JP2003161815A - 拡散反射下地層形成用感光性エレメント及びこれを用いた拡散反射板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属薄膜の部分的はく離がなくかつ高温高湿
下で拡散反射下地層の基板密着性に優れた拡散反射板を
歩留まり良く製造するための拡散反射下地層形成用感光
性エレメントを提供する。 【解決手段】 凹凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状
面上に、エチレン性不飽和基を有する高分子結合剤
（ａ）、少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する
光重合性化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）からなる感
光性樹脂組成物層（Ａ）を有し、前記（Ａ）層の上に、
フィルム性付与ポリマー（ｄ）、少なくとも２個のエチ
レン性不飽和基を有する光重合性化合物（ｂ）、光重合
開始剤（ｃ）からなる感光性樹脂組成物層（Ｂ）を積層
してなる拡散反射下地層形成用感光性エレメント。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示装
置に使用する拡散反射下地層を形成するための感光性エ
レメント及びこれを用いた反射型液晶表示装置用拡散反
射板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置は、ノート型パソコ
ン、電子手帳、携帯情報端末機、アミューズメント機
器、携帯電話機等、あらゆる用途に利用されており、特
にこれらのうち、携帯用機器については、バックライト
が不要となるため消費電力が小さく、また薄型化や軽量
化が可能な観点から、反射型液晶表示装置が多く用いら
れつつある。一般に反射型液晶表示装置では、光源とし
て外光の反射を利用しているが、外光をより効率良く利
用して明るい表示を得るためには、さらにあらゆる角度
からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱す
る光の強度を増加させる必要がある。これを実現するた
めの有用な手法として、光を拡散反射し得る凹凸面が形
成された仮支持体に薄膜層が積層された転写フィルムを
使用し、転写フィルムの薄膜層の被転写基板への接着面
を基板表面に貼り合わせ、仮支持体をはく離して基板に
薄膜層を転写し、さらに薄膜層上に金属薄膜を賦与する
ことにより拡散反射板を形成する方法（特開２０００−
４７１９９号公報）が提案されている。

【０００３】しかしながら、この方法で拡散反射板を作
製する際には、特に拡散反射下地層用材料の選定が難し
く、従来歩留まり良く製造できないという問題点があっ
た。これは、以下の２つの理由により生じていた。１つ
は、拡散反射下地層材料の耐熱性に関わる問題である。
液晶表示装置の製造においては、ＩＴＯなどの透明電極
形成やカラーフィルター形成やオーバーコート層形成等
の工程により、拡散反射板を設けた基板が２００〜２５
０℃程度の高温中に数回暴露されることとなる。前記の
方法では、拡散反射下地層上にスパッタ法等で金属薄膜
を積層して拡散反射板を形成しているが、高温に暴露さ
れることで拡散反射下地層を構成する有機成分から分解
ガスが発生し、これが拡散反射下地層と金属薄膜との界
面に滞留することにより金属薄膜の部分的はく離が発生
し、これにより歩留まり良く製造できないという不具合
を引き起こしていた。さらにもう１つは、拡散反射下地
層の基板密着性に関わる問題である。液晶表示装置の使
用においては、あらゆる環境下が予想されることから、
信頼性として高温高湿時にも拡散反射下地層の基板密着
性が良いことが必要とされるが、従来の拡散反射下地層
材料では、特に耐湿性の問題から、高温高湿環境下で基
板密着性が著しく悪化し、液晶表示装置としての信頼性
を得られないという不具合があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、拡散
反射下地層形成用感光性エレメントに対し特に耐熱性及
び耐湿性に優れる特性を付与することで、金属薄膜の部
分的はく離がなく、かつ、高温高湿下で拡散反射下地層
と基板密着性に優れた拡散反射板を歩留まり良く製造す
るための拡散反射下地層形成用感光性エレメントを提供
することにある。

【０００５】本発明の他の目的は、上記の効果に加え
て、さらに外光をより効率良く利用して明るい表示を得
られ、精細度に優れた反射型液晶表示装置用拡散反射板
の製造方法、反射型液晶表示装置用拡散反射板を提供す
ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、凹凸形状面を
有する仮支持体の凹凸形状面上に、エチレン性不飽和基
を有する高分子結合剤（ａ）、少なくとも２個のエチレ
ン性不飽和基を有する光重合性化合物（ｂ）、光重合開
始剤（ｃ）からなる感光性樹脂組成物層（Ａ）を有し、
前記（Ａ）層の上に、フィルム性付与ポリマー（ｄ）、
少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性
化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）からなる感光性樹脂
組成物層（Ｂ）を積層してなる拡散反射下地層形成用感
光性エレメントに関する。

【０００７】また、本発明は、（１）基板上に、請求項
１に記載の拡散反射下地層形成用感光性エレメントを、
前記（Ｂ）層が前記基板に接するようにして積層する工
程、（２）感光性樹脂組成物層に活性光線を照射する工
程、（３）凹凸形状面を有する仮支持体をはく離して除
去する工程により、所望の凹凸形状面を有する拡散反射
下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形
成することを特徴とする反射型液晶表示装置用拡散反射
板の製造方法に関する。また、本発明は、（１）基板上
に、請求項１に記載の拡散反射下地層形成用感光性エレ
メントを、前記（Ｂ）層が前記基板に接するようにして
積層する工程、（２’）感光性樹脂組成物層に活性光線
を像的に照射する工程、（３）凹凸形状面を有する仮支
持体をはく離して除去する工程、（４）現像により
（Ａ）層及び（Ｂ）層からなる感光性樹脂組成物層を選
択的に除去してパターンを形成する工程により、所望の
凹凸形状面を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡
散反射下地層上に反射膜を形成することを特徴とする反
射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法に関する。ま
た、上記の反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法
により得られた反射型液晶表示装置用拡散反射板に関す
る。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の拡散反射下地層形成用感光性エレメントは、凹
凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状面上に、エチレン
性不飽和基を有する高分子結合剤（ａ）、少なくとも２
個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物
（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）からなる感光性樹脂組成物
層（Ａ）を有し、前記（Ａ）層の上に、フィルム性付与
ポリマー（ｄ）、少なくとも２個のエチレン性不飽和基
を有する光重合性化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）か
らなる感光性樹脂組成物層（Ｂ）を積層してなる。本発
明の（Ａ）層におけるエチレン性不飽和基を有する高分
子結合剤（ａ）としては、例えば、カルボキシル基、水
酸基、アミノ基、イソシアネート基、オキシラン環、酸
無水物等の官能基を有するビニル共重合体に、少なくと
も１個のエチレン性不飽和基と、オキシラン環、イソシ
アネート基、水酸基、カルボキシル基等の１個の官能基
を有する化合物を付加反応させて得られる側鎖にエチレ
ン性不飽和基を有するラジカル重合性共重合体などが挙
げられる。

【０００９】前記カルボキシル基、水酸基、アミノ基、
オキシラン環、酸無水物等の官能基を有するビニル共重
合体の製造に用いられる必須のビニル単量体としては、
例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマ
ル酸、イタコン酸、ケイ皮酸、アクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、イソシアン酸エチルメタ
クリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート、無水マレイン酸等のカルボキシル基、水酸
基、アミノ基、オキシラン環、酸無水物等の官能基を有
するビニル単量体等が挙げられる。これらは単独で又は
２種以上を組み合わせて使用される。

【００１０】また、このビニル共重合体の製造には必要
に応じ、その他のビニル単量体を共重合させることがで
きる。その他のビニル単量体としては、例えば、アクリ
ル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタク
リル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉｓｏ−プロピル、メ
タクリル酸ｉｓｏ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、
メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、
メタクリル酸ｉｓｏ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチ
ル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ
−ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸
ペンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタ
クリル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メ
タクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、
メタクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル
酸ノニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、ア
クリル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸
テトラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸
ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸
オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸
エイコシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコ
シル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチ
ル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロへ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シク
ロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシ
ジエチレングリコール、メタクリル酸メトキシジエチレ
ングリコール、アクリル酸メトキシジプロピレングリコ
ール、メタクリル酸メトキシジプロピレングリコール、
アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、メタクリ
ル酸メトキシトリエチレングリコール、アクリル酸ジメ
チルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチ
ル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジ
エチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプロピ
ル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸
２−クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチル、ア
クリル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−フルオ
ロエチル、アクリル酸２−シアノエチル、メタクリル酸
２−シアノエチル、スチレン、α−メチルスチレン、ビ
ニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピ
ロリドン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。
これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用さ
れる。

【００１１】ビニル共重合体に付加反応させる少なくと
も１個のエチレン性不飽和基と、オキシラン環、イソシ
アネート基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、酸無
水物等の１個の官能基を有する化合物としては、例え
ば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、アリルグリシジルエ一テル、α−エチルアクリルグ
リシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸
グリシジル、イソクロトン酸グリシジル、イソシアン酸
エチルメタクリレート、アクリル酸２−ヒドロキシエチ
ル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、ケ
イ皮酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、無水マレ
イン酸等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上
を組み合わせて使用される。

【００１２】本発明におけるエチレン性不飽和基を有す
る高分子結合剤の重量平均分子量（ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレン換算
した値）は、耐熱性、耐湿性、塗工性及び溶媒への溶解
性等の点から、１，０００〜３００，０００とすること
が好ましく、５，０００〜１５０，０００とすることが
より好ましい。

【００１３】本発明におけるエチレン性不飽和基を有す
る高分子結合剤（ａ）のエチレン性不飽和基濃度は、
１．０×１０^−４〜６．０×１０^−３モル／ｇとするこ
とが好ましく、２．０×１０^−４〜５．０×１０^−３モ
ル／ｇとすることがより好ましく、３．０×１０^−４〜
４．０×１０^−３モル／ｇとすることが特に好ましい。
このエチレン性不飽和基濃度が１．０×１０^−４モル／
ｇ未満では、十分な硬化性が得られないために耐熱性、
耐湿性等が劣り、また、拡散反射板とした場合に、外光
の利用効率が低下する傾向があり、６．０×１０^−３モ
ル／ｇを超えると、エチレン性不飽和基を有する高分子
結合剤（ａ）を製造する際にゲル化を起こす傾向があ
る。

【００１４】本発明におけるエチレン性不飽和基を有す
る高分子結合剤（ａ）は、後述する（４）現像により
（Ａ）層及び（Ｂ）層からなる感光性樹脂組成物層を選
択的に除去してパターンを形成する工程において、公知
の各種現像液により現像可能となるように酸価を規定す
ることができる。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ水溶
液を用いて現像する場合には、酸価を５０〜２６０ｍｇ
ＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。この酸価が、５０ｍ
ｇＫＯＨ／ｇ未満では、現像が困難となる傾向があり、
２６０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、耐現像液性（現像に
より除去されずに残りパターンとなる部分が、現像液に
よって侵されない性質）が低下する傾向がある。また、
水又はアルカリ水溶液と１種以上の界面活性剤とからな
るアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を、
１６〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。こ
の酸価が、１６ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では、現像が困難と
なる傾向があり、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、耐
現像液性が低下する傾向がある。また、本発明における
（ａ）成分には、エチレン性不飽和基を有さない公知の
高分子結合剤（（ｅ）成分）を併用することができる。
（ｅ）成分の重量平均分子量、酸価の好ましい範囲は、
前記した（ａ）成分と同様である。（ｅ）成分を併用す
る場合においてその使用量は、（ａ）成分及び（ｅ）成
分の総量を１００重量部として、１〜６０重量部とする
ことが好ましく、２〜５０重量部とすることがより好ま
しく、５〜４０重量部とすることが特に好ましく、１０
〜３０重量部とすることが極めて好ましい。また、
（ｅ）成分を併用する場合においてエチレン性不飽和基
濃度は、（ａ）成分と（ｅ）成分の総和で、前記した
（ａ）成分単独使用の場合に好ましいとした範囲にする
ことが好ましい。

【００１５】本発明に用いられる少なくとも２個のエチ
レン性不飽和基を有する光重合性化合物（ｂ）として
は、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン
酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−
（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プ
ロパン、グリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カル
ボン酸を反応させで得られる化合物、ウレタンモノマ
ー、ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレー
ト、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−（メ
タ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−
ヒドロキシエチル−β’−（メタ）アクリロイルオキシ
エチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−
β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレ
ート、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げら
れる。

【００１６】上記多価アルコールにα，β−不飽和カル
ボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、
エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１
４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキ
シトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
テトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレー
ト、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート
（ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート）、
テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、
プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。上記
α，β−不飽和カルボン酸としては、例えば、（メタ）
アクリル酸等が挙げられる。

【００１７】上記２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アク
リロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、
例えば、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシ
ジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−
（ジ（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシ
ペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−（ジ（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニ
ル）等が挙げられ、２，２−ビス（４−（メタクリロキ
シペンタエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−５
００（新中村化学工業株式会社製品名）として商業的に
人手可能である。

【００１８】上記グリシジル基含有化合物としては、例
えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
トリ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メ
タ）アクリロキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）
フェニル等が挙げられる。

【００１９】上記ウレタンモノマーとしては、例えば、
β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソ
ホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシア
ネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−
ヘキサメチレンジイソシアネート等との付加反応物、ト
リス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコール
イソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、Ｅ
Ｏ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変
性ウレタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。な
お、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された
化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有す
る。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変
性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構
造を有する。上記（メタ）アクリル酸アルキルエステル
としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステ
ル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アク
リル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチル
ヘキシルエステル等が挙げられる。これらは単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。

【００２０】本発明に用いられる光重合開始剤（ｃ）と
しては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメ
チル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケ
トン）、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノ
ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノ
ベンゾフェノン、２−ベンシル−２−ジメチルアミノ−
１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１（イル
ガキュアー３６９、チバスペシャリティーケミカルズ株
式会社商品名）、２−メチル−１−〔４−（メチルチ
オ）フェニル〕−２−モルフォリノ−プロパノン−１等
の芳香族ケトン、２−エチルアントラキノン、フェナン
トレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、
オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラ
キノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニル
アントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、
１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノ
ン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキ
ノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジ
メチルアントラキノン等のキノン類、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェ
ニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイ
ン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイ
ン化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導
体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、
２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量
体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’
−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、Ｎ−
フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマ
リン系化合物などが挙げられる。また、２，４，５−ト
リアリールイミダゾール二量体において、２つの２，
４，５−トリアリールイミダゾールに置換した置換基は
同一でも相違していてもよい。また、ジエチルチオキサ
ントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのよう
に、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組
み合わせてもよい。また、密着性及び感度の観点から、
２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体がより好
ましい。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせ
て使用される。

【００２１】本発明の（Ａ）層におけるエチレン性不飽
和基を有する高分子結合剤（ａ）の使用量は、（ａ）及
び（ｂ）成分の総量１００重量部に対して、１０〜８０
重量部とすることが好ましく、２０〜７５重量部とする
ことがより好ましく、３０〜７０重量部とすることが特
に好ましい。この使用量が１０重量部未満では、塗工性
あるいはフィルム性が低下する傾向があり、８０重量部
を超えると、光硬化性あるいは耐熱性が低下する傾向が
ある。

【００２２】本発明の（Ａ）層における少なくとも２個
のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物（ｂ）の
使用量は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００重量部に
対して、２０〜９０重量部とすることが好ましく、２５
〜８０重量部とすることがより好ましく、３０〜７０重
量部とすることが特に好ましい。この使用量が２０重量
部未満では、光硬化性あるいは耐熱性が低下する傾向が
あり、９０重量部を超えると、塗膜性あるいはフィルム
性が低下する傾向がある。

【００２３】本発明の（Ａ）層における光重合関始剤
（ｃ）の使用量は、（ａ）及び（ｂ）成分の総量１００
重量部に対して、０．０５〜２０重量部とすることが好
ましく、０．１〜１５重量部とすることがより好まし
く、０．１５〜１０重量部とすることが特に好ましい。
この使用量が０．０５重量部未満では、光硬化が不充分
となる傾向があり、２０重量部を超えると、（Ａ）層の
活性光線照射表面での活性光吸収が増大して、内部の光
硬化が不充分となる傾向がある。

【００２４】また、本発明における感光性樹脂組成物層
（（Ａ）層及び後述する（Ｂ）層）には、必要に応じ
て、シランカップリング剤などの密着性付与剤、レベリ
ング剤、はく離促進剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃
剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤などを（ａ）
成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対して各々
０．０１〜２０重量部程度含有することができる。これ
らは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００２５】本発明における（Ａ）層は、（Ａ）層を構
成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤、例えば、
メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコール
モノメチルエ一テル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶
解して固形分３０〜６０重量％程度の溶液として塗布す
ることができる。

【００２６】本発明における凹凸形状面を有する仮支持
体としては、特に制限なく公知のものを使用することが
できるが、基板上に感光性エレメントを貼り合わせる
点、及び感光性エレメントを貼り付け、光硬化させた
後、はく離する点で特に好適であるという理由から、ポ
リプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエス
テル等を材質としたフィルムをベースフィルムとして用
い、それをサンドブラスト処理等で直接凹凸形状面を設
けて仮支持体とすることや、前記したベースフィルム上
に光硬化性樹脂及び／または熱硬化性樹脂を積層して、
像状露光や熱成形等により凹凸形状面を設けてベースフ
ィルムと合わせて仮支持体とすること等が特に好まし
い。また、このときの凹凸形状面については、外光をよ
り効率良く利用して明るい表示を得るために、垂直な方
向に散乱する光の強度を増加させることができるような
構造を有するものであれば、特に制限はない。

【００２７】本発明における（Ａ）層を形成する方法と
しては、公知の塗布方法を用いることができ、例えば、
ドクターブレードコーティング法、ワイヤーバーコーテ
ィング法、ロ一ルコーティング法、スクリーンコーティ
ング法、スピナーコーティング法、インクジェットコー
ティング法、スプレーコーティング法、ディツプコーテ
ィング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティ
ング法等が挙げられる。本発明における（Ａ）層の厚さ
は、反射型液晶表示装置とした場合の電気的特性を考慮
して、０．３〜２０μｍとすることが好ましく、０．５
〜１５μｍとすることがより好ましく、０．７〜１０μ
ｍとすることが特に好ましい。

【００２８】本発明の（Ｂ）層におけるフィルム性付与
ポリマー（ｄ）としては、特に制限はなく、例えば、ビ
ニル共重合体が挙げられ、前述したエチレン性不飽和基
を有する高分子結合剤（ａ）を製造する際に使用したビ
ニル共重合体（少なくとも１個のエチレン性不飽和基
と、オキシラン環、イソシアネート基、水酸基、カルボ
キシル基、アミノ基、酸無水物等の１個の官能基を有す
る化合物を付加反応させる前のビニル共重合体）を使用
することができる。

【００２９】本発明におけるフィルム性付与ポリマー
（ｄ）の重量平均分子量及び酸価としては、前述したエ
チレン性不飽和基を有する高分子結合剤（ａ）の場合と
同様の観点から、（ａ）成分と同様の範囲が好ましい。

【００３０】本発明の（Ｂ）層を構成する感光性樹脂組
成物は、前述の少なくとも２個のエチレン性不飽和基を
有する光重合性化合物（ｂ）及び光重合開始剤（ｃ）を
含むものである。具体的には、前述した（Ａ）層を構成
する（ｂ）成分及び（ｃ）成分と同様である。

【００３１】本発明の（Ｂ）層におけるフィルム性付与
ポリマー（ｄ）の使用量は、（ｄ）及び（ｂ）成分の総
量１００重量部に対して、１０〜８０重量部とすること
が好ましく、２０〜７５重量部とすることがより好まし
く、３０〜７０重量部とすることが特に好ましい。この
使用量が１０重量部未満では、塗工性あるいはフィルム
性が低下する傾向があり、８０重量部を超えると、光硬
化性あるいは耐熱性が低下する傾向がある。

【００３２】本発明の（Ｂ）層における少なくとも２個
のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物（ｂ）、
光重合開始剤（ｃ）の各使用量としては、前述した
（Ａ）層の場合と同様の観点から、（Ａ）層と同様の範
囲が好ましい。

【００３３】本発明における（Ｂ）層は、（Ｂ）層を構
成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又
は混合させることにより、均一に分散した溶液とし、
（Ａ）層上に、塗布、乾燥することにより得られる。

【００３４】（Ｂ）層を構成する前記各成分を溶解又は
分散可能な溶剤としては、例えば、（Ａ）層を構成する
前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤等が挙げられ、こ
れらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。

【００３５】前記塗布方法及び乾燥条件は、前述の
（Ａ）層を形成した場合と同様の塗布方法を用いること
ができる。

【００３６】本発明における（Ｂ）層の厚さは、反射型
液晶表示装置とした場合の電気的特性を考慮して、０．
３〜２０μｍとすることが好ましく、０．５〜１５μｍ
とすることがより好ましく、０．７〜１０μｍとするこ
とが特に好ましい。

【００３７】本発明の拡散反射下地層形成用感光性エレ
メントは、（Ｂ）層の上に、さらにカバーフィルムが積
層されていてもよい。

【００３８】カバーフィルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート等からなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィル
ムが挙げられる。

【００３９】このようにして得られる拡散反射下地層形
成用感光性エレメントは、ロ−ル状に巻いて保管し、あ
るいは使用できる。

【００４０】また、本発明の拡散反射下地層形成用感光
性エレメントは、凹凸形状面を有する仮支持体上に
（Ａ）層、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム上
に（Ｂ）層を別々に形成し、（Ａ）層と（Ｂ）層が接す
るように貼り合わせて得ることもできる。以下、本発明
の反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法等の一例
を説明する。

【００４１】（１）基板上に、拡散反射下地層形成用感
光性エレメントを、（Ｂ）層が基板に接するようにして
積層する工程 本発明で使用される基板は、特に制限はなく、例えば、
セラミック板、プラスチック板、ガラス板等が挙げられ
る。この基板上には、絶縁層、電極、ＴＦＴ等が設けら
れていてもよい。

【００４２】本発明において、基板上に、前記拡散反射
下地層形成用感光性エレメントを、前記（Ｂ）層が前記
基板に接するようにして積層する方法としては、（Ｂ）
層にカバーフィルムが接して存在しているときは、その
カバーフィルムを除去後、基板上に（Ｂ）層が接するよ
うに、圧着ロ−ルで圧着させること等により行うことが
できる。

【００４３】圧着ロ一ルは、加熱圧着できるように加熱
手段を備えたものであってもよく、加熱圧着する場合の
加熱温度は、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２
０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０
℃とすることが特に好ましい。この加熱温度が、１０℃
未満では、（Ｂ）層と基板との密着性が低下する傾向が
あり、１８０℃を超えると、（Ａ）層及び（Ｂ）層の構
成成分が熱分解する傾向がある。

【００４４】また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１×１０^５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×
１０^２〜５×１０^４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、
５×１０^２〜４×１０^４Ｎ／ｍとすることが特に好まし
い。この圧着圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、（Ｂ）層と
基板との密着性が低下する傾向があり、１×１０^５Ｎ／
ｍを超えると、基板が破壊される傾向がある。

【００４５】拡散反射下地層形成用感光性エレメントを
前記のように加熱すれば、基板を予熱処理することは必
要ではないが、（Ｂ）層と基板との密着性をさらに向上
させる点から、基板を予熱処理することが好ましい。こ
の時の予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好まし
い。

【００４６】このようにして、本発明の拡散反射下地層
形成用感光性エレメントの（Ａ）層及び（Ｂ）層を基板
上に積層することができる。

【００４７】（２）感光性樹脂組成物層に活性光線を照
射する工程 本発明において、（Ａ）層及び（Ｂ）層の感光性樹脂組
成物層に活性光線を照射する方法としては、基板上に積
層された前記感光性樹脂組成物層に公知の活性光線が有
効に照射される方法であれば特に制限されない。また、
本発明における活性光線としては、公知の活性光源が使
用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高
圧水銀灯、キセノンランプ等が挙げられ、紫外線を有効
に放射するものであれば特に制限されない。

【００４８】（３）凹凸形状面を有する仮支持体をはく
離して除去する工程 本発明において、（Ａ）層に接している凹凸形状面を有
する仮支持体をはく離して除去する方法としては、前記
仮支持体に粘着テープを接着したり、鉤型の治具等を用
いて、物理的に前記仮支持体を剥離する方法等が挙げら
れる。また、作業性向上を目的に、静電気、吸引力など
の力を利用して、前記仮支持体を物理的に剥離する方法
等も挙げられる。また、拡散反射下地層の耐熱性及び耐
湿性の向上及び所望の凹凸形状維持の観点から、凹凸形
状面を有する仮支持体をはく離して除去した後、加熱す
ることもできる。加熱時の温度は、１４０〜３００℃と
することが好ましく、１５０〜２９０℃とすることがよ
り好ましく、１６０〜２８０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１４０℃未満では、効果が不十分
となる傾向があり、３００℃を超えると、（Ａ）層及び
（Ｂ）層の構成成分が熱分解する傾向がある。

【００４９】以上に挙げた方法により、所望の凹凸形状
面を有する拡散反射下地層を形成する工程を行うことが
できる。また、本発明における反射型液晶表示装置用拡
散反射板は、前記拡散反射下地層に反射膜を形成するこ
とにより得られる。前記拡散反射下地層に反射膜を形成
する方法としては、公知の方法が使用でき、例えば、ス
パッタリング法、蒸着法等により、Ａｇ、Ａｌ等の金属
膜を形成する方法等が挙げられる。

【００５０】このようにして、反射型液晶表示装置用拡
散反射板を製造することができるが、拡散反射下地層上
の反射膜を電極として使用可能とすること等を目的に、
前記（１）工程の後に、（２’）感光性樹脂組成物層に
活性光線を像的に照射する工程、（３）凹凸形状面を有
する仮支持体をはく離して除去する工程、（４）現像に
より（Ａ）層及び（Ｂ）層からなる感光性樹脂組成物層
を選択的に除去してパターンを形成する工程により、所
望の凹凸形状面を有する拡散反射下地層を形成し、さら
に拡散反射下地層上に反射膜を形成することにより、反
射型液晶表示装置用拡散反射板を製造することもでき
る。以下、前記（２’）及び（４）工程を詳細に説明す
る。

【００５１】（２’）感光性樹脂組成物層に活性光線を
像的に照射する工程 本発明において、感光性樹脂組成物層に活性光線を像的
に照射する方法としては、基板上に積層された前記感光
性樹脂組成物層にフォトマスクを介して、公知の活性光
線を照射する方法等が挙げられる。この時、（Ａ）層の
上に前記した凹凸形状面を有する仮支持体が存在する場
合には、この仮支持体も介して活性光線が照射されるこ
ととなる。また、本発明における活性光線としては、前
記（２）で使用できる公知の活性光源が挙げられ、紫外
線を有効に放射するものであれば特に制限されない。

【００５２】（４）現像により（Ａ）層及び（Ｂ）層か
らなる感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターン
を形成する工程 本発明における現像方法としては、アルカリ水溶液、水
系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレ
ー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知
方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げ
られ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液
が好ましいものとして挙げられる。

【００５３】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、水酸化テト
ラメチルアンモニウム等が好ましいものとして挙げられ
る。現像温度及び時間は、本発明における感光性樹脂組
成物層の現像性に合わせて調整することができる。ま
た、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像
を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させること
ができる。

【００５４】また、現像後、光硬化後の感光性樹脂組成
物層に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機
酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸
漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により
酸処理（中和処理）することができる。さらに、酸処理
（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。

【００５５】また、現像後、光硬化後の感光性樹脂組成
物層表面に形成された凹凸形状を維持すること、基板密
着性及び耐薬品性等を向上させることを目的に、高圧水
銀ランプ等による紫外線照射や加熱を行うこともでき
る。この時の、紫外線の照射量は、通常、１×１０^３〜
１×１０^５Ｊ／ｍ^２であり、照射の際に、加熱を伴うこ
ともできる。この紫外線照射量が、１×１０^３Ｊ／ｍ^２
未満では、効果が不十分となる傾向があり、１×１０^５
Ｊ／ｍ^２を超えると、（Ａ）層及び（Ｂ）層が変色する
傾向がある。また、紫外線照射の後に加熱を行うことも
でき、加熱時の温度は、１４０〜３００℃とすることが
好ましく、１５０〜２９０℃とすることがより好まし
く、１６０〜２８０℃とすることが特に好ましい。この
加熱温度が、１４０℃未満では、効果が不十分となる傾
向があり、３００℃を超えると、（Ａ）層及び（Ｂ）層
の構成成分が熱分解する傾向がある。

【００５６】このようにして、（Ａ）層及び（Ｂ）層か
らなる感光性樹脂組成物層が選択的に除去されたパター
ンを有し、さらに所望の凹凸形状面を有する拡散反射下
地層を形成することができる。

【００５７】さらに、前記した方法により、このような
拡散反射下地層上に反射膜を形成して、反射型液晶表示
装置用拡散反射板を製造することができる。凹部を有す
る基体の凹部に対応するパターンを形成することもでき
る。

【００５８】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれに制限されるものではない。

【００５９】（製造例１） （エチレン性不飽和基を有する高分子結合剤溶液（ａ−
１）の作製）撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及
び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込
み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８
０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間か
けて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で
６時間撹拌を続けた後、表１に示す（３）を添加した。
（３）を添加後、反応系を１００℃に昇温し、０．５時
間かけて表１に示す（４）を滴下した。（４）の滴下
後、１００℃で２０時間撹拌を続けた後、室温（２３
℃）に冷却して、重量平均分子量が約３０，０００のエ
チレン性不飽和基を有する高分子結合剤溶液（固形分４
０．１重量％、エチレン性不飽和基濃度１．７５×１０
^−３モル／ｇ）（ａ−１）を得た。

【００６０】

【表１】

【００６１】（製造例２） （フィルム性付与ポリマー溶液（ｄ−１）の作製）撹拌
機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えた
フラスコに、表２に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲
気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ち
ながら、表２に示す（２）を４時間かけて均一に滴下し
た。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続
け、重量平均分子量が約３０，０００のバインダーポリ
マーの溶液（固形分４０．１重量％）（ｄ−１）を得
た。

【００６２】

【表２】

【００６３】（製造例３） （（Ａ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ａ‐１）の作製）
表３に示す材料を、撹拌機を用いて１５分間混合し、エ
チレン性不飽和基を有する高分子結合剤（ａ）、少なく
とも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物
（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）からなる（Ａ）感光性樹脂
組成物層用溶液（Ａ−１）を作製した。

【００６４】

【表３】

【００６５】（製造例４） （（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−１）の作製）
表４に示す材料を、撹拌機を用いて１５分間混合し、フ
ィルム性付与ポリマー（ｄ）、少なくとも２個のエチレ
ン性不飽和基を有する光重合性化合物（ｂ）、光重合開
始剤（ｃ）からなる（Ｂ）感光性樹脂組成物層用溶液
（Ｂ−１）を作製した。

【００６６】

【表４】

【００６７】（実施例１） （拡散反射下地層形成用感光性エレメント（ｉ）の製
造）凹凸形状面を有する仮支持体としてサンドブラスト
処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを使
用し、製造例３で得られた（Ａ）層用溶液（Ａ−１）を
仮支持体の凹凸形状を有する面上にコンマコーターを用
いて均一に塗布し、９０℃の熱風対流式乾燥機で１０分
間乾燥して溶剤を除去し、（Ａ）層を形成した。得られ
た（Ａ）層の厚さは２μｍであった。

【００６８】次いで、得られた（Ａ）層の上に、製造例
４で得られた（Ｂ）層用溶液（Ｂ−１）をコンマコータ
ーを用いて均一に塗布し、９０℃の熱風対流式乾燥機で
１０分間乾燥して溶剤を除去し、（Ａ）層上に（Ｂ）層
を形成した。得られた（Ｂ）層の厚さは３μｍであっ
た。

【００６９】次いで、（Ｂ）層の上に、さらに、２５μ
ｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムと
して貼り合わせて、拡散反射下地層形成用感光性エレメ
ント（ｉ）を作製した。

【００７０】（実施例２） （拡散反射下地層の基板密着性評価）実施例１で得られ
た拡散反射下地層形成用感光性エレメント（ｉ）のポリ
エチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのガラス
基板上に、（Ｂ）層が接するようにラミネータ（日立化
成工業株式会社製、商品名ＨＬＭ−１５００型）を用い
て、ロール温度１２０℃、基板送り速度０．５ｍ／分、
圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍ
ｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この
時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネート
して、ガラス基板、（Ａ）層及び（Ｂ）層からなる感光
性樹脂組成物層、仮支持体が積層した基板を作製した。
これに、仮支持体側から、３ＫＷ超高圧水銀灯（ＨＭＷ
−５９０、株式会社オーク製作所製）で２×１０^３Ｊ／
ｍ^２の紫外線を照射してから、仮支持体を引き剥がした
後、２５０℃の熱風対流式乾燥機で３０分間熱硬化した
ところ、感光性樹脂組成物層の表面（（Ａ）層表面）は
サンドブラスト加工された凹凸が転写されており、拡散
反射特性に優れた凹凸形状面であった。上記工程で得ら
れた拡散反射下地層付き基板を、温度６０℃、湿度９０
％ＲＨに保った恒温槽へ２４時間投入した後、クロスカ
ット試験（ＪｌＳ−Ｋ５４００、１ｍｍ角碁盤目法）を
行ったところ、拡散反射下地層のはがれが一切なく、良
好な基板密着性であった。

【００７１】（拡散反射板の耐熱性評価）上記２５０℃
の熱風対流式乾燥機で３０分間熱硬化した拡散反射下地
層付き基板に、Ａｌ膜（反射膜として）をスパッタリン
グ法により０．１μｍに積層して、耐熱性評価用の拡散
反射板を作製した。このようにして得られた拡散反射膜
を、２５０℃で６０分間加熱した後、拡散反射下地層と
Ａｌ膜との界面を観察したところ、拡散反射下地層表面
からのＡl膜のはく離は全く発生しておらず、良好な拡
散反射板としての形態を保持していた。

【００７２】（実施例３） （拡散反射下地層の基板密着性評価）実施例１で得られ
た拡散反射下地層形成用感光性エレメント（ｉ）を用い
て、実施例２と同様にしてガラス基板、（Ａ）層及び
（Ｂ）層からなる感光性樹脂組成物層、仮支持体が積層
した基板を得た。次いで、仮支持体の上に、直径２０μ
ｍの活性光線不透過部分を有するフォトマスクを設置
し、株式会社オーク製作所製、ＨＭＷ−２０１ＧＸ型露
光機を使用して、露光量３×１０^２Ｊ／ｍ^２で、活性光
線を像的に照射した。

【００７３】次いで、仮支持体を引き剥がして除去した
後、１重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を
用いて、３０℃で２０秒間スプレー現像して、（Ａ）層
及び（Ｂ）層からなる感光性樹脂組成物層を選択的に除
去してパターンを形成した。

【００７４】現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電
材株式会社製東芝紫外線照射装置を使用して、３×１０
^４Ｊ／ｍ^２の紫外線照射を行った。次いで２５０℃の熱
風対流式乾燥機で３０分間熱硬化したところ、感光性樹
脂組成物層の表面（（Ａ）層表面）はサンドブラスト加
工された凹凸が転写されており、拡散反射特性に優れた
凹凸形状面であった。上記工程で得られた拡散反射下地
層付き基板を、温度６０℃、湿度９０％ＲＨに保った恒
温槽へ２４時間投入した後、クロスカット試験（ＪｌＳ
−Ｋ５４００、１ｍｍ角碁盤目法）を行ったところ、拡
散反射下地層のはがれが一切なく、良好な基板密着性で
あった。

【００７５】（拡散反射板の耐熱性評価）上記２５０℃
の熱風対流式乾燥機で３０分間熱硬化した拡散反射下地
層付き基板に、実施例２と同様にして、Ａl膜を積層し
て、耐熱性評価用の拡散反射板を作製し、拡散反射下地
層とＡl膜との界面を観察したところ、拡散反射下地層
表面からのＡl膜のはく離は全く発生しておらず、良好
な拡散反射板としての形態を保持していた。

【００７６】（比較例１） （拡散反射下地層の基板密着性評価）実施例１と同様の
方法により、凹凸形状面を有する仮支持体上に、製造例
４で得られた（Ｂ）層用溶液（Ｂ−１）を用いて、乾燥
後の厚さ３μｍの（Ｂ）層を形成し、これを用いて、実
施例２と同様の方法により、基板密着性評価用の拡散反
射下地層付き基板を作製した。得られた基板密着性評価
用の拡散反射下地層付き基板を、実施例２と同様に、温
度６０℃、湿度９０％ＲＨに保った恒温槽へ２４時間投
入した後、クロスカット試験（ＪｌＳ−Ｋ５４００、１
ｍｍ角碁盤目法）を行ったところ、拡散反射下地層のは
がれが一切なく、良好な基板密着性であったが、感光性
樹脂組成物層の表面（（Ｂ）層表面）は、サンドブラス
ト加工された凹凸形状維持性が低下していた。

【００７７】（拡散反射下地層の耐熱性評価）実施例２
と同様にして、耐熱性評価用のＡl薄膜付き拡散反射板
を作製し、２５０℃で６０分間加熱した後、拡散反射下
地層とＡl膜との界面を観察したところ、拡散反射下地
層表面からのＡl膜のはく離は全く発生していなかった
が、サンドブラスト加工された凹凸形状を維持できず、
拡散反射板としての形態を保持できていなかった。

【００７８】

【発明の効果】請求項１に記載の拡散反射下地層形成用
感光性エレメントは、特に反射特性、耐熱性及び耐湿性
に優れることで、金属薄膜の部分的はく離がなくかつ高
温高湿下で拡散反射下地層の基板密着性に優れた拡散反
射板を歩留まり良く製造できるものである。請求項２に
記載の反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法は、
請求項１に記載の効果に加えて、さらに外光をより効率
良く利用して明るい表示を得られる拡散反射板及び反射
型液晶表示装置を製造できる。請求項３に記載の反射型
液晶表示装置用拡散反射板の製造方法は、請求項２に記
載の効果に加えて、さらに精細度に優れた拡散反射板及
び反射型液晶表示装置を製造できる。請求項４に記載の
反射型液晶表示装置用拡散反射板は、耐熱性及び耐湿性
に優れることで、金属薄膜の部分的はく離がなくかつ高
温高湿下で拡散反射下地層の基板密着性に優れた拡散反
射板を歩留まり良く製造でき、反射特性に優れる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/095 Ｇ０３Ｆ 7/095 7/11 ５０３ 7/11 ５０３ Ｆターム(参考） 2H025 AB14 AC01 AD01 BC13 BC42 CA00 CB00 DA11 DA20 FA39 2H042 BA03 BA15 BA20 DA02 DA11 DB06 DB08 DC02 DE00 2H091 FA16Y FA16Z FB04 FB08 FC02 FC10 GA01 LA04 LA06 LA12 LA30

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 凹凸形状面を有する仮支持体の凹凸形状
   面上に、エチレン性不飽和基を有する高分子結合剤
   （ａ）、少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する
   光重合性化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）からなる感
   光性樹脂組成物層（Ａ）を有し、前記（Ａ）層の上に、
   フィルム性付与ポリマー（ｄ）、少なくとも２個のエチ
   レン性不飽和基を有する光重合性化合物（ｂ）、光重合
   開始剤（ｃ）からなる感光性樹脂組成物層（Ｂ）を積層
   してなる拡散反射下地層形成用感光性エレメント。
2. 【請求項２】 （１）基板上に、請求項１に記載の拡散
   反射下地層形成用感光性エレメントを、前記（Ｂ）層が
   前記基板に接するようにして積層する工程、（２）感光
   性樹脂組成物層に活性光線を照射する工程、（３）凹凸
   形状面を有する仮支持体をはく離して除去する工程によ
   り、所望の凹凸形状面を有する拡散反射下地層を形成
   し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成することを
   特徴とする反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方
   法。
3. 【請求項３】 （１）基板上に、請求項１に記載の拡散
   反射下地層形成用感光性エレメントを、前記（Ｂ）層が
   前記基板に接するようにして積層する工程、（２’）感
   光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、
   （３）凹凸形状面を有する仮支持体をはく離して除去す
   る工程、（４）現像により（Ａ）層及び（Ｂ）層からな
   る感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形
   成する工程により、所望の凹凸形状面を有する拡散反射
   下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形
   成することを特徴とする反射型液晶表示装置用拡散反射
   板の製造方法。
4. 【請求項４】 請求項２または請求項３に記載の反射型
   液晶表示装置用拡散反射板の製造方法により得られた反
   射型液晶表示装置用拡散反射板。