚合物:0.54质量份
上述的氟系聚合物是C6F13CH2CH2OCOCH=CH2 40份与H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH=CH255份与H(OCHCH2)7OCOCH=CH25份的共聚物、且重均分子量3万、甲乙酮30质量%的溶液(商品名:MEGAFAC F780F、大日本油墨化学工业(株)制)。
而且,热塑性树脂层用涂布液H1的除去溶剂后的120℃的粘度为1500Pa·sec。
(中间层用涂布液:配方P1)
·聚乙烯醇:32.2质量份
(商品名:PVA205、(株)Kuraray制、皂化度=88%、聚合度550)
·聚乙烯基吡咯烷酮:14.9质量份
(商品名:K-30、ISP Japan(株)制)
·蒸馏水:524质量份
·甲醇:429质量份
(黑色光固化性树脂层用涂布液:配方K1)
·K颜料分散物1(下述的组成):28.7质量份
·R颜料分散物1(下述的组成):8.8质量份
·MMPGAc(Daicel化学(株)制):2.3质量份
·甲乙酮(东燃化学(株)制):33.1质量份
·环己酮(关东电化工业(株)制):83质量份
·粘合剂2(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=78/22摩尔比的无规共聚物、重均分子量3.8万):12.0质量份
·吩噻嗪(东京化成(株)制):0.01质量份
·DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯、日本化药(株)制)的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(76质量%):6.3质量份
·2,4-双(三氯甲基)-6-[4’-(N,N-双(乙氧基羰基甲基)氨基-3’-溴苯基]-均三嗪:0.5质量份
·表面活性剂(商品名:MEGAFAC F-780F、大日本油墨(株)制):0.07质量份
而且,黑色光固化性树脂层用涂布液K1的除去溶剂后的100℃的粘度为10000Pa·sec。
(K颜料分散物1的组成)
·炭黑(商品名:Nipex35、Degusa公司制):13.1质量%
·下述分散剂1:0.65质量%
·粘合剂1(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、重均分子量3.7万):6.72质量%
·丙二醇单甲醚乙酸酯:79.53质量%
[化1]
分散剂1
-R颜料分散物1的组成-
·颜料(C.I.颜料红177):18质量%
·粘合剂1(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、重均分子量3.7万):12质量%
·丙二醇单甲醚乙酸酯:70质量%
<掩模层的形成>
然后,在利用喷淋器向形成有开口部(4mm×200mm;图3中所示的想要抑制层压缺陷的产生的开口部22)的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm;图3中所示的基板21)吹送20秒调整为25℃的玻璃清洗剂液体的同时,用具有尼龙毛的旋转毛刷清洗,进行纯水喷淋清洗后,利用喷淋器吹送20秒的硅烷偶联液(N-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3质量%水溶液、商品名:KBM603、信越化学工业(株)制),进行纯水喷淋清洗。将该基板用基板预加热装置在140℃下加热2分钟。在所得的硅烷偶联处理玻璃基板上,从上述得到的掩模层形成用感光性膜K1中除去覆盖膜,以使除去后露出的黑色光固化性树脂层的表面与所述硅烷偶联处理玻璃基板的表面相接触的方式重合,使用层压机((株)日立INDUSTRIES制(LamicII型)),对于所述在140℃下加热的基板,在肖氏A硬度70HS的作为中凸辊的橡胶辊温度130℃、线压力100N/cm、搬送速度2.2m/分钟的条件下,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为15度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为15度,在维持这些角度的同时使之通过层压辊42,在基板上层压感光性膜(图9中给出影像图)。将所得的形成有光固化性树脂层的基板设为实施例1的形成有光固化性树脂层的基板。
接下来将聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体在与热塑性树脂层的界面处剥离,除去临时支撑体,利用目视及光学显微镜进行了观察。其结果是,在实施例1的形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。
从实施例1的形成有光固化性树脂层的基板中剥离临时支撑体后,用具有超高压汞灯的近接(proximity)型曝光机(日立高科技电子工程(Hitachi High-Tech Electronics)(株)制),在使基板与曝光掩模(具有镜框图案的石英曝光掩模)垂直地竖立的状态下,将曝光掩模面与该黑色光固化性树脂层之间的距离设定为200μm,以70mJ/cm2的曝光量(i射线)进行图案曝光。
然后,将三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量%、将商品名:T-PD2(富士胶片(株)制)用纯水稀释10倍所得的液体)在33℃下以60秒、0.1MPa的扁平喷嘴压力进行喷淋显影,除去热塑性树脂层和中间层。接下来,在向该玻璃基板的上面吹送空气而排液后,利用喷淋器吹送10秒的纯水,进行纯水喷淋清洗,吹送空气而减少基板上的液体滞留。
其后,使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(将商品名:T-CD1(富士胶片(株)制)用纯水稀释7倍所得的液体)在32℃下将喷淋压力设为0.1MPa,显影55秒,用纯水清洗。
接下来,使用含有表面活性剂的清洗液(将商品名:T-SD3(富士胶片(株)制)用纯水稀释10倍所得的液体)在33℃以20秒、0.1MPa的锥形喷嘴压力利用喷淋器吹送,再利用具有柔软的尼龙毛的旋转毛刷,擦拭所形成的图案像而进行残渣除去。继而,用超高压清洗喷嘴以9.8MPa的压力喷射超纯水而进行残渣除去。
然后在大气下从基板两面分别以1300mJ/cm2的曝光量进行后曝光,再进行240℃80分钟的后烘烤处理,得到形成有光学浓度4.0、膜厚2.5μm的掩模层的前面板。利用目视及光学显微镜观察所得的前面板,其结果是,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为0.2个/cm2。
[实施例2]
《第一透明电极图案的形成》
<透明电极层的形成>
将实施例1中形成了掩模层的前面板导入真空腔室内,使用SnO2含有率为10质量%的ITO靶(铟∶锡=95∶5(摩尔比)),利用DC磁控溅射(条件:基板的温度250℃、氩气压力0.13Pa、氧气压力0.01Pa),形成厚40nm的ITO膜,得到形成有透明电极层的前面板。ITO膜的表面电阻为80Ω/□。
<蚀刻用感光性膜E1的制备>
在所述掩模层形成用感光性膜K1的制备中,除了将黑色光固化性树脂层用涂布液替换为由下述配方E1构成的蚀刻用光固化性树脂层用涂布液以外,与掩模层形成用感光性膜K1的制备相同地得到蚀刻用感光性膜E1(蚀刻用光固化性树脂层的膜厚为2.0μm)。
(蚀刻用光固化性树脂层用涂布液:配方E1)
·甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸共聚物(共聚物组成(质量%):31/40/29、质均分子量60000、酸值163mgKOH/g):16质量份
·单体1(商品名:BPE-500、新中村化学工业(株)制):5.6质量份
·六甲撑二异氰酸酯的四环氧乙烷单甲基丙烯酸酯0.5摩尔加成物:7质量份
·作为在分子中具有1个聚合性基团的化合物的环己烷二甲醇单丙烯酸酯:2.8质量份
·2-氯-N-丁基吖啶酮:0.42质量份
·2,2-双(邻氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基联咪唑:2.17质量份
·孔雀绿草酸盐:0.02质量份
·无色结晶紫:0.26质量份
·吩噻嗪:0.013质量份
·表面活性剂(商品名:MEGAFAC F-780F、大日本油墨(株)制):0.03质量份
·甲乙酮:40质量份
·1-甲氧基-2-丙醇:20质量份
而且,蚀刻用光固化性树脂层用涂布液E1的除去溶剂后的100℃的粘度为2500Pa·sec。
<第一透明电极图案的形成>
与掩模层的形成相同地清洗形成有透明电极层的前面板,层压除去了覆盖膜的蚀刻用感光性膜E1(在基板温度:130℃、肖氏A硬度70HS的作为中凸辊的橡胶辊温度120℃、线压力100N/cm、搬送速度2.2m/分钟的条件下,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为15度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为15度,在维持这些角度的同时使之通过层压辊42,在基板上层压感光性膜。)。将所得的形成有蚀刻用光固化性树脂层的基板设为实施例2的形成有光固化性树脂层的基板。
从实施例2的形成有光固化性树脂层的基板中剥离临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察。其结果是,在实施例2的形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。
继而,将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与该蚀刻用光固化性树脂层之间的距离设定为200μm,以50mJ/cm2的曝光量(i射线)进行了图案曝光。
然后,将三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量%,将商品名:T-PD2(富士胶片(株)制)用纯水稀释10倍所得的液体)在25℃下以100秒使用含有表面活性剂的清洗液(将商品名:T-SD3(富士胶片(株)制)用纯水稀释10倍所得的液体)在33℃处理20秒,用旋转毛刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去,再进行130℃30分钟的后烘烤处理,得到形成有透明电极层和蚀刻用光固化性树脂层图案的前面板。在所得的前面板中,在图3的开口部22周边没有蚀刻用光固化性树脂层的图案,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的掩模层的针孔为0.2个/cm2。
将形成有透明电极层和蚀刻用光固化性树脂层图案的前面板浸渍在加入了ITO蚀刻剂(盐酸、氯化钾水溶液。液温30℃)的蚀刻槽中,处理100秒,溶解除去没有被蚀刻用光固化性树脂层覆盖的露出的区域的透明电极层,得到具有蚀刻用光固化性树脂层图案的附带透明电极层图案的前面板。
然后,将具有蚀刻用光固化性树脂层图案的附带透明电极层图案的前面板浸渍在加入了抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、单乙醇胺、表面活性剂(商品名:Surfynol465、Air Products制)液温45℃)的抗蚀剂剥离槽中,处理200秒,除去蚀刻用光固化性树脂层,得到形成有掩模层和第一透明电极图案的前面板。
[实施例3]
《绝缘层的形成》
<绝缘层形成用感光性膜W1的制备>
在掩模层形成用感光性膜K1的制备中,除了将黑色光固化性树脂层用涂布液替换为由下述配方W1构成的绝缘层用光固化性树脂层用涂布液以外,与掩模层形成用感光性膜K1的制备相同地得到绝缘层形成用感光性膜W1(绝缘层用光固化性树脂层的膜厚为1.4μm)。
(绝缘层形成用涂布液:配方W1)
·粘合剂3(甲基丙烯酸环己酯(a)/甲基丙烯酸甲酯(b)/甲基丙烯酸共聚物(c)的甲基丙烯酸缩水甘油酯加成物(d)(组成(质量%):a/b/c/d=46/1/10/43、质均分子量:36000、酸值66mgKOH/g)的1-甲氧基-2-丙醇、甲乙酮溶液(固体成分:45%)):12.5质量份
·DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯、日本化药(株)制)的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(76质量%):1.4质量份
·氨基甲酸酯系单体(商品名:NK Oligo UA-32P、新中村化学(株)制:不挥发成分75%、丙二醇单甲醚乙酸酯:25%):0.68质量份
·三季戊四醇八丙烯酸酯(商品名:V#802、大阪有机化学工业(株)制):1.8质量份
·二乙基噻吨酮:0.17质量份
·2-(二甲基氨基)-2[(4甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名:Irgacure379、BASF制):0.17质量份
·分散剂(商品名:Solsperse20000、Avecia制):0.19质量份
·表面活性剂(商品名:MEGAFAC F-780F、大日本油墨制):0.05质量份
·甲乙酮:23.3质量份
·MMPGAc(Daicel化学(株)制):59.8质量份
而且,绝缘层形成用涂布液W1的除去溶剂后的100℃的粘度为4000Pa·sec。
与掩模层的形成相同地对所述附带第一透明电极图案的前面板进行清洗、硅烷偶联处理,层压除去了覆盖膜的绝缘层形成用感光性膜W1(在基板温度:100℃、肖氏A硬度70HS的作为中凸辊的橡胶辊温度120℃、线压力100N/cm、搬送速度2.3m/分钟的条件下,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为15度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为15度,在维持这些角度的同时使之通过层压辊42,在基板上层压感光性膜。)。将所得的形成有绝缘层形成用光固化性树脂层的基板设为实施例3的形成有光固化性树脂层的基板。
从实施例2的形成有光固化性树脂层的基板中剥离临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察,其结果是,在实施例3的形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。
继而,将曝光掩模(具有绝缘层用图案的石英曝光掩模)面与该蚀刻用光固化性树脂层之间的距离设定为100μm,以30mJ/cm2的曝光量(i射线)进行了图案曝光。
然后,用三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量%,将商品名:T-PD2(富士胶片(株)制)用纯水稀释10倍所得的液体)在33℃处理60秒,用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(将商品名:T-CD1(富士胶片(株)制)用纯水稀释5倍所得的液体)在25℃处理50秒,使用含有表面活性剂的清洗液(将商品名:T-SD3(富士胶片(株)制)用纯水稀释10倍所得的液体)在33℃处理20秒,用旋转毛刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去,再在230℃进行60分钟的后烘烤处理,得到形成有掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案的前面板。在所得的前面板中,在图3的开口部22周边没有绝缘层的图案,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的掩模层的针孔为0.2个/cm2。
[实施例4]
《第二透明电极图案的形成》
<透明电极层的形成>
与实施例3中的所述第一透明电极图案的形成相同地对形成了第一透明电极图案、绝缘层图案的前面板进行DC磁控溅射处理(条件:基板的温度50℃、氩气压力0.13Pa、氧气压力0.01Pa),形成厚80nm的ITO膜,得到形成有第二透明电极层的前面板。ITO膜的表面电阻为110Ω/□。
与实施例3中的第一透明电极图案的形成相同地使用蚀刻用感光性膜E1,得到形成有蚀刻用光固化性树脂层图案的前面板(后烘烤处理;130℃、30分钟)。此时,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度设为15度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为15度,在维持这些角度的同时使之通过层压辊42,在基板上层压了感光性膜。其他的层压条件与实施例2中的第一透明电极图案的形成相同。将所得的形成有蚀刻用光固化性树脂层的基板设为实施例4的形成有光固化性树脂层的基板。
从实施例4的形成有光固化性树脂层的基板中剥离临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察。其结果是,在实施例4的形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。
此外,与实施例2相同地进行了曝光、显影、后烘烤处理,得到形成有第二透明电极层和蚀刻用光固化性树脂层图案的前面板。利用目视及光学显微镜观察了所得的前面板,其结果是,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为0.3个/cm2。
此外,通过与第一透明电极图案的形成相同地蚀刻(30℃50秒),除去蚀刻用光固化性树脂层(45℃200秒),由此得到形成有掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案的前面板。
[实施例5]
《不同于第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素的形成》
与所述第一、及第二透明电极图案的形成相同地对形成有第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案的前面板进行DC磁控溅射处理,得到形成有厚200nm的铝(Al)膜的前面板。
与所述第一、及第二透明电极图案的形成相同地使用蚀刻用感光性膜E1,得到形成有第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、蚀刻用光固化性树脂层图案的前面板。(后烘烤处理;130℃、30分钟)。此时,也是将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度设为15度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为15度,在维持这些角度的同时使之通过层压辊42,在基板上层压了感光性膜。将所得的形成有蚀刻用光固化性树脂层的基板设为实施例5的形成有光固化性树脂层的基板。
从实施例5的形成有光固化性树脂层的基板中剥离临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察。其结果是,在实施例5的形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。利用目视及光学显微镜观察了所得的前面板,其结果是,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为0.3个/cm2。
此外,通过与第一透明电极图案的形成相同地蚀刻(30℃50秒),除去蚀刻用光固化性树脂层(45℃200秒),而得到形成有掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、以及不同于第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素的前面板。
[实施例6]
《透明保护层的形成》
与绝缘层的形成相同地在直至不同于所述第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素也形成了的前面板上,层压除去了覆盖膜的绝缘层形成用感光性膜W1。此时,对于在130℃下加热的基板,在肖氏A硬度70HS的作为中凸辊的橡胶辊温度130℃、线压力100N/cm、搬送速度0.6m/分钟的条件下,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度设为15度而进行层压,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为15度,在维持这些角度的同时使之通过层压辊42,在基板上层压了感光性膜。将所得的形成有绝缘层形成用光固化性树脂层的基板设为实施例6的形成有光固化性树脂层的基板。
从实施例6的形成有光固化性树脂层的基板中剥离临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察。其结果是,在实施例6的形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。
然后,不夹隔曝光掩模地以50mJ/cm2的曝光量(i射线)进行前面曝光,进行显影、后曝光(1000mJ/cm2)、后烘烤处理,得到将掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、不同于第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素全都覆盖地层叠了绝缘层(透明保护层)的前面板1。利用目视及光学显微镜观察了所得的前面板1,其结果是,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为0.4个/cm2。
[实施例7]
《图像显示装置(带有静电电容型输入装置的触摸屏)的制作》
在利用日本特开2009-47936公报中记载的方法制造的液晶显示元件上,贴合先前在实施例1~6中制造的前面板1,利用公知的方法制作出作为构成要素具备静电电容型输入装置的图像显示装置1。
《前面板1、以及图像显示装置1的评价》
在上述的各工序中,形成有掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、不同于第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素、绝缘层(透明保护层)的前面板1在开口部周边、以及掩模层周边的非掩模部中没有气泡,另外在掩模部上没有由皱纹引起的缺陷,掩模层的光遮蔽性优异,在第一透明电极图案、第二透明电极图案、以及不同于它们的其他的导电性要素的各自的导电性方面没有问题,另一方面,在第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性,此外,在透明保护层中也没有气泡等缺陷。另外,图像显示装置1没有图像缺陷,得到显示特性优异的图像显示装置。
[比较例1]
除了在实施例1的《掩模层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度设为0度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为0度以外,与实施例1相同地形成掩模层。此时,在除去临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察。其结果是,在基板的开口部的周边、特别是在最后通过层压机的开口部的边的后方部产生大量的气泡。对所得的带有掩模层的前面板利用目视及光学显微镜进行了观察,其结果是,因大量的针孔而产生漏光,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为8.7个/cm2。
使用该基板,与实施例2~5分别相同地进行《第一透明电极图案的形成》、《绝缘层的形成》、《第二透明电极图案的形成》、《不同于第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素的形成》,除了在实施例6的《透明保护层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度设为0度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为0度以外,与实施例6相同地形成透明保护层,得到前面板2。此时,在除去临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察。其结果是,在基板的开口部的周边、特别是在最后通过层压机的开口部的边的后方部产生大量的气泡,此外在掩模层周边的非掩模部产生10个左右的气泡,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为9.5个/m2。
此外除了代替前面板1而使用利用上述操作制造的前面板2以外,与实施例7相同地制作出图像显示装置2,其结果是,存在来自掩模层的漏光及掩模层周边的显示特性变形,无法获得优异的显示特性。
[实施例11]
除了在实施例1的《掩模层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为10度、并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为10度以外,与实施例1相同地得到形成有掩模层的前面板。此时,在除去临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察,其结果是,在各形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。另外,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为0.4个/cm2。
此外除了在实施例2~6的《第一透明电极图案的形成》、《绝缘层的形成》、《第二透明电极图案的形成》、《不同于第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素的形成》及《透明保护层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为10度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为10度以外,与实施例2~6相同地在图3中记载的基板上形成各层而得到前面板3。此外,除了代替前面板1而使用利用上述操作制造的前面板3以外,与实施例7相同地制作出图像显示装置3,其结果是,没有来自掩模层的漏光及掩模层周边的显示特性变形,获得优异的显示特性。
[实施例12]
除了在实施例1的《掩模层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为20度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为20度以外,与实施例1相同地得到形成有掩模层的前面板。此时,在除去临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察,其结果是,在各形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。另外,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为0.5个/cm2。
此外,除了在实施例2~6的《第一透明电极图案的形成》、《绝缘层的形成》、《第二透明电极图案的形成》、《不同于第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素的形成》及《透明保护层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为10度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为10度以外,与实施例2~6相同地在图3中记载的基板上形成各层而得到前面板4。此外,除了代替前面板1而使用了利用上述操作制造的前面板4以外,与实施例7相同地制作出图像显示装置4,其结果是,没有来自掩模层的漏光及掩模层周边的显示特性变形,获得优异的显示特性。
[实施例13]
除了在实施例1的《掩模层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为25度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为25度以外,与实施例1相同地得到形成有掩模层的前面板。此时,在除去临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察,其结果是,在各形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。另外,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为0.5个/cm2。
此外除了在实施例2~6的《第一透明电极图案的形成》、《绝缘层的形成》、《第二透明电极图案的形成》、《不同于第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素的形成》及《透明保护层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为10度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为10度以外,与实施例2~6相同地在图3中记载的基板上形成各层而得到前面板5。此外,除了代替前面板1而使用了利用上述操作制造的前面板5以外,与实施例7相同地制作出图像显示装置5,其结果是,没有来自掩模层的漏光及掩模层周边的显示特性变形,获得优异的显示特性。
[实施例14]
除了在实施例1的《掩模层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为2度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为2度以外,与实施例1相同地得到形成有掩模层的前面板。此时,在除去临时支撑体后,利用目视及光学显微镜进行了观察,其结果是,在各形成有光固化性树脂层的基板内完全看不到皱纹、气泡。另外,在图3的开口部22的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为1.2个/cm2。
此外,除了在实施例2~6的《第一透明电极图案的形成》、《绝缘层的形成》、《第二透明电极图案的形成》、《不同于第一及第二透明电极图案的其他的导电性要素的形成》及《透明保护层的形成》中,将层压机的压接部与基板的四个边当中最先完成层压机的压接部43的通过的边24所成的角度b设为10度,并且将想要抑制层压缺陷的产生的开口部的最长边23与层压机的压接部43所成的角a设为10度以外,与实施例2~6相同地在图3中记载的基板上形成各层而得到前面板6。此外,除了代替前面板1而使用了利用上述操作制造的前面板6以外,与实施例7相同地制作出图像显示装置6,其结果是,虽然可以轻微地感觉到来自掩模层的漏光及掩模层周边的显示特性变形,然而可以获得实用上没有问题的程度的显示特性。
如上所述,根据本发明的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法,可以利用简单的工序高品质地制造具有薄层/轻型化的优点的静电电容型输入装置。由此可知,利用本发明的形成方法形成的形成有光固化性树脂层的基板、使用该基板制造的静电电容型输入装置、以及使用它的图像显示装置都是高品质。
符号说明
1 前面板
2 掩模层
3 第一透明电极图案
3a 垫片部分
3b 连接部分
4 第二透明电极图案
5 绝缘层
6 导电性要素
7 透明保护层
10 静电电容型输入装置
4 热塑性树脂层
16 光固化性树脂层
18 临时支撑体
20 感光性膜
21 基板
22 想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域
23 想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边
24 最先完成压接部的通过的边
33 感光性膜
41 层压机
42 层压辊
43 层压机的压接部
44 搬送辊
51 形成有光固化性树脂层的基板
a 想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边与层压机的压接部所成的角
b 基板的四个边当中最先完成压接部的通过的边与层压机的压接部所成的角
C 第一方向
D 第二方向
Claims (9)
1.一种形成有光固化性树脂层的基板的形成方法,其特征在于,
包括:
在具有至少1个凹部或凸部区域的大致四边形的基板当中确定想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的工序;
将所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域的最长边与具有层压辊的层压机的压接部所成的角度a控制为1°~89°的工序,其中,在不存在最长边的情况下则所述最长边表示最长轴,在具有多个最长边的情况下则所述最长边表示其中的一个边;
将所述基板的四个边当中最先完成所述层压机的压接部的通过的边与所述层压机的压接部所成的角度b控制为1°~89°的工序,其中,在所述基板的两个边同时最先完成通过的情况下则所述最先完成所述层压机的压接部的通过的边表示其中的一个边;以及
使具有设于临时支撑体上的光固化性树脂层的感光性膜的与该临时支撑体相反一侧的表面、与所述基板的想要抑制层压时的缺陷的产生的凹部或凸部区域侧的表面相对置,在维持所述角a及角b的同时使它们通过所述层压机而将两者压接的工序。
2.根据权利要求1所述的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法,其特征在于,
所述基板的所述想要抑制层压缺陷的产生的凹部或凸部区域为突起、槽及开口部当中的至少1种。
3.根据权利要求1或2所述的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法,其特征在于,
将所述角a控制为5°~85°。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法,其特征在于,
将所述角b控制为5°~85°。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法,其特征在于,
在所述临时支撑体与光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。
6.一种形成有光固化性树脂层的基板,其特征在于,
使用权利要求1~5中任一项所述的形成有光固化性树脂层的基板的形成方法而形成。
7.一种形成有光固化性树脂层的基板,其特征在于,
对于至少1个凹部或凸部区域而言,进行了光固化后,在与基板面垂直的方向上的所述凹部或凸部区域的投影面积的25倍相似放大区域内存在的针孔为3个/cm2以下。
8.一种静电电容型输入装置,其特征在于,
使用权利要求6或7所述的形成有光固化性树脂层的基板而形成。
9.一种图像显示装置,其特征在于,
具备权利要求8所述的静电电容型输入装置。
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