JPH01246216A - 日光遮へい剤の紫外線吸収性増強方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は日光遮へい剤の紫外線吸収性増強方法に関する
。

本発明は日光遮へい剤中にポリエチレン少なくとも２重
量％を包含せしめることから成る日光遮へい剤の紫外線
吸収性増強方法を提供するものである。ここで、日光遮
へい剤は油中水型エマルジョンであって、その中に通常
の乳化剤、軟化剤、保存剤および１種ないしそれ以上の
公知紫外線吸収性化合物を含有せしめるのが好ましい。

紫外線エネルギーがヒトの皮ふに吸収されて紅斑反応（
発赤）を起こす。この皮ふ反応は紫外線エネルギー吸収
量に依存する。日光および人工光源のいずれであっても
それから放射される紫外線は３種の波長帯、すなわちＵ
Ｖ−ＡＳＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ｃに分けられ、これらの
波長帯は異なる量のエネルギーを放出し、それ故、皮ふ
上にさらされたとき異なる時間間隔で皮ふの紅斑反応を
起こす。皮ふに感受される最少の紅斑反応を起こすのに
必要な光源からのエネルギー量を最少紅斑誘発放射量（
Ｍｉｎｉｍａｌ　Ｅｒｙｔｈｅｍａ　Ｄｏｓｅ　＝　Ｍ
　Ｅ　Ｄ　）という。

ＵＶ−Ａ放射線は地表面上に達する日光中に存在し、３
２０〜４００ナノメーター（ｎｍ）の波長を有する。こ
の波長帯の放射線は皮ふの日焼けを起こすが、皮ふを発
赤させる作用は弱い。Ｉ　ＭＥＤを発生させるためには
ＵＶ−Ａエネルギー約２０〜５０ジュール／α２を要す
る。露光後、約７２時間で紅斑反応の強さは最大となる
。

ＵＶ−Ｂ放射線は地表面上に達する日光中に存在し、２
９０〜３２０　ｎｍの波長を有する。この波長帯の放射
線は皮ふの色素形成（着色）を刺激する日焼反応の原因
となる。ＩＭＥＤを発生させる“ためにはＵＶ−Ｂエネ
ルギー約２０〜５０ミリジュール／α２を要する（すな
わちＵＶ−ＡのＭＥＤの約１／１０００である。）。露
光後、約６〜２０時間で紅斑反応の強さは最大となる。

ＵＶ−Ｃ放射線は地表面上に達する日光中には存在しな
いが、人工紫外線源により放射される。

この放射線は皮ふの色素形成を刺激することはないが、
約５〜２０ミリジユール／ＩニアＩ２のエネルギーでＩ
ＭＥＤの放射量を発生して紅斑を起こす。

個人の皮ふ着色能は遺伝的にあらかじめ定まっており、
ＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ａにより刺激されるときに色素細
胞中のメラニン色素を産生ずる個人許容能に左右される
。紅斑応答の強さは皮ふの色の作用に依存し、淡色の皮
ふの個人がＩＭＥＤを受けるに要する時間は濃色の皮ふ
の個人がＩＭＥＤを受けるに要する時間より短かい。

皮ふ着色を起こさせる最も遠い方法は日光にさらされて
皮ふの紅斑を発生させることである。苦痛を感じさせる
ような激しさでなく日焼けを起こさせるのに充分な紅斑
反応は日焼けにより苦痛を感じさせる露光時間の半分の
時間でその反応を現わす。ＵＶ−Ａの波長でも日焼けは
起こるが、自然の条件下では徐々に日焼けが起こる。最
も一般的には日焼けを起こさせるＵＶ−Ｂの波長帯にさ
らされた後に皮ふ着色が現われる。

日光にさらされて日焼けを起させる壕での時間を長くす
るための日光遮へい物質は市販品として入手することが
できる。このような物質の例として、種々の波長の紫外
線を吸収することができる化学物質、たとえば２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（ＵＶ−Ａを吸収
する物質）または紫外線を物理的に反射ないし散乱させ
る不透明物質、たとえばタルクなどが挙げられる。

紫外線を吸収する化合物およびかかる化合物を含有する
日光遮へい剤は、たとえば米国特許第３゜００４．８９
６号、第３，１８９，６１５号、第３，４０３．２０７
号、第３，４７９，４２８号、第３，６４４，６１４号
、第３，６７０，０７４号、第３，７５１，５６３号、
第３，８２１，３６３号、第３，８９２，８４４号およ
び英国特許第１，２９１，９１７号などに開示されてい
るっ 日光遮へい剤はしばしば特に温暖な気候条件のもとに肉
体労働を行なう人々または水に関係する仕事に従事する
人々により使用されるので、湿気を防ぐ物質を使用する
のが好ましい。かかる製品を製造する試みの例として、
紫外線を吸収するポリマー化合物およびその混合物を開
発する試みが知られている（たとえば米国特許第３，６
６６．７３２号、第３，７９５，７３３号、第３，８６
４，４７３号、第３，８９５，１０４号、第３，９８０
，６１７号、第００４．０４７号など参照）。

本発明は日光遮へい剤（または遮断剤）にその紫外線吸
収性を増大させることを目的とするものである。対象と
する日光遮へい剤は水、軟化剤、乳化剤、保存剤、酸化
防止剤、紫外線吸収性化合物１種ないしそれ以上を含有
する油中水型エマルジョンであるのが好ましい。この組
成物にポリエチレン約２．０〜１５重量％、好ましくは
低密度、低分子量のポリエチレンホモポリマー約２．５
〜６゜０重量％を含有せしめることによりその紫外線吸
収性を増大させることができる。

更に具体的に言えば、本発明は日光遮へい剤の日焼領域
（ＵＶ−Ｂ）および皮ふ着色領域（ＵＶ−Ａ）の紫外線
の吸収性を増強せしめることを目的とするものである。

このような日光遮へい剤はこの中に公知の紫外線吸収性
化合物１種ないしそれ以上およびポリエチレン約２．０
〜１５重量％を含有せしめ、またその中に他の成分、た
とえば軟化剤、乳化剤、保存剤、酸化防止剤、香料、着
色剤などを含有させてもよい。

日光遮へい剤はこれに耐湿性を加えることができるので
、油中水型エマルジョンであるのが好ましい。しかし日
光遮へい剤は水中油型エマルジョン、クリーム剤または
油剤として製剤されてもよい。種々の成分を選択するの
に伴って遮へい剤が半固状クリーム様濃度を保持すると
き、これをプラスチック製押出しチューブに詰めること
ができ、ローション様濃度を保持するとき、これをプラ
スチック製押出し容器に詰めることができる。かかる容
器として流体物型のキャップまたはポンプ型デスペンサ
ー（押出、噴霧またはその他の方法で内容物を供給でき
る容器）を例示することができる。

日光遮へい剤はこれに公知の紫外線吸収剤１種ないしそ
れ以上、好壕しくはＵＶ−Ｂ領域の紫外線を吸収する少
なくとも１種の化合物とＵＶ−Ａ領域の紫外線を吸収す
る少なくとも１種の化合物を含有せしめる。この遮へい
剤の中に含有せしめるＵＶ吸収剤の総量は約３〜１５重
量％であってよい。

適当なＵＶ−Ａ吸収剤を例示すれば次のとおりテアル。

２−　（２’−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール（チヌビン（Ｔ　１ｎｕｖｉｎ　）Ｐ
）ｉ２−（２’−ヒドロキシ−５′−１−オクチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール（スペクトラ−ソープ（５ｐ
ｅｃｔｒａ−３ｏｒｂ）　ＵＶ　５４１１　）　；　２
，４−ジヒドロキシベンゾフェノン（ユビヌル（Ｕｖｉ
ｎｕｌ　）４００）ｉ２−ヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン（オキシベンゾン、スペクトラ−ソーブＵ
Ｖ９、ユビヌ／Ｌ／Ｍ　−４０）　；　２．２；４．４
’−ｆ　トラヒドロキシベンゾフェノン（ユビヌルＤ５
０）ｉ２．２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ
ベンゾフェノン（ユビヌル＠Ｄ４９　）　ｉ　２，２’
−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（ジオキ
シベンゾン、スペクトラーンープＵＶ２４）ｉ２−エチ
ルヘキシルー４−フェニルーベンゾフェノンカーボネー
ト（ユウソレックス（Ｅｕｓｏｌｅｘ）　３５７３　）
；２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４′−メチルベンゾ
フェノン（メキセノン、ユビスタット（Ｕｖｉｓｔａｔ
　）　　２２１１　）　；　２−ヒドロキシ−４−（ｎ
−オクチルオキシ）ベンゾフェノン（オクタベンゾン、
スペクトラ−ソーブＵＶ５３１）ｉ４−フェニルベンゾ
フェノン（ユウソレックス３４９０）；および２−エチ
ルヘキシル−２−シアノ−３＋３′−ジフェニルアクリ
レート（ユビヌルＮ５３９〕など。最終生成物中にＵＶ
−Ａ吸収剤１種ないしそれ以上を約０．５〜１０重量％
存在せしめる。その量は選定される特定の物質に応じて
変化させ、また皮ふの着色を最小限に止めるか、もしく
はこれをある程度許容する遮へい剤を製造するかのいず
れかにより変化させればよい。好ましいＵＶ−Ａ吸収剤
は２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン単独か
、またはこれと２．２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフェノンとの混合物である。

適当なＵＶ−Ｂ吸収剤を例示すれば次のとおりである。

４−（ジメチルアミノ）安息香酸エチルエステル１４−
（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステ
ル（エス力ロール（Ｅｓｃａｌｏｌ）５０７）ｉ４−（
ジメチルアミノ）安息香酸ペンチルエステル（エス力ロ
ール５０６）ｉシーアミノ安息香酸グリセリルエステル
（エス力ロール１０６）ｉｐ−アミ７安息香酸イソブチ
ルエステル（シクロホルム（Ｃｙｃｌｏｆｏｒｍ）　）
　；およびｐ−アミノ安息香酸イソプロピルエステルな
ど。最終生成物中にＵＶ−Ａ吸収剤１種ないしそれ以上
を約３〜１０重量％存在せしめる。その量は選定される
特定の物質に応じ、また最終生成物に要求される日光遮
へい程度に応じて変えればよい。好ましいＵＶ−Ｂ吸収
剤は４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシ
ルエステルである。

日光遮へい剤中に存在せしめる最も重要な成分はポリエ
チレン約２．０〜１５重量％（好ましくは約２．５〜６
重量％）である。本発明者らは日光遮へい剤にポリエチ
レン２．０重量％ないしそれ以上を含有させるこ吉によ
りそのＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂの双方の領域における紫
外線吸収性を増強せしめ得ることを見出した。ポリエチ
レン約５．５車量％を起えない量をその範囲内で増加す
れば、その増加量に対応して紫外線吸収性が増大する。

ポリエチレンを５．５％以上に増加しても、その結果は
５．５％以内におけるような紫外線吸収性の増大は認め
られない。本発明におけるポリエチレン約１５重量％と
いう上限は、その量を多くすれば生成物の触感および粘
度により好ましくない生成物が得られるという事実に基
づく限界である。

日光遮へい側内に含有させるのに適当な形状のポリエチ
レンは約１１００〜２０００の低分子量と約０．８８〜
０．９２　ｇ／ｃｃの低密度を有するホモポリマーおよ
び約２０００〜３５００の分子量と約０．９１〜０．９
３　ｇ／ｃｃの密度を有するポリエチレン−酢酸ビニル
の共重合物である。この内部者、すなわち低分子量、低
密度のポリエチレンホモポリマーが好ましい。

またポリエチレン成分は生成物の耐湿性および耐洗浄性
を増大させる機能を有する。ポリエチレンは油中水型エ
マルジョンの安定性ヲ保持し、生成物の触感および展開
性を改良する作用をも有する。

日光遮へい剤はこの中に更に水約４０〜６５重量％、軟
化剤約１５〜３０重量％、乳化剤約３〜１０重量％、保
存剤と酸化防止剤約１重量％を越えない量、香料と着色
剤約１重量係を越えない量を含有させる。

適当な軟化剤として、鉱油、スクヮラン、パルミチン酸
オクチル、ココア脂、ゴマ油、プリスタンなどが例示さ
れる。日光遮へい剤中にこれらの軟化剤２種以上の混合
物または化粧用に許容される他の類似物質を含有させる
のが好ましい。

適当な乳化剤として、ポリオキシエチレン（３）オレイ
ルエーテル（オレス（ｏｌｅｔｈ　）　３　）、オレイ
ン酸ポリグリセリル−４、ポリソルベート８゜（トウイ
ーン８０）など。日光遮へい剤中にこれらの乳化剤２種
ないしそれ以上の混合物または化粧用に許容される他の
類似物質を含有させるのが好ましい。

適当な保存剤として、メチルパラベン（テゴセプト（Ｔ
ｅｇｏｓｅｐｔ　）　Ｍ　）　；クオターニウム−１５
（ｑｕａｔｅｒｎｉｕｍ　−１５（Ｎ　−（３−クロロ
アリル）ヘキサミニウムクロリド、ダウシル（Ｄｏｗｃ
ｉｌ　）　２００）；プロピルパラベン（テゴセプト（
Ｔｅｇｏｓｅｐｔ）Ｐ）などが例示される。酸化防止剤
はブチル化ヒドロキシアニソール、プロピレングリコー
ル、没食子酸プロピルおよびクエン酸（テノックス（Ｔ
ｅｎｏｘ　）　　２　）の混合物が好ましい。日光遮へ
い剤は酸化防止剤混合物と保存剤１種ないしそれ以上、
または化粧用として許容される他の保存剤と酸化防止剤
を含有せしめるのが好ましい。

前記のように日光遮へい剤中の成分百分率を変えること
により、この遮へい剤をローション型または半固形型と
して得ることができる。たとえば生成物をローションと
して製剤するとき最終生成物の約６０〜６５重量％の範
囲の水を含有させるのが良く、１種ないしそれ以上の湿
潤剤（たとえばプロピレングリコール、グリセリン、１
，３−ブチレングリコール、ソルビトールまたはピログ
ルタミン酸ナトリウム（ナトリウムＰＣＡ）など）を最
終生成物の約７．５重量％もしくはそれ以下の量で含有
させるのがよい。

かかる日光遮へい剤の製造法は使用する特定の成分によ
って幾らか異なるが、一般に次のような製造法により製
造することができる。軟化剤、乳化剤、ＵＶ吸収剤、保
存剤、抗酸化剤を混合して温和な混合機で混和し、９０
℃以上（好ましくは約９２〜９５℃）に加熱する。この
混合物を撹拌しながらポリエチレンを徐々に添加し、９
０℃以上で加熱する。好ましくは高速ミキサーを使用し
、軟化剤のうち主混合物中に混合しなかったもの１種に
ポリエチレンを徐々に加え、ポリエチレンを完全に分散
させて第２の混合物を製し、次いで主混合物を加熱、撹
拌しながらこれに第２の混合物を徐々に添加するのがよ
い。混合物中にポリエチレンの不溶解粒子が観察されな
くなり、油層を保存するまで、９０℃以上で撹拌を続け
る。

水（好ましくは脱イオン水）を９０℃以上（前記と同様
、好ましくは約９２〜９５℃）に加熱する。この水相に
水溶性成分のうちのいずれかを含有させることができる
。

この水層を上記油層に、おだやかに撹拌しながら徐々に
添加する。添加終了後、混合物を９０’Ｃ以上に保持し
、均質になるまで撹拌の強さを強くしながら撹拌する。

混合物を続けて撹拌し、均質状態を保持しながら数段階
で室温まで冷やした後、保管または包装する。

最大の日光遮へい効果を提供する本発明の好ましい日光
遮へい剤に含有させる成分を例示すれば次のとおりであ
る。本釣５０〜６０重量％；低分子量、低密度のポリエ
チレンホモポリマー約４．５〜６重量％；２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフェノン（オキシベンゾン）ま
たは２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン（ジオキシベンゾン）から選ばれるＵ　Ｖ　−Ａ吸
収剤約２．５〜３．５重量％；４−（ジメチルアミノ９
安息香酸２−エチルヘキシルエステル（エス力ロール５
０７）ＵＶ−Ｂ吸収剤約５〜１０重量％；軟化剤約２０
〜２７重量鳴；乳化剤約４〜７重量％；および保存剤、
酸化防止剤、香料の混合物約１重量％を越えない量。

最大の日光遮へい効果を現わす本発明の最も好ましい日
光遮へい剤に含有させる成分を例示すれば次のとおりで
ある。脱イオン本釣５５重量ｆＤ漬平均分子量約２００
０、密度約０．９２ｇ／ｃｃを有するポリエチレンホモ
ポリマー約５．５重量％；２−ヒトロキシー４−メトキ
シベンゾフェノン約２゜０〜２．５重量％；２，２’−
ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン約１重量％
を越えない量；４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エ
チルヘキシルエステル約７重量％；軟化剤約２３〜２５
重量％；乳化剤約５重量％；および保存剤、酸化防止剤
、香料混合物約１重量％を越えない量。

日光を部分に遮へいするが徐々に日焼けを許容する本発
明の好ましい日光遮へい剤に含有させる成分を例示すれ
ば次のとおりである。本釣５５〜６５重量％白氏密度、
低分子量のポリエチレンホモポリマー約２．５〜４，５
重量％；２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
（オキシベンゾン）約１重量幅を越えない量；４−（ジ
メチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステル（
エス力ロール５０７）約３〜５重量％；湿潤剤約７．５
重量％を越えない量；軟化剤約２０〜２５重量％へ 上記のような徐々に日焼けを許容する最も好ましい遮へ
い剤の形態は次のような成分を含むローションである。

脱イオン水約６０〜６１重量％；平均分子量的１５００
、密度約０．９１ｇ／ｃｃを有するポリエチレンホモポ
リマー約３．５重ｉｔ％；２−ヒドロキシー４−メトキ
シベンゾフェノン約０゜６重量％；４−（ジメチルアミ
ノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステル約３．５重量
％；グリシンもしくはプロピレングリコール約５重量％
；軟化剤約２０〜２２重量％；乳化剤的５〜６重量呪；
および保存剤、酸化防止剤、香料混合物約１重量％を越
えない量。

次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。

実施例１〜４ 日光遮へい率（Ｓｕｎ　ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ　ｆａｃ
ｔｏｒ　）　１５より大なる値の日光遮へい剤およびそ
の製造法を以下に詳述する。日光遮へい率（ＳＰＦ）は
遮へい剤を２■／ａｎ２の割合で使用した後、保護され
た皮ふにおける最少紅斑誘発放射量（ＭＥＤ）を、保護
されていない皮ふにおけるＭＥＤで割ることにより計算
する。

４種の遮へい剤はいずれも濃厚ローション形態を有する
油中水型エマルジョンである。成分（化学名、ＣＴＦＡ
および／または商標名を含む。）を列挙すれば次のとお
りである。

（１）脱イオン水 （２）ポリエチレン（ホモポリマー）：（アライド・ケ
ミカルＡ−Ｃ６Ａ（重量平均分子量２０００、密度０．
９２ｇ／ｃｃ）） ＋３１ＵＶ−Ａ吸収剤：（ａ１２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン（オキシベンゾン、ユビヌル（Ｕ
ｖｉｎｕｌ）　Ｍ　−４０）および（ｂ）　２．２’−
ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（ジオキシ
ベンゾン、スペクトラ−ソープ（５ｐｅｃｔｒａ−３ｏ
ｒｂ　）　　Ｕｖ２４） （４）ＵＶ−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安息香
酸２−エチルヘキシルエステル（エス力ロー／ｌ／　（
Ｅｓｃａｌｏｌ　）　５０７　）（５）軟化剤：（ａ）
鉱油（ブランドール（Ｂ　１ａｎｄｏｌ　）、（ｂ）ス
クワラン（ロベーン（Ｒｏｂａｎｅ　）　）、（ｃｌパ
ルミチン酸オクチル（セラフイ／ｌ／　（Ｃｅｒａｐｈ
ｙｌ　）　３６８）、（ｄ）ゴマ油、（ｅ）ココア脂 （６）乳化剤：（ａ）ポリオキシエチレン（３）オレイ
ルエーテル（オレス（Ｏｌｅｔｈ　）　−３、ボルボ（
Ｖｏｌｐ。

）−３）、（ｂｌオレイン酸ポリグリセリル−４（ホイ
ットコノー／ｌ／　（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ　）　１４　）
（７）保存剤：（ａ）メチルパラベン（テゴセフト（Ｔ
ｅｇｏｓｅｐｔ　）　Ｍ　）、（ｂ）プロピルパラベン
（デゴセプト（Ｔｅｇｏｓｅｐｔ　）　Ｐ　）、（ｃ）
クォータニウム−１５（Ｎ−（３−クロロアリル）−ヘ
キサミニウムクロリド、ダライシル（Ｄｏｗｉｃｉｌ　
）　２００　）（８）酸化防止剤：プロピレングリコー
ル、ブチル化ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピル
およびクエン酸（テノツクス（Ｔｅｎｅｘ　）　　２　
）各成分の重量％を第１表に示す。

第１表 実施例１〜４の日光遮へい剤をそれぞれ実質的に同様の
方法により製造した。実施例３を例にとり、その製造法
を以下に詳述する。

ポリオキシエチレン（３）オレイルエーテル３５ｋＱ、
オレイン酸ポリグリセリル−４の１．５Ａ：ｑ。

４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエ
ステル７ｋｑ、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン２．５　ｋＱ、　２．２’−ジヒドロキシ４−メ
トキシベンゾフェノン０．５ｋｑ、ゴマ油２ｋｑ。

鉱油１３．４ｓｋｑ、ココア脂０．５ｋｑ、テノツクス
２の０．０２　ｋＱおよびプロピルパラベン０．１　ｋ
Ｑを、おだやかに撹拌しながら９２〜９５℃で混合し、
混合物が均質かつ透明になるまで９２〜９５℃で混和す
る。

その間、パルミチン酸オクチル８　ｋｑを高速で撹拌し
ながらポリエチレン５．５　ｋＱが完全に分散する壕で
これを約１５分間でゆっくり加える。

主混合物を９２〜９５℃で撹拌しながら、これに上記ポ
リエチレン混合物をゆっくり添加する。

油状混合物中の不溶解様ポリエチレン粒子が肉眼で観察
されなくなって完全に透明な液体となるまで、混和を続
ける。

脱イオン水５４．５　ｋＱを９２〜９５℃に加熱し、こ
の温度でおだやかに撹拌しながらメチルパラベン０．２
　ｋｇを加え、メチルパラベンが完全に溶解するまで混
和する。

透明な油状混合物をおだやかに撹拌しながらこれに上記
水溶液を徐々に添加する。添加終了時に、このバッチが
均質となるまで混和速度を高めた後、これを９０〜９５
℃に保持する。

このバッチを速やかに６０℃に冷やし、この温度で約８
０分間混和し、引続き混和しながら５０℃に冷やす。こ
の時点でクォータニウム−１５の０、２　ｋｑを脱イオ
ン水０．５　ｋＱに溶解し、バッチが再び均一となるま
で（すなわち約１５分間）撹拌しながら、上記クォータ
ニウム水溶液を添加する。

このバッチを撹拌しながら室温に冷やし、ホモジナイザ
ーで均質にして実施例３の最終生成物を得た。

実施例５および６ 日光遮へい率それぞれ７および８を有する日光遮へい剤
の製造法を以下に説明するっこの２種の日光遮へい剤は
双方共にローション濃度を有する油中水型エマルジョン
である。各成分（ＣＴＦＡおよび商標名を含む。）を列
挙すれば次のとおりである。

（１）脱イオン水 （２）ポリエチレン（ホモポリマー）：（アライド・ケ
ミカルＡ−Ｃ６１７Ａ（重量平均分子量１５００、密度
０．９１　ｇ／ｃｃ　）　）ｆ３１　Ｕ　Ｖ　−Ａ吸収
剤：２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（オ
キシベンゾン、ユビヌルＭ　−４０） （４ＪＵＶ−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安息香
Ｍ’　２−エチルへキシルエステＪＬ７（エス力ロール
５０７） ＋５＋　湿Ｅ剤：（ａ）プロピレングリコーノヘ（！′
））クリセリン （６）軟化剤：（ａ）鉱油（ブランドール）、（ｂｌ鉱
油（フレアロ−ＪＬ／　（Ｋｌｅａｒｏｌ　）　）、ｆ
ｃ）ブリスタン（７）乳化剤：（ａ）ポリオキシエチレ
ン（３）オレイルエーテル（オレスー３、ポルボー３）
、（ｂ）オレイン酸ポリグリセリル−４（ホイットコノ
ール１４）、（ｃｌポリソルベート８０（トウイーン８
０）（８）保存剤：（ａ）メチルパラベン（デコセプ）
Ｍ）、（ｂ）プロピルパラベン（テゴセプトＰ）、（Ｃ
）クォータニウム−１５（Ｎ−（３−クロロアリル）−
ヘキサミニウムクロリド（ダライシル２００）（９）酸
化防止剤：プロピレングリう一ル、ブチル化ヒドロキシ
アニソール、没食子酸プロピルおよびクエン酸（テノッ
クス２） （１０１香料 各成分の重量％を第２表に示す。

第２表 第２表（つづき） 前記実施例に記載の方法に従って上記実施例５および６
の日光遮へい剤を製造した。この最終生成物は実施例１
〜４の生成物より流動性大なるローションである。

実施例７および８ 実施例３と同様の操作に従って下記日光遮へい剤を製造
した。この日光遮へい剤は双方共に油中水型エマルジョ
ンである。実施例７の生成物は濃厚ローション（すなわ
ちクリーム）、実施例８の生成物は実施例７の生成物よ
り流動性大である。

各成分（ＣＴＦＡおよび商標名を含む。）を以下に列挙
する。

（１）脱イオン水 （２）ポリエチレン（酢酸エチルとの共重合物）：（ア
ライド・ケミカルＡ−Ｃ４００（重量平均分子量３５０
０、密度０．９２１７／ｃｃ）　）ｆ３１　Ｕ　Ｖ　−
Ａ吸収剤：　（ａｌ　２−ヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン（オキシベンゾン、ユビヌルＭ−４０）、
（ｂｌ　２．２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フェノン（ジオキシベンゾン、スペクトラ−ソーブＵＶ
２４） （４）ＵＶ−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安息香
酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロール５０７） （５）軟化剤：（ａ）鉱油（ブランドール）、（ｂｌ鉱
油（フレアロール）、（Ｃ）パルミチン酸オクチル（セ
ラフイル３６８）、ｆｄｌゴマ油、ｆｅ）ココア脂（６
）湿潤剤：グリセリン （７）乳化剤＝（ａ）ポリオキシエチレン（３）オレイ
ルエーテル（オレスー３、ポルボー３）、ｆｂｌオレイ
ン酸ポリグリセリル−４（ホイットコノール１４）、（
ｃｌポリソルベート８０（トウィーン５Ｏ）（８）保存
剤＝（ａ）メチルパラベン（テゴセプトＭ）、（ｂ）プ
ロピルパラベン（テゴセプトＰ）、（ｃＩクォータニウ
ム−１５（Ｎ−（３−クロロアリール）ヘキサミニウム
クロリド、ダライシル２００　）（９）酸化防止剤：プ
ロピレングリコール、ブチル化ヒドロキシアニソール、
没食子酸プロピルおよびクエン酸（テノックス２） 各成分の重量％を第３表に示す。

第３表（つづき） 実施例９ ポリエチレンを含有するもの（Ｐ）と含有しないもの（
ＮＰ）各１種（その他の成分の種類は同一）の日光遮へ
い剤について、そのＵｖ吸収率の比較を行なった。この
両速へい剤の各成分を列挙すれば次のとおりである。

ｆｉ＋脱イオン水 （２）ポリエチレン：（アライド・ケミカルＡ−Ｃ６Ａ
） ＋３）　Ｕ　Ｖ　−Ａ吸収剤：　（ａ）　２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフェノン（オキシベンゾン、ユ
ビヌルＭ−４０）、（ｂｌ　２．２’−ジヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン（ジオキシベンゾン、スペ
クトラ−ソープＵＶ２４） （４）ＵＶ−８吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安息香
酸２−エチルヘキシルエステル（エス力ロール５０７） （５）軟化剤：（ａ）鉱油（ブランドール）、（ｂ）ス
クワラン（ロベイン）、（ｃ）ゴマｍ、（ｄｉミココア
（６）乳化剤＝（ａ）ポリオキシエチレン（３）オレイ
ルエーテ／１．／（オレスー３、ポルボー３）、ｔｂｌ
オレイン酸ポリグリセリル−４（ホイットコ／−ル１（
７）保存剤：　（ａ）メチルパラベン（テゴセプｌ−Ｍ
）、（ｂ）プロピルパラベン（テゴセプトＰ　）　、（
ｃ）クォータニウム−１５（Ｎ−（３−クロロアリル）
−ヘキサミニウムクロリド、ダライシル２００）（８）
酸化防止剤：プロピレングリコーノへブチル化ヒドロキ
シアニソール、没食子酸プロビルオヨびクエン酸（テノ
ツクス２） 各成分の重量％を第４表に示す。

実質的に同様の方法により上記２種の日光遮へい剤を製
し、カンペリツク（Ｃｕｍｐｅｌｉｃ　）の方法（アナ
リテイカル・プロセジャース・アンド・エバリュエイシ
ョン・オブ・サンスクリーンス（Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ
　Ｐｒｏｃｅｄｕｒｅｓ　ａｎｄ　Ｅｖａｌｕａｔｉｏ
ｎ　ｏｆ　５ｕｎ−ｓｃｒｅｅｎｓ　）　：　Ｊ、Ｓｏ
ｃ、　Ｃｏｓｍｅｔ、　Ｃｈｅｍ、第２３巻３３３〜３
４５頁（１９７２年）参照）に従って次のとおり実験し
、評価を行なった。

各遮へい剤組酸物から薄膜を製し、熱風乾燥して２４０
〜４００　ｎｍの波長領域の紫外線の吸収率を記録する
。これらの値を用い、２９２．５〜３４２．５ｎｍの領
域の紫外線が伝達されて発現した紅斑（日焼症）の皮ふ
面積および３２２．５〜３７２．５ｎｍの領域で発現し
た日焼の皮ふ面積の百分率を計算する。薄膜を通過した
紫外線の百分率が大となれば日光遮へい効率が低いとい
うことは言うまでもない。

各薄膜について３回試験を行なった。ポリエチレンを含
有する組成物（Ｐ）において、紫外線が伝達されて現わ
れた紅斑の相対的平均％は５．１０５、紫外線が伝達さ
れて現われた日焼の相対的平均％は１９．５６９であっ
た。

ポリエチレンを含有しない組成物（ＮＰ）において、紫
外線が伝達されて現われた紅斑の相対的平均％は６．５
８、紫外線が伝達されて現われた日焼の相対的平均％は
５５．２３゜それ故ポリエチレンを含有しない組成物（
ＮＰ）はポリエチレン含有組成物（Ｐ）より、紅斑発現
領域で１．２８倍、日焼発現領域で２．８２倍の紫外線
を伝達させることとなる。

特許出願人　　チャールズ・オブ・ザ・リンフ・グルー
プ・リミテッド

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、日光遮へい剤中にポリエチレン少なくとも２重量％
   を包含せしめることを特徴とする紫外線吸収剤１種ない
   しそれ以上を含有する日光遮へい剤の紫外線吸収性増強
   方法。 ２、紫外線吸収剤約３〜１５重量％を含有する日光遮へ
   い剤に、ポリエチレン約２．０〜１５重量％を含有せし
   める特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）
   ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−
   ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，４−
   ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
   トキシベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒ
   ドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４
   ，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒド
   ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−エチルヘキ
   シル−４−フェニルベンゾフェノンカーボネート、２−
   ヒドロキシ−４−メトキシ−４′−メチルベンゾフェノ
   ン、２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オクチルオキシ）ベン
   ゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノンおよび２−エ
   チルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアク
   リレートから選ばれる１種ないしそれ以上のＵＶ−Ａ吸
   収剤約０．５〜１０重量％ならびに４−（ジメチルアミ
   ノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステル、４−（ジメ
   チルアミノ）安息香酸エチルエステル、４−（ジメチル
   アミノ）安息香酸ペンチルエステル、ｐ−アミノ安息香
   酸グリセリルエステル、ｐ−アミノ安息香酸イソブチル
   エステルおよびｐ−アミノ安息香酸イソプロピルエステ
   ルから選ばれる１種ないしそれ以上のＵＶ−Ｂ吸収剤約
   ３〜１０重量％を含有せしめる特許請求の範囲第２項記
   載の方法。 ４、ポリエチレンが約１１００〜２０００の低分子量を
   有し、約０．８８〜０．９２ｇ／ｃｃの低密度を有する
   ホモポリマーであるか、または約２０００〜３５００の
   分子量を有し、約０．９１〜０．９３ｇ／ｃｃの密度を
   有するポリエチレンと酢酸ビニルの共重合物である特許
   請求の範囲第３項記載の方法。 ５、ＵＶ−Ａ吸収剤が２−ヒドロキシ−４−メトキシベ
   ンゾフェノン単独もしくはこれと２，２′−ジヒドロキ
   シ−４−メトキシベンゾフェノンとの組合わせ、ＵＶ−
   Ｂ吸収剤が４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチル
   ヘキシルエステルである特許請求の範囲第４項記載の方
   法。 ６、日光遮へい剤に水約４０〜６５重量％、軟化剤約１
   ５〜３０重量％、乳化剤約３〜１０重量％、保存剤と酸
   化防止剤の混合物約１重量％を越えない量および香料と
   着色剤の混合物約１重量％を越えない量を含有せしめる
   特許請求の範囲第５項記載の方法。 ７、日光遮へい剤が油中水型エマルジョンの形状を保持
   し、その中にポリエチレン約２．５〜６重量％を含有せ
   しめ、該ポリエチレンが約１１００〜２０００の低分子
   量および０．８８〜０．９２ｇ／ｃｃの低密度のホモポ
   リマーである特許請求の範囲第６項記載の方法。