JPH01282542A - 画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は印刷版、返し用フィルム、カラーテストプリン
ト、カラープルーフ及びドライフィルムレジストなどに
用いられるネガ型またはポジ型画像形成材料に関するも
のである。

「従来の技術」 従来より、印刷、写真および金属等の微細加工など種々
の分野で使用されている画像形成材料は、基本的に支持
体（転写型の画像形成材料においては仮支持体とも称さ
れる）と、その上に設けられたフォトポリマーからなる
感光性樹脂層とから実質的に構成されている。

例えば、このような構成を有する転写型の画像形成材料
（感光性転写シート）は色校正に用いられる１色校正用
のカラープルーフィングシートは、各色版用の分解網フ
ィルムを通して画像形成材料を露光、現像して感光性樹
脂層上に分解画像を形成し、このシートのまま観察する
か、あるいはこの分解画像を任意の支持体（受像面）上
に転写することにより得ることができる。また、多色画
像は、上記支持体上に更に別色の分解画像を転写する工
程を繰り返すことにより得ることもできる。

更に、上記転写工程を簡略化するまために、支持体と感
光性樹脂層との間に剥離層が設けられた画像形成材料も
知られている（特公昭４９−４４１号、特開昭４７−４
１８３０号公報等参照）。

いずれにしても、画像形成材料は実質的に支持体と感光
性樹脂層とからなり、必要に応じてこの感光性樹脂層の
上には保護層が設けられるが、その製造は常法により行
われる。すなわち、長尺シート状のポリエチレンテレフ
タレート等からなる支持体上に、感光性樹脂層用の塗布
液′（以下、感光液と略す）を塗布したあと、一定の温
度で加熱乾燥させ（乾燥工程）、そのまま連続的に巻き
取る（巻き取り工程）ことにより製造される。保護層が
設けられる場合には、−旦巻き取った後に保護層用の塗
布液を感光性樹脂層上に塗布、乾燥することにより製造
される。さらに、巻き取られた画像形成材料は所望の規
格寸法に裁断する等の後処理が施され（加工工程）、製
品化される。

画像形成材料を露光する場合、紫外線を用いる事が通常
行われる０画像形成材料に入射した紫外線が未照射部に
散乱した場合、ネガ型画像形成材料の場合には、画像部
の太りあるいは高網点部（シャド一部）での現像液は不
良、ポジ型画像形成材料の場合には画像部の細り、ある
いはハイライト部でのドツト飛び現象を生じる事になる
。この対策として、感光性フォトレジスト組成物層の下
鍔あるいは支持体の裏側にアンチハレーション層を設け
、紫外線吸収剤、場合によっては染料や顔料を添加する
方法、感光性フォトレジスト組成物層中に紫外線吸収剤
を添加する方法が考えられるが、バッキング層に従来の
紫外線吸収剤を添加すると層表面に移行して効果が失わ
れてしまう、あるいは紫外線吸収剤自身に可視部の吸収
があり着色している、といった問題点を生じていた。

ｒ本発明が解決しようとする問題点」 本発明は、十分なハレーション防止効果を有する画像形
成材料を提供することをその目的とするものである。

「問題点を解決するための手段」 本発明の目的は、支持体上に染料もしくは顔料を含有す
る感光性フォトレジスト組成物層を塗布して成り、また
は染料もしくは顔料を含有する色材層と感光性フォトレ
ジスト組成物層とを積層して成り、支持体の反対面に高
分子化合物を含有するバッキング層を有する感光性画像
形成材料において、バッキング層に２０℃における蒸気
圧が１×１０−５Ｐａより小さい紫外線吸収剤を含有せ
しめることを特徴とする画像形成材料により達成された
。

以下に本発明の詳細な説明する。

本発明に使用する紫外線吸収剤は、下記一般式［Ｉ］で
表されるものが好ましい。

ここでＲは水素原子、それぞれ置換もしくは無Ｃｍのア
ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
基、アラルキル基、スルホニル基もしくはアリールスル
ホニル基、Ｎ−１ｌｆｉのカルバモイル基もしくはスル
ファモイル基、置換もしくは無置換のアルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基をそれ
ぞれ有するオキサリル基、オキサモイル基、オキシカル
ボニル基もしくはオキサアセチル基を示し、Ｒ，、Ｒ２
゜Ｒ３，Ｒ１，Ｒ５は水素原子、ハロゲン原子、それぞ
れ置換又は無置換のアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルア
ミノ基、スルホンアミド基、ニトロ基、スルホン酸基又
はそのエステルもしくは塩、カルボン酸基又はそのエス
テルもしくは塩、又はへテロ環基を表す、Ｒ４とＲ９は
閉環して炭素原子からなる５又は６員環を形成しても良
い。

これらのうち、下記−最式［１］で表される構造を有す
るものがより好ましい。

ここでＲ６−Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、それぞ
れ置換または無置換のアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基
、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシル
アミノ基、スルホンアミド基、ニトロ基、スルホン酸基
又はそのエステルもしくは塩、カルボン酸基又はそのエ
ステルもしくは塩、又はへテロ環基を表す。

具体例としては、下記構造式で表される化合物が好まし
い。

２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α′−ジメ
チルペンシル）フェニル］　−２８−ベンゾトリアゾー
ル 分子量：４４７．６　　融点＝１３５〜１４３℃比重（
２０℃）：１．２２　　蒸気圧（２０″Ｃ）＝２、Ｉ　
Ｘ　１０−”Ｐ　ａ　　最大吸収波長：３４６ｎｍ商品
名：ＴＩＮＵＶＩＮ　　２３４ ２−（３，５−ジ、−１−ブチルー２−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール 分子量：３２３．４　　融点＝１５２〜１５６℃比重く
２０℃）：１．１８　　蒸気圧（２０℃）＝７．２Ｘ１
０−５Ｐａ　　ｆｋ大吸収波長：　３４５ｎｍ商品名　
ＴＩＮＵＶＩＮ　　３２０ スミソーブ　３２０ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　５８２ ２−　（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール分子量：３
１５．８　　融点＝１３７〜１４１℃比重（２０’Ｃ）
：　１．３２　　蒸気圧（２０℃）ニア、５Ｘ１０−５
Ｐａ　　ｆ＆大吸収波長：３５３ｎｍ商品名　ＴＩＮＵ
ＶＩＮ　　３２６ スミソーブ　３００ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　５５０ 、―−−−■−−−峨一一−１−一一−■−一２−（３
，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール分子量：３５７．９　　融
点：１５４〜１５８℃比重く２０℃’）：　１．２６　
　蒸気圧（２０℃）：１、ＩＸＩ（Ｉ５Ｐａ　　最大吸
収波長：３５２ｎｍ商品名　ＴＩＮＵＶＩＮ　　３２７ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　５８０ ２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール 分子量：３５１．５　　融点：８０℃以上　比重く２０
℃）：　１．１？　　蒸気圧（２０℃）：４．７Ｘ１（
１５Ｐａ　　ＫＡ大吸収波長：３４６ｎｍ商品名　ＴＩ
ＮＵＶＩＮ　　３２８ スミソーブ　３５０ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　５９１ 蒸気圧（２０℃）：約１０−’〜１０−５Ｐａ商品名　
スミソーブ　３４０ Ｖｉｏｓｏｒｂ　　５８３ これらの中でより好ましいのは構造式（１）。

（３）及び（６）で表される化合物であり、最も好まし
いのは構造式（１）で表される化合物である。

これらの紫外線吸収剤の好ましい添加量は、１ｍ２当た
り０．１〜１０００ｍｇ、より好ましくは２〜５００ｍ
ｇ、更に好ましくは２０〜２００ｍｇである。

本発明の代表的な画像形成材料は、透明支持体上に染料
もしくは顔料を含有する感光性フォトレジスト組成物層
を塗布し、または染料もしくは顔料を含有する色材層と
感光性フォトレジスト組成物層とを積層し、該支持体の
反対面にバッキング層を有してなる構成であるが、これ
だけに限定されるものではなく、例えば、保護層があっ
ても良く、支持体と感光性フォトレジスト層との間に各
種の中間層が設けられた構成であっても良い。

上記のような構成を有する本発明の画像形成材料は、例
えば以下に述べるような方法により製造することができ
る。

支持体の材料としては、化学的及び熱的に安定であって
、かつ撓曲性を有する物質が用いられる。

必要に応じて化学光線透過性であっても良い、具体的に
は、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロ
ゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロ
ース、セロハン等のセルロース誘導体類、ポリアミド類
、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド類が挙
げられる。

これらの中で特に好ましいものは、寸法安定性及び透明
性において優れた二軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムである。

この支持体の光重合系感光性樹脂層が設けられる側と反
対側の表面には、バック層を設ける。バック層の例とし
ては、マット剤がアセチルセルロース中に分散状態で含
有支持されてなる層がある。

アセチルセルロースとしては、例えばモノアセチルセル
ロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロー
ス、アセチルブチルセルロースを挙げることができる。

アセチルセルロースは、特にその酢化度（アセチル化度
）が４０〜６０％の範囲にあるのが好ましく、かつ平均
重合度が５０〜４００の範囲にあるのが好ましい。

マット剤としては、例えば二酸化ケイ素（コロイダルシ
リカを含む）、酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム
、水酸化アルミニウム、二酸化チタン、炭酸カルシウム
、酸化亜鉛等の微粒子状の無機化合物、及び架橋ポリス
チレンなどの溶剤に不溶の有機重合体で微粒子状のもの
を挙げることができる。これらのマット剤の平均粒径は
、バック層の層厚によっても異なるが、０．００５〜１
０μｍの範囲にあるのが好ましい、上記マット剤は単独
で使用してもよいし、あるいは２種以上を併用してもよ
い。

アセチルセルロースとマット剤との比率は、アセチルセ
ルロースに対するマット剤の含有比率が１〜６０重量％
の範囲にあるように調整するのが好ましい。マット剤の
含有比率がこの範囲を越えると、バック層と支持体との
接着性が不十分となる場合がある。

バック層の形成においては、まず上記アセチルセルロー
スとマット剤とを適当な溶剤を用いて混合し、塗布液を
調製する。この場合の溶剤としては、例えばアセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサンなどのケトン類；
酢酸メチル、酢酸エチルなどの酢酸エステル類；メチル
セロソルブ、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエ
ーテル類；及び塩化メチレン、ジアセトンアルコールを
挙げることができる。これらのものは単独で使用しても
よいし、あるいは２種以上の混合溶媒として用いてもよ
い。

バック層は上記塗布液を通常の方法を用いて支持体上に
塗布、乾燥することにより形成することができる。

なお、塗布液には必要に応じて、ポリエチレンテレフタ
レート（支持体）との密着性を高める目的でレゾルシン
などのエツチング剤やアンチハレーション剤を添加して
もよい。

バック層の層厚は一般に０．０１〜５μｍの範囲にある
のが好ましく、特に好ましくは０．１〜０．５μｍの範
囲である。

次に、支持体のもう一方の側には感光性フォトレジスト
組成物層が設けられる。該感光性フォトレジスト組成物
層が光重合系感光性樹脂層の場合は、通常は、常圧で１
５０’Ｃ以上の沸点を有し、少なくとも一個の付加重合
によって光重合体を形成し得る多官能とニルモノマー又
はビニリデン化合物などのモノマー化合物、有機重合体
結合剤、及び活性光線によって活性化される光重合開始
剤からなり、必要に応じて熱重合禁止剤が添加される。

光重合系感光性樹脂層の形成に使用できるとニルモノマ
ー又はビニリデン化合物は、たとえば、ポリオールの不
飽和エステル、特にアクリル酸又はメタクリル酸のエス
テルが好ましい、具体例としては、エチレングリコール
ジアクリレート、グリセリントリアクリレート、ポリア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１
，３−プロパンジオールジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールジメタクリレート、１，２．４−ブタント
リオールトリメタクリレート、トリメチロールエタント
リアクリレート、ペンタエリトリットジメタクリレート
、ペンタエリトリットトリメタクリレート、ペンタエリ
トリットテトラメタクリレート、ペンタエリトリットジ
アクリレート、ペンタエリトリットトリアクリレート、
ペンタエリトリットテトラアクリレート、ジペンタエリ
トリットボーリアクリレート、１，３−プロパンジオー
ルジアクリレート、１，５−ベンタンジオールジメタク
リレート、２００〜４００の範囲の分子量を有するポリ
エチレングリコールのビスアクリレート、ビスメタクリ
レート及び類似の化合物を挙げることができる。

また七ツマー化合物としては、不飽和アミドを用いるこ
ともでき、その例としてはα、ω−ジアミンを有するア
クリル酸及びメタクリル酸の不飽和アミド及びエチレン
ビスメタクリルアミドを挙げることができる。不飽和ア
ミドのアルキレン鎖は炭素原子によって開かれていても
よい、ただし、光重合性モノマーはこれらの化合物に限
定されるものではない。

光重合開始剤としては、たとえば、ベンゾフェノン、ミ
ヒラーケトン［４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベン
ゾフェノン］、４．４’−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン、４−メトキシ−４″−ジメチルアミノベン
ゾフェノン、２−エチルアントラキノン、フエナントラ
キノン、及びその他の芳香族ケトンのような芳香族ケト
ン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル及びベンゾインフェニルエーテルの
ようなベンゾインエーテル類；メチルベンゾイン、エチ
ルベンゾイン及びその他のベンゾインＭ：ｆ、ｔらびに
２−（ｏ−クロロフェニル）−４゜５−ジフェニルイミ
ダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５
−（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾールニ量体、２−
（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２−（０−メトキシフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシ
フェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、
２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイ
ミダゾールニ量体、２−　（２゜４−ジメトキシフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（
ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、及び米国特許第３，４７９．１８
５号、同３．７８４．５５７号、英国特許１，０４７，
５６９号の各明細書に記載されているような２，４．５
−トリアクリルイミダゾール二量体を挙げることができ
る。

有機重合体結合剤としては、上記モノマー化合物及び光
重合開始剤との相溶性の点から特にビニル系高分子物質
が良好である。ビニル系高分子物質としては、例えば、
ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸メチ
ル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、ポ
リメタクリル酸、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニル
エーテル、ポリビニルアセタール及びこれらの共重合物
等の種々のものが挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。

ここで、モノマー化合物と、有機重合体結合剤の混合比
は、使用されるモノマー化合物と有機重合体結合剤の組
み合わせによってもその適正比は異なるが、一般には１
：１０〜２：１（重量比）の範囲が好ましい、またこの
とき、光重合開始剤の添加量はモノマー化合物の使用重
量に対して０゜０１〜２０重量％の範囲が好ましい。

熱重合禁止剤としては、たとえば、ｐ−メトキシフェノ
ール、ハイドロキノン、アルキル又はアリール置換ハイ
ドロキノン、ターシャリ−ブチルカテコール、ピロガロ
ール、ナフチルアミン、β−ナフトール、ツェナチアジ
ン、ピリジン、ニトロベンゼン、０−トルキノン、アリ
ールホスファイトを挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。

また、感光性フォトレジスト組成物層が光解離系樹脂層
の場合は、光解離する化合物として米国特許第２，７６
６．１１８号、同第３．６４７．４４３号等に記載され
ているオルトキノンジアジド化合物、特開昭５６−１７
３４５号に記載されている主鎖にオルトエステル基を有
する化合物、特開昭６０−３７５４９号に記載された主
鎖にシリルエーテル基を有する化合物等が挙げられる。

この場合は、有機重合体結合剤は必ずしも必要ではない
が、ノボラック型フェノール樹脂等を用いることができ
る。結合剤は光解離系ＩＭ脂層の約４０〜９０重量％の
範囲で用いることができる。

感光性フォトレジスト組成物層の層厚は、一般に０．１
〜１５０μｍの範囲にあり、好ましくは０．５〜１００
μｍの範囲にある。

これらの感光性フォトレジスト組成物層の材料及びその
形成方法の詳細については、例えば特公昭４６−１５３
２６号、同４６−３５６８２号、特開昭４７−４１８３
０号、同４８−９３３３７号、同４９−４４１号、同５
１−５１０１号、同５９−９７１４０号などの各公報に
記載されている。

着色物質を使用する場合には、着色物質は感光性樹脂層
に含有されてもよいし、あるいは別に色材層を設けてこ
の中に含有させてもよい６色材層は感光性フォトレジス
ト組成物層の上部及び下部のどちらにでも設けることが
できるが、画像露光工程における感光性樹脂層の感度（
光重合性）の点から、色材層の上に感光性フォトレジス
ト組成物層を設けるのが好ましい、また、着色物質とし
ては、公知の顔料及び染料を用いることができる。

着色物質及び色材層の詳細については、たとえば特開昭
５９−９７１４０号公報に開示されている。

さらに、本発明の画像形成材料は酸素による感度の低下
を防止する意味から酸素透過性の小さい保ＭＷ　／ＴＪ
を設けることもできる。保護層は、たとえばポリビニル
アルコール、ポリ酢酸ビニル、メチルビニルエーテル・
無水マレイン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、ゼラ
チン、アラビアゴムなどの高分子物質の溶液を塗布、乾
燥することにより形成することができる。保護層の膜厚
としては０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜３μｍ、
より好ましくは０．２〜２μｍである。

保護層には各種マット剤、滑り剤、帯電防止剤等を必要
に応じて添加することができる。

なお、本発明において紫外線透過量は以下の様に定義さ
れる。紫外線吸収剤を添加した試料及び添加しない試料
の３２５〜４２５ｎｍの吸収スペクトルをフＩＩ定し、
それぞれの試料のこの波長範囲における全透過量を求め
、後者の透過量を１００としたときの前者の透過量とす
る。

本発明の紫外線吸収剤の効果の程度は、使用する色材の
種類及び量で変わる。即ち、上記の波長範囲に大きな吸
収を持つ色材を多量に用いたときには、色材そのものが
紫外線吸収剤の効果を発現し、別に添加された本発明の
紫外線吸収剤の効果は顕著には現れない。一方、この波
長範囲の吸収が小さい色材、もしくは吸収は大きくても
色材の使用量が少ない場合には効果はより顕著に現れる
。

紫外線吸収剤を含有しない色材層を有する試料の紫外線
透過量を上記の波長範囲で測定したとき、紫外線透過量
が約５％以上のときに、本発明の紫外線吸収剤を添加し
た効果が顕著に現れる。

以下に本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１ バック層形成用塗布液として、下記組成を有する溶液を
調製した。

バパ　　　°−・ レゾルシン（エツチング剤）　　　２．８Ｋｇジアセチ
ルセルロース（酢化度：　　０．３Ｋｇ５５±０．５％
、平均重合度： １６０　アセテートフレクス Ｖ−ＡＣ１ダイセル（株）製） 二酸化ケイ素（平均粒径：４０　　０．ＩＫｇｎｍ、Ｔ
Ｔ−６００、日本アエロジル（株）製）メタノール　　
　　　　　　　　　　　８Ｋｇメチルエチルケトン　　
　　　　　　３０Ｋｇ紫外線吸収剤　　　　　　　　　
Ｏｌｌ　５Ｋｇこの塗布液をポリエチレンテレフタレー
トフィルム（支持体、厚さ：１００μｍ、長さ：２００
０ｍ）上に均一に塗布し、乾燥（乾燥温度：１２０℃）
して、乾燥ｉ厚が０．３μｍの実買的にジアセチルセル
ロースと二酸化ケイ素とからなるバック層を設けた後、
巻き取った。

次に、感光性フォトレジスト層形成用の塗布液として、
下記組成を有する溶液を調製した。この場合に、下記の
組成を有する色材分散液は別に調製しておき、混合した
。

包林光散１ 色材　　　　　　　　　　　　　　９．８Ｋｇベンジル
メタアクリレート・メ　１６．４Ｋｇタクリル酸共重合
体（モル 比ニア２／２７．２５℃の メチルエチルケトン溶液の 極限粘度：０．１２ｃｐｓ） メチルエチルケトン　　　　　　３６．９Ｋｇメチルセ
ロソルブアセテート　　３６．９Ｋｇここで、色材とし
ては 黄：セイ力ファーストイエロー　Ｈ−０７５５（大日精
化（株）） マゼンタ：セイ力ファーストカーミン １４８３　　　　　（大日精化（株））シアン：シアニ
ンブルー　４９２０ （大日精化（株）） を用いた。

分散液の調製は、試験用の分散機（東洋精ｖ１（株）製
ペイントシェーカー）で６時間行った。

感光性！オドレジスト層用塗布液は、１ｏ分間の撹拌操
作のｔ＆超音波分散操作を１ｏｌＡ−間施しな。

１゛　　　　し２゛ｉ メチルエチルケトン　　　　　　　　１５Ｋｇメチルセ
ロンルプアセテート　　　７．４Ｋｇベンジルメタアク
リレート・メタ　４．５Ｋｇクリル酸共重合体（モル比
ニ ア　２／２７．２５℃のメチルエ チルケトン溶液の［１粘度： ０．１２ｃｐｓ） ペンタエリスリトールテトラアク　５．５Ｋｇリレート ミヒラーケトン　　　　　　　　０．１５Ｋｇ２．２゛
−ビス（０−りｏｏ７　０．１５Ｋｇエニル）−４，４
’　、５．５″ 一テトラフェニルビイミダゾ 一ル 二酸化ケイ素　　　　　　　　　　０．４Ｋｇ（＃２６
６、富士デビイソン（株）製）色材分散液　　　　　　
　　　　　　２４Ｋｇこのようにして調製した感光性フ
ォトレジスト層形成用塗布液を支持体の上記バック層と
は反対側の表面に塗布し、乾燥（乾燥温度＝１００℃）
して、乾燥膜厚が２．４μｍの感光性フォトレジスト層
を設け、巻き取った。

別に、下記組成の保護層形成用の塗布液を調製し、この
塗布液をこの感光性フォトレジスト層の上に塗布し、乾
燥（乾燥温度：１００℃）して、乾燥膜厚が１．５μｍ
の保護層を設けた。

舌　　　　　　　　ｉ　　　・ ポリビニルアルコール　　　　　　　　６Ｋｇ（ＧＬ−
０５Ｈ１日本合成化学工業（株）製）水　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　９７Ｋｇメタノール
　　　　　　　　　　　・　３Ｋｇこのようにして得ら
れた画像形成材料を下記の方法で評価した。

（１）画像部の太り 富士コントロールステップウェッジ（八〇Ｄ＝０．１５
）を用い、′５５段ベタ数を与える標準露光量の２倍の
露光量を与えて現像したときの、オリジナルが１０％の
網点部分のオリジナル原稿に対する太りをドツトサイズ
で比較した。

太り　　　　　　　評価 １％以下　　　　　　Ａクラス １％を越え３％以下　Ｂクラス ３％を越え５％以下　Ｃクラス ５％を越える　　　　Ｄクラス 実用上はＣクラス以上、好ましくはＢクラス以上で、更
に好ましくはＡクラスが良い。

（２）高網点部での現像不良 （１）と同様の条件で露光、現像したときの９０％網点
部の非画像部の抜けを調べた。

抜は不良　　　　　　　　評価 ０％（完全に抜けている）　Ａクラス ０％を越え１％以下　　　　Ｂクラス １％を越え３％以下　　　　Ｃクラス ３％を越える　　　　　　　Ｄクラス 実用上はＣクラス以上、好ましくはＢクラス以上で、更
に好ましくはＡクラスが良い。

（３）感度の変動 （１）と同様の条件で露光、現像したときのベタ段数の
変動から感度の変動を調べた。

感度の変動　　　　評価 ±１段以内　　　Ａクラス １２段以内　　　Ｂクラス １３段以内　　　Ｃクラス 土３段を越える　Ｄクラス 実用上はＢクラス以上で、更に好ましくはＡクラスが良
い。

表−１に評価結果を示すにれがら、本発明によるサンプ
ル１〜１８では、紫外線吸収剤を含有しない比較例１９
〜２１に比べ、良好な性能が得られることが判る。なお
、露光光源としては、２Ｋｗ超高圧水銀灯ジェットライ
ト２０００　（オーク製作新製）を、現像液としては下
記組成のものを用いた。

Ｎ　ａＯＨ６ｇ 界面活性剤（花王アトラス社製：　　　１００ｇペレッ
クスＮＢＬ） 蒸留水　　　　　　　　　　　　　　９００ｇ実施例２ 透明なポリエチレンテレフタレートフィルム上に、実施
例１と同様の方法でバック層を設けた。

次に、下記処方より成る顔料分散液用の母液Ａ。

Ｂを調製した。

１丘Ａ スチレンと無水マレイン酸の共重合体　２０ｇノルマル
プロパツール　　　　　　　　８０ｇ辻丘旦 メトキシメチル化ナイロン　　　　　　１０ｇ（トレジ
ンＭＦ−３０帝国化学） メタノール　　　　　　　　　　　　　９０ｇ次に母液
Ａ、Ｂを用いて下記組成の３色の顔料分散液を調製した
。

分散は試験用分散機（東洋精機（株）製ペイントシェー
カー）で６時間行った。次に下記処方より成る顔料分散
液の希釈液を調製した。

症ｆｌ ノルマルプロパツール　　　　　　　　４０ｇアセトン
　　　　　　　　　　　　　　　２８ｇフッ素系界面活
性剤　　　　　　　　０．２ｇ（フロラードＦＣ−４３
０） ３色の顔料分散液を上記希釈液により、下表の重量比で
希釈したのち撹拌１０分、超音波分散１０分を施し、色
材層塗布液を得た０色材層塗布液を東洋ｒ紙Ｎｏ、６３
フィルターで濾過後、厚さ１００μｍの２軸延伸ポリエ
チレンテレフタレートフイルム上にホエラーを用いて塗
布し、１００℃で２分間乾燥して、３色それぞれの色材
層を作成した。

色相顔料分散液／　膜厚フィルター光学濃度希釈液 （重量比）　　　（μｍ） 黄：３．５／４６．５　　２．１　　　　青　　　　　
０．５マゼンタ：４／４６　０．６５　　緑　　　０．
７５シアン　：４／４６　０．７５　　赤　　　０．６
５更に３色それぞれの色材層の上に、下記組成から成る
ポジ型感光液をＮｏ、６３フイルターで濾過後ホエラー
で塗布しｔｏｏ’ｃで２分間乾燥して、３色それぞれの
着色感光シートを作成した。

芯ン呈五王兼 アセトンとピロガロールの縮合物　　　１５ｇ（平均重
合度３）と２−ジアゾ −１−ナフトール−４−スルフ フオニルクロリドとの付加物 ノボラック型フェノール−ホルム　　　３０ｇアルデヒ
ドレジン （住友デュレス（株）製、ＰＲ−５０９０４）シクロへ
キサノン　　　　　　　　　１２０ｇ酢酸ｎ−プロピル
　　　　　　　　　２８０ｇこの様にして得られた画像
形成材料を下記方法で評価した。

（４）画像の細り （１〉と同様の条件で露光、現代したときのオリジナル
１０％網点部分のオリジナル原稿に対する細りをドツト
のサイズで比較した。

細り　　　　　　　　　評価 １％以下　　　　　　　Ａクラス １％を越え３％以下　　Ｂクラス ３％を越え５％以下　　Ｃクラス ５％を越える　　　　　Ｄクラス 実用上はＣクラス以上、好ましくはＢクラス以上、更に
好ましくはＡクラスが良い。

（５）感度の変動 （１）と同様のコントロールステップウェッジを用い、
５段クリアー段数を与える標準露光量の３倍の露光量を
与えて、ベタ段数の変動から感度の変動を調べた。

感度の変動　　　　評価 土１段以内　　　Ａクラス １２段以内　　　Ｂクラス ゛　　　土３段以内　　　Ｃクラス １３段を越える　Ｄクラス 実用上はＢクラス以上、好ましくはＡクラスが良い。

表−２に、評価結果を示す、これから、本発明によるサ
ンプル２２〜３９では、紫外線吸収剤を含有しない比較
例４０〜４２に比べ、良好な性能が得られることが判る
。

特許出願人　富士写真フィルム株式会社昭和６３年６月
／ρ日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　支持体上に染料もしくは顔料を含有する感光性フォ
   トレジスト組成物層を塗布して成り、または染料もしく
   は顔料を含有する色材層と感光性フォトレジスト組成物
   層とを積層して成り、支持体の反対面に高分子化合物を
   含有するバッキング層を有する感光性画像形成材料にお
   いて、バッキング層に２０℃における蒸気圧が１×１０
   ＾−＾５Ｐａより小さい紫外線吸収剤を含有せしめるこ
   とを特徴とする画像形成材料。 ２　請求項１において、該紫外線吸収剤が下記一般式［
   I ］で表されることを特徴とする画像形成材料。 一般式［ I ］　 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここでＲは水素原子、それぞれ置換もしくは無置換のア
   ルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール
   基、アラルキル基、スルホニル基もしくはアリールスル
   ホニル基、Ｎ−置換のカルバモイル基もしくはスルファ
   モイル基、置換もしくは無置換のアルキル基、アリール
   基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基をそれぞれ
   有するオキサリル基、オキサモイル基、オキシカルボニ
   ル基もしくはオキサアセチル基を示し、Ｒ＿１、Ｒ＿２
   、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は水素原子、ハロゲン原子、
   それぞれ置換又は無置換のアルキル基、アルケニル基、
   アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオ
   キシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチ
   オ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ア
   シルアミノ基、スルホンアミド基、ニトロ基、スルホン
   酸基又はそのエステルもしくは塩、カルボン酸基又はそ
   のエステルもしくは塩、又はヘテロ環基を表す。Ｒ＿４
   、とＲ＿５は閉環して炭素原子からなる５又は６員環を
   形成しても良い。 ３　請求項１において、該感光性フオトレジスト層が光
   重合系組成物である事を特徴とする画像形成材料。