JPH01253260A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH01253260A JPH01253260A JP7977588A JP7977588A JPH01253260A JP H01253260 A JPH01253260 A JP H01253260A JP 7977588 A JP7977588 A JP 7977588A JP 7977588 A JP7977588 A JP 7977588A JP H01253260 A JPH01253260 A JP H01253260A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- ceramic package
- package
- patterns
- lcc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野コ
本発明はＬ ＣＣ（Ｌｅｅｄｌｅｓｓ Ｃｅｒａｍｉｃ
ＣｈｉｐＣａｒｒｉｅｒ；リードレスセラミックチッ
プキャリア）型の半導体装置に関し、特に、セラミック
パッケージの内部パターンと裏面パターンとの接続部の
配線構造を改良した半導体装置に関する。
ＣｈｉｐＣａｒｒｉｅｒ；リードレスセラミックチッ
プキャリア）型の半導体装置に関し、特に、セラミック
パッケージの内部パターンと裏面パターンとの接続部の
配線構造を改良した半導体装置に関する。
［従来の技術］
従来、この種の半導体装置は、第５図に示すような構造
となっている。即ち、ＬＣＣセラミックパッケージ１の
キャビティ部の中央に半導体素子７を固着した後、この
半導体素子７の電極と内部パターン２とを金属細線６で
配線接続させると共に、内部パターン２をＬＣＣセラミ
ックパッケージ１の側面パターン４を介して裏面パター
ン３に導通させ、更に、蓋部材８にて封止したものであ
る。
となっている。即ち、ＬＣＣセラミックパッケージ１の
キャビティ部の中央に半導体素子７を固着した後、この
半導体素子７の電極と内部パターン２とを金属細線６で
配線接続させると共に、内部パターン２をＬＣＣセラミ
ックパッケージ１の側面パターン４を介して裏面パター
ン３に導通させ、更に、蓋部材８にて封止したものであ
る。
［発明が解決しようとする課題］
上述したように従来のＬＣＣ型半導体装置においては、
ＬＣＣセラミックパッケージ１の裏面に形成する裏面パ
ターン３は、ＬＣＣセラミックパッケージ１のエッヂ部
５から側面パターン４を経て内部パターン２へと導通さ
れている。この裏面パターン３は、通常当該パッケージ
１が実装される基板（マザーボード〉と略対応する大き
さ及び位置に形成される。また、この裏面パターン３は
多数個取付けたＬＣＣセラミック基板を通常スクリーン
印刷を行うことによりセラミック基板のエッヂ部から同
時に形成される。その後、この基板は積層され、次に、
外装めっき処理を施して任意の外形寸法に分離され、こ
れにより単体のセラミックパッケージが製造される。そ
のため、各裏面パターン３はセラミック基板及び印刷時
の精度により大きさのずれが発生しやすい。このように
裏面パターン３の大きさが異なると、当該ＬＣＣセラミ
ックパッケージ１を基板へ実装するときに形成される半
田層の高さが当該ＬＣＣセラミックパッケージ１の中で
異なり、そのため実装ができなくなるという不具合が発
生していた。また、ＬＣＣセラミックパッケージ１の裏
面エッヂ部５を経て裏面パターン３を形成しているため
、エッヂ部５のセラミックが欠けたり又はクラックが発
生したときには、導通不良又は裏面パターン３の形状を
損なうという欠点を有している。
ＬＣＣセラミックパッケージ１の裏面に形成する裏面パ
ターン３は、ＬＣＣセラミックパッケージ１のエッヂ部
５から側面パターン４を経て内部パターン２へと導通さ
れている。この裏面パターン３は、通常当該パッケージ
１が実装される基板（マザーボード〉と略対応する大き
さ及び位置に形成される。また、この裏面パターン３は
多数個取付けたＬＣＣセラミック基板を通常スクリーン
印刷を行うことによりセラミック基板のエッヂ部から同
時に形成される。その後、この基板は積層され、次に、
外装めっき処理を施して任意の外形寸法に分離され、こ
れにより単体のセラミックパッケージが製造される。そ
のため、各裏面パターン３はセラミック基板及び印刷時
の精度により大きさのずれが発生しやすい。このように
裏面パターン３の大きさが異なると、当該ＬＣＣセラミ
ックパッケージ１を基板へ実装するときに形成される半
田層の高さが当該ＬＣＣセラミックパッケージ１の中で
異なり、そのため実装ができなくなるという不具合が発
生していた。また、ＬＣＣセラミックパッケージ１の裏
面エッヂ部５を経て裏面パターン３を形成しているため
、エッヂ部５のセラミックが欠けたり又はクラックが発
生したときには、導通不良又は裏面パターン３の形状を
損なうという欠点を有している。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
エッヂ部にクラック等が生じても、裏面パターンが導通
不良等になるようなことがなく、かつ基板に実装する際
に半田層を均一に形成することができ実装時の不具合を
解消することができる高品質の半導体装置を提供するこ
とを目的とする。
エッヂ部にクラック等が生じても、裏面パターンが導通
不良等になるようなことがなく、かつ基板に実装する際
に半田層を均一に形成することができ実装時の不具合を
解消することができる高品質の半導体装置を提供するこ
とを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明に係る半導体装置は、半導体素子を内部に封止し
たセラミックパッケージと、このセラミックパッケージ
の内部において前記半導体素子に電気的に接続された導
電性の内部パターンと、前記セラミックパッケージの内
部と裏面部との間に設けられたスルーホールを介して前
記内部パターンに電気的に接続されると共に前記セラミ
ックパッケージの裏面のエッヂ部から所定間隔だけ離間
して配設された導電性の裏面パターンとを備えたことを
特徴とする。
たセラミックパッケージと、このセラミックパッケージ
の内部において前記半導体素子に電気的に接続された導
電性の内部パターンと、前記セラミックパッケージの内
部と裏面部との間に設けられたスルーホールを介して前
記内部パターンに電気的に接続されると共に前記セラミ
ックパッケージの裏面のエッヂ部から所定間隔だけ離間
して配設された導電性の裏面パターンとを備えたことを
特徴とする。
［作用］
本発明の半導体装置においては、裏面パターンをＬＣＣ
セラミックパッケージのエッヂ部から離間して配設させ
るようにしたので、エッヂ部が欠けたり、又はクラック
が生ずるようなことがあっても、裏面パターンに損傷を
与えることがなく、また、この裏面パターンと側面パタ
ーンとの間に補助パターンを設け、この補助パターンを
介して内部パターンと電気的に接続させることにより、
当該装置を基板へ実装する際に補助パターン部の半田の
流れを確認することができ均一な高さの半田層が得られ
、確実に実装がなされる。
セラミックパッケージのエッヂ部から離間して配設させ
るようにしたので、エッヂ部が欠けたり、又はクラック
が生ずるようなことがあっても、裏面パターンに損傷を
与えることがなく、また、この裏面パターンと側面パタ
ーンとの間に補助パターンを設け、この補助パターンを
介して内部パターンと電気的に接続させることにより、
当該装置を基板へ実装する際に補助パターン部の半田の
流れを確認することができ均一な高さの半田層が得られ
、確実に実装がなされる。
［実施例］
次に、添付の図面を参照して本発明の実施例を具体的に
説明する。
説明する。
第１図は本発明の実施例に係るＬＣＣ型半導体装置の部
分縦断面図である。図中、ＬＣＣセラミックパッケージ
１のキャビティ部１ａの中央に半導体素子７が固着され
、この半導体素子７の電極と導電性の内部パターン２と
の間が金属細線６により電気的に接続される。セラミッ
クパッケージ１の内部と底面部との間にはスルーホール
９が設けられており、このスルーホール９を介して内部
パターン２と裏面パターン３が導通されている。
分縦断面図である。図中、ＬＣＣセラミックパッケージ
１のキャビティ部１ａの中央に半導体素子７が固着され
、この半導体素子７の電極と導電性の内部パターン２と
の間が金属細線６により電気的に接続される。セラミッ
クパッケージ１の内部と底面部との間にはスルーホール
９が設けられており、このスルーホール９を介して内部
パターン２と裏面パターン３が導通されている。
この裏面パターン３の端部は第２図に拡大して示すよう
にＬＣＣセラミックパッケージ１の裏面エッヂ部５から
所定の間隔、例えば、裏面パターン３の幅の１／２乃至
１倍の間隔だけ離れて配設されている。また、ＬＣＣセ
ラミックパッケージ１の上面には蓋部材８が固着され、
半導体素子７を封止している。
にＬＣＣセラミックパッケージ１の裏面エッヂ部５から
所定の間隔、例えば、裏面パターン３の幅の１／２乃至
１倍の間隔だけ離れて配設されている。また、ＬＣＣセ
ラミックパッケージ１の上面には蓋部材８が固着され、
半導体素子７を封止している。
なお、内部パターン２及び裏面パターン３には夫々Ｗ（
タングステン）メタライズが形成されると共に、Ｎｉに
ッケル）及びＡｕ（金）めっきが施され、またスルーホ
ール９にはＷメタライズが形成されている。
タングステン）メタライズが形成されると共に、Ｎｉに
ッケル）及びＡｕ（金）めっきが施され、またスルーホ
ール９にはＷメタライズが形成されている。
上記実施例においては、裏面パターン３がセラミックパ
ッケージ１の裏面のエッヂ部５から離間して形成されて
いるため、ＬＣＣセラミックパッケージ１の裏面のエッ
ヂ部５が欠けたり、クラ、。
ッケージ１の裏面のエッヂ部５から離間して形成されて
いるため、ＬＣＣセラミックパッケージ１の裏面のエッ
ヂ部５が欠けたり、クラ、。
りが発生した場合でも裏面パターン３の形状を損なうよ
うなことがなくなる。
うなことがなくなる。
第３図は本発明の他の実施例に係る半導体装置を示す部
分縦断面図である、本実施例においては、内部パターン
２は、上記実施例と同様にスルーホール９を介して裏面
パターン３に電気的に接続されているが、更に、この内
部パターン２は側面パターン４を介して裏面パターン３
に接続されている。裏面パターン３の端部は、ＬＣＣセ
ラミックパッケージ１のエッヂ部５と離間しており、更
に、この裏面パターン３は第４図に拡大して示すように
当該裏面パターン３の幅より細い幅の補助パターン１０
により側面パターン４に電気的に接続されている。
分縦断面図である、本実施例においては、内部パターン
２は、上記実施例と同様にスルーホール９を介して裏面
パターン３に電気的に接続されているが、更に、この内
部パターン２は側面パターン４を介して裏面パターン３
に接続されている。裏面パターン３の端部は、ＬＣＣセ
ラミックパッケージ１のエッヂ部５と離間しており、更
に、この裏面パターン３は第４図に拡大して示すように
当該裏面パターン３の幅より細い幅の補助パターン１０
により側面パターン４に電気的に接続されている。
本実施例では裏面パターン３は補助パターン１０により
側面パターン４に導通しているため、実装時の半田付け
が完全に行われているかどうかを、補助パターン１０か
ら側面パターン４への半田の流れ具合で確認できる利点
がある。従って、均一な半田層が形成され、当該半導体
装置の基板への実装が容易になる。また、ＬＣＣセラミ
ックパッケージ１のエッヂ部５が欠けたり、又はクラッ
クが発生しても、裏面パターン３はエッヂ部５から離れ
ているため、当該裏面パターン３が損傷することはない
。また万一補助パターン１０がオープンとなっても、裏
面パターン３は内部パターン２とスルーホール９を介し
て導通されているため、当該半導体装置の動作に支障は
生じないという利点がある。
側面パターン４に導通しているため、実装時の半田付け
が完全に行われているかどうかを、補助パターン１０か
ら側面パターン４への半田の流れ具合で確認できる利点
がある。従って、均一な半田層が形成され、当該半導体
装置の基板への実装が容易になる。また、ＬＣＣセラミ
ックパッケージ１のエッヂ部５が欠けたり、又はクラッ
クが発生しても、裏面パターン３はエッヂ部５から離れ
ているため、当該裏面パターン３が損傷することはない
。また万一補助パターン１０がオープンとなっても、裏
面パターン３は内部パターン２とスルーホール９を介し
て導通されているため、当該半導体装置の動作に支障は
生じないという利点がある。
［発明の効果コ
以上説明したように本発明の半導体装置によれば、ＬＣ
Ｃセラミックパッケージの裏面パターンを、内部パター
ンとスルーホールを介して電気的に接続させると共に、
ＬＣＣセラミックパッケージの裏面のエッヂ部から所定
間隔だけ離間して配設させるようにしたので、セラミッ
クパッケージのエッヂ部が欠けたり、クラックが生じて
も裏面パターンに損傷が生ずるようなことがなく、また
、裏面パターンと側面パターンとの間に補助パター・ン
を設けた場合には、基板へ実装するときの半田付けの不
具合を解消でき、従って製造歩留りが向上すると共に、
高品質の半導体装置が得られるという効果を奏する。
Ｃセラミックパッケージの裏面パターンを、内部パター
ンとスルーホールを介して電気的に接続させると共に、
ＬＣＣセラミックパッケージの裏面のエッヂ部から所定
間隔だけ離間して配設させるようにしたので、セラミッ
クパッケージのエッヂ部が欠けたり、クラックが生じて
も裏面パターンに損傷が生ずるようなことがなく、また
、裏面パターンと側面パターンとの間に補助パター・ン
を設けた場合には、基板へ実装するときの半田付けの不
具合を解消でき、従って製造歩留りが向上すると共に、
高品質の半導体装置が得られるという効果を奏する。
第１図は本発明の実施例に係るＬＣＣ型半導体装置を示
す部分縦断面図、第２図は同じく裏面図、第３図は本発
明の他の実施例を示す部分縦断面図、第４図は同じく裏
面図、第５図は従来のＬＣＣ型半導体装置の構造を示す
部分縦断面図である。 １ 、ＬＣＣセラミックパッケージ、２；内部パターン
、３；裏面パターン、４；側面パターン、５；エッヂ部
、６；金属細線、７；半導体素子、８；蓋部材、９；ス
ルーホール、１０；補助パターン
す部分縦断面図、第２図は同じく裏面図、第３図は本発
明の他の実施例を示す部分縦断面図、第４図は同じく裏
面図、第５図は従来のＬＣＣ型半導体装置の構造を示す
部分縦断面図である。 １ 、ＬＣＣセラミックパッケージ、２；内部パターン
、３；裏面パターン、４；側面パターン、５；エッヂ部
、６；金属細線、７；半導体素子、８；蓋部材、９；ス
ルーホール、１０；補助パターン
Claims (1)
- （１）半導体素子を内部に封止したセラミックパッケー
ジと、このセラミックパッケージの内部において前記半
導体素子に電気的に接続された導電性の内部パターンと
、前記セラミックパッケージの内部と裏面部との間に設
けられたスルーホールを介して前記内部パターンに電気
的に接続されると共に前記セラミックパッケージの裏面
のエッヂ部から所定間隔だけ離間して配設された導電性
の裏面パターンとを備えたことを特徴とする半導体装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7977588A JPH01253260A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7977588A JPH01253260A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01253260A true JPH01253260A (ja) | 1989-10-09 |
Family
ID=13699578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7977588A Pending JPH01253260A (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01253260A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1075074A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Tdk Corp | Ｍｉｄパッケージを用いた電子部品 |
| JPH11265957A (ja) * | 1998-03-16 | 1999-09-28 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | セラミックパッケージ基体及びその製造方法 |
| JP2001024079A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-26 | Seiko Epson Corp | 電子部品の封止構造 |
| WO2018021209A1 (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | 京セラ株式会社 | 半導体素子実装用基板および半導体装置 |
-
1988
- 1988-03-31 JP JP7977588A patent/JPH01253260A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1075074A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Tdk Corp | Ｍｉｄパッケージを用いた電子部品 |
| JPH11265957A (ja) * | 1998-03-16 | 1999-09-28 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | セラミックパッケージ基体及びその製造方法 |
| JP2001024079A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-26 | Seiko Epson Corp | 電子部品の封止構造 |
| WO2018021209A1 (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | 京セラ株式会社 | 半導体素子実装用基板および半導体装置 |
| JPWO2018021209A1 (ja) * | 2016-07-28 | 2019-05-09 | 京セラ株式会社 | 半導体素子実装用基板および半導体装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5240588A (en) | Method for electroplating the lead pins of a semiconductor device pin grid array package | |
| US5614443A (en) | Method of producing a frame made of connected semiconductor die mounting substrates | |
| JP2002270409A (ja) | チップ型抵抗器の製造方法、およびチップ型抵抗器 | |
| JPH01253260A (ja) | 半導体装置 | |
| JP2002158306A (ja) | 多数個取り配線基板 | |
| JP4605945B2 (ja) | 多数個取り配線基板、電子装置の製造方法 | |
| US11056635B2 (en) | Electronic component housing package, electronic device, and electronic module | |
| JP2788656B2 (ja) | 集積回路用パッケージの製造方法 | |
| JP2717198B2 (ja) | プリント配線板におけるバンプの形成方法 | |
| JP3085622B2 (ja) | 電子素子搭載用基板の製造方法 | |
| JP3262765B2 (ja) | 圧電発振器用シート基板の構造 | |
| JPH05259372A (ja) | ハイブリッドｉｃ | |
| EP0100727B1 (en) | Semiconductor device comprising a ceramic base | |
| JPH09172102A (ja) | 電子部品パッケージ用セラミックリッド及びその製造方法 | |
| JPH0233960A (ja) | 半導体装置 | |
| JP4546990B2 (ja) | セラミックパッケージ及びその製造方法 | |
| JPH06196588A (ja) | 半導体素子収納用セラミックパッケージとその製造方法 | |
| JP3103741B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
| JP3738935B2 (ja) | ハイブリット集積回路の製造方法 | |
| JPH0595071A (ja) | 電子部品搭載用基板及びその製造方法 | |
| JP2003188333A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JP3273187B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
| JPH06244056A (ja) | 半導体素子収納用パッケージ | |
| JP2005050935A (ja) | 多数個取り配線基板 | |
| JP4369631B2 (ja) | 多数個取り配線基板 |