JP2003015283A

JP2003015283A - 拡散反射下地層形成用感光性エレメント及びこれを用いた拡散反射板の製造方法。

Info

Publication number: JP2003015283A
Application number: JP2001196316A
Authority: JP
Inventors: Ikuo Mukai; 郁夫向; Hiroyuki Tanaka; 裕之田仲; Hiromi Furubayashi; 寛巳古林; Masaharu Ohara; 雅春大原; Hiroshi Yamazaki; 宏山崎
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date: 2001-06-28
Filing date: 2001-06-28
Publication date: 2003-01-15

Abstract

(57)【要約】【課題】金属薄膜の部分的はく離がなくかつ高温高湿
下で拡散反射下地層の基板密着性に優れた拡散反射板を
歩留まり良く製造するための拡散反射下地層形成用感光
性エレメントを提供する。【解決手段】凹凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状
面上に感光性樹脂組成物の層を積層してなる拡散反射下
地層形成用感光性エレメントにおいて、該感光性樹脂組
成物が、（Ｉ）カルボキシル基を有するアクリル系樹脂
（ａ）と分子内に脂環式エポキシ基及び不飽和結合を共
に有する化合物（ｂ）との反応により得られる不飽和基
含有アクリル系ポリマー（ｃ）、（ＩＩ）少なくとも２
個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び
（ＩＩＩ）光重合開始剤を含有する、拡散反射下地層形
成用感光性エレメント。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示装
置に使用する拡散反射下地層を形成するための感光性エ
レメント及びこれを用いた反射型液晶表示装置用拡散反
射板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置は、ノート型パソコ
ン、電子手帳、携帯情報端末機、アミューズメント機
器、携帯電話機等、あらゆる用途に利用されており、特
にこれらのうち、携帯用機器については、バックライト
が不要となるため消費電力が小さく、また薄型化や軽量
化が可能な観点から、反射型液晶表示装置が多く用いら
れつつある。一般に反射型液晶表示装置では、光源とし
て外光の反射を利用しているが、外光をより効率良く利
用して明るい表示を得るためには、さらにあらゆる角度
からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱す
る光の強度を増加させる必要がある。これを実現するた
めの有用な手法として、光を拡散反射し得る凹凸面が形
成された仮支持体に薄膜層が積層された転写フイルムを
使用し、転写フイルムの薄膜層の被転写基板への接着面
を基板表面に貼り合わせ、仮支持体をはく離して基板に
薄膜層を転写し、さらに薄膜層上に金属薄膜を賦与する
ことにより拡散反射板を形成する方法（特開2000-47199
号公報）が提案されている。

【０００３】しかしながら、この方法で拡散反射板を作
製する際には、特に拡散反射下地層用材料の選定が難し
く、従来歩留まり良く製造できないという問題点があっ
た。これは、以下の２つの理由により生じていた。１つ
は、拡散反射下地層材料の耐熱性に関わる問題である。
液晶表示装置の製造においては、ＩＴＯなどの透明電極
形成やカラーフィルター形成やオーバーコート層形成等
の工程により、拡散反射板を設けた基板が２００〜２５
０℃程度の高温中に数回暴露されることとなる。前記の
方法では、拡散反射下地層上にスパッタ法等で金属薄膜
を積層して拡散反射板を形成しているが、高温で暴露さ
れることで拡散反射下地層を構成する有機成分から分解
ガスが発生し、これが拡散反射下地層と金属薄膜との界
面に滞留することにより金属薄膜の部分的はく離が発生
し、これにより歩留まり良く製造できないという不具合
を引き起こしていた。さらにもう１つは、拡散反射下地
層の基板密着性に関わる問題である。液晶表示装置の使
用においては、あらゆる環境下が予想されることから、
信頼性として高温高湿時にも拡散反射下地層の基板密着
性が良いことが必要とされるが、従来の拡散反射下地層
材料では、特に耐湿性の問題から、高温高湿環境下で基
板密着性が著しく悪化し、液晶表示装置としての信頼性
を得られないという不具合があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、特に
耐熱性及び耐湿性に優れることで、金属薄膜の部分的は
く離がなくかつ高温高湿下で拡散反射下地層の基板密着
性に優れた拡散反射板を歩留まり良く製造するための拡
散反射下地層形成用感光性エレメントを提供することに
ある。

【０００５】本発明の他の目的は、上記の効果に加え
て、さらに外光をより効率良く利用して明るい表示を得
られる拡散反射板及び反射型液晶表示装置を提供するこ
とにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、凹凸形状面を
有する仮支持体の凹凸形状面上に感光性樹脂組成物の層
を積層してなる拡散反射下地層形成用感光性エレメント
において、該感光性樹脂組成物が、（Ｉ）カルボキシル
基を含むアクリル系樹脂（ａ）と分子内に脂環式エポキ
シ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）との反応
により得られる不飽和基含有アクリル系ポリマー
（ｃ）、（ＩＩ）少なくとも２個のエチレン性不飽和基
を有する光重合性化合物及び（ＩＩＩ）光重合開始剤を
含有することを特徴とする、拡散反射下地層形成用感光
性エレメントに関する。

【０００７】また、本発明は、基板上に前記拡散反射下
地層形成用感光性エレメントを貼り合わせ、活性光線を
照射して露光部を光硬化させた後、該仮支持体をはく離
して所望の凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、
さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成することを特徴
とする、反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法に
関する。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明における感光性樹脂組成物は、（Ｉ）カルボキシ
ル基を有するアクリル系樹脂（ａ）と分子内に脂環式エ
ポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）との
反応により得られる不飽和基含有アクリル系ポリマー
（ｃ）を必須成分として含有する。前記カルボキシル基
を有するアクリル系樹脂（ａ）としては、アクリル酸、
メタクリル酸、２−カルボキシエチルメタクリレート、
（無水）マレイン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸を
必須成分とし、これらと必要に応じてその他のエチレン
性不飽和単量体とを共重合して得られる、通常公知のビ
ニル系共重合体が使用できる。前記その他のエチレン性
不飽和単量体としては、例えばアクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ
−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル等のアクリル
酸アルキルエステル、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ
−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｎ−
ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリ
ル酸ラウリル等のメタクリル酸アルキルエステル、アク
リル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、メタクリル酸アミノメチル、メタクリル
酸Ｎ−メチルアミノメチル、メタクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノメチル等のメタクリル酸アミノアルキル、ア
クリル酸Ｎ−メチルアミノメチル、アクリル酸Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノエチル等のアクリル酸アミノアルキル、
スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等のス
チレン系単量体、酢酸ビニル等が挙げられる。

【０００９】アクリル系樹脂（ａ）におけるエチレン性
不飽和カルボン酸とその他のエチレン性不飽和単量体の
重合比は特に制限はないが、硬化性樹脂としての性質を
得るために、分子内に脂環式エポキシ基及び不飽和結合
を共に有する化合物（ｂ）を導入する必要があることか
ら、アクリル系樹脂（ａ）の酸価は２０（ＫＯＨｍｇ／
ｇ）以上が好ましく、５０〜５００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）
が特に好ましい。

【００１０】本発明に使用される、分子内に脂環式エポ
キシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）として
は、例えば、一般式（１）から（１５）で表される化合
物が挙げられる。これらは単独で用いても、混合して用
いてもよい。これらの中でも、硬化性の面から１，２−
エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートが
最も好ましい。

【００１１】

【化１】

【化２】（（１）〜（１５）の各一般式中、Ｒ¹は水素原子又は
メチル基、Ｒ²は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ³は
炭素数１〜１０の２価の炭化水素基、ｌは０〜１０の整
数を表わす）

【００１２】また、上記した化合物（ｂ）以外にも、例
えばグリシジルメタクリレート、β−メチルグリシジル
メタクリレート、アリルグリシジルエーテル等の脂肪族
エポキシ基含有不飽和化合物を化合物（ｂ）に対して８
０重量％以下の範囲で使用できる。脂肪族エポキシ基含
有不飽和化合物の割合が８０重量％を超えると、得られ
る不飽和基含有アクリル系ポリマー（ｃ）の耐湿性等が
悪くなる。上記化合物（ｂ）の使用量は、得られる不飽
和基含有アクリル系ポリマー（ｃ）の不飽和基数が、分
子量１，０００当り０．５〜４．０個、特に１．５〜
３．０個の範囲になるように設定することが好ましい。
不飽和基数が０．５個より少ない場合には、十分な硬化
性が得られないために耐熱性、耐湿性等が劣る傾向にあ
り、逆に不飽和基数が４．０個より多い場合には、長期
間保存すると増粘、ゲル化する傾向がある。

【００１３】上記カルボキシル基を含むアクリル系樹脂
（ａ）と分子内に脂環式エポキシ基及び不飽和結合を共
に有する化合物（ｂ）から不飽和基含有アクリル系ポリ
マー（ｃ）を得る方法としては、例えばアクリル系樹脂
（ａ）の有機溶剤溶液（アルコール系、エステル系、エ
ーテル系、ケトン系等、種々のものが好適）と脂環式エ
ポキシ基及び不飽和結合を共に有する化合物（ｂ）とを
５０〜１５０℃、０．５〜５時間程度の反応条件で開環
付加反応させることにより行なうことができる。このと
き、化合物（ｂ）のエポキシ基への、アクリル系樹脂
（ａ）のカルボキシル基の開環付加を促進するために、
ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン等の３級ア
ミンや、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラ
メチルアンモニウムブロマイド等の４級アンモニウム塩
等を反応触媒として用いることができる。

【００１４】上記により得られる不飽和基含有アクリル
系ポリマー（ｃ）の重量平均分子量（ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー法により測定され、標準ポリス
チレンを用いて作成した検量線により換算される）は、
耐熱性、耐湿性、塗工性及び溶媒への溶解性等の点か
ら、２，０００〜１５０，０００であることが好まし
く、５，０００〜８０，０００であることが特に好まし
い。さらに、上記により得られる不飽和基含有アクリル
系ポリマー（ｃ）の酸価は１０〜３００（ＫＯＨｍｇ／
ｇ）であることが好ましく、より好ましくは２０〜２０
０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）である。酸価が１０（ＫＯＨｍｇ
／ｇ）未満の場合、希アルカリ水溶液による現像性が劣
る。逆に酸価が３００を超えると硬化後の塗膜の耐湿
性、耐アルカリ性等が悪くなる。

【００１５】（Ｉ）成分の使用量は、（Ｉ）及び（Ｉ
Ｉ）成分の総量１００重量部に対して、２０〜７０重量
部とすることが好ましい。この使用量が２０重量部未満
では、塗工性が低下する傾向があり、７０重量部を超え
ると、耐熱性が低下する傾向がある。

【００１６】本発明に用いられる（ＩＩ）少なくとも２
個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物として
は、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン
酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−
（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プ
ロパン、グリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カル
ボン酸を反応させで得られる化合物、ウレタンモノマ
ー、ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレー
ト、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−（メ
タ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−
ヒドロキシエチル−β′−（メタ）アクリロイルオキシ
エチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−
β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレ
ート、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げら
れる。

【００１７】上記多価アルコールにα，β−不飽和カル
ボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、
エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１
４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキ
シトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
テトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレー
ト、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート
（ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート）、
テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、
プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。上記
α，β−不飽和カルボン酸としては、例えば、（メタ）
アクリル酸等が拳げられる。

【００１８】上記２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アク
リロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、
例えば、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシ
ジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−
（ジ（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシ
ペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−（ジ（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニ
ル）等が挙げられ、２，２−ビス（４−（メタクリロキ
シペンタエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−５
００（新中村化学工業（株）製、製品名）として商業的
に入手可能である。

【００１９】上記グリシジル基含有化合物としては、例
えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
トリ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メ
タ）アクリロキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）
フェニル等が拳げられる。

【００２０】上記ウレタンモノマーとしては、例えば、
β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソ
ホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシア
ネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−
ヘキサメチレンジイソシアネート等との付加反応物、ト
リス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコール
イソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、Ｅ
Ｏ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変
性ウレタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。な
お、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された
化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有す
る。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変
性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構
造を有する。上記（メタ）アクリル酸アルキルエステル
としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステ
ル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アク
リル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチル
ヘキシルエステル等が挙げられる。これらは単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。

【００２１】本発明における（ＩＩ）成分の使用量は、
（Ｉ）及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して、
３０〜８０重量部とすることが好ましい。この使用量が
３０重量部未満では、光感度が低い傾向があり、８０重
量部を超えると、塗膜性が低下する傾向がある。

【００２２】本発明に用いられる（ＩＩＩ）光重合開始
剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テト
ラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラ
ーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジア
ミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルア
ミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミ
ノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１
（イルガキュア−３６９、日本チバガイギー（株）商品
名）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニ
ル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケ
トン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノ
ン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチ
ルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、
２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラ
キノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロ
ロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４
−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−
メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアン
トラキノン等のキノン類、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテ
ル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、メチル
ベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物、
ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−
（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾ
ール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ
（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−
フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフ
ェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，
４，５−トリアリールイミダゾール二量体、９−フェニ
ルアクリジン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニ
ル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリ
シン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物
などが挙げられる。また、２，４，５−トリアリールイ
ミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリア
リールイミダゾールに置換した置換基は同一でも相違し
ていてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチ
ルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサント
ン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよ
い。また、密着性及び感度の見地からは、２，４，５−
トリアリールイミダゾール二量体がより好ましい。これ
らは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００２３】本発明における（ＩＩＩ）成分の使用量
は、（Ｉ）及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．１〜１０重量部とすることが好ましい。この使
用量が０．１重量部未満では、光感度が低い傾向があ
り、１０重量部を超えると、耐熱性が低下する傾向があ
る。

【００２４】また、本発明における感光性樹脂組成物に
は、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着性
付与剤、レベリング剤、はく離促進剤、可塑剤、充填
剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架
橋剤などを（Ｉ）成分及び（ＩＩ）成分の総量１００重
量部に対して各々０．０１〜２０重量部程度含有するこ
とができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合
わせて使用される。

【００２５】さらに、本発明における感光性樹脂組成物
は、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又は
これらの混合溶剤に溶解して固形分３０〜６０重量％程
度の溶液として塗布することができる。

【００２６】本発明における凹凸形状面を有する仮支持
体としては、特に制限なく公知のものを使用することが
できるが、基板上に感光性エレメントを貼り合わせる
点、及び感光性エレメントを貼り付け、光硬化させた
後、はく離する点で特に好適であるという理由から、ポ
リプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエス
テル等を材質としたフイルムをベースフイルムとして用
い、それをサンドブラスト処理等で直接凹凸形状面を設
けて仮支持体とすることや、前記したベースフイルム上
に光硬化性樹脂及びまたは熱硬化樹脂性樹脂を積層し
て、像状露光や熱成形等により凹凸形状面を設けてベー
スフイルムと合わせて仮支持体とすること等が特に好ま
しい。また、このときの凹凸形状面については、外光を
より効率良く利用して明るい表示を得るために、垂直な
方向に散乱する光の強度を増加させることができるよう
な構造を有するものであれば、特に制限はない。

【００２７】本発明における感光性樹脂組成物の層を積
層する方法としては、公知の方法を用いることができ、
例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバ
ーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーン
コーティング法、スピナーコーティング法、インクジェ
ットコーティング法、スプレーコーティング法、ディッ
プコーティング法、グラビアコーティング法、カーテン
コーティング法等が挙げられる。

【００２８】本発明における、光硬化させるための活性
光線としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧
水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射するも
のであれば特に制限されない。

【００２９】

【実施例】次に本発明を実施例により詳しく説明する。実施例１凹凸形状面を有する仮支持体としてサンドブラスト処理
を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを使用
し、表１の配合で調製した感光性樹脂組成物を、このフ
ィルム上にコンマコーターで乾燥５μｍの厚さに塗布
し、１１０℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥した後ポ
リエチレンフィルムを被覆することで、感光性エレメン
トを作製した。

【００３０】＜拡散反射下地層の基板密着性評価＞得ら
れた感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがし
ながら、厚さ１ｍｍのソーダガラス基板の上に感光性樹
脂組成物の層を、ロール温度１２０℃、ロール圧０．４
ＭＰａ、速度０．５ｍ／分の条件でラミネートして、ガ
ラス基板、感光性樹脂組成物の層、仮支持体が積層した
基板を作製した。これに、仮支持体側から、３ＫＷ超高
圧水銀灯（ＨＭＷ−５９０、（株）オーク製作所製）で
２００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射してから、仮支持体
を引きはがした後、２３０℃の熱風対流式乾燥機で３０
分間熱硬化したところ、感光性樹脂層の表面はサンドブ
ラスト加工された凹凸が転写されており、拡散反射特性
に優れた凹凸形状面であった。上記工程で得られた拡散
反射下地層付き基板を、温度６０℃、湿度９０％に保っ
た恒温槽へ２４時間投入した後、クロスカット試験（JI
S-K５４００、１ｍｍ角碁盤目法）を行なったところ、
拡散反射下地層のはがれが一切なく、良好な基板密着性
であった。

【００３１】＜拡散反射下地層の耐熱性評価＞上記２３
０℃の熱風対流式乾燥機で３０分間熱硬化した拡散反射
下地層付き基板に、Al膜（反射膜として）をスパッタリ
ング法により０．１μｍに積層して、耐熱性評価用の拡
散反射板を作製した。このようにして得られた拡散反射
膜を、２５０℃で６０分間加熱した後、拡散反射下地層
とAl膜との界面を観察したところ、拡散反射下地層から
の分解ガスによるAl膜のはく離は全く発生しておらず、
良好な拡散反射板としての形態を保持していた。

【００３２】

【表１】（＊）メタクリル酸／アクリル酸ブチル共重合体（重量
比で５０／５０）と１，２−エポキシシクロヘキシルメ
チル（メタ）アクリレートを開環付加反応させて不飽和
基を導入したポリマー（プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル溶媒で固形分４８重量％）；重量平均分子量
は３０，０００、酸価（固形分）は６５、不飽和基数
は、分子量１，０００当り２．２個。

【００３３】比較例１（Ｉ）成分として、アクリル酸／スチレン／アクリル酸
エチル／メタクリル酸エチル共重合体（重量比で４０／
２０／５／３５）にグリシジルメタクリレートを付加し
て不飽和基を導入したポリマー（プロピレングリコール
モノメチルエーテル溶媒で固形分４５％、重量平均分子
量は３５，０００、酸価（固形分）は８３、側鎖光重合
性不飽和基数は、分子量１，０００当り１．７個。）を
用いた以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組
成物を調製し、これを用いて実施例１と同様の方法によ
り、基板密着性評価用の拡散反射下地層及び耐熱性評価
用のAl薄膜付き拡散反射板を作製した。

【００３４】＜拡散反射下地層の耐熱性評価＞実施例１
と同様にして評価したところ、拡散反射下地層からの分
解ガスによるAl膜のはく離は全く発生しておらず、良好
な拡散反射板としての形態を保持していた。

【００３５】＜拡散反射下地層の基板密着性評価＞実施
例１と同様にして評価したところ、１ｍｍ角の拡散反射
下地層はがれが１００個中３０個発生していた。

【００３６】比較例２（Ｉ）成分として、メタクリル酸／アクリル酸エチル／
メタクリル酸メチル共重合体（重量比で１７．５／３０
／５２．５）に変更したポリマー（プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル溶媒で固形分４２％、重量平均分
子量は４０,０００、固形分酸価は１０５、側鎖光重合
性不飽和基数は、分子量１,０００当り０個。）を用い
た以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組成物
を調製し、これを用いて実施例１と同様の方法により、
基板密着性評価用の拡散反射下地層及び耐熱性評価用の
Al薄膜付き拡散反射板を作製した。

【００３７】＜拡散反射下地層の耐熱性評価＞実施例１
と同様にして評価したところ、直径１〜１０ｍｍの円形
状を有したAl膜はく離が数１０個／１００ｃｍ²発生し
ていた。

【００３８】＜拡散反射下地層の基板密着性評価＞実施
例１と同様にして評価したところ、１ｍｍ角の拡散反射
下地層はがれが１００個中８０個発生していた。

【００３９】

【発明の効果】本発明は、特に耐熱性及び耐湿性に優れ
ることで、金属薄膜の部分的はく離がなくかつ高温高湿
下で拡散反射下地層の基板密着性に優れた拡散反射板を
歩留まり良く製造するための拡散反射下地層形成用感光
性エレメントを提供するものである。本発明は、請求項
１の効果に加えて、さらに外光をより効率良く利用して
明るい表示を得られる拡散反射板及び反射型液晶表示装
置を提供するものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/038 ５０１Ｇ０３Ｆ 7/038 ５０１ 7/09 7/09 7/34 7/34 (72)発明者古林寛巳茨城県日立市東町四丁目13番１号日立化成工業株式会社山崎事業所内 (72)発明者大原雅春茨城県日立市東町四丁目13番１号日立化成工業株式会社山崎事業所内 (72)発明者山崎宏茨城県日立市東町四丁目13番１号日立化成工業株式会社山崎事業所内Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA10 AA14 AB11 AB14 AB20 AC01 AD01 BC13 BC42 BC53 BC85 BC86 CA00 EA08 FA24 2H091 FA02Y FA16Z FA41Z FB04 LA30 2H096 AA28 AA30 BA06 CA07 CA16 GA50 HA30 4J027 AA02 AC03 AC04 AC06 AE01 AG15 AG23 AG24 AG27 BA07 BA25 BA26 BA28 CB10 CC05 CD00 CD08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】凹凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状
面上に感光性樹脂組成物の層を積層してなる拡散反射下
地層形成用感光性エレメントにおいて、該感光性樹脂組
成物が、（Ｉ）カルボキシル基を有するアクリル系樹脂
（ａ）と分子内に脂環式エポキシ基及び不飽和結合を共
に有する化合物（ｂ）との反応により得られる不飽和基
含有アクリル系ポリマー（ｃ）、（ＩＩ）少なくとも２
個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び
（ＩＩＩ）光重合開始剤を含有することを特徴とする、
拡散反射下地層形成用感光性エレメント。
【請求項２】基板上に、請求項１記載の拡散反射下地
層形成用感光性エレメントを貼り合わせ、活性光線を照
射して露光部を光硬化させた後、該仮支持体をはく離し
て所望の凹凸形状面を有する拡散反射下地層を形成し、
さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成することを特徴
とする、反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法。