JPH0129763B2 - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】

本発明は日光遮へい剤に関する。 本発明はポリエチレン約2.0〜15重量％を含有
せしめることにより紫外線吸収性を増強せしめた
日光遮へい剤または日光遮断剤を提供するもので
ある。本発明の日光遮へい剤は油中水型エマルジ
ヨンであつて、その中に通常の乳化剤、軟化剤、
保存剤および１種ないしそれ以上の公知紫外線吸
収性化合物を含有せしめるのが好ましい。 紫外線エネルギーがヒトの皮ふに吸収されて紅
斑反応（発赤）を起こす。この皮ふ反応は紫外線
エネルギー吸収量に依存する。日光および人工光
源のいずれであつてもそれから放射される紫外線
は３種の波長帯、すなわちUV−Ａ、UV−Ｂお
よびUV−Ｃに分けられ、これらの波長帯は異な
る量のエネルギーを放出し、それ故、皮ふ上にさ
らされたとき異なる時間間隔で皮ふの紅斑反応を
起こす。皮ふに感受される最少の紅斑反応を起こ
すのに必要な光源からのエネルギー量を最少紅斑
誘発放射量（Minimal Erythema Dose＝MED）
という。 UV−Ａ放射線は地表面上に達する日光中に存
在し、320〜400ナノメーター（ｎｍ）の波長を有
する。この波長帯の放射線は皮ふの日焼けを起こ
すが、皮ふを発赤させる作用は弱い。1MEDを発
生させるためにはUV−Ａエネルギー約20〜50ジ
ユール／cm²を要する。露光後、約72時間で紅斑反
応の強さは最大となる。 UV−Ｂ放射線は地表面上に達する日光中に存
在し、290〜320nｍの波長を有する。この波長帯
の放射線は皮ふの色素形成（着色）を刺激する日
焼反応の原因となる。1MEDを発生させるために
はUV−Ｂエネルギー約20〜50ミリジユール／cm²
を要する（すなわちUV−ＡのMEDの約1/1000
である。）。露光後、約６〜20時間で紅斑反応の強
さは最大となる。 UV−Ｃ放射線は地表面上に達する日光中には
存在しないが、人工紫外線源により放射される。
この放射線は皮ふの色素形成を刺激することはな
いが、約５〜20ミリジユール／cm²のエネルギーで
1MEDの放射量を発生して紅斑を起こす。 個人の皮ふ着色能は遺伝的にあらかじめ定まつ
ており、UV−ＢおよびUV−Ａにより刺激され
るときに色素細胞中のメラニン色素を産生する個
人許容能に左右される。紅斑応答の強さは皮ふの
色の作用に依存し、淡色の皮ふの個人が1MEDを
受けるに要する時間は濃色の皮ふの個人が1MED
を受けるに要する時間より短かい。 皮ふ着色を起こさせる最も速い方法は日光にさ
らされて皮ふの紅斑を発生させることである。苦
痛を感じさせるような激しさでなく日焼けを起こ
させるのに充分な紅斑反応は日焼けにより苦痛を
感じさせる露光時間の半分の時間でその反応を現
わす。UV−Ａの波長でも日焼けは起こるが、自
然の条件下では徐々に日焼けが起こる。最も一般
的には日焼けを起こさせるUV−Ｂの波長帯にさ
らされた後に皮ふ着色が現われる。 日光にさらされて日焼けを起させるまでの時間
を長くするための日光遮へい物質は市販品として
入手することができる。このような物質の例とし
て、種々の波長の紫外線を吸収することができる
化学物質、たとえば２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフエノン（UV−Ａを吸収する物質）ま
たは紫外線を物理的に反射ないし散乱させる不透
明物質、たとえばタルクなどが挙げられる。 紫外線を吸収する化合物およびかかる化合物を
含有する日光遮へい剤は、たとえば米国特許第
3004896号、第3189615号、第3403207号、第
3479428号、第3644614号、第3670074号、第
3751563号、第3821363号、第3892844号および英
国特許第1291917号などに開示されている。 日光遮へい剤はしばしば特に温暖な気候条件の
もとに肉体労働を行なう人々または水に関係する
仕事に従事する人々により使用されるので、湿気
を防ぐ物質を使用するのが好ましい。かかる製品
を製造する試みの例として、紫外線を吸収するポ
リマー化合物およびその混合物を開発する試みが
知られている（たとえば米国特許第3666732号、
第3795733号、第3864473号、第3895104号、第
3980617号、第004047号など参照）。 本発明は紫外線吸収性を増大させる性質を有す
る日光遮断剤または遮へい剤に指向されるもので
ある。本発明の日光遮へい剤は水、軟化剤、乳化
剤、保存剤、酸化防止剤、紫外線吸収性化合物１
種ないしそれ以上を含有する油中水型エマルジヨ
ンであるのが好ましい。この組成物にポリエチレ
ン約2.0〜15重量％、好ましくは低密度、低分子
量のポリエチレンホモポリマー約2.5〜6.0重量％
を含有せしめることによりその紫外線吸収性を増
大させることができる。 更に具体的に言えば、本発明は日焼領域（UV
−Ｂ）および皮ふ着色領域（UV−Ａ）の紫外線
の吸収性を増強せしめた日光遮断剤または遮へい
剤に指向されるものである。このような日光遮へ
い剤はこの中に公知の紫外線吸収性化合物１種な
いしそれ以上およびポリエチレン約2.0〜15重量
％を含有せしめ、またその中に他の成分、たとえ
ば軟化剤、乳化剤、保存剤、酸化防止剤、香料、
着色剤などを含有させてもよい。 本発明の日光遮へい剤はこれに耐湿性を加える
ことができるので、油中水型エマルジヨンである
のが好ましい。しかし本発明の日光遮へい剤は水
中油型エマルジヨン、クリーム剤または油剤とし
て製剤されてもよい。種々の成分を選択するのに
伴つて遮へい剤が半固状クリーム様濃度を保持す
るとき、これをプラスチツク製押出しチユーブに
詰めることができ、ローシヨン様濃度を保持する
とき、これをプラスチツク製押出し容器に詰める
ことができる。かかる容器として流体物型のキヤ
ツプまたはポンプ型デスペンサー（押出、噴霧ま
たはその他の方法で内容物を供給できる容器）を
例示することができる。 本発明の遮へい剤はこれに公知の紫外線吸収剤
１種ないしそれ以上、好ましくはUV−Ｂ領域の
紫外線を吸収する少なくとも１種の化合物とUV
−Ａ領域の紫外線を吸収する少なくとも１種の化
合物を含有せしめる。この遮へい剤の中に含有せ
しめるUV吸収剤の総量は約３〜15重量％であつ
てよい。 適当なUV−Ａ吸収剤を例示すれば次のとおり
である。２−（2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエ
ニル）ベンゾトリアゾール（チヌビン
（Tinuvin）Ｐ）；２−（2′−ヒドロキシ−5′−ｔ−
オクチルフエニル）ベンゾトリアゾール（スペク
トラ−ソーブ（Spectra−Sorb）UV5411）；２，
４−ジヒドロキシベンゾフエノン（ユビヌル
（Uvinul）400）；２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフエノン（オキシベンゾン、スペクトラ−
ソーブUV9、ユビヌルＭ−40）；２，2′，４，
4′−テトラヒドロキシベンゾフエノン（ユビヌル
D50）；２，2′−ジヒドロキシ−４，4′−ジメトキ
シベンゾフエノン（ユビヌルD49）；２，2′−
ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン（ジ
オキシベンゾン、スペクトラ−ソーブUV24）；
２−エチルヘキシル−４−フエニル−ベンゾフエ
ノンカーボネート（ユウソレツクス（Eusolex）
3573）；２−ヒドロキシ−４−メトキシ−4′−メ
チルベンゾフエノン（メキセノン、ユビスタツト
（Uvistat）2211）；２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オ
クチルオキシ）ベンゾフエノン（オクタベンゾ
ン、スペクトラ−ソーブUV531）；４−フエニル
ベンゾフエノン（ユウソレツクス3490）；および
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，3′−ジフ
エニルアクリレート（ユビヌルN539）など。本
発明の最終生成物中にUV−Ａ吸収剤１種ないし
それ以上を約0.5〜10重量％存在せしめる。その
量は選定される特定の物質に応じて変化させ、ま
た皮ふの着色を最少限に止めるか、もしくはこれ
をある程度許容する遮へい剤を製造するかのいず
れかにより変化させればよい。好ましいUV−Ａ
吸収剤は２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
エノン単独か、またはこれと２，2′−ジヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフエノンとの混合物であ
る。 適当なUV−Ｂ吸収剤を例示すれば次のとおり
である。４−（ジメチルアミノ）安息香酸エチル
エステル；４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−
エチルヘキシルエステル（エスカロール
（Escalol）507）；４−（ジメチルアミノ）安息香
酸ペンチルエステル（エスカロール506）；ｐ−ア
ミノ安息香酸グリセリルエステル（エスカロール
106）；ｐ−アミノ安息香酸イソブチルエステル
（シクロホルム（Cycloform））；およびｐ−アミ
ノ安息香酸イソプロピルエステルなど。本発明の
最終生成物中にUV−Ａ吸収剤１種ないしそれ以
上を約３〜10重量％存在せしめる。その量は選定
される特定の物質に応じ、また最終生成物に要求
される日光遮へい程度に応じて変えればよい。好
ましいUV−Ｂ吸収剤は４−（ジメチルアミノ）
安息香酸２−エチルヘキシルエステルである。 本発明の日光遮へい剤または遮断剤中に存在せ
しめる最も重要な成分はポリエチレン約2.0〜15
重量％（好ましくは約2.5〜６重量％）である。
本発明者らは日光遮へい剤にポリエチレン2.0重
量％ないしそれ以上を含有させることによりその
UV−ＡおよびUV−Ｂの双方の領域における紫
外線吸収性を増強せしめ得ることを見出した。ポ
リエチレン約5.5重量％を起えない量をその範囲
内で増加すれば、その増加量に対応して紫外線吸
収性が増大する。ポリエチレンを5.5％以上に増
加しても、その結果は5.5％以内におけるような
紫外線吸収性の増大は認められない。本発明にお
けるポリエチレン約15重量％という上限は、その
量を多くすれば生成物の触感および粘度により好
ましくない生成物が得られるという事実に基づく
限界である。 本発明の日光遮へい剤または日光遮断剤内に含
有させるのに適当な形状のポリエチレンは約1100
〜2000の低分子量と約0.88〜0.92ｇ／c.c.の低密度
を有するホモポリマーおよび約2000〜3500の分子
量と約0.91〜0.93ｇ／c.c.の密度を有するポリエチ
レン−酢酸ビニルの共重合物である。この内前
者、すなわち低分子量、低密度のポリエチレンホ
モポリマーが好ましい。 またポリエチレン成分は生成物の耐湿性および
耐洗浄性を増大させる機能を有する。ポリエチレ
ンは油中水型エマルジヨンの安定性を保持し、生
成物の触感および展開性を改良する作用をも有す
る。 本発明の日光遮へい剤および日光遮断剤はこの
中に更に水約40〜65重量％、軟化剤約15〜30重量
％、乳化剤約３〜10重量％、保存剤と酸化防止剤
約１重量％を越えない量、香料と着色剤約１重量
％を越えない量を含有させる。 適当な軟化剤として、鉱油、スクワラン、パル
ミチン酸オクチル、ココア脂、ゴマ油、プリスタ
ンなどが例示される。日光遮へい剤中にこれらの
軟化剤２種以上の混合物または化粧用に許容され
る他の類似物質を含有させるのが好ましい。 適当な乳化剤として、ポリオキシエチレン
（３）オレイルエーテル（オレス（oleth）３）、
オレイン酸ポリグリセリル−４、ポリソルベート
80（トウイーン80）など。日光遮へい剤中にこれ
らの乳化剤２種ないしそれ以上の混合物または化
粧用に許容される他の類似物質を含有させるのが
好ましい。 適当な保存剤として、メチルパラベン（テゴセ
プト（Tegosept）Ｍ）；クオターニウム−15
（quatenium−15（Ｎ−（３−クロロアリル）ヘキ
サミニウムクロリド、ダウシル（Dowcil）
200）；プロピルパラベン（テゴセプト
（Tegosept）Ｐ）などが例示される。酸化防止剤
はブチル化ヒドロキシアニソール、プロピレング
リコール、没食子酸プロピルおよびクエン酸（テ
ノツクス（Tenox）２）の混合物が好ましい。
本発明の日光遮へい剤は酸化防止剤混合物と保存
剤１種ないしそれ以上、または化粧用として許容
される他の保存剤と酸化防止剤を含有せしめるの
が好ましい。 前記のように本発明の日光遮へい剤中の成分百
分率を変えることにより、この遮へい剤をローシ
ヨン型または半固形型として得ることができる。
たとえば生成物をローシヨンとして製剤するとき
最終生成物の約60〜65重量％の範囲の水を含有さ
せるのが良く、１種ないしそれ以上の湿潤剤（た
とえばプロピレングリコール、グリセリン、１，
３−ブチレングリコール、ソルビトールまたはピ
ログルタミン酸ナトリウム（ナトリウムPCA）
など）を最終生成物の約7.5重量％もしくはそれ
以下の量で含有させるのがよい。 本発明の日光遮へい剤の製造法は使用する特定
の成分によつて幾らか異なるが、一般に次のよう
な製造法により製造することができる。軟化剤、
乳化剤、UV吸収剤、保存剤、抗酸化剤を混合し
て温和な混合機で混和し、90℃以上（好ましくは
約92〜95℃）に加熱する。この混合物を撹拌しな
がらポリエチレンを徐々に添加し、90℃以上で加
熱する。好ましくは高速ミキサーを使用し、軟化
剤のうち主混合物中に混合しなかつたもの１種に
ポリエチレンを徐々に加え、ポリエチレンを完全
に分散させて第２の混合物を製し、次いで主混合
物を加熱、撹拌しながらこれに第２の混合物を
徐々に添加するのがよい。混合物中にポリエチレ
ンの不溶解粒子が観察されなくなり、油層を保存
するまで、90℃以上で撹拌を続ける。 水（好ましくは脱イオン水）を90℃以上（前記
と同様、好ましくは約92〜95℃）に加熱する。こ
の水相に水溶性成分のうちのいずれかを含有させ
ることができる。 この水層を上記油層に、おだやかに撹拌しなが
ら徐々に添加する。添加終了後、混合物を90℃以
上に保持し、均質になるまで撹拌の強さを強くし
ながら撹拌する。混合物を続けて撹拌し、均質状
態を保持しながら数段階で室温まで冷やした後、
保管または包装する。 最大の日光遮へい効果を提供する本発明の好ま
しい日光遮へい剤に含有させる成分を例示すれば
次のとおりである。水約50〜60重量％；低分子
量、低密度のポリエチレンホモポリマー約4.5〜
６重量％；２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フエノン（オキシベンゾン）または２，2′−ジヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン（ジオキ
シベンゾン）から選ばれるUV−Ａ吸収剤約2.5〜
3.5重量％；４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−
エチルヘキシルエステル（エスカロール507）
UV−Ｂ吸収剤約５〜10重量％；軟化剤約20〜27
重量％；乳化剤約４〜７重量％；および保存剤、
酸化防止剤、香料の混合物約１重量％を越えない
量。 最大の日光遮へい効果を現わす本発明の最も好
ましい日光遮へい剤に含有させる成分を例示すれ
ば次のとおりである。脱イオン水約55重量％；平
均分子量約2000、密度約0.92ｇ／c.c.を有するポリ
エチレンホモポリマー約5.5重量％；２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフエノン約2.0〜2.5重
量％；２，2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフエノン約１重量％を越えない量；４−（ジメ
チルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステ
ル約７重量％；軟化剤約23〜25重量％；乳化剤約
５重量％；および保存剤、酸化防止剤、香料混合
物約１重量％を越えない量。 日光を部分に遮へいするが徐々に日焼けを許容
する本発明の好ましい日光遮へい剤に含有させる
成分を例示すれば次のとおりである。水約55〜65
重量％；低密度、低分子量のポリエチレンホモポ
リマー約2.5〜4.5重量％；２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフエノン（オキシベンゾン）約１
重量％を越えない量；４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロー
ル507）約３〜５重量％；湿潤剤約7.5重量％を越
えない量；軟化剤約20〜25重量％；乳化剤約４〜
７重量％；および保存剤、酸化防止剤、香料混合
物約１重量％を越えない量。 上記のような徐々に日焼けを許容する最も好ま
しい遮へい剤の形態は次のような成分を含むロー
シヨンである。脱イオン水約60〜61重量％；平均
分子量約1500、密度約0.91ｇ／c.c.を有するポリエ
チレンホモポリマー約3.5重量％；２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフエノン約0.6重量％；
４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキ
シルエステル約3.5重量％；グリシンもしくはプ
ロピレングリコール約５重量％；軟化剤約20〜22
重量％；乳化剤約５〜６重量％；および保存剤、
酸化防止剤、香料混合物約１重量％を越えない
量。 次に実施例を挙げて本発明の好ましい日光遮へ
い剤の製造法を具体的に説明する。 実施例 １〜４ 日光遮へい率（Sun protection factor）15よ
り大なる値の日光遮へい剤およびその製造法を以
下に詳述する。日光遮へい率（SPF）は遮へい剤
を２mg／cm²の割合で使用した後、保護された皮ふ
における最少紅斑誘発放射量（MED）を、保護
されていない皮ふにおけるMEDで割ることによ
り計算する。 ４種の遮へい剤はいずれも濃厚ローシヨン形態
を有する油中水型エマルジヨンである。成分（化
学名、CTFAおよび／または商標名を含む。）を
列挙すれば次のとおりである。 (1) 脱イオン水 (2) ポリエチレン（ホモポリマー）：（アライド・
ケミカルＡ−C6A（重量平均分子量2000、密度
0.92ｇ／c.c.）） (3) UV−Ａ吸収剤：(a)２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフエノン（オキシベンゾン、ユビ
ヌル（Uvinul）Ｍ−40）および(b)２，2′−ジヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン（ジオ
キシベンゾン、スペクトラ−ソーブ（Spectra
−Sorb）UV24） (4) UV−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロ
ー（Escalol）507） (5) 軟化剤：(a)鉱油（ブランドール（Blandol）、
(b)スクワラン（ロベーン（Robane））、(c)パル
ミチン酸オクチル（セラフイル（Geraphyl）
368）、(d)ゴマ油、(e)ココア脂 (6) 乳化剤：(a)ポリオキシエチレン(3)オレイルエ
ーテル（オレス（Oleth）−３、ボルポ
（Volpo）−３）、(b)オレイン酸ポリグリセリル
−４（ホイツトコノール（Witconol）14） (7) 保存剤：(a)メチルパラベン（テゴセプト
（Tegosept）Ｍ）、(b)プロピルパラベン（デコ
セプト（Tegosept）Ｐ）、(c)クオータニウム−
15（Ｎ−（３−クロロアリル）−ヘキサミニウム
クロリド、ダウイシル（Dowicil）200） (8) 酸化防止剤：プロピレングリコール、ブチル
化ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピルお
よびクエン酸（テノツクス（Tenex）２） 各成分の重量％を第１表に示す。

【表】

【表】 実施例１〜４の日光遮へい剤をそれぞれ実質的
に同様の方法により製造した。実施例３を例にと
り、その製造法を以下に詳述する。 ポリオキシエチレン(3)オレイルエーテル3.5Kg、
オレイン酸ポリグリセリル−４の1.5Kg、４−（ジ
メチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエス
テル７Kg、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フエノン2.5Kg、２，2′−ジヒドロキシ４−メト
キシベンゾフエノン0.5Kg、ゴマ油２Kg、鉱油
13.48Kg、ココア脂0.5Kg、テノツクス２の0.02Kg
およびプロピルパラベン0.1Kgを、おだやかに撹
拌しながら92〜95℃で混合し、混合物が均質かつ
透明になるまで92〜95℃で混和する。 その間、パルミチン酸オクチル８Kgを高速で撹
拌しながらポリエチレン5.5Kgが完全に分散する
までこれを約15分間でゆつくり加える。 主混合物を92〜95℃で撹拌しながら、これに上
記ポリエチレン混合物をゆつくり添加する。油状
混合物中の不溶解様ポリエチレン粒子が肉眼で観
察されなくなつて完全に透明な液体となるまで、
混和を続ける。 脱イオン水54.5Kgを92〜95℃に加熱し、この温
度でおだやかに撹拌しながらメチルパラベン0.2
Kgを加え、メチルパラベンが完全に溶解するまで
混和する。 透明な油状混合物をおだやかに撹拌しながらこ
れに上記水溶液を徐々に添加する。添加終了時
に、このバツチが均質となるまで混和速度を高め
た後、これを90〜95℃に保持する。 このバツチを速やかに60℃に冷やし、この温度
で約30分間混和し、引続き混和しながら50℃に冷
やす。この時点でクオータニウム−15の0.2Kgを
脱イオン水0.5Kgに溶解し、バツチが再び均一と
なるまで（すなわち約15分間）撹拌しながら、上
記クオータニウム水溶液を添加する。このバツチ
を撹拌しながら室温に冷やし、ホモジナイザーで
均質にして実施例３の最終生成物を得た。 実施例 ５および６ 日光遮へい率それぞれ７および８を有する日光
遮へい剤の製造法を以下に説明する。この２種の
日光遮へい剤は双方共にローシヨン濃度を有する
油中水型エマルジヨンである。各成分（CTFAお
よび商標名を含む。）を列挙すれば次のとおりで
ある。 (1) 脱イオン水 (2) ポリエチレン（ホモポリマー）：（アライド・
ケミカルＡ−C617A（重量平均分子量1500、密
度0.91ｇ／c.c.）） (3) UV−Ａ吸収剤：２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフエノン（オキシベンゾン、ユビヌ
ルＭ−40） (4) UV−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロ
ール507） (5) 湿潤剤：(a)プロピレングリコール、(b)グリセ
リン (6) 軟化剤：(a)鉱油（ブランドール）、(b)鉱油
（クレアロール（Klearol））、(c)プリスタン (7) 乳化剤：(a)ポリオキシエチレン(3)オレイルエ
ーテル（オレス−３、ボルポ−３）、(b)オレイ
ン酸ポリグリセリル−４（ホイツトコノール
14）、(c)ポリソルベート80（トウイーン80） (8) 保存剤：(a)メチルパラベン（デコセプトＭ）、
(b)プロピルパラベン（テゴセプトＰ）、(c)クオ
ータニウム−15（Ｎ−（３−クロロアリル）−ヘ
キサミニウムクロリド（ダウイシル200） (9) 酸化防止剤：プロピレングリコール、ブチル
化ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピルお
よびクエン酸（テノツクス２） (10) 香料 各成分の重量％を第２表に示す。

【表】 前記実施例に記載の方法に従つて上記実施例５
および６の日光遮へい剤を製造した。この最終生
成物は実施例１〜４の生成物より流動性大なるロ
ーシヨンである。 実施例 ７および８ 実施例３と同様の操作に従つて下記日光遮へい
剤を製造した。この日光遮へい剤は双方共に油中
水型エマルジヨンである。実施例７の生成物は濃
厚ローシヨン（すなわちクリーム）、実施例８の
生成物は実施例７の生成物より流動性大である。
各成分（CTFAおよび商標名を含む。）を以下に
列挙する。 (1) 脱イオン水 (2) ポリエチレン（酢酸エチルとの共重合物）：
（アライド・ケミカルＡ−C400（重量平均分子
量3500、密度0.92ｇ／c.c.）） (3) UV−Ａ吸収剤：(a)２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフエノン（オキシベンゾン、ユビ
ヌルＭ−40）、(b)２，2′−ジヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフエノン（ジオキシベンゾン、
スペクトラ−ソーブUV24） (4) UV−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロ
ール507） (5) 軟化剤：(a)鉱油（ブランドール）、(b)鉱油
（クレアロール）、(c)パルミチン酸オクチル（セ
ラフイル368）、(d)ゴマ油、(e)ココア脂 (6) 湿潤剤：グリセリン (7) 乳化剤：(a)ポリオキシエチレン(3)オレイルエ
ーテル（オレス−３、ボルポ−３）、(b)オレイ
ン酸ポリグリセリル−４（ホイツトコノール
14）、(c)ポリソルベート80（トウイーン80） (8) 保存剤：(a)メチルパラベン（テゴセプトＭ）、
(b)プロピルパラベン（テゴセプトＰ）、(c)クオ
ータニウム−15（Ｎ−（３−クロロアリール）ヘ
キサミニウムクロリド、ダウイシル200） (9) 酸化防止剤：プロピレングリコール、ブチル
化ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピルお
よびクエン酸（テノツクス２） 各成分の重量％を第３表に示す。

【表】

【表】 実施例 ９ ポリエチレンを含有するもの（Ｐ）と含有しな
いもの（NP）各１種（その他の成分の種類は同
一）の日光遮へい剤について、そのUV吸収率の
比較を行なつた。この両遮へい剤の各成分を列挙
すれば次のとおりである。 (1) 脱イオン水 (2) ポリエチレン：（アライド・ケミカルＡ−
C6A） (3) UV−Ａ吸収剤：(a)２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフエノン（オキシベンゾン、ユビ
ヌルＭ−40）、(b)２，2′−ジヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフエノン（ジオキシベンゾン、
スペクトラ−ソーブUV24） (4) UV−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロ
ール507） (5) 軟化剤：(a)鉱油（ブランドール）、(b)スクワ
ラン（ロベイン）、(c)ゴマ油、(d)ココア脂 (6) 乳化剤：(a)ポリオキシエチレン(3)オレイルエ
ーテル（オレス−３、ボルポ−３）、(b)オレイ
ン酸ポリグリセリル−４（ホイツトコノール14） (7) 保存剤：(a)メチルパラベン（テゴセプトＭ）、
(b)プロピルパラベン（テゴセプトＰ）、(c)クオ
−タニウム−15（Ｎ−（３−クロロアリル）−ヘ
キサミニウムクロリド、ダウイシル200） (8) 酸化防止剤：プロピレングリコール、ブチル
化ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピルお
よびクエン酸（テノツクス２） 各成分の重量％を第４表に示す。

【表】 実質的に同様の方法により上記２種の日光遮へ
い剤を製し、カンペリツク（Cumpelic）の方法
（アナリテイカル・プロセジヤース・アンド・エ
バリユエイシヨン・オブ・サンスクリーンス
（Analytical Procedures and Evaluation of
Sunscreens）：J.Soc.Cosmet.Chem.第23巻333〜
345頁（1972年）参照）に従つて次のとおり実験
し、評価を行なつた。 各遮へい剤組成物から薄膜を製し、熱風乾燥し
て240〜400nｍの波長領域の紫外線の吸収率を記
録する。これらの値を用い、292.5〜342.5nｍの
領域の紫外線が伝達されて発現した紅斑（日焼
症）の皮ふ面積および322.5〜372.5nｍの領域で
発現した日焼の皮ふ面積の百分率を計算する。薄
膜を通過した紫外線の百分率が大となれば日光遮
へい効率が低いということは言うまでもない。 各薄膜について３回試験を行なつた。ポリエチ
レンを含有する組成物（Ｐ）において、紫外線が
伝達されて現われた紅斑の相対的平均％は5.105、
紫外線が伝達されて現われた日焼の相対的平均％
は19.569であつた。 ポリエチレンを含有しない組成物（NP）にお
いて、紫外線が伝達されて現われた紅斑の相対的
平均％は6.58、紫外線が伝達されて現われた日焼
の相対的平均％は55.23。それ故ポリエチレンを
含有しない組成物（NP）はポリエチレン含有組
成物（Ｐ）より、紅斑発現領域で1.28倍、日焼発
現領域で2.82倍の紫外線を伝達させることとな
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 紫外線吸収剤約３〜15重量％、ポリエチレン
   約2.0〜15重量％、水約40〜65重量％、軟化剤約
   15〜30重量％、乳化剤約３〜10重量％、組合わせ
   保存剤および酸化防止剤約１重量％を越えない量
   ならびに組合わせ香料および着色剤１重量％を越
   えない量から成る日光遮へい剤。 ２ 紫外線吸収剤としてUV−Ａ吸収剤１種ない
   しそれ以上およびUV−Ｂ吸収剤１種ないしそれ
   以上を含有せしめた特許請求の範囲第１項記載の
   遮へい剤。 ３ UV−Ａ吸収剤１種ないし複数種を約0.5〜10
   重量％、UV−Ｂ吸収剤１種ないし複数種約３〜
   10重量％を存在せしめた特許請求の範囲第２項記
   載の遮へい剤。 ４ UV−Ａ吸収剤が２−（2′−ヒドロキシ−5′−
   メチルフエニル）ベンゾトリアゾール；２−
   （2′−ヒドロキシ−5′−ｔ−オクチルフエニル）
   ベンゾトリアゾール；２，４−ジヒドロキシベン
   ゾフエノン；２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
   ゾフエノン；２，2′，４，4′−テトラヒドロキシ
   ベンゾフエノン；２，2′−ジヒドロキシ−４，
   4′−ジメトキシベンゾフエノン；２，2′−ジヒド
   ロキシ−４−メトキシベンゾフエノン；２−エチ
   ルヘキシル−４−フエニルベンゾフエノンカーボ
   ネート；２−ヒドロキシ−４−メトキシ−4′−メ
   チルベンゾフエノン；２−ヒドロキシ−４−（ｎ
   −オクチルオキシ）ベンゾフエノン；４−フエニ
   ルベンゾフエノン；および２−エチルヘキシル−
   ２−シアノ−３，3′−ジフエニルアクリレートか
   ら選ばれる化合物１種ないしそれ以上、UV−Ｂ
   吸収剤が４−（ジメチルアミノ）安息香酸エチル
   エステル；４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−
   エチルヘキシルエステル；４−（ジメチルアミノ）
   安息香酸ペンチルエステル；ｐ−アミノ安息香酸
   グリセリルエステル；ｐ−アミノ安息香酸イソブ
   チルエステル；およびｐ−アミノ安息香酸イソプ
   ロピルエステルから選ばれる化合物１種ないしそ
   れ以上である特許請求の範囲第８項記載の遮へい
   剤。 ５ ポリエチレンが約1100〜2000の低分子量を有
   し、約0.88〜0.92ｇ／c.c.の低密度を有するホモポ
   リマーであるか、または約2000〜3500の分子量を
   有し、約0.91〜0.93ｇ／c.c.の密度を有するポリエ
   チレンと酢酸ビニルの共重合物である特許請求の
   範囲第４項記載の遮へい剤。 ６ UV−Ａ吸収剤が２−ヒドロキシ−４−メト
   キシベンゾフエノン単独もしくはこれと２，2′−
   ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノンとの
   組合わせ、UV−Ｂ吸収剤が４−（ジメチルアミ
   ノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステルである
   特許請求の範囲第５項記載の遮へい剤。 ７ 油中水型エマルジヨンの形状を保持し、その
   中のポリエチレンが約1100〜2000の低分子量を有
   し、約0.88〜0.92ｇ／c.c.の低密度を有するホモポ
   リマーであつて、該ポリマーを約2.5〜６重量％
   存在せしめた特許請求の範囲第６項記載の遮へい
   剤。 ８ 水約50〜60重量％、ポリエチレンホモポリマ
   ー約4.5〜６重量％、２−ヒドロキシ−４−メト
   キシベンゾフエノン単独またはこれと２，2′−ジ
   ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノンとの組
   合わせ約2.5〜3.5重量％、４−（ジメチルアミノ）
   安息香酸２−エチルヘキシルエステル約５〜10重
   量％、軟化剤約20〜27重量％、乳化剤約４〜７重
   量％ならびに保存剤、酸化防止剤および香料混合
   物約１重量％を越えない量から成り、紫外線の最
   大遮へい状態を提供する特許請求の範囲第７項記
   載の遮へい剤。 ９ 脱イオン水約55重量％、約2000の平均分子量
   と約0.92ｇ／c.c.の密度を有するポリエチレンホモ
   ポリマー約5.5重量％、２−ヒドロキシ−４−メ
   トキシ−ベンゾフエノン約2.0〜2.5重量％、２，
   2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン
   約１重量％を越えない量、４−（ジメチルアミノ）
   安息香酸２−エチルヘキシルエステル約７重量
   ％、軟化剤約23〜25重量％、乳化剤約５重量％、
   ならびに組合わせ保存剤、酸化防止剤および香料
   約１重量％を越えない量から成る特許請求の範囲
   第８項記載の遮へい剤。 １０ 重量％を基準として脱イオン水約55.0％；
   ポリエチレン約5.5％；２−ヒドロキシ−４−メ
   トキシベンゾフエノン約2.5％；２，2′−ジヒド
   ロキシ−４−メトキシベンゾフエノン約0.5％；
   ４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキ
   シルエステル約7.0％；鉱油約13.48％；スクワラ
   ン約8.0％；ゴマ油約2.0％；ココア脂約0.5％；ポ
   リオキシエチレン(3)オレイルエーテル約3.5％；
   オレイン酸ポリグリセリル−４約1.5％；メチル
   パラベン約0.2％；プロピルパラベン約0.1％；ク
   オータニウム−15約0.2％；プロピレングリコー
   ル、ブチル化ヒドロキシアニソール、没食子酸プ
   ロピルおよびクエン酸約0.02％を含有せしめた特
   許請求の範囲第９項記載の遮へい剤。 １１ 重量％を基準として脱イオン水約55.0％；
   ポリエチレン約5.5％；２−ヒドロキシ−４−メ
   トキシベンゾフエノン約2.5％；４−（ジメチルア
   ミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステル約
   7.0％；鉱油約13.98％；スクワラン約8.0％；ゴマ
   油約2.0％；ココア脂約0.5％；ポリオキシエチレ
   ン(3)オレイルエーテル約3.5％；オレイン酸ポリ
   グリセリル−４約1.5％；メチルパラベン約0.2
   ％；プロピルパラベン約0.1％；クオータニウム
   −15約0.2％；プロピレングリコール、ブチル化
   ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピルおよび
   クエン酸約0.02％を含有せしめた特許請求の範囲
   第９項記載の遮へい剤。 １２ 重量％を基準として脱イオン水約55.0％；
   ポリエチレン約5.5％；２−ヒドロキシ−４−メ
   トキシベンゾフエノン約2.5％；２，2′−ジヒド
   ロキシ−４−メトキシベンゾフエノン約0.5％；
   ４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキ
   シルエステル約7.0％；鉱油約13.48％；パルミチ
   ン酸オクチル約8.0％；ゴマ油約2.0％；ココア脂
   約0.5％；ポリオキシエチレン(3)オレイルエーテ
   ル約3.5％；オレイン酸ポリグリセリル−４約1.5
   ％；メチルパラベン約0.2％；プロピルパラベン
   約0.1％；クオータニウム−15約0.2％；プロピレ
   ングリコール、ブチル化ヒドロキシアニソール、
   没食子酸プロピルおよびクエン酸約0.02％を含有
   せしめた特許請求の範囲第９項記載の遮へい剤。 １３ 重量％を基準として脱イオン水約55.0％；
   ポリエチレン約5.5％；２−ヒドロキシ−４−メ
   トキシベンゾフエノン約2.0％；２，2′−ジヒド
   ロキシ−４−メトキシベンゾフエノン約1.0％；
   ４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキ
   シルエステル約7.0％；鉱油約13.48％；スクワラ
   ン約8.0％；ゴマ油約2.0％；ココア脂約0.5％；ポ
   リオキシエチレン(3)オレイルエーテル約3.5％；
   オレイン酸ポリグリセリル−４約1.5％；メチル
   パラベン約0.2％；プロピルパラベン約0.1％；ク
   オータニウム−15約0.2％；プロピレングリコー
   ル、ブチル化ヒドロキシアニソール、没食子酸プ
   ロピルおよびクエン酸約0.02％を含有せしめた特
   許請求の範囲第９項記載の遮へい剤。 １４ 水約55〜65重量％、ポリエチレンホモポリ
   マー約2.5〜4.5重量％、２−ヒドロキシ−４−メ
   トキシベンゾフエノン約１重量％を越えない量、
   ４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキ
   シルエステル約３〜５重量％、湿潤剤約7.5重量
   ％を越えない量、軟化剤約20〜25重量％、乳化剤
   約４〜７重量％、保存剤、酸化防止剤および香料
   混合物約１重量％を越えない量を含有せしめた遮
   へい剤であつて、紫外線を遮へいするが徐々に日
   焼けを許容する特許請求の範囲第７項記載の遮へ
   い剤。 １５ 脱イオン水約60〜61重量％、平均分子量約
   1500および密度約0.91ｇ／c.c.のポリエチレンホモ
   ポリマー約3.5重量％、２−ヒドロキシ−４−メ
   トキシベンゾフエノン約0.6重量％、４−（ジメチ
   ルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステル
   約3.5重量％、グリセリンまたはプロピレングリ
   コール約５重量％、軟化剤約20〜22重量％、乳化
   剤約５〜６重量％、保存剤、酸化防止剤および香
   料混合物１重量％を越えない量を含有せしめた特
   許請求の範囲第１４項記載の遮へい剤。 １６ 重量％を基準として脱イオン水約60.55
   ％；ポリエチレン約3.5％；２−ヒドロキシ−４
   −メトキシベンゾフエノン約0.6％；４−（ジメチ
   ルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステル
   約3.5％；グリセリン約5.0％；鉱油約20.88％；ポ
   リオキシエチレン(3)オレイルエーテル約3.5％；
   オレイン酸ポリグリセリル−４約1.5％；ポリソ
   ルベート80約0.5％；メチルパラベン約0.2％；プ
   ロピルパラベン約0.1％；クオータニウム−15約
   0.15％；プロピレングリコール、ブチル化ヒドロ
   キシアニソール、没食子酸プロピルおよびクエン
   酸約0.02％を含有せしめた特許請求の範囲第１５
   項記載の遮へい剤。