JPH01239024A - 酸化チタン被膜形成方法 - Google Patents
酸化チタン被膜形成方法Info
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- JPH01239024A JPH01239024A JP6313588A JP6313588A JPH01239024A JP H01239024 A JPH01239024 A JP H01239024A JP 6313588 A JP6313588 A JP 6313588A JP 6313588 A JP6313588 A JP 6313588A JP H01239024 A JPH01239024 A JP H01239024A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、有機チタン化合物溶液を原料として基材表
面に酸化チタン(以下Ti0iと略称する)被膜、及び
Ti01被膜を含む多層膜を形成する方法に関する。
面に酸化チタン(以下Ti0iと略称する)被膜、及び
Ti01被膜を含む多層膜を形成する方法に関する。
ガラス、金属、セラミックスなどの耐熱性基材表面にT
iO□被膜を形成する技術は非常に古くから知られてお
り、それらの基材物質に耐蝕性、耐候性などを付与する
だけでなく、TiO!被膜それ自体の、またはそれと他
の物質の薄膜との組み合わせにより発現する物性を利用
する目的で多方面に応用されている。とりわけ、光学材
料や電子材料へのτ10□被膜の応用にはめざましい発
展がなされている。
iO□被膜を形成する技術は非常に古くから知られてお
り、それらの基材物質に耐蝕性、耐候性などを付与する
だけでなく、TiO!被膜それ自体の、またはそれと他
の物質の薄膜との組み合わせにより発現する物性を利用
する目的で多方面に応用されている。とりわけ、光学材
料や電子材料へのτ10□被膜の応用にはめざましい発
展がなされている。
ところで、従来から確立されているTi0g被膜の形成
方法には、真空蒸着法、スパッタリング法。
方法には、真空蒸着法、スパッタリング法。
CVD法などによって基材表面上にTiOxを直接成膜
する方法と、有機チタン化合物溶液をスプレー法5回転
法、浸漬法などによって基材表面に塗布し、熱分解によ
りTi0zに変化せしめて成膜する方法がある。
する方法と、有機チタン化合物溶液をスプレー法5回転
法、浸漬法などによって基材表面に塗布し、熱分解によ
りTi0zに変化せしめて成膜する方法がある。
後者の方法に用いられるTLCh被膜塗布液としては、
従来、一般式Ti(OR)4(Rは1価の炭化水素基)
で表されるチタンアルコキシド類の有機溶媒溶液が用い
られていた。しかしながら、該チタンアルコキシド類は
加水分解を起こし易いために極めて安定性に乏しく、ま
た取り扱いも困難であった。
従来、一般式Ti(OR)4(Rは1価の炭化水素基)
で表されるチタンアルコキシド類の有機溶媒溶液が用い
られていた。しかしながら、該チタンアルコキシド類は
加水分解を起こし易いために極めて安定性に乏しく、ま
た取り扱いも困難であった。
Ti0g被膜塗布液のこのような欠点を改善する方法と
して、まず特公昭59−36955号公報(特開昭54
−43241号公i)には、上記チタンアルコキシドに
水を加えて重合させ、更にアセチルアセトンなどのキレ
ート化剤を加えて得られるチタンキレートポリマーを含
む溶液を用いることが提案されている。この溶液は耐湿
安定性に優れ、またこの溶液からTiO2薄膜の単層を
形成する場合の成膜性に優れている。しかし、光干渉多
層膜のように、他の物質の3膜と交互にTiO□薄膜を
重層し多層膜を形成する場合には、他の層との密着性と
積層性が悪いという欠点があった。
して、まず特公昭59−36955号公報(特開昭54
−43241号公i)には、上記チタンアルコキシドに
水を加えて重合させ、更にアセチルアセトンなどのキレ
ート化剤を加えて得られるチタンキレートポリマーを含
む溶液を用いることが提案されている。この溶液は耐湿
安定性に優れ、またこの溶液からTiO2薄膜の単層を
形成する場合の成膜性に優れている。しかし、光干渉多
層膜のように、他の物質の3膜と交互にTiO□薄膜を
重層し多層膜を形成する場合には、他の層との密着性と
積層性が悪いという欠点があった。
これに対して、特開昭60−43608号公報には、チ
タンアルコキシドをアセチルアセトンなどでキレート化
し加水重合して得られるチタンキレートポリマーと、チ
タンアルコキシドをアセチルアセトンなどでキレート化
しただけのチタンキレートモノマーとを所定の割合で含
む混合物溶液を用いることが提案されている。そしてこ
の提案の形成方法においては、チタンキレートポリマー
とチタンキレートモノマーとの含有比率を、前者が50
〜95wt%、後者が50〜5wt%としている。
タンアルコキシドをアセチルアセトンなどでキレート化
し加水重合して得られるチタンキレートポリマーと、チ
タンアルコキシドをアセチルアセトンなどでキレート化
しただけのチタンキレートモノマーとを所定の割合で含
む混合物溶液を用いることが提案されている。そしてこ
の提案の形成方法においては、チタンキレートポリマー
とチタンキレートモノマーとの含有比率を、前者が50
〜95wt%、後者が50〜5wt%としている。
ところで上記公開公報において開示されている組成比率
の塗布液は、多層膜形成の際の他の層との密着性という
点では、前記特許公報に開示されている被膜形成方法の
欠点に対する改善が達成されている。しかしながら、r
toi薄膜と他の物質の薄膜とを交互重層してなる多層
膜の成膜性の点では、必ずしも十分満足できる結果を与
えているとは言えなかった。
の塗布液は、多層膜形成の際の他の層との密着性という
点では、前記特許公報に開示されている被膜形成方法の
欠点に対する改善が達成されている。しかしながら、r
toi薄膜と他の物質の薄膜とを交互重層してなる多層
膜の成膜性の点では、必ずしも十分満足できる結果を与
えているとは言えなかった。
またTi0z被膜の屈折率に関しては、前記特許公報及
び公開公報等に開示されている従来のTi0m被膜の形
成方法は、例えば該TiO□被膜を可視光透過赤外線反
射膜の構成要素として用いる場合、屈折率の大きさの点
において十分満足すべきものではなかった。
び公開公報等に開示されている従来のTi0m被膜の形
成方法は、例えば該TiO□被膜を可視光透過赤外線反
射膜の構成要素として用いる場合、屈折率の大きさの点
において十分満足すべきものではなかった。
可視光透過赤外線反射膜は、白熱電球の省電力化を計る
ために利用されているが、これは該反射膜を白熱電球の
バルブ表面に形成して赤外域の放射エネルギーをフィラ
メントの加熱に再利用しようとするものである。白熱電
球は1000n−1近の近赤外領域で放射強度が最大と
なるため、該反射膜が高い赤外線反射効果を発揮するた
めには、該波長域で高い反射率をもつことが必要である
。そこで、該反射膜が、高屈折率物質たるTie、薄膜
と、低屈折率物質たる二酸化ケイ素(Siol)fi膜
との交互重層により形成される場合、t−i0tm膜の
層は特に11000n付近の波長で屈折率ができるだけ
高く、且つできるだけ透明であることが望ましく、更に
また、一般的には該反射膜の暦数はできるだけ多いこと
が望ましい。
ために利用されているが、これは該反射膜を白熱電球の
バルブ表面に形成して赤外域の放射エネルギーをフィラ
メントの加熱に再利用しようとするものである。白熱電
球は1000n−1近の近赤外領域で放射強度が最大と
なるため、該反射膜が高い赤外線反射効果を発揮するた
めには、該波長域で高い反射率をもつことが必要である
。そこで、該反射膜が、高屈折率物質たるTie、薄膜
と、低屈折率物質たる二酸化ケイ素(Siol)fi膜
との交互重層により形成される場合、t−i0tm膜の
層は特に11000n付近の波長で屈折率ができるだけ
高く、且つできるだけ透明であることが望ましく、更に
また、一般的には該反射膜の暦数はできるだけ多いこと
が望ましい。
ところで、一般に、TiO□の屈折率は波長によって変
化し、波長の増大と共に減少する特性を示す。その変化
の様子は、第1図において曲線Aで示すように、一般に
可視域で急に減少するが、近赤外域では減少の度合がほ
ぼ飽和しあまり変化しない。また、11000n付近の
波長での屈折率は一般に、500nmの波長での屈折率
よりも0.1〜0.2程度小さい。更に、TiChの屈
折率は、熱分解により薄膜とする場合、焼成時の温度1
時間5雰囲気などに依存しており、一般的には、焼成温
度が高いほど、また焼成時間が長いほど屈折率が高く、
また、焼成が空気中で行われるか真空中で行われるかに
よっても屈折率が異なる性質がある。
化し、波長の増大と共に減少する特性を示す。その変化
の様子は、第1図において曲線Aで示すように、一般に
可視域で急に減少するが、近赤外域では減少の度合がほ
ぼ飽和しあまり変化しない。また、11000n付近の
波長での屈折率は一般に、500nmの波長での屈折率
よりも0.1〜0.2程度小さい。更に、TiChの屈
折率は、熱分解により薄膜とする場合、焼成時の温度1
時間5雰囲気などに依存しており、一般的には、焼成温
度が高いほど、また焼成時間が長いほど屈折率が高く、
また、焼成が空気中で行われるか真空中で行われるかに
よっても屈折率が異なる性質がある。
TiO□被膜の形成に関する過去の研究報告等において
、確かに屈折率が2.2以上のTi1t被膜の形成につ
いて報告した例はいくつかある。しかしながら、それら
の報告における屈折率は、ある場合には波長550nm
での値であり C〜2.3 (500℃焼成) : l
−1,5chroeder : Physics o
f Th1n Films(Acade+mic
Press)、 Vol、 5 、 P87〜141
(1969))、またある場合には焼成温度900℃
近辺のときの値であり〔22,20(1000nm)
:用勝、他;照明学会誌第69巻第10号P9〜14
(1985) ) 、更にまたある場合には真空中で焼
成された場合の値であり〔22,20(600℃9石英
基板上) : B、 E、 Yoldas ;Ap
plted 0ptics、 Vol、21. P2
960〜2964 (1982))、未だ焼成温度が6
00℃以下で、焼成時間が5分以内であり、且つ焼成雰
囲気が大気中であってもなお、波長11000n付近で
の屈折率が2.2以上の値を示すTie、被膜を形成し
たという報告例はなされていない。
、確かに屈折率が2.2以上のTi1t被膜の形成につ
いて報告した例はいくつかある。しかしながら、それら
の報告における屈折率は、ある場合には波長550nm
での値であり C〜2.3 (500℃焼成) : l
−1,5chroeder : Physics o
f Th1n Films(Acade+mic
Press)、 Vol、 5 、 P87〜141
(1969))、またある場合には焼成温度900℃
近辺のときの値であり〔22,20(1000nm)
:用勝、他;照明学会誌第69巻第10号P9〜14
(1985) ) 、更にまたある場合には真空中で焼
成された場合の値であり〔22,20(600℃9石英
基板上) : B、 E、 Yoldas ;Ap
plted 0ptics、 Vol、21. P2
960〜2964 (1982))、未だ焼成温度が6
00℃以下で、焼成時間が5分以内であり、且つ焼成雰
囲気が大気中であってもなお、波長11000n付近で
の屈折率が2.2以上の値を示すTie、被膜を形成し
たという報告例はなされていない。
前記公開公報開示の形成方法における屈折率について検
討すると、該公報に開示されている組成比率のTi1t
被膜形成用塗布液から得られるTiO□被膜は、500
〜600℃、5分以内という焼成条件では、波長100
0ns付近での屈折率を2.2以上とすることは困難で
ある。屈折率が2.2以上のTi0t被膜を得るために
は、上記温度範囲で焼成時間を更に長くするか、または
焼成温度を600℃を越える温度にする必要があるが、
しかし、このような条件で被膜を形成する場合には、同
時にTi0zの結晶化の進行のためにTiO2被膜が白
濁し、透明さを失うという欠点を伴うものである。
討すると、該公報に開示されている組成比率のTi1t
被膜形成用塗布液から得られるTiO□被膜は、500
〜600℃、5分以内という焼成条件では、波長100
0ns付近での屈折率を2.2以上とすることは困難で
ある。屈折率が2.2以上のTi0t被膜を得るために
は、上記温度範囲で焼成時間を更に長くするか、または
焼成温度を600℃を越える温度にする必要があるが、
しかし、このような条件で被膜を形成する場合には、同
時にTi0zの結晶化の進行のためにTiO2被膜が白
濁し、透明さを失うという欠点を伴うものである。
更に、そのように結晶化の進行したTiO2被膜は他の
物質の薄膜との密着性が悪く、そのため、多層膜形成の
際、層数をあまり多くすることができなくなるという問
題点がある。前記公開公報開示の技術と実質的に同一内
容であるところの、米国特許4634919号明細書に
おいても、そのTABLE I において、波長1
1000nでの屈折率が2.20以上の値を有するTi
O□被膜の例が示されていないことは、そのことに対す
る説明や、焼成条件の詳細についての明記はなされてい
ないが、上記理由によるものと考えられる。
物質の薄膜との密着性が悪く、そのため、多層膜形成の
際、層数をあまり多くすることができなくなるという問
題点がある。前記公開公報開示の技術と実質的に同一内
容であるところの、米国特許4634919号明細書に
おいても、そのTABLE I において、波長1
1000nでの屈折率が2.20以上の値を有するTi
O□被膜の例が示されていないことは、そのことに対す
る説明や、焼成条件の詳細についての明記はなされてい
ないが、上記理由によるものと考えられる。
本発明は、従来のTi0g被膜形成方法における上記問
題点を解決するためなされたもので、有機チタン化合物
溶液を原料として基材表面にTi1tの連続被膜を形成
する方法において、比較的低温度でしかも短時間の焼成
により均一で透明であり、且つ1000n+s付近の近
赤外域で高い屈折率を有していて耐熱性に優れ、なおか
つ他の物質の薄膜との交互積層膜を形成する場合の多層
化特性を向上させたTiO□被膜を形成する方法を提供
することを目的とする。
題点を解決するためなされたもので、有機チタン化合物
溶液を原料として基材表面にTi1tの連続被膜を形成
する方法において、比較的低温度でしかも短時間の焼成
により均一で透明であり、且つ1000n+s付近の近
赤外域で高い屈折率を有していて耐熱性に優れ、なおか
つ他の物質の薄膜との交互積層膜を形成する場合の多層
化特性を向上させたTiO□被膜を形成する方法を提供
することを目的とする。
〔課題を解決するための手段及び作用〕上記問題点を解
決するため、本発明は、TIO□被膜形成用塗布液にお
いて、中に含まれる有機チタン化合物の個々のチタン原
子が形成するキレート環の数、及びチタンキレートポリ
マーとチタンキレートモノマーの含有比率に着目し、種
々の組成の塗布液を作成し、それら各塗布液がもたらす
TiO2被膜の特性を検討することによって創出するに
至ったものである。
決するため、本発明は、TIO□被膜形成用塗布液にお
いて、中に含まれる有機チタン化合物の個々のチタン原
子が形成するキレート環の数、及びチタンキレートポリ
マーとチタンキレートモノマーの含有比率に着目し、種
々の組成の塗布液を作成し、それら各塗布液がもたらす
TiO2被膜の特性を検討することによって創出するに
至ったものである。
すなわち本発明は、有機チタン化合物を含む溶液を耐熱
性のある基材の表面に塗布したのち熱処理して一様な膜
厚の酸化チタン被膜を形成する方法において、Xを、酸
素原子によりチタン原子に配位してキレート環を形成す
る、炭素数1以上18以下の、1種又は2種以上の有機
化合物残基とし、また、Yを、炭素数1以上18以下の
、1種又は2種以上の有機化合物残基とするとき、−1
’R式で表される構造単位の2つ以上が結合してなり、
且つ1つのチタン原子が少なくとも1つ以上のキレート
環を形成している、重合度が2以上のチタンキレートポ
リマーを含む溶液と、−S式が−Y で表され、且つ1つのチタン原子が少なくとも1つ以上
のキレート環を形成しているチタンキレートモノマーを
含む溶液とを、両者の混合比が、両者の混合液中のチタ
ン原子の総数を100とするとき、前記チタンキレート
ポリマーを構成するチタン原子の数が10%以上50%
以下であり前記チタンキレートモノマーを構成するチタ
ン原子の数が50%以上90%以下であるような比率で
混合して得られる液を用いるものである。
性のある基材の表面に塗布したのち熱処理して一様な膜
厚の酸化チタン被膜を形成する方法において、Xを、酸
素原子によりチタン原子に配位してキレート環を形成す
る、炭素数1以上18以下の、1種又は2種以上の有機
化合物残基とし、また、Yを、炭素数1以上18以下の
、1種又は2種以上の有機化合物残基とするとき、−1
’R式で表される構造単位の2つ以上が結合してなり、
且つ1つのチタン原子が少なくとも1つ以上のキレート
環を形成している、重合度が2以上のチタンキレートポ
リマーを含む溶液と、−S式が−Y で表され、且つ1つのチタン原子が少なくとも1つ以上
のキレート環を形成しているチタンキレートモノマーを
含む溶液とを、両者の混合比が、両者の混合液中のチタ
ン原子の総数を100とするとき、前記チタンキレート
ポリマーを構成するチタン原子の数が10%以上50%
以下であり前記チタンキレートモノマーを構成するチタ
ン原子の数が50%以上90%以下であるような比率で
混合して得られる液を用いるものである。
このような混合液を用いて被膜を形成することにより、
大気中において500〜600℃で2〜5分という比較
的低温度でしかも短時間の焼成で11000nの近赤外
域において2.2以上の高い屈折率を有し、透明で耐熱
性の優れたTiO1被膜を得ることができる。また他の
物質の′iii膜との交互積層膜を形成する場合の密着
性や成膜性などの多層化特性を向上させることが可能と
なるゆ 〔実施例〕 次に実施例について説明する。まず本発明に係る、有機
チタン化合物溶液を原料とし、浸漬焼成法によってTi
O□単層膜及び、Ti0z薄膜とSiO□薄膜との交互
多層膜を形成する場合における、各被膜形成用塗布液の
調製、及び各被膜の形成方法、並びに得られた酸化チタ
ン被膜の特性の測定及び観察方法について説明する。
大気中において500〜600℃で2〜5分という比較
的低温度でしかも短時間の焼成で11000nの近赤外
域において2.2以上の高い屈折率を有し、透明で耐熱
性の優れたTiO1被膜を得ることができる。また他の
物質の′iii膜との交互積層膜を形成する場合の密着
性や成膜性などの多層化特性を向上させることが可能と
なるゆ 〔実施例〕 次に実施例について説明する。まず本発明に係る、有機
チタン化合物溶液を原料とし、浸漬焼成法によってTi
O□単層膜及び、Ti0z薄膜とSiO□薄膜との交互
多層膜を形成する場合における、各被膜形成用塗布液の
調製、及び各被膜の形成方法、並びに得られた酸化チタ
ン被膜の特性の測定及び観察方法について説明する。
(A)TiOz 3 =i の3O−1(i
)有機チタンキレートポリマー溶液の合成テトラn−ブ
トキシチタン(Ti (0−n Bu) a)(以下、
単にrTi(0−nBu)4Jと略記する)を適量のエ
タノールに溶解し、次いでこれに攪拌しながら水を加え
て重合させ、更にそれに攪拌しながらアセチルアセトン
(CH3C0CHzCOCH2)(以下、rAcAc
Jと略記する)を添加し、チタンキレートの重合物を得
た。最後にこの溶液に酢酸エチルとエタノールを加えて
、Ti1t換算で5. Q w t%の濃度になるよう
に調整した。ここで、nBuはn−ブトキシ基を表す。
)有機チタンキレートポリマー溶液の合成テトラn−ブ
トキシチタン(Ti (0−n Bu) a)(以下、
単にrTi(0−nBu)4Jと略記する)を適量のエ
タノールに溶解し、次いでこれに攪拌しながら水を加え
て重合させ、更にそれに攪拌しながらアセチルアセトン
(CH3C0CHzCOCH2)(以下、rAcAc
Jと略記する)を添加し、チタンキレートの重合物を得
た。最後にこの溶液に酢酸エチルとエタノールを加えて
、Ti1t換算で5. Q w t%の濃度になるよう
に調整した。ここで、nBuはn−ブトキシ基を表す。
試薬の調合比は目的に応じて次のように区別した。まず
、どのチタン原子も2つのキレート環を形成しているチ
タンキレートポリマーの溶液を得るには、Ti(0−n
Bu)aの1モルに対して、水を2モル、AcAcを2
モルよりも若干過剰、の割合で各々を加えた。また、1
つのキレート環を形成しているチタン原子と2つのキレ
ート環を形成しているチタン原子とが存在するチタンキ
レートポリマーの溶液を得るには、Ti(OnBu)n
の1モルに対して、水を2モル、AcAcを2モル又は
それよりもごくわずかに不足、の割合で各々を加えた。
、どのチタン原子も2つのキレート環を形成しているチ
タンキレートポリマーの溶液を得るには、Ti(0−n
Bu)aの1モルに対して、水を2モル、AcAcを2
モルよりも若干過剰、の割合で各々を加えた。また、1
つのキレート環を形成しているチタン原子と2つのキレ
ート環を形成しているチタン原子とが存在するチタンキ
レートポリマーの溶液を得るには、Ti(OnBu)n
の1モルに対して、水を2モル、AcAcを2モル又は
それよりもごくわずかに不足、の割合で各々を加えた。
また、比較例用の溶液、すなわちキレート環を形成して
いないチタン原子が部分的に存在するチタン化合物ポリ
マーを含む溶液を得るには、Ti(0−n Bu) 、
の1モルに対して、水を2モル、AcAcを1モル未満
、の割合で各々を加えた。
いないチタン原子が部分的に存在するチタン化合物ポリ
マーを含む溶液を得るには、Ti(0−n Bu) 、
の1モルに対して、水を2モル、AcAcを1モル未満
、の割合で各々を加えた。
(ii )有機チタンキレートモノマー溶液の合成1種
又は2種以上のチタンアルコキシドを少量のエタノール
に溶解し、次いでこれにAcACを加えてチタンキレー
ト化合物を得た。最後にこの溶液に酢酸エチルとエタノ
ールを加えて、Ti0z換算で5.Q w t%の濃度
になるように調整した。
又は2種以上のチタンアルコキシドを少量のエタノール
に溶解し、次いでこれにAcACを加えてチタンキレー
ト化合物を得た。最後にこの溶液に酢酸エチルとエタノ
ールを加えて、Ti0z換算で5.Q w t%の濃度
になるように調整した。
チタンアルコキシドの選定と試薬の調合比は目的に応じ
て次のように区別した。まず、どのチタン原子も2つの
キレート環を形成しているチタンキレートモノマーの溶
液を得るには、チタンアルコキシドとしてTi(0−n
Bu)4を用い、Ti(0−nBu)*の1モルに対し
て、AcAcを2モルよりも若干過剰の割合で加えた。
て次のように区別した。まず、どのチタン原子も2つの
キレート環を形成しているチタンキレートモノマーの溶
液を得るには、チタンアルコキシドとしてTi(0−n
Bu)4を用い、Ti(0−nBu)*の1モルに対し
て、AcAcを2モルよりも若干過剰の割合で加えた。
また、1つのキレート環を形成しているチタン原子と2
つのキレート環を形成しているチタン原子とが存在する
チタンキレートモノマーの溶液を得るには、チタンアル
コキシドとしてTi、 (0−n Bu) *を用い、
Ti(○−n Bu) aの1モルに対して、AcAc
を2モルよりもごくわずかに不足の割合で加えた。
つのキレート環を形成しているチタン原子とが存在する
チタンキレートモノマーの溶液を得るには、チタンアル
コキシドとしてTi、 (0−n Bu) *を用い、
Ti(○−n Bu) aの1モルに対して、AcAc
を2モルよりもごくわずかに不足の割合で加えた。
また、比較例用の溶液、すなわちキレート環を持たない
チタン化合物が一部存在するようなチタン化合物モノマ
ーの溶液を得るには、Ti(○−nBu)4ヲチタンア
ルコキシドとして用い、その1モルに対して1モル未満
の割合のAcACを加えた。
チタン化合物が一部存在するようなチタン化合物モノマ
ーの溶液を得るには、Ti(○−nBu)4ヲチタンア
ルコキシドとして用い、その1モルに対して1モル未満
の割合のAcACを加えた。
(山)ポリマー溶液とモノマー溶液の調合上記(i)の
合成により得られたポリマー溶液と上記Hi)の合成に
より得られたモノマー溶液とを、所定の割合で、混合し
てTiCh被膜形成用塗布液を得た。
合成により得られたポリマー溶液と上記Hi)の合成に
より得られたモノマー溶液とを、所定の割合で、混合し
てTiCh被膜形成用塗布液を得た。
但し、↑IO2被膜形成用塗布液を得るための、ポリマ
ー溶液とモノマー溶液の混合は、加水重合の過度の進行
を避けるため、どの塗布液についても使用の都度、必要
な分だけ両温液を混合した。
ー溶液とモノマー溶液の混合は、加水重合の過度の進行
を避けるため、どの塗布液についても使用の都度、必要
な分だけ両温液を混合した。
ポリマー溶液とモノマー溶液の混合比は次のように選定
した。例えば、混合液中において、チタン化合物ポリマ
ーを構成するチタン原子の数n、とチタン化合物モノマ
ーを構成するチタン原子の数n、との比n、: n、(
以降、この比を単に「チタン原子数比」と略記する。該
ポリマーの溶液と該モノマーの溶液がチタン原子に関し
て互いに等濃度のときは、この比が該ポリマーの溶液と
該モノマーの溶液との容量比で調整できるので、その場
合はこの比を特に「ポリマー液とモノマー液の容量比」
と呼ぶことにする)が、9:1である液を得るには上記
(i)のポリマー溶液と上記(11)のモノマー溶液と
を容量比で9:lの割合で混合した。他のチタン原子数
比の場合についても同様にして混合した。
した。例えば、混合液中において、チタン化合物ポリマ
ーを構成するチタン原子の数n、とチタン化合物モノマ
ーを構成するチタン原子の数n、との比n、: n、(
以降、この比を単に「チタン原子数比」と略記する。該
ポリマーの溶液と該モノマーの溶液がチタン原子に関し
て互いに等濃度のときは、この比が該ポリマーの溶液と
該モノマーの溶液との容量比で調整できるので、その場
合はこの比を特に「ポリマー液とモノマー液の容量比」
と呼ぶことにする)が、9:1である液を得るには上記
(i)のポリマー溶液と上記(11)のモノマー溶液と
を容量比で9:lの割合で混合した。他のチタン原子数
比の場合についても同様にして混合した。
なお、どのチタン原子も2つのキレート環を形成してい
るτ10を被膜塗布液を得るには、前記ポリマー溶液と
モノマー溶液はいずれも、どのチタン原子も2つのキレ
ート環を形成しているチタンキレート化合物の溶液を選
定し、それらを所定の割合で混合した。また、1つのキ
レート環を形成しているチタン原子と2つのキレート環
を形成しているチタン原子とが存在するTi01被l!
塗布液を得るには、前記ポリマー溶液とモノマー溶液は
いずれも、1つのキレート環を形成しているチタン原子
と2つのキレート環を形成しているチタン原子とが存在
するチタンキレート化合物の溶液を選定し、それらを所
定の割合で混合した。
るτ10を被膜塗布液を得るには、前記ポリマー溶液と
モノマー溶液はいずれも、どのチタン原子も2つのキレ
ート環を形成しているチタンキレート化合物の溶液を選
定し、それらを所定の割合で混合した。また、1つのキ
レート環を形成しているチタン原子と2つのキレート環
を形成しているチタン原子とが存在するTi01被l!
塗布液を得るには、前記ポリマー溶液とモノマー溶液は
いずれも、1つのキレート環を形成しているチタン原子
と2つのキレート環を形成しているチタン原子とが存在
するチタンキレート化合物の溶液を選定し、それらを所
定の割合で混合した。
また同様に、比較例用の溶液、すなわちキレート環を形
成していないチタン原子が部分的に存在するチタン化合
物を含むTiO□被膜塗布液を得るには、キレート環を
形成していないチタン原子が部分的に存在するチタン化
合物ポリマーを含む溶液と、キレート環を持たないチタ
ン化合物が一部存在するようなチタン化合物モノマーの
溶液とを所定の割合で混合した。
成していないチタン原子が部分的に存在するチタン化合
物を含むTiO□被膜塗布液を得るには、キレート環を
形成していないチタン原子が部分的に存在するチタン化
合物ポリマーを含む溶液と、キレート環を持たないチタ
ン化合物が一部存在するようなチタン化合物モノマーの
溶液とを所定の割合で混合した。
また、同じく比較例用の溶液、すなわちリンを含むTi
O2被#塗布液を得るには、前記ポリマー溶液と前記モ
ノマー溶液との混合液に、五酸化リン(PzOs)(以
下、単にrPzosJと略記する)のエタノール溶液を
所定量添加した。
O2被#塗布液を得るには、前記ポリマー溶液と前記モ
ノマー溶液との混合液に、五酸化リン(PzOs)(以
下、単にrPzosJと略記する)のエタノール溶液を
所定量添加した。
(B )Si Oi のU
有機ケイ素化合物、例えば、エチルシリケートポリマー
を含む有機溶媒溶液にエタノールを加えて、SiOχ換
算で5. OW t%の濃度になるように調整した。
を含む有機溶媒溶液にエタノールを加えて、SiOχ換
算で5. OW t%の濃度になるように調整した。
(C)TiOの
表面をよく洗浄した、石英ガラス仮、又は−端が閉じて
いる石英ガラス円筒(閉じている端を下向きとする)か
らなる基材を、前記(A、)の工程で得られたTi0z
被膜塗布液に浸漬し、−定速度で引き上げた後、600
℃の温度の電気炉内で3分間加熱焼成して咳基材表面に
rtotl膜を形成した。上記引き上げ速度はTie、
薄膜の光学膜厚(−屈折率×膜厚)が、はぼ250n−
となるような速度に調整した。
いる石英ガラス円筒(閉じている端を下向きとする)か
らなる基材を、前記(A、)の工程で得られたTi0z
被膜塗布液に浸漬し、−定速度で引き上げた後、600
℃の温度の電気炉内で3分間加熱焼成して咳基材表面に
rtotl膜を形成した。上記引き上げ速度はTie、
薄膜の光学膜厚(−屈折率×膜厚)が、はぼ250n−
となるような速度に調整した。
(D)SiOiの
表面にTiO*Tjl膜が形成された前記基材を前記5
tOt被膜塗布液に浸漬し、一定速度で引き上げた後、
600℃の温度の電気炉内で3分間加熱焼成して、前記
TiO□薄膜上にSi0g薄膜を重層した。上記引き上
げ速度はSi0g薄膜の光学膜厚(=屈折率×膜厚)が
、はぼ250rvとなるような速度に調整した。
tOt被膜塗布液に浸漬し、一定速度で引き上げた後、
600℃の温度の電気炉内で3分間加熱焼成して、前記
TiO□薄膜上にSi0g薄膜を重層した。上記引き上
げ速度はSi0g薄膜の光学膜厚(=屈折率×膜厚)が
、はぼ250rvとなるような速度に調整した。
(E)TiO−5iO□ のノ上記(C)及び
(D)の工程の繰り返しにより、前記石英ガラス円筒等
の基材の外表面上に、TiOx Stow交互多層膜
を形成した。各薄膜の積層は、基材に近い方から数えて
1層百にTjOt薄膜を形成し、2層目に5toztl
lll#を形成し、以降同様の工程を繰り返し、膜の剥
離が生じるまで交互積層を継続した。
(D)の工程の繰り返しにより、前記石英ガラス円筒等
の基材の外表面上に、TiOx Stow交互多層膜
を形成した。各薄膜の積層は、基材に近い方から数えて
1層百にTjOt薄膜を形成し、2層目に5toztl
lll#を形成し、以降同様の工程を繰り返し、膜の剥
離が生じるまで交互積層を継続した。
ヨユ遣定叉堕鬼寒
Tt02単層膜の屈折率は、石英ガラス機上に形成した
該単層膜の分光反射率曲線の測定結果から求めた。また
多層膜の剥離の確認は、■膜形成後数分間、自然放置し
た後の状態、又は■それでも剥離しないときは600℃
の電気炉内に数分間放置した後の状態、の観察によって
行った。
該単層膜の分光反射率曲線の測定結果から求めた。また
多層膜の剥離の確認は、■膜形成後数分間、自然放置し
た後の状態、又は■それでも剥離しないときは600℃
の電気炉内に数分間放置した後の状態、の観察によって
行った。
発明者はまず、Tie、被膜塗布液中の有機チタン化合
物を構成する個々のチタン原子が形成しているキレート
環の数と、Ti01+薄膜の性質との関係に着口し、ど
のチタン原子も2つ又は1つのキレート環を形成してい
るチタン化合物を含む塗布液からTi01薄膜を作成し
、またこれと比較するためキレート環を形成していない
チタン原子が部分的に存在するチタン化合物を含む塗布
液からTiO2薄膜を作成した0本発明の実施例(1)
用のTiO□′N!1M塗布液としては、ポリマー液と
モノマー液の容量比が5=5であり、且つどのチタン原
子も2つのキレート環を形成しているTiO*被膜塗布
液(1)を、また実施例(n)用としては、ポリマー液
とモノマー液の容量比が同じ(5:5であり、且つ1つ
のキレート環を形成しているチタン原子と2つのキレー
ト環を形成しているチタン原子とが存在するTi1t被
膜塗布液(2)を用い、また比較例(1)用としてはポ
リマー液と七ツマー液の容量比が同じく5:5で、且つ
キレート環を形成していないチタン原子が部分的に存在
するチタン化合物を含むTi0z被膜塗布液(3)を用
いた。
物を構成する個々のチタン原子が形成しているキレート
環の数と、Ti01+薄膜の性質との関係に着口し、ど
のチタン原子も2つ又は1つのキレート環を形成してい
るチタン化合物を含む塗布液からTi01薄膜を作成し
、またこれと比較するためキレート環を形成していない
チタン原子が部分的に存在するチタン化合物を含む塗布
液からTiO2薄膜を作成した0本発明の実施例(1)
用のTiO□′N!1M塗布液としては、ポリマー液と
モノマー液の容量比が5=5であり、且つどのチタン原
子も2つのキレート環を形成しているTiO*被膜塗布
液(1)を、また実施例(n)用としては、ポリマー液
とモノマー液の容量比が同じ(5:5であり、且つ1つ
のキレート環を形成しているチタン原子と2つのキレー
ト環を形成しているチタン原子とが存在するTi1t被
膜塗布液(2)を用い、また比較例(1)用としてはポ
リマー液と七ツマー液の容量比が同じく5:5で、且つ
キレート環を形成していないチタン原子が部分的に存在
するチタン化合物を含むTi0z被膜塗布液(3)を用
いた。
塗布実験の結果、第1表に示すようにまず、比較例(1
)の前記7i0z被膜塗布液(3)を用いて被膜を形成
した場合は、波長11000n付近におけるTie。
)の前記7i0z被膜塗布液(3)を用いて被膜を形成
した場合は、波長11000n付近におけるTie。
薄膜の屈折率は、例えば600℃、3分の焼成では2.
2に到達せず、十分満足できるほど高い値とならず、更
にTi0z Stow交互多層膜の積層性の点でも、
6〜8層目で剥離を生じ、それ以上積層できないという
欠点があった。これに対して、本発明の実施例(1)及
び(II)である前記Ti1t被膜塗布液(11又は(
2ンを用いて被膜を形成した場合は、Ti1t薄膜の屈
折率は、 600℃53分の焼成で2.2以上となり、
十分満足できるような高い値をもたらしている。更にT
i O! −St O□交互多層膜の積層性の点でも、
10層以上積層しても剥離せず、上記塗布液(3)より
優れていた。
2に到達せず、十分満足できるほど高い値とならず、更
にTi0z Stow交互多層膜の積層性の点でも、
6〜8層目で剥離を生じ、それ以上積層できないという
欠点があった。これに対して、本発明の実施例(1)及
び(II)である前記Ti1t被膜塗布液(11又は(
2ンを用いて被膜を形成した場合は、Ti1t薄膜の屈
折率は、 600℃53分の焼成で2.2以上となり、
十分満足できるような高い値をもたらしている。更にT
i O! −St O□交互多層膜の積層性の点でも、
10層以上積層しても剥離せず、上記塗布液(3)より
優れていた。
第1表
(注)*チタン化合物を構成する1つのチタン原子が形
成するキレート環の数 以上のように、どのチタン原子も少なくとも1つ以上の
、好ましくは2つのキレート環を形成しているチタン化
合物の溶液をTi01被膜塗布液として用いる場合は、
高い屈折率が得られるばかりでなく、他の薄膜との交互
積層性のほか、基材表面に対する濡れ性や液の寿命など
の点でも優れていることが確認された。
成するキレート環の数 以上のように、どのチタン原子も少なくとも1つ以上の
、好ましくは2つのキレート環を形成しているチタン化
合物の溶液をTi01被膜塗布液として用いる場合は、
高い屈折率が得られるばかりでなく、他の薄膜との交互
積層性のほか、基材表面に対する濡れ性や液の寿命など
の点でも優れていることが確認された。
次に発明者は、Ti0z被膜塗布液に含まれるチタン化
合物が、どのチタン原子も2つのキレート環を形成して
いるチタンキレート化合物であるとき、チタン原子数比
n、:n、、すなわちポリマー液とモノマー液の容量比
と、Tie、薄膜の性質との関係に着目し、ポリマー液
とモノマー液の容量比を変化させて種々の組成のTie
、被膜塗布液を作成し、各塗布液が与えるTi1t薄膜
の性質を比較した。すなわち、ポリマー液とモノマー液
の容量比を、本発明に係る実施例(III)、 (I’
/)として、3ニア、1:9のものを選び、また比較例
(■)。
合物が、どのチタン原子も2つのキレート環を形成して
いるチタンキレート化合物であるとき、チタン原子数比
n、:n、、すなわちポリマー液とモノマー液の容量比
と、Tie、薄膜の性質との関係に着目し、ポリマー液
とモノマー液の容量比を変化させて種々の組成のTie
、被膜塗布液を作成し、各塗布液が与えるTi1t薄膜
の性質を比較した。すなわち、ポリマー液とモノマー液
の容量比を、本発明に係る実施例(III)、 (I’
/)として、3ニア、1:9のものを選び、また比較例
(■)。
(III)、 (■)として、9 : 1. 6 :
4.0.5 :9.5のものを選んで、それぞれの塗布
液+41. +51. (61゜(7)、(8)を作成
して、TiOzm膜を形成した。
4.0.5 :9.5のものを選んで、それぞれの塗布
液+41. +51. (61゜(7)、(8)を作成
して、TiOzm膜を形成した。
第2表
(注)*チタン化合物を構成する1つのチタン原子が形
成するキレート環の数 その結果、各塗布液で作成したTiO□単層膜は、波長
11000n付近での屈折率が第2表に示した値を有し
、ポリマー液とモノマー液の容量比が5:5以上のとき
はn、に対するnlの比の増加と共に該屈折率が増加し
、その比が5:5を下回りn。
成するキレート環の数 その結果、各塗布液で作成したTiO□単層膜は、波長
11000n付近での屈折率が第2表に示した値を有し
、ポリマー液とモノマー液の容量比が5:5以上のとき
はn、に対するnlの比の増加と共に該屈折率が増加し
、その比が5:5を下回りn。
がn9より太き(なってからは該屈折率が頭打ちとなる
かないしはやや減少する傾向を示した。そしてこの第2
表かられかるように、塗布液fi1. f7+。
かないしはやや減少する傾向を示した。そしてこの第2
表かられかるように、塗布液fi1. f7+。
(8)で作成した比較例は、いずれも600℃、3分の
焼成では、波長11000n付近でのTiO2薄膜の屈
折率が、2.2に到達しなかった。一方、塗布液(4)
及び(5)で作成した本発明の実施例(II[)、 (
rV)は、いずれも600℃、3分の焼成により波長1
1000n付近での屈折率が2.20以上のTi0z薄
膜をもたらした。
焼成では、波長11000n付近でのTiO2薄膜の屈
折率が、2.2に到達しなかった。一方、塗布液(4)
及び(5)で作成した本発明の実施例(II[)、 (
rV)は、いずれも600℃、3分の焼成により波長1
1000n付近での屈折率が2.20以上のTi0z薄
膜をもたらした。
上記実施例では、焼成条件が600℃、3分のものを示
したが、焼成条件はこの条件に限らず、50′。
したが、焼成条件はこの条件に限らず、50′。
〜600℃の温度で2〜5分間焼成を行えば、塗布液(
1)、 (2+、 (41,+51で作成したTi0g
薄膜は、波長1000n+w付近での屈折率がいずれも
2.20以上となった。更に、上記実施例では、ポリマ
ー液とモノマー液の容量比が5F5,3ニア及び1:9
の3種類しか示さなかったが、該容量比は5:5から1
:9までの範囲にあれば任意の容量比の塗布液でTiO
2被膜を形成しても、同様に2.20以上の屈折率のも
のが得ることができた。
1)、 (2+、 (41,+51で作成したTi0g
薄膜は、波長1000n+w付近での屈折率がいずれも
2.20以上となった。更に、上記実施例では、ポリマ
ー液とモノマー液の容量比が5F5,3ニア及び1:9
の3種類しか示さなかったが、該容量比は5:5から1
:9までの範囲にあれば任意の容量比の塗布液でTiO
2被膜を形成しても、同様に2.20以上の屈折率のも
のが得ることができた。
一方、比較例(II)〜(■)として示した塗布液(6
)。
)。
(71,(81を用いてTiO□被膜を形成する場合で
も、第1表及び第2表に示すように、例えば600℃。
も、第1表及び第2表に示すように、例えば600℃。
15分の焼成を行えば、波長1000n+g付近での屈
折率が2.20以上のTiC1z単層膜を得ることがで
きた。
折率が2.20以上のTiC1z単層膜を得ることがで
きた。
しかしながら、その場合、Tt(h Fi膜は白濁を伴
い、且つ他の物質の薄膜との密着性が悪<、rio23
101交互多層膜形成時の積層性の点でも、500〜6
00℃、2〜5分の焼成条件の場合よりもかなり劣って
いた。なお、600℃、15分の焼成では、塗布液(1
)、 (21,(41,(5)を用いた本発明の実施例
(1)〜(IV)の場合でも、第1表及び第2表に示す
ように、屈折率は更に向上するが、前記比較例と同様の
不都合な成膜性をもたらした。
い、且つ他の物質の薄膜との密着性が悪<、rio23
101交互多層膜形成時の積層性の点でも、500〜6
00℃、2〜5分の焼成条件の場合よりもかなり劣って
いた。なお、600℃、15分の焼成では、塗布液(1
)、 (21,(41,(5)を用いた本発明の実施例
(1)〜(IV)の場合でも、第1表及び第2表に示す
ように、屈折率は更に向上するが、前記比較例と同様の
不都合な成膜性をもたらした。
次に、TiO2−3iO□交互多層膜の形成の実施例に
ついて説明する。各層の被膜とも600℃、3分の焼成
によって形成した場合、該多層膜の積層性は次のとおり
であった。すなわち、Tioz層を、上記比較例(n)
〜(IV)を作成した塗布液(6)、 (7)。
ついて説明する。各層の被膜とも600℃、3分の焼成
によって形成した場合、該多層膜の積層性は次のとおり
であった。すなわち、Tioz層を、上記比較例(n)
〜(IV)を作成した塗布液(6)、 (7)。
(8)を用いて形成した場合、8〜101i目で剥離が
生じたのに対し、上記本発明の実施例(j)〜(■)で
示した塗布液F11. (2)、 (4+、 +51の
各層を用いて形成した場合は、10層を越えても剥離は
起こらず、前者の場合より数層程度多く積層させること
が可能だった。この実施例に限らず、一般にTiO2被
膜塗布液において、前記モノマーのチタン原子の数n1
1が前記ポリマーのチタン原子の数npに等しいか又は
n、よりも大きい(但し、n @ / n p≦9)場
合は、そうでない場合よりもTiO□−3ing交互多
層膜形成時の積層性が良好であった。
生じたのに対し、上記本発明の実施例(j)〜(■)で
示した塗布液F11. (2)、 (4+、 +51の
各層を用いて形成した場合は、10層を越えても剥離は
起こらず、前者の場合より数層程度多く積層させること
が可能だった。この実施例に限らず、一般にTiO2被
膜塗布液において、前記モノマーのチタン原子の数n1
1が前記ポリマーのチタン原子の数npに等しいか又は
n、よりも大きい(但し、n @ / n p≦9)場
合は、そうでない場合よりもTiO□−3ing交互多
層膜形成時の積層性が良好であった。
以上述べたように、どのチタン原子も少なくとも1つ以
上のキレート環を形成しているチタン化合物の溶液をT
i0z被膜形成用塗布液として用い、且つ8に2布液に
含まれているチタンキレートモノマーのチタン原子の数
n1が、同じくそれに含まれているチタンキレートポリ
マーのチタン原子の数n2に等しいか、又はn q /
n p≦9の条件下でn9よりも太き(なるように調
整した場合は、得られたTIO□被膜は、屈折率の点で
もまた他の物質の薄層との交互積層性の点でも同時に十
分満足できる優れた特性を示した。
上のキレート環を形成しているチタン化合物の溶液をT
i0z被膜形成用塗布液として用い、且つ8に2布液に
含まれているチタンキレートモノマーのチタン原子の数
n1が、同じくそれに含まれているチタンキレートポリ
マーのチタン原子の数n2に等しいか、又はn q /
n p≦9の条件下でn9よりも太き(なるように調
整した場合は、得られたTIO□被膜は、屈折率の点で
もまた他の物質の薄層との交互積層性の点でも同時に十
分満足できる優れた特性を示した。
次にTi0g被膜塗布液にリン化合物を含ませた場合の
Ti0g被膜の特性の変化を検討した。前記公開公報に
おいては、Ti01被膜塗布液中にリン化合物、ホウ素
化合物などを含む場合も開示している。そこで本件発明
者は、上記実施例(Ill)において用いた塗布液(4
)に対して、P2O5換算でTiOxに対して2.5
w t%のリンの酸化物を含有させたTiO2被膜塗布
液を調製しTi12薄膜を形成したところ、波長100
0rrn付近での屈折率は、600℃。
Ti0g被膜の特性の変化を検討した。前記公開公報に
おいては、Ti01被膜塗布液中にリン化合物、ホウ素
化合物などを含む場合も開示している。そこで本件発明
者は、上記実施例(Ill)において用いた塗布液(4
)に対して、P2O5換算でTiOxに対して2.5
w t%のリンの酸化物を含有させたTiO2被膜塗布
液を調製しTi12薄膜を形成したところ、波長100
0rrn付近での屈折率は、600℃。
15分の焼成を行ってさえも2.03と掻めて低かった
。
。
加えて、Ti0z Stow交互多層膜を形成した場
合は、6層目の形成時に剥離を生じ、積層性も不良であ
ることが判明した。更に、ホウ素化合物を含む場合につ
いても同様に屈折率が低く、積層性も不良であることが
確認された。
合は、6層目の形成時に剥離を生じ、積層性も不良であ
ることが判明した。更に、ホウ素化合物を含む場合につ
いても同様に屈折率が低く、積層性も不良であることが
確認された。
上記の説明において、TiO□薄膜の屈折率はすべて1
1000n付近の波長における値で述べたが、−方、可
視域における屈折率については本発明による方法で形成
したTiCh 薄膜はすべて、その値が2.2から2.
4までの範囲にあり、また屈折率分散は第1図における
曲線Bで示した本発明の一例と同様の傾向を持ち、波長
の減少に伴う屈折率の増加は500n譜以下でもあまり
大きくなかった。
1000n付近の波長における値で述べたが、−方、可
視域における屈折率については本発明による方法で形成
したTiCh 薄膜はすべて、その値が2.2から2.
4までの範囲にあり、また屈折率分散は第1図における
曲線Bで示した本発明の一例と同様の傾向を持ち、波長
の減少に伴う屈折率の増加は500n譜以下でもあまり
大きくなかった。
また上記実施例の説明では、チタンキレートポリマーに
ついても、またチタンキレートモノマーについても、キ
レート化剤としてAcAcを用いた場合のみを示したが
、本発明はこれに限定されることはなく、酸素原子によ
りチタン原子に配位してキレート環を形成し得る、炭素
数1〜18の有機化合物又は有機化合物残基であれば、
どれでも同様な効果をもたらす。また、チタンキレート
ポリマーとチタンキレートモノマーとにおいて同じキレ
ート化剤が結合していなくともよく、更に、1つのチタ
ンキレート化合物を複数種のキレート化剤から合成して
もよい、また本発明は、キレート環を形成せずにチタン
原子に結合している残りの有機化合物残基(−0−Y)
におけるYが、炭素数1〜18の任意の有機化合物残基
について同じ効果があり、チタンキレートポリマーとチ
タンキレートモノマーとでYが同じでなくてもよいし、
また、1つのチタンキレート化合物でYが同じでなくて
もよい。
ついても、またチタンキレートモノマーについても、キ
レート化剤としてAcAcを用いた場合のみを示したが
、本発明はこれに限定されることはなく、酸素原子によ
りチタン原子に配位してキレート環を形成し得る、炭素
数1〜18の有機化合物又は有機化合物残基であれば、
どれでも同様な効果をもたらす。また、チタンキレート
ポリマーとチタンキレートモノマーとにおいて同じキレ
ート化剤が結合していなくともよく、更に、1つのチタ
ンキレート化合物を複数種のキレート化剤から合成して
もよい、また本発明は、キレート環を形成せずにチタン
原子に結合している残りの有機化合物残基(−0−Y)
におけるYが、炭素数1〜18の任意の有機化合物残基
について同じ効果があり、チタンキレートポリマーとチ
タンキレートモノマーとでYが同じでなくてもよいし、
また、1つのチタンキレート化合物でYが同じでなくて
もよい。
また上記実施例の説明では、チタンキレートポリマー溶
液とチタンキレートモノマー溶液はチタン原子に関して
互いに等濃度としたものを示したが、本発明はこれに限
定されることはなく、該ポリマー溶液と該モノマー溶液
の混合物において含有するチタン化合物を構成するチタ
ン原子の数に着目するとき、前記チタン原子数比n、:
n、が5:5から1:9までの範囲の比率となるように
両溶液が混合される限りにおいて、両溶液の濃度が互い
に異なっていても同様の効果が得られる。
液とチタンキレートモノマー溶液はチタン原子に関して
互いに等濃度としたものを示したが、本発明はこれに限
定されることはなく、該ポリマー溶液と該モノマー溶液
の混合物において含有するチタン化合物を構成するチタ
ン原子の数に着目するとき、前記チタン原子数比n、:
n、が5:5から1:9までの範囲の比率となるように
両溶液が混合される限りにおいて、両溶液の濃度が互い
に異なっていても同様の効果が得られる。
また上記実施例の説明では、被膜形成の方法として浸漬
焼成法を用いたものを示したが、本発明はこれに限定さ
れることはなく、スプレー法1回転法など有機チタン化
合物溶液を基材に塗布し熱分解によってTiO2に変化
せしめて成膜する方法ならばいずれでも適用できる。ま
た、本発明は、基材物質が石英に限られることはな(、
透明であり400℃以上の高温で耐熱性を有する物質で
あれば、いずれでも基材物質として用いることができる
。
焼成法を用いたものを示したが、本発明はこれに限定さ
れることはなく、スプレー法1回転法など有機チタン化
合物溶液を基材に塗布し熱分解によってTiO2に変化
せしめて成膜する方法ならばいずれでも適用できる。ま
た、本発明は、基材物質が石英に限られることはな(、
透明であり400℃以上の高温で耐熱性を有する物質で
あれば、いずれでも基材物質として用いることができる
。
また上記実施例では、基材表面に形成する多層膜は、T
iO□−3iO□交互多層膜の場合について示したが、
多層膜の構成はこれに限られることはなく、riot層
を少なくとも1層含む、すべての金属酸化物及び又は金
属フン化物の多層膜の形成において、TiO2層の作成
に関して広く適用できる。
iO□−3iO□交互多層膜の場合について示したが、
多層膜の構成はこれに限られることはなく、riot層
を少なくとも1層含む、すべての金属酸化物及び又は金
属フン化物の多層膜の形成において、TiO2層の作成
に関して広く適用できる。
以上実施例に基づいて詳細に述べたとおり、本発明によ
れば、500〜600℃で2〜5分という比較的低い温
度でしかも比較的短い時間、大気中で熱処理を行うだけ
で、波長11000n付近での屈折率が2.20以上で
あり、且つ透明な酸化チタン被膜を容易に得ることがで
きる。また、本発明によれば、酸化チタン被膜形成用塗
布液がリン化合物やホウ素化合物を含有していなくとも
、他の金属酸化物などの薄層との多層膜形成時の良好な
密着性と積層性を示す酸化チタン薄層を形成することが
できる。
れば、500〜600℃で2〜5分という比較的低い温
度でしかも比較的短い時間、大気中で熱処理を行うだけ
で、波長11000n付近での屈折率が2.20以上で
あり、且つ透明な酸化チタン被膜を容易に得ることがで
きる。また、本発明によれば、酸化チタン被膜形成用塗
布液がリン化合物やホウ素化合物を含有していなくとも
、他の金属酸化物などの薄層との多層膜形成時の良好な
密着性と積層性を示す酸化チタン薄層を形成することが
できる。
また一般に、前記ポリマー溶液と前記モノマー溶液とが
混合されて長時間放置されると、加水重合のために、溶
存する前記七ツマ−が徐々にポリマーに変化していき、
両溶液の混合物中の前記ポリマーの存在比率が増加して
いく恐れがある。しかし、酸化チタン被膜形成用塗布液
の1製を、使用の都度、必要とする分だけ、前記ポリマ
ー溶液と前記モノマー溶液を混合することによって行う
ようにすることにより、該混合物中での化学変化等によ
る前記ポリマーと前記モノマーの存在比の変動は無視で
きるほど小さくなり、意図したポリマーとモノマーの存
在比を存する酸化チタン被膜形成用塗布液を常に塗布作
業に供給することができ、したがって、常に一定の特性
を示す酸化チタン被膜を得ることができる。
混合されて長時間放置されると、加水重合のために、溶
存する前記七ツマ−が徐々にポリマーに変化していき、
両溶液の混合物中の前記ポリマーの存在比率が増加して
いく恐れがある。しかし、酸化チタン被膜形成用塗布液
の1製を、使用の都度、必要とする分だけ、前記ポリマ
ー溶液と前記モノマー溶液を混合することによって行う
ようにすることにより、該混合物中での化学変化等によ
る前記ポリマーと前記モノマーの存在比の変動は無視で
きるほど小さくなり、意図したポリマーとモノマーの存
在比を存する酸化チタン被膜形成用塗布液を常に塗布作
業に供給することができ、したがって、常に一定の特性
を示す酸化チタン被膜を得ることができる。
また、本発明によって形成する酸化チタン薄膜を、他の
金属酸化物等の薄膜との交互積層によって構成される可
視光透過赤外線反射膜の形成に応用すれば、波長100
0r+n付近での該酸化チタン薄層の屈折率が従来のも
のよりも高いので、該反射膜の赤外線反射効果も従来の
ものよりも高めることができる。
金属酸化物等の薄膜との交互積層によって構成される可
視光透過赤外線反射膜の形成に応用すれば、波長100
0r+n付近での該酸化チタン薄層の屈折率が従来のも
のよりも高いので、該反射膜の赤外線反射効果も従来の
ものよりも高めることができる。
更に本発明によれば、500〜600℃という比較的低
い温度でしかも2〜5分という短時間の焼成によって、
従来よりも高い屈折率の酸化チタン被膜を形成できるの
で、酸化チタン被膜を工業的に量産する場合には焼成工
程に要する熱源費と時間の節減に効果があり、ひいては
生産効率の向上を計ることができる。
い温度でしかも2〜5分という短時間の焼成によって、
従来よりも高い屈折率の酸化チタン被膜を形成できるの
で、酸化チタン被膜を工業的に量産する場合には焼成工
程に要する熱源費と時間の節減に効果があり、ひいては
生産効率の向上を計ることができる。
第1図は、T1.Ot薄膜の屈折率の波長に対する分散
LQ様を示す図である。
LQ様を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、有機チタン化合物を含む溶液を耐熱性基材の表面に
塗布したのち熱処理して一様な膜厚の酸化チタン被膜を
形成する方法において、Xを、酸素原子によりチタン原
子に配位してキレート環を形成する、炭素数1以上18
以下の、1種又は2種以上の有機化合物残基とし、また
、Yを、炭素数1以上18以下の、1種又は2種以上の
有機化合物残基とするとき、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ 及び ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される構造単位の2つ以上が結合してなり、且つ1
つのチタン原子が少なくとも1つ以上のキレート環を形
成している、重合度が2以上のチタンキレートポリマー
を含む溶液と、一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼及び又は ▲数式、化学式、表等があります▼ で表され、且つ1つのチタン原子が少なくとも1つ以上
のキレート環を形成しているチタンキレートモノマーを
含む溶液とを、両者の混合比が、両者の混合液中のチタ
ン原子の総数を100とするとき、前記チタンキレート
ポリマーを構成するチタン原子の数が10%以上50%
以下であり前記チタンキレートモノマーを構成するチタ
ン原子の数が50%以上90%以下であるような比率で
混合して得られる液を用いることを特徴とする酸化チタ
ン被膜の形成方法。 2、チタン原子に関して互いに等濃度である、前記チタ
ンキレートポリマーを含む溶液と前記チタンキレートモ
ノマーを含む溶液の混合液を用いることを特徴とする請
求項1記載の酸化チタン被膜形成方法。 3、前記チタンキレートポリマーを含む溶液と前記チタ
ンキレートモノマーを含む溶液は、いずれもリン化合物
及び又はホウ素化合物を含まないことを特徴とする請求
項1又は2記載の酸化チタン被膜形成方法。 4、前記チタンキレートポリマーを含む溶液と前記チタ
ンキレートモノマーを含む溶液は、いずれも溶媒成分と
チタン化合物だけからなることを特徴とする請求項1又
は2記載の酸化チタン被膜形成方法。 5、前記基材は透明であり、且つ400℃以上の高温で
耐熱性を有する物質で構成されていることを特徴とする
請求項1から4までのいずれかに記載の酸化チタン被膜
形成方法。6、前記熱処理は、大気中で2〜5分間、5
00〜600℃の温度において行うことを特徴とする請
求項1から5までのいずれかに記載の酸化チタン被膜形
成方法。 7、酸化チタン薄膜と、1種又は2種以上の他の金属酸
化物及び又は金属フッ化物の薄膜からなる、層数が2以
上の多層膜の形成方法において、酸化チタン薄膜は、前
記請求項1から6までのいずれかに記載の酸化チタン被
膜形成方法で形成することを特徴とする酸化チタン薄膜
を含む多層膜の形成方法。 8、前記多層膜は、少なくとも、酸化チタン薄膜とこれ
より屈折率の低い誘電体の薄膜とを交互に重層してなる
光干渉多層膜を備えていることを特徴とする請求項7記
載の酸化チタン薄膜を含む多層膜の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6313588A JPH01239024A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 酸化チタン被膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6313588A JPH01239024A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 酸化チタン被膜形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01239024A true JPH01239024A (ja) | 1989-09-25 |
Family
ID=13220524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6313588A Pending JPH01239024A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 酸化チタン被膜形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01239024A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5403368A (en) * | 1991-11-29 | 1995-04-04 | Central Glass Company, Limited | Metal oxide film having minutely roughed surface and method of forming same on glass substrate |
JP2007084671A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 半導体微粒子分散用バインダー組成物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5654230A (en) * | 1979-10-11 | 1981-05-14 | Teijin Ltd | Preparation of transparent titanium oxide film |
JPS5841724A (ja) * | 1981-09-02 | 1983-03-11 | Nippon Soda Co Ltd | 金属酸化被膜形成組成物 |
-
1988
- 1988-03-18 JP JP6313588A patent/JPH01239024A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5654230A (en) * | 1979-10-11 | 1981-05-14 | Teijin Ltd | Preparation of transparent titanium oxide film |
JPS5841724A (ja) * | 1981-09-02 | 1983-03-11 | Nippon Soda Co Ltd | 金属酸化被膜形成組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5403368A (en) * | 1991-11-29 | 1995-04-04 | Central Glass Company, Limited | Metal oxide film having minutely roughed surface and method of forming same on glass substrate |
JP2007084671A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 半導体微粒子分散用バインダー組成物 |
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