JPH01176516A - 再生可能な成形用型およびその再生方法 - Google Patents

再生可能な成形用型およびその再生方法

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JPH01176516A
JPH01176516A JP33606687A JP33606687A JPH01176516A JP H01176516 A JPH01176516 A JP H01176516A JP 33606687 A JP33606687 A JP 33606687A JP 33606687 A JP33606687 A JP 33606687A JP H01176516 A JPH01176516 A JP H01176516A
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今滝 寛之
Mitsuo Hiraoka
美津穂 平岡
Tetsuya Sato
哲也 佐藤
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  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、情報記録媒体用基板の成形に用いられる再生
可能な成形用型およびその再生方法に関するものである
[従来の技術] 光記録媒体用基板はその情報記録面に案内溝、情報用ピ
ットなどの凹凸か形成されている。このような基板の形
成方法としては、基板か熱可塑性樹脂からなる場合には
インジェクション法や熱プレス法により原盤の案内溝を
転写する方法又は熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂からなる
透明樹脂板上に光硬化性樹脂組成物を塗布した後、原盤
を密着させて透明樹脂板側から輻射線(紫外線、X線等
)を−様に照射して該樹脂組成物を硬化させて型のパタ
ーンを透明樹脂板に転写する所謂22法が知られている
。しかし、インジェクション法や熱プレス法によって得
られる熱可塑性樹脂基板は成形の際の熱履歴による残留
応力や分子の配向により、成形後の基板のそりや光学的
異方性が生したりするため光記録媒体用基板としては問
題がある。また、2P法によって得られる基板は光硬化
後の樹脂内に未反応の重合開始剤や単量体が残留しやす
く、それらか光記録媒体の光記録層に悪影響を及ぼすこ
とかよくある。
これらの問題か生じない光記録媒体用基板の製造方法と
しては注型成形法か知られている。従来の注型成形にお
ける光記録媒体用基板の製造方法はガラス板又は金属板
などの基板の上にあらかじめ決められた案内溝やピット
のプレフォーマットパターンを凹凸状に形成して注型成
形用型とし、スペーサを介して、鏡面型として平滑なガ
ラス板を相対して位置し注型成形の装置とする。この装
置に樹脂のモノマー又は溶剤を含んだプレポリマー等を
流し込み硬化させて光記録媒体用基板を得る。このよう
にして得られる光記録媒体用基板はインジェクション法
、熱プレス法又は2P法に比較して成形時に圧力かほと
んど加わらない為、光学的異方性やそりが発生せず、2
P材のように記録層に悪影響を及ぼさないという特徴を
有する。
[発明か解決しようとする問題点] しかしながら、この注型成形法ではその成形用型の耐久
性か問題となる。即ち、成形用型にいくら離型性か良い
型材を使用していても、始めは優れた離型性を示すか2
0〜50回位成形すると、その型汚れは無視できない量
となり、プレフォーマット信号を損うようになる。
従って、型の洗浄、クリーニングが必須となるか、その
洗浄によっても型を完全に元の状態に戻ることは非常に
難しく、どうしても取りきれないカス等か残ったり、シ
ミ状の汚点か残る。
この様な型の汚れは、キャスティング(転写)基板にも
欠陥として転写され、結果的にはプレフォーマット信号
を損い、情報記録媒体の信頼性を低下させる問題かあっ
た。
本発明は、この様な従来の問題を解決するためになされ
たものてあり、成形用型の汚れを容易に取り除き、型を
再生して使用することがてきる再生可能な成形用型およ
びその再生方法を提供することを目的とするものである
[問題点を解決するための手段] 即ち、本発明の第一の発明は、表面に凹凸プリフォーマ
ットパターンを有する成形用型の型表面に剥離可能なク
リーニング層を設けてなることを特徴とする再生可能な
成形用型である。
また、第二の発明は、表面に凹凸プリフォーマットパタ
ーンを有する成形用型の型表面に剥離可能なクリーニン
グ層を設け、該成形用型を用いて凹凸プリフォーマット
を有する情報記録媒体用基板を成形する方法において、
成形工程て成形用型の型表面に設けられたクリーニング
層に付着した残留物をクリーニング層と共に除去するこ
とを特徴とする成形用型の再生方法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明は、凹凸状に形成されたプリフォーマットパター
ンを有する成形用型の型表面の上に剥離可能なクリーニ
ング層を設けることにより、成形工程て生成した残留物
か付着して型が汚れた時、このクリーニング層と共に残
留物を除去する事により、容易に型表面の再生かてき、
型の耐久性を保持することを可能とするものである。
第1図および第2図は各々本発明の再生可能な成形用型
の実施態様を示す説明図である。第1図は型材を直接エ
ツチングして凹凸パターンを形成した成形用型1の上に
クリーニング層4が設けられた例を示す。
第2図は基板2の上にクロム等の金属膜をパターンエッ
チンクしてパターン3を形成した成形用型1′の上にク
リーニング層4が設けられた例を示す。
クリーニング層としては、成形用型の型表面に密着性か
良く、型の形状によく適合して被覆するもので、かつ型
の再生時に容易に除去できるものが好ましい。その例を
示すと、クロム、アルミニウム、チタン、コバルト等の
金属膜、Sin、 5in2゜Aj’203. ZrL
等の誘電体膜、アクリル系、オレフィン系、エポキシ系
等の有機薄膜等が好ましいか、必ずしもこれ等に限定さ
れるものではない。
これ等のクリーニング層は酸、塩基、溶剤などのエッチ
ャントによって容易に除去することができる。勿論、こ
の時、成形用型材とクリーニング層とを適宜選択して使
用することが望ましい。また、クリーニング層の膜厚は
材質により異なるが、通常10沖1以下、好ましくは0
.3〜5)zmが望ましい。
成形用型の型表面にクリーニング層を設ける方法は、蒸
着、スパッタ、プラズマ重合等の低圧での成膜法、ディ
ッピング、ロールコート等の塗布方法等により行なうこ
とかできる。
成形用型としては、ガラスやクロム等のバルク表面を直
接エツチングして凹凸を設けたものや、基板の上にクロ
ム、TiN等の薄膜を設け、これに凹凸パターンを形成
する等の方法により作成したものを用いることがてきる
本発明においては、成形用型の型表面とクリーニング層
の間に保護層を設けることかできる。第3図は、第2図
と同様な成形用型1′の上に保護層5を介してクリーニ
ング層4を設けた例を示す。保護層5を設けることによ
り、クリーニング層を除去する時のエッチャントから型
材を保護することができる。
保護層としては、Sin、 5i02. Aj’z(h
等の酸化物、Si3N、、 TiN、 AffN等の窒
化物、ZrC,SiC。
TiC等の炭化物等を用いることがてきる。
本発明においては、クリーニング層に付着した残留物を
成形用型からクリーニング層と共に除去した後、成形用
型の型表面に新しいクリーニング層を再び形成すること
かできる。
[作用] 本発明の再生可能な成形用型は、表面に凹凸プリフォー
マットパターンを有する成形用型の型表面に剥離可能な
クリーニング層を設けてなるので、情報記録媒体用基板
の成形方法における成形工程で成形用型の型表面に付着
した残留物をクリーニング層を除去することにより、該
クリーニング層と共に残留物を除去することかできる。
[実施例コ 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1 超硬金属基板上にTiNを厚さIgmにスパッターし、
これをドライエツチングしてコンプレッション用型を成
型した。この上にクロムを500人厚に蒸着しクリーニ
ング層を形成した。
この型を使ってアクリル基板のコンプレッション成形を
行い、型に汚れが見え始めた180回て成形を止め型の
再生を行った。
再生はクロムのエツチング液(硝酸セリウム第二アンモ
ニウム 過塩素酸・水=17; 5 : 20)を使用
し、クリーニング層のクロムを除去することにより、ク
リーニング層上の汚れも一緒に取り除くことかできた。
比較例1 実施例1と同様の型でクリーニング層を設けない型を用
いた場合に付着した汚れについてその洗浄法を検討した
実施例1と同様にコンプレッション成形を行ない、型に
生した汚れを除去した。型の洗浄としては、■プラズマ
アッシャー法、■カーボン除去剤の浸漬等の方法を行な
ったが、どうしても取れない粒状の汚れが残り、またシ
ミの様な汚れはどうしても取れず、成形の回数を増すこ
とによりその汚れか核となり型の汚れの周期か短くなり
、結果的に型寿命は2000回弱となってしまった。
これに対し、実施例1の場合、型の再生の後、再びクリ
ーニング層を設けることにより、(成形→再生→クリー
ニング層の設置)のサイクルで5000回以上の型寿命
を得ることがてきた。
実施例2 ガラス板(厚さ2.3m/m)の上にクロムを厚さ30
00人に蒸着し、これをフォトリソ工程によってバター
ニングしキヤステンク型を作製した。この型に保護層と
して厚さ2000〜3000人のSin膜を蒸着し、こ
の上にクリーニング層としてクロムを500人の厚さに
蒸着した。この型てPMMAのキヤステング成形を行い
、汚れの目立つ40回ごとに再生を行った。再生は実施
例1と同じクロムのエツチング液で行った。
(クリーニング層の設置→成形→再生)のサイクルを繰
りかえすことにより型寿命は1000回以上を得ること
ができた。
比較例2 クリーニング層を設けない以外は実施例2と同じ型を使
用し、実施例2と同様の方法てキャステング成形を行な
ったところ、型寿命は〜500回位であった。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、コンプレッショ
ンやキヤステング成形時に使用する成形用型の上に、剥
離可能なりリーニンク層を設け、成形用型か汚染した際
にクリーニング層ごと剥離して型を再生することにより
、 ■型の再生が容易である ■型の維持か容易で耐久性を上げることができる■型か
いつも同し状態で維持できるのて信頼性の高い基板を提
供できる 等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は各々本発明の再生可能な成形用型の実
施態様を示す説明図である。 l、1′・・・成形用型  2・・・基板3・・・パタ
ーン     4・・・クリーニング層5・・・保護層

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)表面に凹凸プリフォーマットパターンを有する成
    形用型の型表面に剥離可能なクリーニング層を設けてな
    ることを特徴とする再生可能な成形用型。
  2. (2)表面に凹凸プリフォーマットパターンを有する成
    形用型の型表面に剥離可能なクリーニング層を設け、該
    成形用型を用いて凹凸プリフオーマットを有する情報記
    録媒体用基板を成形する方法において、成形工程で成形
    用型の型表面に設けられたクリーニング層に付着した残
    留物をクリーニング層と共に除去することを特徴とする
    成形用型の再生方法。
  3. (3)クリーニング層を除去した後、再びクリーニング
    層を型表面に形成する特許請求の範囲第2項記載の成形
    用型の再生方法。
JP33606687A 1987-12-28 1987-12-29 再生可能な成形用型およびその再生方法 Expired - Fee Related JPH07312B2 (ja)

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US07/288,456 US4876042A (en) 1987-12-28 1988-12-22 Molding processing using a reproducible molding die
DE3844011A DE3844011C2 (de) 1987-12-28 1988-12-27 Verfahren zur Reinigung der Formfläche eines Formwerkzeugs
US08/274,357 US5489082A (en) 1987-12-28 1994-07-13 Reproducible molding die having a removable cleaning layer

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010286632A (ja) * 2009-06-11 2010-12-24 Asahi Glass Co Ltd フォトマスクブランクスの洗浄方法
JP2011213005A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Konica Minolta Opto Inc 成形金型、成形金型の再生方法、及び樹脂製品の製造方法

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JP2010286632A (ja) * 2009-06-11 2010-12-24 Asahi Glass Co Ltd フォトマスクブランクスの洗浄方法
JP2011213005A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Konica Minolta Opto Inc 成形金型、成形金型の再生方法、及び樹脂製品の製造方法

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