JPH01274154A - 電子写真感光体 - Google Patents
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- OBNYHQVOFITVOZ-UHFFFAOYSA-N tris[2,3-di(nonyl)phenyl]phosphane Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC(P(C=2C(=C(CCCCCCCCC)C=CC=2)CCCCCCCCC)C=2C(=C(CCCCCCCCC)C=CC=2)CCCCCCCCC)=C1CCCCCCCCC OBNYHQVOFITVOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G03G5/0694—Azo dyes containing more than three azo groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、キャリア発生物質とキャリア輸送物質とを含
有する感光層を有する電子写真感光体に関するものであ
る。
有する感光層を有する電子写真感光体に関するものであ
る。
[従来の技術]
従来から知られている電子写真感光体によれば、可視光
を吸収して荷電キャリア(以下、単に「キャリア」とい
う。)を発生するキャリア発生物質(以下、rCGMJ
ということがある。)を含有して成るキャリア発生層(
以下、rcGLJということがある。)と、このCGL
において発生した正又は負のキャリアの何れか一方又は
両方を輸送するキャリア輸送物質(以下、rCTMJと
いうことがある。)を含有して成るキャリア輸送層(以
下、rCTLJということがある。)とを組合せること
により感光層を構成せしめたものがある。このように、
キャリアの発生と、その輸送という必要な2つの基礎的
機能を、感光層を構成する別個の層に夫々分担せしめる
ことにより、感光層の構成に用い得る物質の選択範囲が
広範となる上、各機能を最適に果す物質又は物質系を独
立に選定することが可能となる。
を吸収して荷電キャリア(以下、単に「キャリア」とい
う。)を発生するキャリア発生物質(以下、rCGMJ
ということがある。)を含有して成るキャリア発生層(
以下、rcGLJということがある。)と、このCGL
において発生した正又は負のキャリアの何れか一方又は
両方を輸送するキャリア輸送物質(以下、rCTMJと
いうことがある。)を含有して成るキャリア輸送層(以
下、rCTLJということがある。)とを組合せること
により感光層を構成せしめたものがある。このように、
キャリアの発生と、その輸送という必要な2つの基礎的
機能を、感光層を構成する別個の層に夫々分担せしめる
ことにより、感光層の構成に用い得る物質の選択範囲が
広範となる上、各機能を最適に果す物質又は物質系を独
立に選定することが可能となる。
又、これにより、電子写真プロセスにおいて要求される
諸特性、例えば帯電せしめたときの表面電位が高く、電
荷保持能が大きく、光感度が高く、しかも反復使用にお
ける安定性が大きい等の優れた特性を有する電子写真感
光体を得ることが可能となる。
諸特性、例えば帯電せしめたときの表面電位が高く、電
荷保持能が大きく、光感度が高く、しかも反復使用にお
ける安定性が大きい等の優れた特性を有する電子写真感
光体を得ることが可能となる。
上記のような感光層としては、例えば次のようなものが
知られている。
知られている。
(1)無定形セレン又は硫化カドミウムより成るCGL
と、ポリ−N−ビニルカルバゾールより成るCTLとを
積層せしめた構成。
と、ポリ−N−ビニルカルバゾールより成るCTLとを
積層せしめた構成。
(2)無定形セレン又は硫化カドミウムより成るCGL
と、2.4.7−ドリニトロー9−フルオレノンを含有
するCTLとを積層せしめた構成。
と、2.4.7−ドリニトロー9−フルオレノンを含有
するCTLとを積層せしめた構成。
(3)ペリレン誘導体より成るCGLと、オキサジアゾ
ール誘導体を含有するCTLとを積層せしめた構成(米
国特許筒3.871.882号明II書参照)。
ール誘導体を含有するCTLとを積層せしめた構成(米
国特許筒3.871.882号明II書参照)。
(4)クロルダイヤンブルー又はメチルスカリリウムよ
り成るCGLと、ピラゾリン誘導体を含有するCTLと
を積層せしめた構成(特開昭51−90827号公報参
照)。
り成るCGLと、ピラゾリン誘導体を含有するCTLと
を積層せしめた構成(特開昭51−90827号公報参
照)。
(5)ビスアゾ化合物より成るCGLと、芳香族アミノ
化合物を含有するCTLとからなる構成(特開昭60−
24549号公報参照)。
化合物を含有するCTLとからなる構成(特開昭60−
24549号公報参照)。
(6)ペリレン誘導体を含有するCGLと、ボリアリー
ルアルカン系・芳香族アミン化合物を含有するCTLと
を積層せしめた構成(特願昭53−19907号明細書
)。
ルアルカン系・芳香族アミン化合物を含有するCTLと
を積層せしめた構成(特願昭53−19907号明細書
)。
このように機能分離型の感光層としては多くのものが知
られてはいるが、そうした感光層を有する従来の電子写
真感光体においては、反復して電子写真プロセスに供し
たときの感光層の電気的疲労が激しくて使用寿命が非常
に短い欠点を有する。
られてはいるが、そうした感光層を有する従来の電子写
真感光体においては、反復して電子写真プロセスに供し
たときの感光層の電気的疲労が激しくて使用寿命が非常
に短い欠点を有する。
例えば、繰り返して電子写真プロセスに供したときに、
電子写真感光体の電位の履歴状態が安定に維持されず、
安定した画像形成特性を得ることができない。
電子写真感光体の電位の履歴状態が安定に維持されず、
安定した画像形成特性を得ることができない。
また、特定のビスアゾ化合物をCGMとして用いること
が例えば特開昭55−117151号公報、特開昭54
−145142号公報等に開示されているが、このCG
Mと組合せ得るとされているCTMとの組合せにおいて
も、なお上述の欠点が相当に大きい。
が例えば特開昭55−117151号公報、特開昭54
−145142号公報等に開示されているが、このCG
Mと組合せ得るとされているCTMとの組合せにおいて
も、なお上述の欠点が相当に大きい。
このことからも理解されるように、ある特定のキャリア
発生物質に対して有効なキャリア輸送物質が、他のキャ
リア発生物質に対しても有効であるとは限らず、又、特
定のキャリア輸送物質に対して有効なキャリア発生物質
が、他のキャリア輸送物質に対しても有効であるとも言
うことはできない。両物質の組合せが不適当な場合には
電子写真感度が低くなるばかりでなく、特に低電界時の
放電効率が悪いため、いわゆる残留電位が大きくなり、
最悪の場合には反復して使用する度に電位が蓄積し、実
用上電子写真の用途に供し得なくなる。
発生物質に対して有効なキャリア輸送物質が、他のキャ
リア発生物質に対しても有効であるとは限らず、又、特
定のキャリア輸送物質に対して有効なキャリア発生物質
が、他のキャリア輸送物質に対しても有効であるとも言
うことはできない。両物質の組合せが不適当な場合には
電子写真感度が低くなるばかりでなく、特に低電界時の
放電効率が悪いため、いわゆる残留電位が大きくなり、
最悪の場合には反復して使用する度に電位が蓄積し、実
用上電子写真の用途に供し得なくなる。
このように、キャリア発生層の構成物質とキャリア輸送
層の構成物質との好適な組合せについては法則的な選択
手段はないと考えられ、多くの物質群の中から有利な組
合せを実践的に決定する必要がある。
層の構成物質との好適な組合せについては法則的な選択
手段はないと考えられ、多くの物質群の中から有利な組
合せを実践的に決定する必要がある。
さらに近年感光体の光源としてArレーザー、He−N
eレーザー等の気体レーザーや半導体レーザーが使用さ
れ始めている。これらのレーザーはその特徴として時系
列で0N10FFが可能であり、インテリジェントコピ
アをはじめとする画像処理機能を有する複写機やコンピ
ューターのアウトプット用のプリンターの光源として特
に有望視されている。中でも半導体レーザーはその性質
上音響工学素子等の電気信号/光信号の変換素子が不要
であることや小型・軽量化が可能であることなどから注
目を集めている。しかしこの半導体レーザーは気体レー
ザーに比較して低出力であり、また発振波長も長波長(
約780nm以上)であることから従来の感光体では分
光感度が短波長側によっているものが多く、感度特性に
おいて、実用的に満足できるものがなかった。
eレーザー等の気体レーザーや半導体レーザーが使用さ
れ始めている。これらのレーザーはその特徴として時系
列で0N10FFが可能であり、インテリジェントコピ
アをはじめとする画像処理機能を有する複写機やコンピ
ューターのアウトプット用のプリンターの光源として特
に有望視されている。中でも半導体レーザーはその性質
上音響工学素子等の電気信号/光信号の変換素子が不要
であることや小型・軽量化が可能であることなどから注
目を集めている。しかしこの半導体レーザーは気体レー
ザーに比較して低出力であり、また発振波長も長波長(
約780nm以上)であることから従来の感光体では分
光感度が短波長側によっているものが多く、感度特性に
おいて、実用的に満足できるものがなかった。
[発明の目的]
従って本発明の目的は、高感度でかつ残留電位が小さく
、また繰り返し使用してもそれらの特性の変化が小さい
耐久性の優れた電子写真感光体を提供することにある。
、また繰り返し使用してもそれらの特性の変化が小さい
耐久性の優れた電子写真感光体を提供することにある。
本発明の他の目的は、半導体レーザー等の長波長光源に
対しても十分な実用感度を有する電子写真感光体を提供
することにある。
対しても十分な実用感度を有する電子写真感光体を提供
することにある。
[問題点を解決するための手段]
本発明者等は、以上の目的を達成すべく鋭意研究を重ね
た結果、特定のビスアゾ化合物のキャリア発生物質と特
定のスチリル化合物のキャリア輸送物質を含有する感光
層を有する電子写真感光体は、前記目的のすべてを達成
することができることを見い出し本発明を完成するに至
った。
た結果、特定のビスアゾ化合物のキャリア発生物質と特
定のスチリル化合物のキャリア輸送物質を含有する感光
層を有する電子写真感光体は、前記目的のすべてを達成
することができることを見い出し本発明を完成するに至
った。
すなわち、本発明の前記目的は、導電性支持体上に、キ
ャリア発生物質及びキャリア輸送物質を含有してなる感
光層を有する電子写真感光体において、前記キャリア発
生物質の少なくとも1種が下記一般式[I]で表される
ビスアゾ化合物からなり、前記キャリア輸送物質の少な
くとも1種が下記一般式[II]で表されるスチリル化
合物からなることを特徴とする電子写真感光体によって
達成することができる。
ャリア発生物質及びキャリア輸送物質を含有してなる感
光層を有する電子写真感光体において、前記キャリア発
生物質の少なくとも1種が下記一般式[I]で表される
ビスアゾ化合物からなり、前記キャリア輸送物質の少な
くとも1種が下記一般式[II]で表されるスチリル化
合物からなることを特徴とする電子写真感光体によって
達成することができる。
一般式[I]
す
[X+および×2は、それぞれ、ハロゲン原子、置換若
しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基又は置換
若しくは未置換のアミン基を表わし、×1および×2の
うち少なくとも1つはハロゲン原子である。
しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基又は置換
若しくは未置換のアミン基を表わし、×1および×2の
うち少なくとも1つはハロゲン原子である。
p及びqはそれぞれ0.1又は2の整数を表わし、p及
びqは同時にOとなることはなく、且つ、p及びqが2
のときは、×1および×2はそれぞれ同−又は異なる基
であってもよい。Aは下記−般式で表わされる基を表わ
す。
びqは同時にOとなることはなく、且つ、p及びqが2
のときは、×1および×2はそれぞれ同−又は異なる基
であってもよい。Aは下記−般式で表わされる基を表わ
す。
゛・Z・′
(式中、Arはフッ素化炭化水素基を有する芳香族炭素
環基又はフッ素化炭化水素基を有する芳香族複素環基を
表わす。2は置換若しくは未置換の芳香族炭素環又は置
換若しくは未置換の芳香族複素環を形成するのに必要な
非金灰原子群を表わす)、l及び口は、それぞれ0,1
又は2の整数を表わす。但し、m及びnが同時にOとな
ることはない。] 一般式[I[] [式中、R1およびR2は、それぞれ、水素原子、置換
若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のア
ルケニル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置
換若しくは非置換の複素環基を表わし、R1およびR2
は、共同して環を形成してもよい。
環基又はフッ素化炭化水素基を有する芳香族複素環基を
表わす。2は置換若しくは未置換の芳香族炭素環又は置
換若しくは未置換の芳香族複素環を形成するのに必要な
非金灰原子群を表わす)、l及び口は、それぞれ0,1
又は2の整数を表わす。但し、m及びnが同時にOとな
ることはない。] 一般式[I[] [式中、R1およびR2は、それぞれ、水素原子、置換
若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のア
ルケニル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置
換若しくは非置換の複素環基を表わし、R1およびR2
は、共同して環を形成してもよい。
R3は置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは
非置換のアリール基、置換若しくは非直を表わし、R1
およびR2は前記と同義である。
非置換のアリール基、置換若しくは非直を表わし、R1
およびR2は前記と同義である。
R4は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、置
換若しくは非置換のアリール基又は置換若しくは非置換
のアルコキシ基を表わす。][発明の具体的構成] 一般式[I]の×1及び×2により表わされるハロゲン
原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、沃素
原子を挙げることができる。
換若しくは非置換のアリール基又は置換若しくは非置換
のアルコキシ基を表わす。][発明の具体的構成] 一般式[I]の×1及び×2により表わされるハロゲン
原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、沃素
原子を挙げることができる。
本発明のビスアゾ化合物は×1及び×2のうち、少なく
とも一方がハロゲン原子を有している。
とも一方がハロゲン原子を有している。
×1及びx2で表わされるアルキル基としては炭素原子
数1ないし4個の置換若しくは未置換のアルキル基が好
ましく、このようなアルキル基の例としては、例えばメ
チル基、エチル基、β−シアンエチル基、1SO−プロ
ピル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等が挙げ
られる。
数1ないし4個の置換若しくは未置換のアルキル基が好
ましく、このようなアルキル基の例としては、例えばメ
チル基、エチル基、β−シアンエチル基、1SO−プロ
ピル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等が挙げ
られる。
またXlおよび×2で表わされるアルコキシ基は、炭素
原子数が1ないし4個の置換若しくは未置換のアルコキ
シ基が好ましく、このようなアルコキシ基の例としては
、メトキシ基、エト土シ基、β−クロルエトキシ基、5
ec−ブトキシ基等が挙げられる。
原子数が1ないし4個の置換若しくは未置換のアルコキ
シ基が好ましく、このようなアルコキシ基の例としては
、メトキシ基、エト土シ基、β−クロルエトキシ基、5
ec−ブトキシ基等が挙げられる。
さらにまた、Xl及び×2で表わされる置換若しくは未
置換のアミノ基としては、例えばアルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等で置換されたもの、例え
ばN−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N、N−
ジメチルアミン基、N、N−ジエチルアミノ基、N−フ
ェニルアミノ基、N、N−ジフェニルアミノ基や、ざら
にはアシル基で置換されたアセチルアミノ基、p−クロ
ルベンゾイルアミノ基等が挙げられる。
置換のアミノ基としては、例えばアルキル基、アリール
基(好ましくはフェニル基)等で置換されたもの、例え
ばN−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N、N−
ジメチルアミン基、N、N−ジエチルアミノ基、N−フ
ェニルアミノ基、N、N−ジフェニルアミノ基や、ざら
にはアシル基で置換されたアセチルアミノ基、p−クロ
ルベンゾイルアミノ基等が挙げられる。
前記一般式[I]においてp及びqは、それぞれ、Ol
l又は2を表わすが、pおよびqは同時に0となること
はなく、好ましくはp=・1、q=0又はp =1、q
=1の場合である。
l又は2を表わすが、pおよびqは同時に0となること
はなく、好ましくはp=・1、q=0又はp =1、q
=1の場合である。
さらにまたp及びqが2のときは、×1およびx2は、
それぞれ同−又は異なる基をとることができる。
それぞれ同−又は異なる基をとることができる。
また、前記一般式[I]において、Aは下記−般式で表
わされる。
わされる。
′・Z・′
式中、Arはフッ素化炭化水素基を少なくとも1個有す
る芳香族炭素環基又は芳香族複素環基を表わすが、前記
フッ素化炭化水素基の炭素原子数1ないし4のフッ素化
炭化水素基が好ましく、例えば、トリフルオロメチル基
、ペンタフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、
ヘプタフルオロプロピル基等が挙げられる。このうちさ
らに好ましいフッ素化炭化水素基はトリフルオロメチル
基である。また、前記芳香族炭素環基の例としてはフェ
ニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられ、好ま
しくはフェニル基である。さらに前記芳香族複素環基と
しては、例えば、カルバゾリル基、ジベンゾフリル基等
が挙げられる。さらにまた前記芳香族炭素環基及び芳香
族複素環基において前記フッ素化炭化水素基以外の置換
基としては、例えば、炭素原子数1ないし4個の置換及
び未置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、【−ブチル基、トリフルオロメチル基等
;置換及び未置換のアラルキル基、例えばベンジル基、
フェネチル基等;ハロゲン原子、例えば塩素原子、臭素
原子、フッ素原子、沃素原子;炭素原子数1〜4個の置
換若しくは未置換のアルコキシ基、例えばメトキシ基、
エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、2−
クロルエトキシ基等:ヒドロキシ基;置換若しくは未置
換のアリールオキシ基、例えばp−クロルフェノキシ基
、1−ナフトキシ基等;アシルオキシ基、例えばアセチ
ルオキシ基、p−シアンベンゾイルオキシ基等;カルボ
キシル基、そのエステル基、例えばエトキシカルボニル
基、m−ブロモフェノキシカルボニル基;カルバモイル
基、例えばアミノカルボニル基、t−ブチルアミノカル
ボニル基、アニリノカルボニル基等;アシル基、例えば
アセチル基、O−ニトロベンゾイル基等;スルホ基、ス
ルファモイル基、例えばアミノスルホニル基、t−ブチ
ルアミノスルホニル基、o−トリルアミノスルホニル基
等;アミノ基、アシルアミノ基、例えばアセチルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基等:スルホンアミド基、例えば
メタンスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド
基等ニジアノ基;ニトロ基等が挙げられる。これらの置
換基のうち、好ましいものは炭素原子数1ないし4個の
置換・未置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル基
、イソプロピル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル
基等:ハロゲン原子、例えば塩素原子、臭素原子、フッ
素原子、沃素原子;炭素原子数1ないし4個の置換・未
置換のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、
t−ブトキシ基、2−クロルエトキシ基等;ニトロ基;
シアノ基等で市る。
る芳香族炭素環基又は芳香族複素環基を表わすが、前記
フッ素化炭化水素基の炭素原子数1ないし4のフッ素化
炭化水素基が好ましく、例えば、トリフルオロメチル基
、ペンタフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、
ヘプタフルオロプロピル基等が挙げられる。このうちさ
らに好ましいフッ素化炭化水素基はトリフルオロメチル
基である。また、前記芳香族炭素環基の例としてはフェ
ニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられ、好ま
しくはフェニル基である。さらに前記芳香族複素環基と
しては、例えば、カルバゾリル基、ジベンゾフリル基等
が挙げられる。さらにまた前記芳香族炭素環基及び芳香
族複素環基において前記フッ素化炭化水素基以外の置換
基としては、例えば、炭素原子数1ないし4個の置換及
び未置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、【−ブチル基、トリフルオロメチル基等
;置換及び未置換のアラルキル基、例えばベンジル基、
フェネチル基等;ハロゲン原子、例えば塩素原子、臭素
原子、フッ素原子、沃素原子;炭素原子数1〜4個の置
換若しくは未置換のアルコキシ基、例えばメトキシ基、
エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、2−
クロルエトキシ基等:ヒドロキシ基;置換若しくは未置
換のアリールオキシ基、例えばp−クロルフェノキシ基
、1−ナフトキシ基等;アシルオキシ基、例えばアセチ
ルオキシ基、p−シアンベンゾイルオキシ基等;カルボ
キシル基、そのエステル基、例えばエトキシカルボニル
基、m−ブロモフェノキシカルボニル基;カルバモイル
基、例えばアミノカルボニル基、t−ブチルアミノカル
ボニル基、アニリノカルボニル基等;アシル基、例えば
アセチル基、O−ニトロベンゾイル基等;スルホ基、ス
ルファモイル基、例えばアミノスルホニル基、t−ブチ
ルアミノスルホニル基、o−トリルアミノスルホニル基
等;アミノ基、アシルアミノ基、例えばアセチルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基等:スルホンアミド基、例えば
メタンスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド
基等ニジアノ基;ニトロ基等が挙げられる。これらの置
換基のうち、好ましいものは炭素原子数1ないし4個の
置換・未置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル基
、イソプロピル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル
基等:ハロゲン原子、例えば塩素原子、臭素原子、フッ
素原子、沃素原子;炭素原子数1ないし4個の置換・未
置換のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、
t−ブトキシ基、2−クロルエトキシ基等;ニトロ基;
シアノ基等で市る。
前記一般式において、Zは置換・未置換の芳香族炭素環
、または置換・未置換の芳香族複素環を形成するに必要
な原子群であって、具体的には例えば置換・未置換のベ
ンゼン環、置換・未置換のナフタレン環、置換・未置換
のインドール環、置換・未置換のカルバゾール環等を形
成するのに必要な原子群を表わす。
、または置換・未置換の芳香族複素環を形成するに必要
な原子群であって、具体的には例えば置換・未置換のベ
ンゼン環、置換・未置換のナフタレン環、置換・未置換
のインドール環、置換・未置換のカルバゾール環等を形
成するのに必要な原子群を表わす。
これらの環を形成するのに必要な原子群の置換基として
は、例えばArの置換基として挙げたような一連の置換
基が列挙されるが、好ましくはハロゲン原子(塩素原子
、臭素原子、弗素原子、沃素原子)、スルホ基、スルフ
ァモイル基(例えばアミノスルホニル基、p−t−リル
アミノスルホニル基等)である。
は、例えばArの置換基として挙げたような一連の置換
基が列挙されるが、好ましくはハロゲン原子(塩素原子
、臭素原子、弗素原子、沃素原子)、スルホ基、スルフ
ァモイル基(例えばアミノスルホニル基、p−t−リル
アミノスルホニル基等)である。
本発明の前記一般式[I]で表わされるビスアゾ化合物
は、好ましくは下記一般式[I1[]、%式% 一般式[I[[] −CONH−Ar’ 一般式[IV] C0NH−Ar’ 一般式[V] 一般式[VI] 式中、X+a、X+b、X2aおよびX2bは、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは未置換のアル
キル基、1謬換若しくは未置換のアルコキシ基、ニトロ
基、シアノ基、ヒドロキシ基又は置換若しくは未置換の
アミノ基を表わし、X+a、X+b。
は、好ましくは下記一般式[I1[]、%式% 一般式[I[[] −CONH−Ar’ 一般式[IV] C0NH−Ar’ 一般式[V] 一般式[VI] 式中、X+a、X+b、X2aおよびX2bは、それぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは未置換のアル
キル基、1謬換若しくは未置換のアルコキシ基、ニトロ
基、シアノ基、ヒドロキシ基又は置換若しくは未置換の
アミノ基を表わし、X+a、X+b。
X2aおよびX2bのうち、少なくとも1つはハロゲン
原子である。X1aおよびX +b s並びにX211
およびX2bは、それぞれ互いに同−又は異なる基であ
つでもよい。
原子である。X1aおよびX +b s並びにX211
およびX2bは、それぞれ互いに同−又は異なる基であ
つでもよい。
A r l は前記一般式[I]におけるArと同義で
ある。
ある。
Yは前記一般式[I]におけるZの置換基と同義である
。
。
下記に本発明の前記一般式[I]で示されるビスアゾ化
合物の具体例について述べるがこれによって本発明のビ
スアゾ化合物が限定されるもので:I2・−4 以下余白 :1.ニー(5−。
合物の具体例について述べるがこれによって本発明のビ
スアゾ化合物が限定されるもので:I2・−4 以下余白 :1.ニー(5−。
本発明の前記一般式CI]で表わされるビスアゾ化合物
は、公知の方法により容易に合成することができる。
は、公知の方法により容易に合成することができる。
合成例1(例示化合物No、71の合成〉2.7−ジア
ミツー4−ブロム−9−フルオレノン2.89g(0,
01モル)を塩酸10戴、水201gに分散し、5℃以
下に保ちつつ亜硝酸ナトリウム1.40(1(0,02
モル)を水51Qに溶した溶液を滴下した。同温度でさ
らに1時間撹拌をつづけた後、不溶物を濾過除去し、濾
液に六弗化燐酸アンモニウム4.6gを水50112に
溶かした溶液を加えた。析出したテトラゾニウム塩を濾
取し、N、N−ジメチルホルムアミド(DM F )
1001(に溶解した。5℃以下に保ちながら、2−
ヒドロキシ−3−ナフトエ酸−3′−トリフルオロメチ
ルアニリド6.62(1(0,02モル)をDMF20
0dに溶かした溶液を滴下した。
ミツー4−ブロム−9−フルオレノン2.89g(0,
01モル)を塩酸10戴、水201gに分散し、5℃以
下に保ちつつ亜硝酸ナトリウム1.40(1(0,02
モル)を水51Qに溶した溶液を滴下した。同温度でさ
らに1時間撹拌をつづけた後、不溶物を濾過除去し、濾
液に六弗化燐酸アンモニウム4.6gを水50112に
溶かした溶液を加えた。析出したテトラゾニウム塩を濾
取し、N、N−ジメチルホルムアミド(DM F )
1001(に溶解した。5℃以下に保ちながら、2−
ヒドロキシ−3−ナフトエ酸−3′−トリフルオロメチ
ルアニリド6.62(1(0,02モル)をDMF20
0dに溶かした溶液を滴下した。
ひきつづき5℃以下に保ちながらトリエタノールアミン
6(+ (0,04モル)をD M F 30 dに
溶解したものを滴下し、5℃以下で1時間、室温で4時
間攪拌した。反応後析出晶を濾取し、DMF洗浄、水洗
浄して乾燥し、目的物8.71を得た。
6(+ (0,04モル)をD M F 30 dに
溶解したものを滴下し、5℃以下で1時間、室温で4時
間攪拌した。反応後析出晶を濾取し、DMF洗浄、水洗
浄して乾燥し、目的物8.71を得た。
理論値
C= 60.5%、)!−2.77%、N=8.63%
実測値 (: = 60.1%、H−2,95%、N=8.72
%合成例2(例示化合物N O,219の合成)2.7
−ジアミツー4−ブOムー〇−フルオレノン2.89i
;l(0,01モル)を塩M10tN、水201gに分
散し、5℃以下に保ちつつ亜硝酸ナトリウム1.40(
1(0,02モル)を水5112に溶した溶液を滴下し
た。同温度でさらに1時間撹拌をつづけた後、不溶物を
濾過除去し、濾液に六弗化燐酸アンモニウム4.6gを
水50112に溶かした溶液を加えた。析出したテトラ
ゾニウム塩を濾取し、N、N−ジメチルホルムアミド(
DMF) 100i12に溶解した。5℃以下に保ち
ながら、2−ヒドロキシ−3−(3’ −トリフルオロ
メチルフェニルカルバモイル( 0.02モル)をDM
F2001gに溶かした溶液を滴下した。
実測値 (: = 60.1%、H−2,95%、N=8.72
%合成例2(例示化合物N O,219の合成)2.7
−ジアミツー4−ブOムー〇−フルオレノン2.89i
;l(0,01モル)を塩M10tN、水201gに分
散し、5℃以下に保ちつつ亜硝酸ナトリウム1.40(
1(0,02モル)を水5112に溶した溶液を滴下し
た。同温度でさらに1時間撹拌をつづけた後、不溶物を
濾過除去し、濾液に六弗化燐酸アンモニウム4.6gを
水50112に溶かした溶液を加えた。析出したテトラ
ゾニウム塩を濾取し、N、N−ジメチルホルムアミド(
DMF) 100i12に溶解した。5℃以下に保ち
ながら、2−ヒドロキシ−3−(3’ −トリフルオロ
メチルフェニルカルバモイル( 0.02モル)をDM
F2001gに溶かした溶液を滴下した。
ひきつづき5℃以下に保ちながらトリエタノールアミン
60 ( Q.04モル)をDMF30t12に溶解
したものを滴下し、5℃以下で1時間、空温で4時間攪
拌した。反応後析出晶を濾取し、DMF洗浄、水洗浄し
て乾燥し、目的物5.2gを得た。
60 ( Q.04モル)をDMF30t12に溶解
したものを滴下し、5℃以下で1時間、空温で4時間攪
拌した。反応後析出晶を濾取し、DMF洗浄、水洗浄し
て乾燥し、目的物5.2gを得た。
理論値
C=63.6%、H= 2.87%、N=9.73%実
測値 C= 63.4%、I−1= 2.97%、N = 1
0.01%本発明の他の化合物も前記合成例1と同様に
それぞれ対応するアミン化合物を用いてジアゾニウム塩
を作り、次いで2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸−置換
アニリド又は2−ヒドロキシ−3−(置換フェニルカル
バモイル)ベンゾ[a ]−置換・未置換カルバゾール
と反応させて作ることができる。
測値 C= 63.4%、I−1= 2.97%、N = 1
0.01%本発明の他の化合物も前記合成例1と同様に
それぞれ対応するアミン化合物を用いてジアゾニウム塩
を作り、次いで2−ヒドロキシ−3−ナフトエ酸−置換
アニリド又は2−ヒドロキシ−3−(置換フェニルカル
バモイル)ベンゾ[a ]−置換・未置換カルバゾール
と反応させて作ることができる。
次に本発明の一般式[I[]で表されるスチリル化合物
の具体例を示す。
の具体例を示す。
(4日)
本発明の一般式[II]で表わされるスチリル化合物は
公知の方法で容易に製造することができる。
公知の方法で容易に製造することができる。
一般式[II]で表わされるスチリル化合物は例えば下
記一般式[A] 一般式: [式中、R+ 、R2は[II]と同意義、Xは−P
−+Rs )3 Y−で表わされるトリフェニルホスホ
ニウム基、あるいはトリアルキルホスホニウム塩、また
は−PO(ORG)2で表わされるジアルキル亜燐1[
を示す。R5はアルキル基、アリール基を表わし、Yは
ハロゲンイオンを表わし、R6はアルキル基を表わず。
記一般式[A] 一般式: [式中、R+ 、R2は[II]と同意義、Xは−P
−+Rs )3 Y−で表わされるトリフェニルホスホ
ニウム基、あるいはトリアルキルホスホニウム塩、また
は−PO(ORG)2で表わされるジアルキル亜燐1[
を示す。R5はアルキル基、アリール基を表わし、Yは
ハロゲンイオンを表わし、R6はアルキル基を表わず。
]で表わされる燐化合物と下記一般式[B]
一般式:
[R3,R4は[I]と同意義]
で表わされるジホルミル化合物と反応させることにより
得ることができる。
得ることができる。
一般式[A]で表わされる燐化合物は対応するハロメチ
ル化合物とトリアリールホスフィンあるいはトリアルキ
ルホスフィン、または亜燐酸トリアルキルとを直接ある
いはトルエン、キシレン等の溶媒中で加熱することによ
り容易に製造することができる。
ル化合物とトリアリールホスフィンあるいはトリアルキ
ルホスフィン、または亜燐酸トリアルキルとを直接ある
いはトルエン、キシレン等の溶媒中で加熱することによ
り容易に製造することができる。
上記スチリル化合物の合成方法における反応溶媒として
は不活性溶剤、例えば炭化水素類、アルコール類、エー
テル類が良好で、メタノール、エタノール、イソプロパ
ツール、ブタノール、2−メトキシエタノール、1.2
−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、キ
シレン、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−
2−イミダゾリジノンなどが挙げられる。中でも極性溶
媒、例えばN、N−ジメチルホルムアミド及びジメチル
スルホキシドが好適である。
は不活性溶剤、例えば炭化水素類、アルコール類、エー
テル類が良好で、メタノール、エタノール、イソプロパ
ツール、ブタノール、2−メトキシエタノール、1.2
−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、キ
シレン、ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−
2−イミダゾリジノンなどが挙げられる。中でも極性溶
媒、例えばN、N−ジメチルホルムアミド及びジメチル
スルホキシドが好適である。
縮合剤としては苛性ソーダ、苛性カリ、ナトリウムアミ
ド水素化ナトリウム及びナトリウムメチラート、カリウ
ム−【−ブトキシドなどのアルコラードが用いられる。
ド水素化ナトリウム及びナトリウムメチラート、カリウ
ム−【−ブトキシドなどのアルコラードが用いられる。
反応温度は、使用する溶媒の縮合剤に対する安定性、縮
合成分の反応性、縮合剤の反応性によって、約り℃〜約
100℃まで広範囲に選択することが出来、好ましくは
10℃〜80℃である。
合成分の反応性、縮合剤の反応性によって、約り℃〜約
100℃まで広範囲に選択することが出来、好ましくは
10℃〜80℃である。
合成例1(例示化合物(15)の合成)ベンジルホスホ
ン酸ジエチル2.281:I、 トリフェニルアミン−
4,4−ジカルボアルデヒド1.50(1を1.2−ジ
メトキシエタン20叡に加え、これに50%水素化ナト
リウムo、 sogを加え、’IMで3時間撹拌し反応
させた。この後約30分間加熱還流させた。室温まで放
冷した後、反応混合物を水200顧に注ぎ、生成した沈
澱物を濾取し、水洗、乾燥させ1.46(1(収率65
%)の粉末を得た。更にこの粉末を酢酸エチルとメタノ
ールから再結晶し淡自黄色の例示化合物(15)を得た
。
ン酸ジエチル2.281:I、 トリフェニルアミン−
4,4−ジカルボアルデヒド1.50(1を1.2−ジ
メトキシエタン20叡に加え、これに50%水素化ナト
リウムo、 sogを加え、’IMで3時間撹拌し反応
させた。この後約30分間加熱還流させた。室温まで放
冷した後、反応混合物を水200顧に注ぎ、生成した沈
澱物を濾取し、水洗、乾燥させ1.46(1(収率65
%)の粉末を得た。更にこの粉末を酢酸エチルとメタノ
ールから再結晶し淡自黄色の例示化合物(15)を得た
。
得られたスチリル化合物の融点は134〜137℃であ
った。
った。
本発明のビスアゾ化合物は優れた光導電性を有し、これ
をバインダー中に分散した感光層を導電性支持体上に設
けることにより本発明の電子写真感光体を製造すること
ができる。本発明のビスアゾ化合物は、その優れたキャ
リア発生能を利用して、これをキャリア発生物質として
用い、これと組合せて有効に作用し得る本発明の一般式
[U]で表されるスチリル化合物(以下、本発明のスチ
リル化合物という、)からなるキャリア輸送物質を共に
用いることにより、いわゆる機能分離型の感光体とする
ことができる。前記様能分離型感光体は前記両物質の混
合分散型のものであってもよいが、本発明のビスアゾ化
合物からなるキャリア発生物質を含むキャリア発生層と
、本発明のスチリル化合物からなるキャリア輸送物質を
含むキャリア輸送層とを積層した積層型感光体とするこ
とがより好ましい。
をバインダー中に分散した感光層を導電性支持体上に設
けることにより本発明の電子写真感光体を製造すること
ができる。本発明のビスアゾ化合物は、その優れたキャ
リア発生能を利用して、これをキャリア発生物質として
用い、これと組合せて有効に作用し得る本発明の一般式
[U]で表されるスチリル化合物(以下、本発明のスチ
リル化合物という、)からなるキャリア輸送物質を共に
用いることにより、いわゆる機能分離型の感光体とする
ことができる。前記様能分離型感光体は前記両物質の混
合分散型のものであってもよいが、本発明のビスアゾ化
合物からなるキャリア発生物質を含むキャリア発生層と
、本発明のスチリル化合物からなるキャリア輸送物質を
含むキャリア輸送層とを積層した積層型感光体とするこ
とがより好ましい。
本発明の電子写真感光体は、例えば、第1図に示すよう
に支持体1(導電性支持体またはシート上に導電層を設
けたもの)上に、本発明のビスアゾ化合物からなるキャ
リア発生物質と必要に応じてバインダ樹脂を含有するキ
ャリア発生層2を下層とし、本発明のスチリル化合物か
らなるキャリア輸送物質とバインダ樹脂を含有するキャ
リア輸送層3を上層とする機能分離型の積層構成の感光
層4を設けたもの、第2図に示すように支持体1上に本
発明のスチリル化合物を含むキャリア輸送層3を下層と
し、本発明のビスアゾ化合物を含有するキャリア発生層
2を上層とする積層構成の感光層4を設けたもの、およ
び第3図に示すように支持体1上に本発明のビスアゾ化
合物からなるキャリア発生物質、本発明のスチリル化合
物からなるキャリア輸送物質およびバインダ樹脂を含有
する単層構成の感光層4を設けたもの、等が挙げられる
。
に支持体1(導電性支持体またはシート上に導電層を設
けたもの)上に、本発明のビスアゾ化合物からなるキャ
リア発生物質と必要に応じてバインダ樹脂を含有するキ
ャリア発生層2を下層とし、本発明のスチリル化合物か
らなるキャリア輸送物質とバインダ樹脂を含有するキャ
リア輸送層3を上層とする機能分離型の積層構成の感光
層4を設けたもの、第2図に示すように支持体1上に本
発明のスチリル化合物を含むキャリア輸送層3を下層と
し、本発明のビスアゾ化合物を含有するキャリア発生層
2を上層とする積層構成の感光層4を設けたもの、およ
び第3図に示すように支持体1上に本発明のビスアゾ化
合物からなるキャリア発生物質、本発明のスチリル化合
物からなるキャリア輸送物質およびバインダ樹脂を含有
する単層構成の感光層4を設けたもの、等が挙げられる
。
また、キャリア発生層に本発明のビスアゾ化合物からな
るキャリア発生物質と本発明のスチリル化合物からなる
キャリア輸送物質の一部の両方が含有されてもよい。い
ずれの層構成においても、第7図乃至第9図で示される
ように感光層の上に保護層を設けてもよく、さらには第
4図乃至第6図に示すように支持体と感光層の間にバリ
ア機能と接看性をもつ下引層(中間層)を設けてもよい
。
るキャリア発生物質と本発明のスチリル化合物からなる
キャリア輸送物質の一部の両方が含有されてもよい。い
ずれの層構成においても、第7図乃至第9図で示される
ように感光層の上に保護層を設けてもよく、さらには第
4図乃至第6図に示すように支持体と感光層の間にバリ
ア機能と接看性をもつ下引層(中間層)を設けてもよい
。
二層構成の感光層を形成する場合におけるキャリア発生
層は、次の如き方法によって設けることができる。
層は、次の如き方法によって設けることができる。
(イ)本発明のビスアゾ化合物からなるキャリア発生物
質を適当な溶剤に溶解した溶液あるいはこれにバインダ
ーを加えて混合溶解した溶液を塗布する方法。
質を適当な溶剤に溶解した溶液あるいはこれにバインダ
ーを加えて混合溶解した溶液を塗布する方法。
(ロ)本発明のビスアゾ化合物からなるキャリア発生物
質をボールミル、ホモミキサー等によって分散媒中で微
細粒子とし、必要に応じてバインダーを加えて混合分散
して得られる分散液を塗布する方法。
質をボールミル、ホモミキサー等によって分散媒中で微
細粒子とし、必要に応じてバインダーを加えて混合分散
して得られる分散液を塗布する方法。
これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。
ると、均一分散が可能になる。
キャリア発生層の形成に使用される溶剤あるいは分散媒
としては、n−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレ
ンジアミン、イソプロパツールアミン、トリエタノール
アミン、トリエチレンジアミン、N、N−ジメチルホル
ムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム
、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イ
ソプロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルス
ルホキシド等を挙げることができる。
としては、n−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレ
ンジアミン、イソプロパツールアミン、トリエタノール
アミン、トリエチレンジアミン、N、N−ジメチルホル
ムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム
、1,2−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イ
ソプロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルス
ルホキシド等を挙げることができる。
キャリア発生層若しくはキャリア輸送層の形成にバイン
ダーを用いる場合に、このバインダーとしては任意のも
のを用いることができるが、特に疎水性でかつ誘電率が
高い電気絶縁性のフィルム形成能を有する高分子重合体
が好ましい。こうした重合体としては、例えば次のもの
を挙げることができるが、勿論これらに限定されるもの
ではない。
ダーを用いる場合に、このバインダーとしては任意のも
のを用いることができるが、特に疎水性でかつ誘電率が
高い電気絶縁性のフィルム形成能を有する高分子重合体
が好ましい。こうした重合体としては、例えば次のもの
を挙げることができるが、勿論これらに限定されるもの
ではない。
a)ポリカーボネート
b)ポリエステル
C)メタクリル樹脂
d)アクリル樹脂
e)ポリ塩化ビニル
t)ポリ塩化ビニリデン
9)ポリスチレン
h)ポリビニルアセテート
i)スチレン−ブタジェン共重合体
j)塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体k)塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体 1)塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体 ■)シリコン樹脂 n)シリコン−アルキッド樹脂 0)フェノール−ホルムアルデヒド樹脂p)スチレン−
アルキッド樹脂 q)ポリ−N−ビニルカルバゾール r)ポリビニルブチラール 本発明の電子写真感光体においては、帯電性能、繰り返
し特性、耐刷性等の特性をざらに向上せしめるために、
感光層の少なくとも最上層のバインダーとしては前記バ
インダーのうちでも特に下記一般式(A)で表されるポ
リカーボネートを用いるのが好ましい。
化ビニル−酢酸ビニル共重合体 1)塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体 ■)シリコン樹脂 n)シリコン−アルキッド樹脂 0)フェノール−ホルムアルデヒド樹脂p)スチレン−
アルキッド樹脂 q)ポリ−N−ビニルカルバゾール r)ポリビニルブチラール 本発明の電子写真感光体においては、帯電性能、繰り返
し特性、耐刷性等の特性をざらに向上せしめるために、
感光層の少なくとも最上層のバインダーとしては前記バ
インダーのうちでも特に下記一般式(A)で表されるポ
リカーボネートを用いるのが好ましい。
一般式(A)
式中、R+3. RM、R+5. R46,R17,[
+8゜R19,R20は、それぞれ、水素原子、ハロゲ
ン原子、置換若しくは未置換の脂肪族基又は置換若しく
は未置換の炭素環基を表し、nは10〜1000である
。
+8゜R19,R20は、それぞれ、水素原子、ハロゲ
ン原子、置換若しくは未置換の脂肪族基又は置換若しく
は未置換の炭素環基を表し、nは10〜1000である
。
2は置換若しくは未置換の炭素環又は置換若しくは未置
換の複素環を形成するのに必要な原子群を表す。
換の複素環を形成するのに必要な原子群を表す。
上記一般式(A)で表わされるポリカーボネートの具体
例としては下記のものを挙げることができる。
例としては下記のものを挙げることができる。
本発明で好ましく使用される上記ポリカーボネートは感
光層の少なくとも最上層のバインダーの主成分として用
いるのが好ましい。
光層の少なくとも最上層のバインダーの主成分として用
いるのが好ましい。
ここでいう最上層というのは、例えば、感光層がキャリ
ア発生層とキャリア輸送層の2Bから構成されていると
きは、この2層のうち、上層に位置するキャリア発生層
又はキャリア輸送層である。
ア発生層とキャリア輸送層の2Bから構成されていると
きは、この2層のうち、上層に位置するキャリア発生層
又はキャリア輸送層である。
また例えば第3図に示すようにキャリア発生物質とキャ
リア輸送物質を含有する単層構成の感光層のときは、こ
の感光層が最上層である。そして、上記最上層における
バインダーの主成分というのは、最上層に含有するバイ
ンダーのうち本発明の一般式[A]で表されるポリカー
ボネートが少なくとも5層wt%含有することである。
リア輸送物質を含有する単層構成の感光層のときは、こ
の感光層が最上層である。そして、上記最上層における
バインダーの主成分というのは、最上層に含有するバイ
ンダーのうち本発明の一般式[A]で表されるポリカー
ボネートが少なくとも5層wt%含有することである。
又、本発明においては、耐環境性、特に電子写真プロセ
スにおけるコロナ放電による帯電時のオゾン等の活性物
質の発生に伴う帯電特性、感度の低下、残留電位の上昇
を防止するために、感光層に酸化防止剤を添加するのが
好ましい。このような酸化防止剤としてはヒンダードフ
ェノール構造単位を有する化合物が好ましく用いられる
。
スにおけるコロナ放電による帯電時のオゾン等の活性物
質の発生に伴う帯電特性、感度の低下、残留電位の上昇
を防止するために、感光層に酸化防止剤を添加するのが
好ましい。このような酸化防止剤としてはヒンダードフ
ェノール構造単位を有する化合物が好ましく用いられる
。
本発明に謂うヒンダードフェノール構造単位とは、フェ
ノール性水酸基のオルト位に嵩高の原子団が存在するこ
とで特徴づけられるフェノール系構造単位である。
ノール性水酸基のオルト位に嵩高の原子団が存在するこ
とで特徴づけられるフェノール系構造単位である。
嵩高の原子団として一般に分岐状のアルキル基が好都合
である。
である。
その作用効果の機構は定かではないが嵩高原子団の作る
立体的障害によってフェノール性水酸基またはアルコキ
シ基の熱振動を抑制したり外部活性物質の影響を阻止す
るためと思われる。
立体的障害によってフェノール性水酸基またはアルコキ
シ基の熱振動を抑制したり外部活性物質の影響を阻止す
るためと思われる。
本発明において、ヒンダードフェノール構造単位を有す
る化合物としては下記一般式[VI]又は一般式[■]
で表されるものが好ましい。
る化合物としては下記一般式[VI]又は一般式[■]
で表されるものが好ましい。
一般式[■]
式中、R21およびR22は、それぞれ、置換若しくは
未置換のアルキル基であって、少なくとも−方は分岐ア
ルキル基である。
未置換のアルキル基であって、少なくとも−方は分岐ア
ルキル基である。
R23,R2+及びR25は、それぞれ、水素原子、ヒ
ドロキシ基、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換
若しくは未置換のアリール基を表し、R23とR24又
はR2+とR25は、2つが相互にM結して環を形成し
てもよい。
ドロキシ基、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換
若しくは未置換のアリール基を表し、R23とR24又
はR2+とR25は、2つが相互にM結して環を形成し
てもよい。
前記R21及びR22の少なくとも一方は炭素数3〜4
0のtert−もしくは5ec−アルキル基が好ましい
。
0のtert−もしくは5ec−アルキル基が好ましい
。
R2+ 、 R22,R23,R24及びR25の置換
若しくは未置換のアルキル基としては、炭素数1〜40
のものが好ましく、置換若しくは未置換のアリール基と
してはフェニル基、ナフチル基、ピリジル基等が挙げら
れる。
若しくは未置換のアルキル基としては、炭素数1〜40
のものが好ましく、置換若しくは未置換のアリール基と
してはフェニル基、ナフチル基、ピリジル基等が挙げら
れる。
R23とR24又はR24とR25とが相互に連結して
形成される環の例としてはクロマン環が挙げられる。
形成される環の例としてはクロマン環が挙げられる。
一般式[■]
式中、R31およびR32は各々、置換若しくは未置換
のアルキル基を表し、Aは酸素原子またはイミノ基を表
す。Xは炭素原子、硫黄原子、オクタデシル基または一
〇〇H20H20−基を表す。
のアルキル基を表し、Aは酸素原子またはイミノ基を表
す。Xは炭素原子、硫黄原子、オクタデシル基または一
〇〇H20H20−基を表す。
lは1または2の整数、mは0.1.2または3の整数
、nは1,2または4の整数を表す。
、nは1,2または4の整数を表す。
次に本発明に用いられるヒンダードフェノール構造単位
を有する化合物(以下、本発明のHP化合物と称する)
の代表的具体例を示すが、これらに限定するものではな
い。
を有する化合物(以下、本発明のHP化合物と称する)
の代表的具体例を示すが、これらに限定するものではな
い。
′″ 〜(
以下傘白、。
i、’−−’、:−シ
ヒンダードフェノール構造単位を有する例示化合物一般
式[■]で示される化合物 P−1 P−2 P−3 )(P−4Q し1″iコ C4−1゜ P−5 P−6 P−7 P−8 HP−9 HP−10 HP−11 一般式[■]で示される化合物の例示 P−34 HP−35 HP−36 HP−37 HP−38 HP−39 HP−40 これらの化合物は、プラスチック、合成tI雑、エラス
トマー、ワックス、油脂類などの酸化防止剤として入手
できる市販品(例えばチバガイギー社製イルガノックス
)を含み、また3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t
−ブチルフェニル)プロピオン酸もしくは4−ヒドロキ
シ−3,5−ジー1−ブチルフェニル酢酸とポリオール
もしくはポリアミンから合成することができる。
式[■]で示される化合物 P−1 P−2 P−3 )(P−4Q し1″iコ C4−1゜ P−5 P−6 P−7 P−8 HP−9 HP−10 HP−11 一般式[■]で示される化合物の例示 P−34 HP−35 HP−36 HP−37 HP−38 HP−39 HP−40 これらの化合物は、プラスチック、合成tI雑、エラス
トマー、ワックス、油脂類などの酸化防止剤として入手
できる市販品(例えばチバガイギー社製イルガノックス
)を含み、また3−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t
−ブチルフェニル)プロピオン酸もしくは4−ヒドロキ
シ−3,5−ジー1−ブチルフェニル酢酸とポリオール
もしくはポリアミンから合成することができる。
本発明において、前記ヒンダードフェノール構造単位を
有する化合物の他に用いることのできる酸化防止剤とし
ては下記のものを挙げることができる。
有する化合物の他に用いることのできる酸化防止剤とし
ては下記のものを挙げることができる。
パラフェニレンジアミン類
N−フェニル−N′−イソプロピル−p−フェニレンジ
アミン、N、N’−ジー5ec−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−
フェニレンジアミン、N。
アミン、N、N’−ジー5ec−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−
フェニレンジアミン、N。
N′−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N、
N’−ジメチル−N、N’−ジ−t−ブチル−I)7フ
エニレンジアミンなど。
N’−ジメチル−N、N’−ジ−t−ブチル−I)7フ
エニレンジアミンなど。
ハイドロキノン類
2.5−ジー℃−オクチルハイドロキノン、2゜6−シ
ドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン
、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−【−
オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オク
タデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
ドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン
、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−【−
オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オク
タデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。
有機硫黄化合物類
ジラウリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジステ
アリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シルー3.3′−チオジプロピオネートなど。
アリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジテトラデ
シルー3.3′−チオジプロピオネートなど。
有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホス
フィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキシ
)ホスフィンなど。
フィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキシ
)ホスフィンなど。
これらの化合物はゴム、プラスチック、油脂類等の酸化
防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる
。
防止剤として知られており、市販品を容易に入手できる
。
これらの酸化防止剤はキャリア発生層、キャリア輸送層
、又は保護層のいずれに添加されてもよいが、好ましく
はキャリア輸送層に添加される。
、又は保護層のいずれに添加されてもよいが、好ましく
はキャリア輸送層に添加される。
その場合の酸化防止剤の添加最はキャリア輸送物質10
0重量部に対して0.1〜100重量部、好ましくは1
〜50重量部、特に好ましくは5〜25重量部である。
0重量部に対して0.1〜100重量部、好ましくは1
〜50重量部、特に好ましくは5〜25重量部である。
次に前記感光層を支持する導電性支持体としては、アル
ミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金属
箔、アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウムなどを蒸
着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを使用
することができる。
ミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ドラム又は金属
箔、アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウムなどを蒸
着したプラスチックフィルムあるいは導電性物質を塗布
した紙、プラスチックなどのフィルム又はドラムを使用
することができる。
本発明において、キャリア発生層は代表的には前述の本
発明のビスアゾ化合物を適当な分散媒又は溶媒に単独も
しくは適当なバインダ樹脂と共に分散せしめた分散液を
例えばデイツプ塗布、スプレー塗布、ブレード塗布、ロ
ール塗布等によって支持体若しくは下引層上又はキャリ
ア輸送層上に塗布して乾燥させる方法により設けること
ができる。
発明のビスアゾ化合物を適当な分散媒又は溶媒に単独も
しくは適当なバインダ樹脂と共に分散せしめた分散液を
例えばデイツプ塗布、スプレー塗布、ブレード塗布、ロ
ール塗布等によって支持体若しくは下引層上又はキャリ
ア輸送層上に塗布して乾燥させる方法により設けること
ができる。
本発明のビスアゾ化合物はこれを例えばボールミル、サ
ンドミル等を用いて適当な粒径の微細粒子にしたのち、
分散媒中に分散することができる。
ンドミル等を用いて適当な粒径の微細粒子にしたのち、
分散媒中に分散することができる。
本発明のビスアゾ化合物の分散には、ボールミル、ホモ
ミキサ、サンドミル、超音波分散機、アトライタ等が用
いられる。
ミキサ、サンドミル、超音波分散機、アトライタ等が用
いられる。
本発明の感光体が積層型構成の場合、キャリア発生層中
のバインダー二本発明のビスアゾ化合物からなるキャリ
ア発生物質二本発明のスチリル化合物からなるキャリア
輸送物質のml比は0〜ioo: i〜500:
o〜500である。
のバインダー二本発明のビスアゾ化合物からなるキャリ
ア発生物質二本発明のスチリル化合物からなるキャリア
輸送物質のml比は0〜ioo: i〜500:
o〜500である。
キャリア発生物質の含有割合がこれより少ないと光感度
が低く、残留電位の増加を招き、またこれより多いと暗
減衰及び受容電位が低下する。
が低く、残留電位の増加を招き、またこれより多いと暗
減衰及び受容電位が低下する。
以上のようにして形成されるキャリア発生層の膜厚は、
好ましくは0.01〜10μ11特に好ましくは0.1
〜5μmである。
好ましくは0.01〜10μ11特に好ましくは0.1
〜5μmである。
マタ、キャリア輸送層は、本発明のスチリル化合物から
なるキャリア輸送物質を適用な溶媒又は分散媒に単独で
あるいは上述のバインダ樹脂と共に溶解、分散せしめた
ものを塗布、乾燥して形成することができる。用いられ
る分散媒としては前記キャリア発生物質の分散において
用いた分散媒を用いることができる。
なるキャリア輸送物質を適用な溶媒又は分散媒に単独で
あるいは上述のバインダ樹脂と共に溶解、分散せしめた
ものを塗布、乾燥して形成することができる。用いられ
る分散媒としては前記キャリア発生物質の分散において
用いた分散媒を用いることができる。
本発明のスチリル化合物からなるキャリア輸送物質は、
単独又は2種以上併用することができる。
単独又は2種以上併用することができる。
また、本発明の目的に反しない限り、本発明のスチリル
化合物以外の他のキャリア輸送物質と併用してもよい。
化合物以外の他のキャリア輸送物質と併用してもよい。
本発明において使用可能なキャリア輸送物質としては、
特に制限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサ
ジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール
誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イ
ミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダ
ゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、
ピラゾリン誘導体、アミン誘導体、オキサシロン誘導体
、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体
、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン
誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレ
ン、ポリ−9−ビニルアントラセン等である。
特に制限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサ
ジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール
誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イ
ミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダ
ゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、
ピラゾリン誘導体、アミン誘導体、オキサシロン誘導体
、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体
、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン
誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレ
ン、ポリ−9−ビニルアントラセン等である。
キャリア輸送層中のバインダ樹脂100重缶部当りの本
発明のキャリア輸送物質は20〜200重量部が好まし
く、特に好ましくは30〜150重量部である。
発明のキャリア輸送物質は20〜200重量部が好まし
く、特に好ましくは30〜150重量部である。
形成されるキャリア輸送層の膜厚は、好°ましくは5〜
50μm、特に好ましくは5〜30μIである。
50μm、特に好ましくは5〜30μIである。
また、本発明のビスアゾ化合物とスチリル化合物を含有
する単層機能分離型の電子写真感光体の場合のバインダ
ー:本発明のビスアゾ化合物:本発明のスチリル化合物
の割合は0〜100:1〜500:0〜500が好まし
く、形成される感光層の膜厚は5〜50μ■が好ましく
、特に好ましくは5〜30μ腸である。
する単層機能分離型の電子写真感光体の場合のバインダ
ー:本発明のビスアゾ化合物:本発明のスチリル化合物
の割合は0〜100:1〜500:0〜500が好まし
く、形成される感光層の膜厚は5〜50μ■が好ましく
、特に好ましくは5〜30μ腸である。
本発明においてキャリア発生層には感度の向上、残留電
位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種又は
二種以上の電子受容性物質を含有せしめることができる
。
位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種又は
二種以上の電子受容性物質を含有せしめることができる
。
ここに用いることのできる電子受容性物質としては、例
えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、
4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、O−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン
、1.3.5−トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾ
ニトリル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド、
クロラニル、ブルマニル、ジクロロジシアノバラベンゾ
キノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2
.7−シニトロフルオレノン、2.4.74リニトロフ
ルオレノン、2゜4.5.7−テトラニトロフルオレノ
ン、9−フルオレニリデン[ジシアノメチレンマロノジ
ニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−[ジ
シアノメチレンマロノジニトリル]、ビクリン酸、O−
ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジニト
ロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−二トロサリ
チル酸、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリ
ット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げるこ
とができる。
えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、
4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、O−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン
、1.3.5−トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾ
ニトリル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド、
クロラニル、ブルマニル、ジクロロジシアノバラベンゾ
キノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2
.7−シニトロフルオレノン、2.4.74リニトロフ
ルオレノン、2゜4.5.7−テトラニトロフルオレノ
ン、9−フルオレニリデン[ジシアノメチレンマロノジ
ニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−[ジ
シアノメチレンマロノジニトリル]、ビクリン酸、O−
ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジニト
ロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−二トロサリ
チル酸、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリ
ット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げるこ
とができる。
また、電子受容性物質の添加割合は、重量比で本発明の
ビスアゾ化合物:電子受容性物質−100:0.01〜
200、好ましくは100:O11〜100である。
ビスアゾ化合物:電子受容性物質−100:0.01〜
200、好ましくは100:O11〜100である。
この電子受容性物質はキャリア輸送層に添加してもよい
。かかる層への電子受容性物質の添加割合は重量比で本
発明のキャリア輸送物質を含む全キャリア輸送物質:電
子受容性物質=IQO:0、01〜100.好ましくは
100 : 0.1〜50である。
。かかる層への電子受容性物質の添加割合は重量比で本
発明のキャリア輸送物質を含む全キャリア輸送物質:電
子受容性物質=IQO:0、01〜100.好ましくは
100 : 0.1〜50である。
また本発明の感光体には、その他、必要により感光層を
保護する目的で紫外線吸収剤、酸化防止剤等を含有して
もよく、また感色性補正の染料を含有してもよい。
保護する目的で紫外線吸収剤、酸化防止剤等を含有して
もよく、また感色性補正の染料を含有してもよい。
本発明の電子写真感光体は可視光線、近赤外線の光線に
良好に感応することができる。
良好に感応することができる。
このような波長を有する光源としてはハロゲンランプ、
蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンレーザー、ヘリ
ウム−ネオンレーザ−等の気体レーザーや半導体レーザ
ー等が用いられる。
蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンレーザー、ヘリ
ウム−ネオンレーザ−等の気体レーザーや半導体レーザ
ー等が用いられる。
本発明によれば前記一般式[工]で表されるビスアゾ化
合物をCGMとして用いると共に、前記一般式[II]
で示されるスチリル化合物をCTMとして用いて、これ
らを巧みに組み合せることにより、極めて感度の高い電
子写真感光体が得られる。
合物をCGMとして用いると共に、前記一般式[II]
で示されるスチリル化合物をCTMとして用いて、これ
らを巧みに組み合せることにより、極めて感度の高い電
子写真感光体が得られる。
また、本発明の感光体は、電荷の保持力も大きく、しか
も残留電位が極めて低いため反復使用においても安定な
性能が発揮され、電荷の蓄積も生じない。さらにまた、
長波長光やレーザー光に対しても良好な感度を示すため
、高信頼性の期待される半導体レーザー光源を用いるレ
ーザープリンタ等にも使用しうるちのである。
も残留電位が極めて低いため反復使用においても安定な
性能が発揮され、電荷の蓄積も生じない。さらにまた、
長波長光やレーザー光に対しても良好な感度を示すため
、高信頼性の期待される半導体レーザー光源を用いるレ
ーザープリンタ等にも使用しうるちのである。
[実施例]
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、こ
れにより本発明の実施態様が限定されるものではない。
れにより本発明の実施態様が限定されるものではない。
実施例1
ポリエステルフィルム上にアルミニウム箔をラミネート
して成る導電性支持体上に、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体「エスレックMF−10J
(積水化学社!II)よりなる厚さ0.05μmの中間
層を設け、その上に例示化合物No、71の2gとポリ
カーボネート樹脂「パンライトし一1250J (余
人化成社製)2aとを1.2−ジクロロエタン110i
12に加え、ボールミルで12時間分散した。この分散
液を乾燥時の膜厚が0.5μmになるように塗布し、キ
ャリア発生層とし、更にその上にキャリア輸送物質とし
て例示化合物■−18で示したスチリル化合物6gをポ
リカーボネート樹脂「ニーピロンS−10004(例示
化合物 (A−2))(三菱ガス化学株式会社製)10
(J トラ1 、2−シクDOエタ/80tNk−溶解
した液を乾燥後の膜厚が15μ層になるように塗布して
キャリア輸送層を形成し本発明の感光体を作成した。こ
れを−「試料1」とする。
して成る導電性支持体上に、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体「エスレックMF−10J
(積水化学社!II)よりなる厚さ0.05μmの中間
層を設け、その上に例示化合物No、71の2gとポリ
カーボネート樹脂「パンライトし一1250J (余
人化成社製)2aとを1.2−ジクロロエタン110i
12に加え、ボールミルで12時間分散した。この分散
液を乾燥時の膜厚が0.5μmになるように塗布し、キ
ャリア発生層とし、更にその上にキャリア輸送物質とし
て例示化合物■−18で示したスチリル化合物6gをポ
リカーボネート樹脂「ニーピロンS−10004(例示
化合物 (A−2))(三菱ガス化学株式会社製)10
(J トラ1 、2−シクDOエタ/80tNk−溶解
した液を乾燥後の膜厚が15μ層になるように塗布して
キャリア輸送層を形成し本発明の感光体を作成した。こ
れを−「試料1」とする。
実施例2〜5
CTLの形成において、スチリル化合物として例示化合
物■−43、■−30、■−13、及びI[−35を夫
々使用した以外は実施例1と全く同様にして4種類の本
発明の感光体を作成した。これらをそれぞれ、「試料2
」、「試料3」、「試料4」及び「試料5」とする。
物■−43、■−30、■−13、及びI[−35を夫
々使用した以外は実施例1と全く同様にして4種類の本
発明の感光体を作成した。これらをそれぞれ、「試料2
」、「試料3」、「試料4」及び「試料5」とする。
実施例6及び7
CGLの形成において、CGMとして例示化合物37及
び72を夫々用い、またCTLの形成ににおいてバイン
ダーとしてポリカーボネート樹脂「パンライトL−12
50J (余人化成社製)を用いた他は実施例1と同
様にして2種の本発明の電子写真感光体を作成した。こ
れを「試料6」及び「試料7」とする。
び72を夫々用い、またCTLの形成ににおいてバイン
ダーとしてポリカーボネート樹脂「パンライトL−12
50J (余人化成社製)を用いた他は実施例1と同
様にして2種の本発明の電子写真感光体を作成した。こ
れを「試料6」及び「試料7」とする。
実施例8
実施例1におけると同様にして導電性支持体上に中間層
を設け、CGMとして例示化合物71を2gと一般式(
A)で示されるポリカーボネート樹脂「ニーピロンS−
1000J (例示化合物 (△−2))(三菱ガス
化学株式会社製xaとを1゜2−ジクロルエタン100
112に加えて12時間ボールミルにより分散し、1q
られた分散液を前記中間層上にドクターブレードを用い
て塗布し、十分乾燥して厚さ約0.5μmのCGLを形
成した。
を設け、CGMとして例示化合物71を2gと一般式(
A)で示されるポリカーボネート樹脂「ニーピロンS−
1000J (例示化合物 (△−2))(三菱ガス
化学株式会社製xaとを1゜2−ジクロルエタン100
112に加えて12時間ボールミルにより分散し、1q
られた分散液を前記中間層上にドクターブレードを用い
て塗布し、十分乾燥して厚さ約0.5μmのCGLを形
成した。
このCGL上に、CTMとして例示化合物I[−29を
69及び酸化防止剤として例示化合物(HP −9>
0.6(+を一般式(A)で示されるポリカーボネー
ト樹脂「ニーピロンS −1000J・(例示化合物(
A−2))(三菱ガス化学株式会社製)100とを1.
2−ジクロロエタン80−に溶解した液を乾燥後の膜厚
が15μmになるように塗布してCTLを形成し、本発
明の感光体を作成した。これを試料8とする。
69及び酸化防止剤として例示化合物(HP −9>
0.6(+を一般式(A)で示されるポリカーボネー
ト樹脂「ニーピロンS −1000J・(例示化合物(
A−2))(三菱ガス化学株式会社製)100とを1.
2−ジクロロエタン80−に溶解した液を乾燥後の膜厚
が15μmになるように塗布してCTLを形成し、本発
明の感光体を作成した。これを試料8とする。
酸化防止剤(HP−9)
実施例9〜11
実施例1のCGLの形成において、例示化合物No、7
1の代りに、例示化合物NO,219,220及び21
1を夫々用い、またCTLの形成において例示化合物■
−18の代りに、例示化合物n−30を用いた他は実施
例1と同様にして本発明の3種の電子写真感光体をそれ
ぞれ作成した。これらの感光体を[試料9.10及び1
1」とする。
1の代りに、例示化合物NO,219,220及び21
1を夫々用い、またCTLの形成において例示化合物■
−18の代りに、例示化合物n−30を用いた他は実施
例1と同様にして本発明の3種の電子写真感光体をそれ
ぞれ作成した。これらの感光体を[試料9.10及び1
1」とする。
実施例12
ポリエステルフィルム上にアルミニウム箔をラミネート
して成る導電性支持体上に、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体「エスレックMF−10J
(積木化学社製)より成る厚さ0.05μmの中間層を
設け、その上にキャリア輸送物質として例示化合物ll
−38のもの6gと一般式(A)で示されるポリカーボ
ネート樹脂[ニーピロン3−1000J (例示化合
物(A−2))10oとを1.2−ジクロロエタン80
rNに溶解した液を乾燥後の膜厚が15μmになるよう
に塗布して、キャリア輸送層を形成した。
して成る導電性支持体上に、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体「エスレックMF−10J
(積木化学社製)より成る厚さ0.05μmの中間層を
設け、その上にキャリア輸送物質として例示化合物ll
−38のもの6gと一般式(A)で示されるポリカーボ
ネート樹脂[ニーピロン3−1000J (例示化合
物(A−2))10oとを1.2−ジクロロエタン80
rNに溶解した液を乾燥後の膜厚が15μmになるよう
に塗布して、キャリア輸送層を形成した。
更にその上に例示化合物NO,712(]、酸化防止剤
HP−6を0.2g、ポリカーボネー1〜樹脂[ニーピ
ロンS−1000J (例示化合物 (A−21)2
0とを1,2−ジクロロエタン70112と1.1゜2
−トリクロロエタン30u12に加え、24時間ボール
ミルで分散した液を塗布し、乾燥後の膜厚が4μmであ
るキャリア発生層を設け、本発明の感光体をそれぞれ作
成した。この感光体を試料12とする。
HP−6を0.2g、ポリカーボネー1〜樹脂[ニーピ
ロンS−1000J (例示化合物 (A−21)2
0とを1,2−ジクロロエタン70112と1.1゜2
−トリクロロエタン30u12に加え、24時間ボール
ミルで分散した液を塗布し、乾燥後の膜厚が4μmであ
るキャリア発生層を設け、本発明の感光体をそれぞれ作
成した。この感光体を試料12とする。
HP−6
比較例1
実施例1のCGLの形成において、一般式[I]で示さ
れるビスアゾ化合物の代りに次の構造を有する化合物(
CG−1>を用いたほかは、実施例1と同様にして比較
用電子写真感光体を製造した。
れるビスアゾ化合物の代りに次の構造を有する化合物(
CG−1>を用いたほかは、実施例1と同様にして比較
用電子写真感光体を製造した。
これを「比較試料1」とする。
(CG−1)
比較例2
実施例1のCGLの形成において、一般式[工]で示さ
れるビスアゾ化合物の代りに次の構造を有する化合物(
CG−2)を用いたほかは、実施例1と同様にして比較
用電子写真感光体を製造した。
れるビスアゾ化合物の代りに次の構造を有する化合物(
CG−2)を用いたほかは、実施例1と同様にして比較
用電子写真感光体を製造した。
これを「比較試料2」とする。
(CG−2>
比較例3
実施例1のCGLの形成において、本発明のCGMの代
りにN、N’ −ジメチル−ペリレン−3,4,9,1
0−テトラカルボン酸ジイミド(CG−3)を用い、C
TLの形成において本発明の例示化合物ll−16をそ
れぞれ用いた他は、実施例1と同様にして比較用電子写
真感光体を作成した。これを[比較試料3Jとする。
りにN、N’ −ジメチル−ペリレン−3,4,9,1
0−テトラカルボン酸ジイミド(CG−3)を用い、C
TLの形成において本発明の例示化合物ll−16をそ
れぞれ用いた他は、実施例1と同様にして比較用電子写
真感光体を作成した。これを[比較試料3Jとする。
比較例4
実施例1のCG Lの形成において、本発明のCGMの
代りに下記構造を有する本発明外の化合物(CG−4’
)を用い、またCTLの形成において本発明の例示化合
物ll−24をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様に
して比較用電子写真感光体を作成した。これを「比較試
料4」とする。
代りに下記構造を有する本発明外の化合物(CG−4’
)を用い、またCTLの形成において本発明の例示化合
物ll−24をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様に
して比較用電子写真感光体を作成した。これを「比較試
料4」とする。
(CG−4)
以上のようにして得られた電子写真感光体く試料1〜試
料12並びに比較試料1〜比較試料4)の各々について
、「エレクトロメーターEPA−8100型」 (川口
言様製作所製)を用いて、その電子写真特性を調べた。
料12並びに比較試料1〜比較試料4)の各々について
、「エレクトロメーターEPA−8100型」 (川口
言様製作所製)を用いて、その電子写真特性を調べた。
即ち、感光体表面を帯電電位−6KVで5秒間帯電させ
た時の受容電位VA(V)と、5秒間暗減衰させた後の
電位(初期電位)V+ を照度が3!M!uXになるよ
うにハロゲンランプ光を照射して表面電位を1/2に減
衰させるために必要な露光ff1E1/2 (ffi
ux・秒)とを調べた。結果は下記衣−1に示す通りで
あった。但し、試料12については帯電電位+6KVで
5秒間帯電させた。
た時の受容電位VA(V)と、5秒間暗減衰させた後の
電位(初期電位)V+ を照度が3!M!uXになるよ
うにハロゲンランプ光を照射して表面電位を1/2に減
衰させるために必要な露光ff1E1/2 (ffi
ux・秒)とを調べた。結果は下記衣−1に示す通りで
あった。但し、試料12については帯電電位+6KVで
5秒間帯電させた。
また試料1〜試料12並びに比較試料1〜比較試料4の
各々を乾式電子複写Fj4 r U −B ix155
0MRJの改造n<コニカ株式会社製)に装着して連続
複写を行ない、露光絞り値2.5における黒紙電位Vb
(V)及び白紙電位Vw(V)を「エレクトロスタ
チックボルトメーター144D −1D型」(モンロー
エレクトロニクスインコーボレーテッド製)を用い、現
像する直前において測定した。
各々を乾式電子複写Fj4 r U −B ix155
0MRJの改造n<コニカ株式会社製)に装着して連続
複写を行ない、露光絞り値2.5における黒紙電位Vb
(V)及び白紙電位Vw(V)を「エレクトロスタ
チックボルトメーター144D −1D型」(モンロー
エレクトロニクスインコーボレーテッド製)を用い、現
像する直前において測定した。
結果は第1表に示す通りである。
尚ここでいう黒紙電位とは反射部[I,3の黒紙を原稿
とし、上述の複写サイクルを実施したときの感光体の表
面電位を表わし、白紙電位とは白紙を原稿としたときの
感光体の表面電位を表わす。
とし、上述の複写サイクルを実施したときの感光体の表
面電位を表わし、白紙電位とは白紙を原稿としたときの
感光体の表面電位を表わす。
但し、表中△■b (V)及びΔ■W(v)はそれぞれ
黒紙電位Vb (V)及び白紙電位Vw (V)の
変動層を示し、変動通の+は増加を−は減少をさらにま
た、本発明の試料1についてはこれをレーザープリンタ
ー1 p −3010(コニカ社製)の改造機に装着し
、初期の未露光部電位(VH)、露光部電位(VL )
及び2万コピー後のVHlVLの初期値どのそれぞれの
差ΔIVHI、ΔIVLIを測定した。
黒紙電位Vb (V)及び白紙電位Vw (V)の
変動層を示し、変動通の+は増加を−は減少をさらにま
た、本発明の試料1についてはこれをレーザープリンタ
ー1 p −3010(コニカ社製)の改造機に装着し
、初期の未露光部電位(VH)、露光部電位(VL )
及び2万コピー後のVHlVLの初期値どのそれぞれの
差ΔIVHI、ΔIVLIを測定した。
また、帯[i位±600 Vを±300Vとするのに必
要な先口をio (er(1/ Cv’ ) トシタ
RIC1Sλ= 王 とした・ O なお、光源としてはl−1e/Heレーザー(発振波長
632nm )を用いた。これらの結果を下記に示ず。
要な先口をio (er(1/ Cv’ ) トシタ
RIC1Sλ= 王 とした・ O なお、光源としてはl−1e/Heレーザー(発振波長
632nm )を用いた。これらの結果を下記に示ず。
VH(V) 655
VL(V) 30
Sλ(■・C12/erg)75
ΔlVH1(V) 25
ΔIVL l (V) 5
第1図〜第9図はそれぞれ本発明の感光体の構成例につ
いて示す断面図であって図中の1〜6はそれぞれ以下の
事を表わす。
いて示す断面図であって図中の1〜6はそれぞれ以下の
事を表わす。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)導電性支持体上に、キャリア発生物質及びキャリ
ア輸送物質を含有してなる感光時を有する電子写真感光
体において、前記キャリア発生物質の少なくとも1種が
下記一般式[ I ]で表されるビスアゾ化合物からなり
、前記キャリア輸送物質の少なくとも1種が下記一般式
[II]で表されるスチリル化合物からなることを特徴と
する電子写真感光体。一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ [X_1およびX_2は、それぞれ、ハロゲン原子、置
換若しくは未置換のアルキル基、置換若しくは未置換の
アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基又は
置換若しくは未置換のアミノ基を表わし、X_1および
X_2のうち少なくとも1つはハロゲン原子である。 p及びqはそれぞれ0、1又は2の整数を表わし、p及
びqは同時に0となることはなく、且つ、p及びqが2
のときは、X_1およびX_2はそれぞれ同一又は異な
る基であつてもよい。Aは下記一般式で表わされる基を
表わす。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Arはフッ素化炭化水素基を有する芳香族炭素
環基又はフッ素化炭化水素基を有する芳香族複素環基を
表わす。Zは置換若しくは未置換の芳香族炭素環又は置
換若しくは未置換の芳香族複素環を形成するのに必要な
非金属原子群を表わす)。m及びnは、それぞれ0、1
又は2の整数を表わす。但し、m及びnが同時に0とな
ることはない。] 一般式[II] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1およびR_2は、それぞれ、水素原子、
置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換
のアルケニル基、置換若しくは非置換のアリール基、又
は置換若しくは非置換の複素環基を表わし、R_1およ
びR_2は、共同して環を形成してもよい。R_3は置
換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換の
アリール基、置換若しくは非置換のアルコキシ基又は▲
数式、化学式、表等があります▼ を表わし、R_1およびR_2は前記と同義である。 R_4は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、
置換若しくは非置換のアリール基又は置換若しくは非置
換のアルコキシ基を表わす。](2)前記感光層が前記
一般式[ I ]で表されるビスアゾ化合物の少なくとも
1種をキャリア発生物質として含有してなるキャリア発
生層と前記一般式[II]で表されるスチリル化合物の少
なくとも1種をキャリア輸送物質として含有してなるキ
ャリア輸送層の積層構造からなることを特徴とする請求
項(1)記載の電子写真感光体。 (3)前記感光層がさらにヒンダードフェノール構造単
位を有する化合物の少なくとも1種を含有することを特
徴とする請求項(1)又は(2)記載の電子写真感光体
。 (4)前記感光層の少なくとも最上層が下記一般式[A
]で表されるポリカーボネートをバインダーの主成分と
して含有することを特徴とする請求項(1)、(2)又
は(3)記載の電子写真感光体。 一般式[A] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1^3、R^1^4、R^1^5、R^1
^6、R^1^7、R^1^8、R^1^9、R^2^
0は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、置換若しく
は未置換の脂肪族基又は置換若しくは未置換の炭素環基
を表し、nは10〜1000である。 Zは置換若しくは未置換の炭素環又は置換若しくは未置
換の複素環を形成するのに必要な原子群を表す。]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10509588A JP2607120B2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10509588A JP2607120B2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01274154A true JPH01274154A (ja) | 1989-11-01 |
JP2607120B2 JP2607120B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=14398349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10509588A Expired - Lifetime JP2607120B2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2607120B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0535672A2 (en) * | 1991-10-02 | 1993-04-07 | Mitsubishi Chemical Corporation | Electrophotographic photoreceptor |
-
1988
- 1988-04-27 JP JP10509588A patent/JP2607120B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0535672A2 (en) * | 1991-10-02 | 1993-04-07 | Mitsubishi Chemical Corporation | Electrophotographic photoreceptor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2607120B2 (ja) | 1997-05-07 |
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