DE3844011C2 - Verfahren zur Reinigung der Formfläche eines Formwerkzeugs - Google Patents
Verfahren zur Reinigung der Formfläche eines FormwerkzeugsInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Reinigen
der Formfläche eines Formwerkzeugs gemäß Oberbegriff des
Patentanspruchs 1.
Aus der DE-AS 13 01 462 und der CH-PS 41 70 45 sind
Formwerkzeuge für die Serienfertigung von
Kunststoffgegenständen bekannt, wobei die Formfläche der
Formwerkzeuge eine unebene Oberflächenstruktur haben. Da
die Formflächen mit einem dünnen Metallüberzug versehen
sind, ist die Haltbarkeit und die Standzeit der
Formwerkzeuge nicht problematisch. Die Formwerkzeuge
werden aber in einem nicht vernachlässigbaren Ausmaß
verschmutzt, wenn der Formvorgang etwa 20-50 Male
wiederholt wird, so daß die Oberflächenstruktur
beeinträchtigt wird. Dies macht sich besonders
nachteilhaft bemerkbar, wenn, wie hier,
Informationsträger mit einer sehr feinen
Oberflächenstruktur hergestellt werden sollen.
Es ist demzufolge notwendig, das Formwerzeug zu waschen
oder zu reinigen. Es ist jedoch äußerst schwierig, die
Form in ihren Ausgangszustand vollständig zurückzuführen,
weshalb nicht entfernbare Rückstände oder Verschmutzungen
in Form von Flecken oder Klecksen auf der Formfläche
verbleiben.
Eine derartige Verschmutzung des Formwerkzeugs überträgt
sich auch als Fehler auf das geformte Produkt. Damit wird
die Zuverlässigkeit des herzustellenden Informationsträgers
schlechter.
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren gemäß
Oberbegriff des Patentanspruchs 1 zu schaffen, bei dem
die Reinigung und Ausbesserung der Oberflächenstruktur
der Formfläche eines Formwerkzeuges mit einfachen Mitteln
möglich wird, um damit eine sehr lange Standzeit des
Formwerkzeugs zu erreichen.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale im kennzeichnenden
Teil des Patentanspruchs 1 gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich
aus den Unteransprüchen, wobei Formwerkzeuge mit einer
Formfläche aus Glas aus der DE 27 47 797 A1 bekannt sind.
Die Erfindung wird anhand von Ausführungsformen näher
beschrieben, wobei auf die Zeichnungen Bezug genommen
wird. Es zeigt
Fig. 1, 2 und 4 schematische Längsschnitte von jeweils
einer Ausführungsform des Formwerkzeugs;
Fig. 3A-3D schematische Darstellungen zur Erläuterung
eines Vorgangs zur Herstellung des Formwerkzeugs;
Fig. 5 eine schematische Draufsicht, auf die Oberflächenstruktur
eines geformten Produkts, das
mit dem herkömmlichen Formwerkzeug erzeugt
wurde und Fehler zeigt;
Fig. 6 einen schematischen Längsschnitt des in Fig. 5
gezeigten Produkts längs der Linie A-A′.
Die Fig. 1 zeigt ein Formwerkzeug 1, wobei eine äußere
Schutzschicht 4 an einem Basis-Formwerkzeug 6 angeordnet
ist, an dem eine unebene Oberflächenstruktur durch
unmittelbares Ätzen ausgebildet worden ist.
Die Fig. 2 zeigt eine Ausführungsform des Formwerkzeugs
1, wobei eine Schutzschicht 4 an einem Basis-Formwerkzeug
6, das einen Grundkörper 2 und eine Oberflächenstruktur 3
aufweist, angeordnet ist. Bei dieser Ausführungsform wird
die Oberflächenstruktur 3 durch Anordnen eines
Metallfilms aus Chrom und anschließendes Ätzen des
entstandenen Metallfilms gebildet.
Erfindungsgemäß kann die Schutzschicht 4 entfernt werden,
während die unebene Struktur des Basis-Formwerkzeugs 6
erhalten bleibt. Im einzelnen wird, wenn die
Schutzschicht vom Formwerkzeug beispielsweise durch Ätzen
vollständig entfernt wird und diese eine Dicke von z. B.
3000 Å hat, die Struktur an der Oberfläche des Basis-Formwerkzeugs
6 (oder einer inneren Schutzschicht 5,
worauf noch eingegangen werden wird) im wesentlichen
nicht beeinträchtigt oder erodiert, selbst wenn die
Oberfläche des Basis-Formwerkzeugs 6 durch ein optisches
Mikroskop (Vergrößerung: 400) betrachtet wird.
Wenn beispielsweise eine Cr-Putzschicht 4 mit einer
Dicke von 3000 Å vom Formwerkzeug durch Eintauchen für 90 s
in eine Ätzflüssigkeit völlig entfernt wird, so wird
die Oberflächenstruktur des Basis-Formwerkzeugs 6 im
wesentlichen nicht erodiert, selbst wenn die Oberfläche
des Formwerkzeugs 6 durch ein optisches Mikroskop
(Vergrößerung: 400) betrachtet wird.
Die Schutzschicht 4 soll eine gute Haftung zur Formfläche
des Basis-Formwerkzeugs 6 aufweisen und die Formfläche
zuverlässig abdecken, d. h. sie soll imstande sein, die
unebene Oberflächenstruktur des Basis-Formwerkzeugs 6
beizubehalten, und ohne Schwierigkeiten zum Zeitpunkt der
Wiederaufbereitung des Formwerkzeugs 1 entfernbar zu
sein. Spezielle Beispiele für eine solche Schutzschicht
sind Metallfilme aus z.B. Chrom, Aluminium, Titan und
Kobalt, Filme aus einem dielektrischen Material
einschließlich anorganischen Oxiden, wie SiO, SiO2, Al2O3
und ZrO2, eine Dünnschicht aus einem organischen
Material, wie Akrylharze, Olefin- und Epoxydharze.
Die Schutzschicht 4 hat eine Dicke von gewöhnlich 10 µm
oder darunter, in bevorzugter Weise 0,3-5 µm, was in
gewissem Maß von dem dafür vorgesehenen Material abhängt.
Um die Putzschicht 4 auf dem Basis-Formwerkzeug 6
auszubilden, können Dampfabscheidungsverfahren, wie eine
Vakuum-Verdampfung, eine Zerstäubung und eine Plasma-Polymerisation,
zur Anwendung kommen. Ferner können
Verfahren, wie Sprühen, Tauchen, Walzen-
und Schleuderbeschichtung in Betracht kommen. Unter
diesen wird das Vakuumverdampfungs- oder
Zerstäubungsverfahren besonders bevorzugt, weil die
resultierende Schutzschicht ein gutes Anpassungsvermögen
an die unebene Oberflächenstruktur hat.
Das Basis-Formwerkzeug 6 kann durch ein unmittelbares
Ätzen der Oberfläche aus Glas oder Chrom hergestellt
werden. Es kann auch durch Ausbilden einer Dünnschicht
aus Cr, TiN auf einem Grundkörper und anschließendes
Ausbilden der unebenen Struktur erlangt
werden, wobei das letztgenannte Basis-Formkwerkzeug vor
allem für die Ausbildung einer winzigen unebenen Struktur
für Informationsträger geeignet ist, weil dieses Basis-Formwerkzeug
bezüglich der Genauigkeit der Struktur und
der Gleichförmigkeit ausgezeichnete Eigenschaften zeigt.
Mit Schutzschicht 4 an einem solchen Basis-Formwerkzeug
6, werden keine Fehlstellen 9 und 10, wie in
den Fig.5 oder 6 gezeigt, von der unebenen
Oberflächenstruktur auf das geformte Produkt übertragen.
Im folgenden wird ein Beispiel für das Verfahren zur
Herstellung des oben genannten Formwerkzeugs mit Bezug
auf die Fig. 3A-3D beschrieben.
Wie die Fig. 3A und 3B zeigen, wird zuerst auf einem
Grundkörper 2 eine Dünnschicht für die Ausgestaltung
einer Oberflächenstruktur 3 ausgebildet. Als Material für
den Grundkörper 2 kann ein solches verwendet werden, das
eine der geforderten Standzeit für ein Gieß-Formwerkzeug
entsprechende Festigkeit hat. Spezielle Beispiele eines
solchen Materials umfassen Glas, superharte Legierungen
oder Stahl. Es sei bemerkt, daß der Grundkörper 2 vor der
Weiterverwendung Spiegelpolieren und Waschen
unterworfen wird.
Das Material für die Dünnschicht unterscheidet sich vom
Material des Grundkörpers 2.
Spezielle Beispiele für das Material der Dünnschicht
umfassen Chrom, Legierungen aus Gold und Chrom, SiO,
SiO2. Ferner wird mit Bezug auf die Kombination des
Grundkörpers 2 und der Dünnschicht bevorzugt, eine
anorganische dielektrische Substanz für den Grundkörper 2
und ein Metall für die Dünnschicht 3 zu verwenden. Es wird
besonders bevorzugt, Glas für den Grundkörper 2 und Chrom
für die Dünnschicht anzuwenden.
Anschließend wird auf der oberen Fläche der Dünnschicht
eine dünne Schicht eines (nicht gezeigten) Photolacks
aufgetragen, auf diese Photolackschicht eine Maske
aufgelegt und das Ganze belichtet. Die Photolackschicht
wird dann entwickelt, um den belichteten Teil des
Photolacks zu entfernen. Dabei wird ein üblicher
Photolack verwendet, der durch ein
Schleuderbeschichtungsverfahren aufgetragen wird. Die
Photolackschicht sollte eine Dicke von 500-1500 Å
haben. Ist die Dicke geringer als 500 Å, so ist es
schwierig, eine Deckschicht von gleichförmiger Dicke
durch das Schleuderverfahren zu bilden, und es besteht
die Neigung, daß ein Fehler in der Deckschicht, wie ein
Nadelloch, auftritt.
Nach dem Entwickeln wird die auf dem Grundkörper 2
angeordnete Dünnschicht einem Ätzen unterworfen. In
diesem Schritt wird die gesamte Dicke der Dünnschicht
weggeätzt, um den vorbestimmten Teil der Oberfläche des
Grundkörpers 2 völlig freizulegen. Dann wird Rest-Photolack
entfernt, um ein Basis-Formwerkzeug 6 zu
erhalten, an dem die Oberflächen-Struktur 3 ausgebildet
worden ist, wie in Fig. 3C gezeigt ist.
Hierauf wird auf der Oberflächen-Struktur 3 des Basis-Formwerkzeugs
6 unter Verwendung des oben erwähnten
Materials und Verfahrens eine Schutzschicht 4
ausgebildet, wie in Fig. 3D gezeigt ist.
Mit dem Formwerkzeug sollen insbesondere
Informationsträger hergestellt werden. Dabei soll eine
spiralförmige Führungsrille eine Breite von 0,2-3,0 µm
haben, wobei 0,5-2 µm und vor allem etwa 0,6 µm
bevorzugt werden.
Des weiteren sollen auch winzige Informationsrillen oder
-spuren herstellbar sein, die jeweils die Form eines
Rechtecks mit einer Länge von 10 µm oder darunter und
einer Breite von 10 µm oder darunter haben.
Gemäß der Erfindung ist es möglich, eine innere
Schutzschicht 5 zwischen der Formfläche des Basis-Formwerkzeugs
6 und der Schutzschicht 4 anzuordnen, wie
in Fig. 4 gezeigt ist, wobei eine innere Schutzschicht 5
auf einem Basisformwerkzeug 6, das dem in Fig. 2
gezeigten gleich ist, und eine äußere Schutzschicht 4 auf
der innere Schutzschicht 5 ausgebildet sind. Wenn eine
solche Schutzschicht 5 vorgesehen wird, so kann
das Material des Formwerkzeugs völlig gegenüber einem
Ätzmittel geschützt werden, welches zum Entfernen der
äußeren Schutzschicht 4 verwendet wird.
Die innere Schutzschicht 5 soll durch Ätzmittel nicht entfernt
werden. Als spezielle Beispiele eines Materials hierfür werden
anorganische Oxide, wie SiO, SiO2 und Al2O3, anorganischer
Nitride, wie Si3N4, TiN und AlN, Karbide, wie ZrC, SiC und TiC
und organische Zusammensetzungen genannt.
Zur Ausbildung der inneren Schutzschicht 5 können
Aufdampfverfahren, wie eine Vakuumverdampfung, ein Zerstäuben
und eine Plasma-Polymerisation, verwendet werden. Darüber hinaus
kommen eine Walzen- und Schleuderbeschichtung zum
Aufbringen in Betracht. Unter diesen Verfahren werden
insbesondere das Vakuum-Bedampfungsverfahren, wie die Vakuum-Verdampfung,
das Zerstäubungs- oder das Plasma-Polymerisationsverfahren
bevorzugt, weil die resultierende
innere Schutzschicht 5 ein gutes Anpassungsvermögen an das
Formwerkzeug in gleicher Weise wie im Fall der äußeren
Schutzschicht 4 hat.
Es ist zu bemerken, daß das erfindungsgemäße Formwerkzeug
nicht nur bei einem Gießverfahren, sondern auch bei einem
Preßform- und einem Spritzformverfahren angewendet werden
kann.
Um das Formwerkzeug 1 mit der äußeren Schutzschicht 4
wiederaufzubereiten oder wiederzugewinnen, kann die an der
Formfläche des Formwerkzeugs 1 befindliche Schutzschicht 4
ohne Schwierigkeiten durch ein Ätzmittel, wie eine Säure, eine
Lauge oder ein Lösungsmittel, entfernt werden. Bevorzugte
Beispiele für ein Ätzmittel sind: eine Cernitrat,
Perchlorsäure und Wasser (z.B. 17 : 5 : 20) enthaltende Lösung;
eine Kaliumhexazyanoferrat, Kaliumhydroxid und Wasser (z.B.
3 : 2 : 8) im Fall einer Putzschicht aus Cr enthaltende Lösung;
eine Fluorwasserstoffsäure und Ammoniumfluorid (z.B. 1 : 7) im
Fall einer Schutzschicht aus SiO enthaltende Lösung.
Das Material für die Schutzschicht ist so zu wählen, daß die
unter der Schutzschicht 4 angeordnete Formfläche nicht
zusammen mit der Schutzschicht durch das Ätzen verändert wird.
Wenn Glas als das Formmaterial verwendet wird, dann kann die
Schutzschicht 4 eine Dünnschicht aus einem Metall, wie Al, Cr,
Ti und Co, oder eine organische Dünnschicht sein.
Wenn die Oberflächen-Struktur auf einem Glasgrundkörper unter
Verwendung von Chrom gebildet wird, so wird die oben erwähnte
Schutzschicht aus SiO, SiO₂ oder Al₂O₃, oder aus einen
anorganischen Nitrid, wie Si₃N₄, und TiN gebildet.
Im folgenden wird die Erfindung unter Bezugnahme auf Beispiele
noch mehr verdeutlicht.
Eine TiN-Schicht mit einer Dicke von 1 µm wurde auf einem Grundkörper
(15 cm × 15 cm) aus Hartmetall
durch Aufsprühen ausgebildet, worauf das erzeugte
Produkt einem trockenen Ätzen unterworfen wurde, um ein
Basis-Formwerkzeug für einen Preßformvorgang herzustellen,
das zum Formen eines Informationsträgers
verwendet werden soll.
Die Bedingungen für das trockene Ätzen:
Vorrichtung: Reaktive Ionenstrahl-Ätzvorrichtung
Ätzgas: CF₄
Größe des Vakuums: 7 Pa
HF-Entladeleistung: 150 W
Ätzgas: CF₄
Größe des Vakuums: 7 Pa
HF-Entladeleistung: 150 W
Auf dem auf diese Weise erzeugten Basis-Formwerkzeug wur
de eine Chromschicht mit einer Dicke von 500 Å als eine
Schutzschicht durch eine Vakuumverdampfung ausgebildet, um
eine Preßform zu erhalten. Durch Wiederholen des oben er
wähnten Vorgangs wurden 100 Platten des Preßformwerkzeugs
hergestellt.
Unter Verwendung der auf diese Weise erhaltenen Preßform
wurde ein Akrylharz
einer maximalen Temperatur von 140°C und einem
maximalen Druck von 981 N/cm2 ausgesetzt, um
einen Informationsträger mit einem Durchmesser von 13 cm
und mit einer spiralförmigen Nachlaufrille (Breite dieser
Rille: 0,6 µm, Teilung: 1,6 µm) zu erhalten. Nachdem die
ser Formvorgang 180 Male wiederholt wurde, begann die Form zu
verschmutzen, worauf der Formvorgang unterbrochen
wurde.
Die Form wurde dann einem Wiederaufbereitungsvorgang un
terworfen. Hierbei wurde das Chrom der Schutzschicht durch
Ätzen unter Verwendung einer Ätzflüssigkeit für Chrom
(Ammoniumcer(IV)-Nitrat: Perchlorsäure: Wasser = 17 : 5 : 20)
bei Raumtemperatur über 15 s entfernt, wobei die an der
Schutzschicht befindliche Verschmutzung zusammen mit dieser
beseitigt wurde. Als Ergebnis dessen wurde das Formwerk
zeug wiederhergestellt.
Anschließend wurde auf der Oberflächen-Struktur des Werkzeugs
in der oben beschriebenen Weise erneut eine Schutzschicht
aufgebracht. Hierauf wurde das dadurch wiederhergestellte
Werkzeug erneut dem oben beschriebenen Formvorgang unter
worfen, wobei die unebene Struktur des Formwerkzeugs prä
zis auf das Akrylharz übertragen werden konn
te.
Das oben erwähnte Werkzeug konnte wiederholt durch den
oben genannten Zyklus (Formvorgang - Wiederherstellung des
Werkzeugs - Aufbringen der Schutzschicht) verwendet werden.
Als Ergebnis wurde eine Lebensdauer des Werkzeugs von
5000 Malen (Anzahl der Pressungen) oder darüber erlangt.
Es wurde ein Formwerkzeug in der gleichen Weise wie bei
Beispiel 1 mit der Ausnahme gefertigt, daß eine Schutz
schicht nicht ausgebildet wurde. Das Waschverfahren des
auf diese Weise gefertigten Werkzeugs wurde in der folgen
den Weise mit Bezug auf eine daran haftende Verschmutzung
untersucht.
Im einzelnen wurde das oben erwähnte Werkzeug einem Preß
formvorgang in der gleichen Weise wie bei Beispiel 1 un
terworfen, und es war beabsichtigt, die resultierende, an
dem Werkzeug haftende Verschmutzung a) durch Verwendung
eines Plasma-Ascher-Verfahrens, b) durch sein Eintauchen
in ein Kohlenstoff-Entferneragens
zu entfernen. Jedoch verblieb
eine nicht entfernbare partikelförmige Verschmutzung
selbst nach dem Waschen, und eine fleck- oder rostartige
Verschmutzung konnte mit keinerlei Mitteln entfernt wer
den. Mit einer Erhöhung der Anzahl der Wiederholung der
Formvorgänge wurde das dem Auftreten der Verschmutzung
entsprechende Intervall verkürzt, weil die oben erwähnte
nicht entfernbare Verschmutzung wie ein Keim gewirkt hat.
Ferner erhöhte sich die Anzahl der Informationsträger, bei denen
auf Grund der oben erwähnten Formverschmutzung Übertra
gungsfehler auftraten. Als Ergebnis ist festzuhalten, daß
die Lebensdauer des Formwerkzeugs unterhalb von 2000 Malen
(Pressungen) lag.
Die gemäß dem Beispiel 1 und dem Vergleichsbeispiel 1 er
haltenen Formwerkzeuge und die unter Verwendung dieser
Formwerkzeuge in jeweiligen Formvorgängen erhaltenen Informationsträger
wurden mit dem
Auge und einem optischen Mikroskop (Vergrößerung: 400) ge
prüft, um die Wahrscheinlichkeit eines Auftretens von
Schäden, wie z.B. einer Fehlstelle, maßlich zu erfassen.
Die erhaltenen Ergebnisse sind in der Tabelle 1 angegeben.
Tabelle 1 zeigt die
Wahrscheinlichkeiten des Auftretens eines Schadens an
Informationsträgern in Abhängigkeit von dem mit dem
durchgeführten Pressungen.
Auf einer Glasplatte (13 cm × 13 cm) mit einer Dicke von
2,3 mm wurde eine Chromschicht mit einer Dicke von 3000 Å
durch Vakuumbedampfung ausgebildet, worauf das entstande
ne Produkt
einem photolithographischem Verfahren unter Verwendung
eines Photolacks
unterworfen wurde, um ein Basis-Formwerkzeug für ei
ne Gießform zum Herstellen einer opti
schen Karte zu erhalten. Dann wurde auf der auf diese Wei
se erhaltenen Form ein SiO-Film mit einer Dicke von 2000-
3000 Å durch Vakuumverdampfung als eine innere Schutzschicht aus
gebildet, worauf auf dieser durch Vakuumverdampfung dann
eine Chromschicht mit einer Dicke von 500 Å als eine äußere Schutz
schicht ausgebildet wurde. Es wurden 100 Karten mit einer Gieß
form hergestellt.
Gegenüber der auf diese Weise erlangten Gießform wurde
mittels eines Abstandshalters (Dicke 0,4 mm) eine Glas
platte mit 3 mm Dicke und mit einer Spiegelfläche, welche
die gleiche Größe wie das oben erwähnte Werkzeug hatte,
angeordnet, um ein Formwerkzeug zu er
halten. In dieses Formwerkzeug wurde die folgende Harzzu
sammensetzung gegossen, bei 100°C für 10 h gehärtet und
dann aus der Form entnommen.
Harzzusammensetzung | |
Methylmethacrylat | |
70 Gew.-Teile | |
Tertiäres Butylmethacrylat | 25 Gew.-Teile |
Polyäthylenglykoldimethacrylat (relative Molekülmasse: 620) | 5 Gew.-Teile |
Als Ergebnis wurde eine optische Karte
mit einer Größe von 54 mm × 84 mm und einer unebenen
Struktur erhalten. Diese unebene Oberflächen-Struktur hatte eine
Nachlaufrille von 0,3 µm Breite, eine Spurteilung von
12 µm und eine Tiefe von 3000 Å.
Der oben erwähnte Formzyklus wurde wiederholt, wobei
die Form mit Intervallen von 40 Formzyklen, die eine
merkliche Verschmutzung hervorriefen, wiederaufberei
tet wurde. Die Wiederaufbereitung wurde unter Verwen
dung der gleichen Ätzflüssigkeit für Chrom wie im Bei
spiel 1 ausgeführt.
Das oben erwähnte Werkzeug konnte wiederholt verwendet
werden, indem es dem Zyklus (Anordnen einer Schutzschicht-
Formvorgang-Aufbereitung des Werkzeugs) unterworfen wurde.
Als Ergebnis wurde eine Lebensdauer des Werkzeugs von 1000 Gießvorgängen
oder mehr erhalten.
Ein Gießwerkzeug wurde in der gleichen Weise wie im Bei
spiel 2 mit der Ausnahme, daß eine Schutzschicht nicht aus
gebildet wurde, hergestellt. Das auf diese Weise erzeugte
Werkzeug wurde einem Gießformvorgang in der gleichen Wei
se wie im Beispiel 2 unterworfen, wobei das Werkzeug in
derselben Weise wie im Vergleichsbeispiel 1 (d.h. durch
ein Plasma-Ascher-Verfahren und Eintauchen in den Kohlen
stoffentferner) mit Intervallen von 40 Formzyklen, die ei
ne bemerkbare Verschmutzung hervorriefen, gewaschen wurde.
Jedoch wurden die Verschmutzungen nicht vollständig be
seitigt, und die Lebensdauer der Form betrug etwa 500
Formzyklen.
Die nach Beispiel 2 und Vergleichsbeispiel 2 erhaltenen
Formwerkzeuge und die unter Verwendung dieser Formwerk
zeuge in einem Formvorgang erlangten Infor
mationsträger wurden mit dem Auge und einem
optischen Mikroskop geprüft, um die Wahrscheinlichkeit
des Auftretens von Schäden, wie Fehlstellen, maßlich zu
erfassen. Die dabei erhaltenen Ergebnisse sind in der am
Ende der Beschreibung angefügten Tabelle 3 aufgetragen.
In der Tabelle 3 wird
die Wahrscheinlichkeit des Auftretens eines Schadens angegeben.
Ein Chromfilm mit einer Dicke von 1000-3000 Å wurde auf
einem Grundkörper aus einer Glasplatte mit 6 mm Dicke und mit
einer Spiegelfläche durch Vakuumverdampfung gebildet. Die
Dicke wurde im Hinblick auf die konkave Tiefe in einer vor
bestimmten unebenen Struktur und das Schrumpfverhältnis
in einem zu härtenden Harz festgelegt.
Der Chromfilm wurde dann einer Strukturausbildung mittels
eines photolithographischen Vorgangs unterworfen, um ein
Basis-Formwerkzeug für eine Gießform zu erhalten. Dann wur
de auf der uneben strukturierten Oberfläche des Basis-Form
werkzeugs ein Cr-Film mit einer Dicke von 1000 Å als eine innere
Schutzschicht durch Vakuumverdampfung ausgestaltet, worauf
eine gleichförmige SiO-Schicht mit einer Dicke von 2500 Å
als eine äußere Schutzschicht auf der inneren Schutzschicht durch Vakuumver
dampfung ausgebildet wurde. Es wurden 100 Platten durch das Gieß
werkzeug gefertigt.
Gegenüber dem auf diese Weise erhaltenen Gießwerkzeug wur
de eine Glasplatte von 3 mm Dicke mit einer Spiegelfläche
und mit der gleichen Größe wie das oben erwähnte Werkzeug
mittels eines Abstandshalters angeordnet, um eine Formvor
richtung für ein Gießen zu erlangen. In diese Form wurde
ein Vorpolymer für ein Akrylharz, dem ein Polymerisations
beschleuniger zugefügt worden war, gegossen, bei 100°C für
10 h gehärtet und dann aus der Form entnommen. Als Ergeb
nis wurde ein Gießwerkzeug für eine optischen Karte mit einer
Größe von 54 mm × 84 mm und mit einer unebenen Struktur,
die eine Nachlaufrille mit einer Breite von 3 µm, eine
Spurteilung von 12 µm und eine Tiefe von 3000 Å hatte, er
langt.
Der oben erwähnte Formzyklus wurde wiederholt, wobei das
Werkzeug durch Entfernen der Schutzschicht in Intervallen
von 40 Formzyklen, die eine merkbare Verschmutzung her
vorriefen, wiederhergestellt wurde. Die Wiederherstellung
wurde unter Verwendung einer Ätzflüssigkeit für SiO
(Fluorwasserstoffsäure : Ammoniumfluorid = 1 : 7) bei Raum
temperatur für 2,5 min durchgeführt, um die Verschmutzun
gen am Werkzeug zu entfernen.
Dann wurde erneut eine unebene Struktur mit einer SiO-
Schicht von 2500 Å Dicke ausgebildet, um das Gießform
werkzeug wiederherzustellen, das dem oben erwähnten Form
vorgang unterworfen wurde. Als Ergebnis zeigte sich eine
Lebensdauer des Werkzeugs von 1000 Zyklen durch Wiederho
lung des oben erwähnten zyklischen Vorgangs.
100 Platten von Gießformwerkzeugen wurden in der gleichen
Weise wie zum Beispiel 3 mit der Ausnahme hergestellt,
daß eine Schutzschicht 5 und eine Schutzschicht 4 an der
Oberfläche des Basis-Formwerkzeugs, das im Beispiel 3
verwendet wurde, ausgebildet wurden, um jeweilige Schich
ten, die ein Material enthielten sowie eine Dicke hatten,
wie in der folgenden Tabelle 2 dargestellt ist, zu ferti
gen.
Unter Verwendung des auf diese Weise hergestellten Werk
zeugs wurde eine optische Karte mit einer
unebenen Struktur in der gleichen Weise wie im Beispiel 3
gebildet.
Das Werkzeug von Beispiel 4 wurde in der gleichen Weise
wie im Beispiel 3 wiederaufbereitet, während das Werkzeug
von Beispiel 5 in derselben Weise wie im Beispiel 5 wie
deraufbereitet wurde. Bei beiden Beispielen war die Lebens
dauer des Gießwerkzeugs 1000 Zyklen oder mehr.
100 Platten eines Gießformwerkzeugs wurden in der gleichen
Weise wie im Beispiel 3 mit der Ausnahme, daß eine Schutz
schicht 5 und eine Schutzschicht 4 nicht ausgebildet wurden,
hergestellt.
Unter Verwendung des so gefertigten Werkzeugs wurde ein
Gießformen in derselben Weise wie im Beispiel 3 durchge
führt, wobei das Werkzeug in Intervallen von 40 Zyklen
gewaschen wurde. Jedoch wurde die am Werkzeug haftende
Verschmutzung nicht vollständig entfernt, sondern daran
angehäuft, und es trat auch ein Abschälen usw. der unebe
nen Struktur auf. Das Ergebnis war, daß die Lebensdauer
des Werkzeugs unter 240 Zyklen lag.
Die in den Beispielen 4 sowie 5 und im Vergleichsbeispiel
3 erhaltenen Formwerkzeuge und die jeweils unter Verwen
dung dieser Formwerkzeuge, die wiederhergestellt oder ge
waschen wurden, erhaltenen Substrate für ein Informations
aufzeichnungsmedium wurden mit dem Auge und einem opti
schen Mikroskop geprüft, um die Wahrscheinlichkeit des Auf
tretens von Schäden, wie Fehlstellen, maßlich zu erfassen.
Die dabei erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Ta
belle 3 dargestellt.
Jeder in der Tabelle 3 gezeigte Wert ist ein Mittelwert
der Wahrscheinlichkeiten des Auftretens eines Schadens mit
Bezug zu den jeweiligen Substraten, die von 100 Platten
des Werkzeugs erhalten wurden.
Die Wahrscheinlichkeit des Auftretens eines Schadens in
der Tabelle 3 ist die gleiche wie diejenige in der zuvor
angegebenen Tabelle 1.
Claims (8)
1. Verfahren zum Reinigen der Formfläche eines Formwerkzeugs
(1) für die Serienfertigung von Kunststoffgegenständen,
wobei die Formfläche eine unebene Oberflächenstruktur
(3) hat,
dadurch gekennzeichnet, daß
auf die Oberflächenstruktur (3) der Formfläche eine die
Struktur erhaltende äußere Schutzschicht (4) aufgebracht
wird und daß diese Schicht (4) bei Verschmutzen durch Formrückstände
zusammen mit den Formrückständen von der Formfläche
entfernt wird, wobei die unebene Oberflächenstruktur
(3) im wesentlichen erhalten bleibt und anschließend eine
neue äußere Schutzschicht (4) auf die Formfläche
aufgebracht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
zwischen der Formfläche und der äußeren Schutzschicht (4)
eine Oberflächenstruktur erhaltende innere Schutzschicht (5)
aufgetragen wird.
3.Verfahren nach einem dere Ansprüche 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Schutzschichten (4, 5) mittels Vakuumverdampfung ausgebildet
werden.
4. Formverfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die äußere Schutzschicht (4) durch Ätzen mittels einer Ätzflüssigkeit
entfernt wird.
5. Formwerkzeug zur Durchführung des Verfahrens nach
den Ansprüchen 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Schutzschichten (4, 5) aus
(i) einem Metall, wie Chrom, Aluminium, Titan oder Kobalt, oder aus
(ii) einem Metalloxid, wie SiO, SiO₂, Al₂O₃ oder ZrO₂ oder einem Metallnitrid wie Si₃N₄ oder TiN bestehen.
(i) einem Metall, wie Chrom, Aluminium, Titan oder Kobalt, oder aus
(ii) einem Metalloxid, wie SiO, SiO₂, Al₂O₃ oder ZrO₂ oder einem Metallnitrid wie Si₃N₄ oder TiN bestehen.
6. Formwerkzeug nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Oberflächenstruktur (3) der Formfläche aus Chrom besteht.
7. Formwerkzeug nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Oberflächenstruktur (3) der Formfläche aus Glas besteht.
8. Formwerkzeug nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die äußere Schutzschicht (4) eine Dicke von 0,3 bis 5 µm
hat.
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---|---|---|---|---|
US4876042A (en) * | 1987-12-28 | 1989-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Molding processing using a reproducible molding die |
US5234633A (en) * | 1987-12-28 | 1993-08-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Cast molding die and process for producing information recording medium using the same |
DE68925517T2 (de) * | 1988-11-16 | 1996-06-05 | Canon Kk | Verfahren zur Herstellung von Bildplatten |
US5075060A (en) * | 1988-11-16 | 1991-12-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing a substrate sheet for an optical recording medium |
JP2564638B2 (ja) * | 1988-12-30 | 1996-12-18 | 太陽誘電株式会社 | コンパクトディスクの製造方法 |
JP2859715B2 (ja) * | 1989-08-10 | 1999-02-24 | キヤノン株式会社 | 記録媒体用基板及びその製造方法、記録媒体、記録方法、記録再生方法、記録装置、記録再生装置 |
US5098629A (en) * | 1990-05-15 | 1992-03-24 | American Standard Inc. | Method of manufacturing bathtubs and the like using molding apparatus and resilient insert |
JPH04205936A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-28 | Hitachi Ltd | 転写用成形媒体およびその製造方法 |
US5756130A (en) * | 1993-05-20 | 1998-05-26 | Hitaci Maxell, Ltd. | Stamper for producing recording medium |
US5388803A (en) * | 1993-08-17 | 1995-02-14 | General Electric Company | Apparatus for producing textured articles |
EP0680039B1 (de) * | 1994-04-27 | 2000-09-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Informationsaufzeichnungsträger und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE19610563A1 (de) * | 1996-03-18 | 1997-09-25 | Bodenseewerk Geraetetech | Verfahren zum gegenseitigen Positionieren von Paaren gegenüberliegender formbestimmender Formwerkzeug-Teile und Formwerkzeug zur Herstellung von Präzisionsteilen, insbesondere von Kontaktlinsen |
DE19909477C2 (de) * | 1999-03-04 | 2002-01-17 | Freudenberg Carl Fa | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbringung von oberflächenmodifizierenden Hilfssubstanzen auf die Arbeitsrauminnenflächen von Werkzeugformen |
JP3229871B2 (ja) * | 1999-07-13 | 2001-11-19 | 松下電器産業株式会社 | 微細形状転写方法および光学部品の製造方法 |
US6750073B2 (en) * | 2002-09-30 | 2004-06-15 | Minuta Technology Co., Ltd. | Method for forming a mask pattern |
KR101010431B1 (ko) * | 2003-12-27 | 2011-01-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 평판표시소자의 제조방법 및 장치 |
US7282932B2 (en) * | 2004-03-02 | 2007-10-16 | Micron Technology, Inc. | Compliant contact pin assembly, card system and methods thereof |
TWI247728B (en) * | 2004-04-09 | 2006-01-21 | Asia Optical Co Inc | Molding die for molding glass |
DE102004024411A1 (de) * | 2004-05-14 | 2005-12-22 | Cfs Kempten Gmbh | Werkzeug, insbesondere zur Extrusion von Kunststoffen, Verwendung des Werkzeugs und Verfahren zur Wiederaufbereitung des Werkzeugs |
KR20070074787A (ko) * | 2005-06-13 | 2007-07-18 | 삼성전자주식회사 | 계조 전압 발생 장치 및 액정 표시 장치 |
KR101222946B1 (ko) * | 2005-06-24 | 2013-01-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 백 프레인이 부착된 소프트 몰드의 제조방법 |
US7997889B2 (en) * | 2006-05-26 | 2011-08-16 | Richie Johnson | Method for making hard mold |
WO2007145246A1 (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-21 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 樹脂組成物、およびこれを用いてなる積層型光学部材 |
WO2008153102A1 (ja) | 2007-06-14 | 2008-12-18 | Aji Co., Ltd. | 造形方法、レンズの製造方法、造形装置、スタンパの製造方法、マスタ製造装置、スタンパ製造システム、及びスタンパ製造装置 |
TWI352690B (en) * | 2007-09-28 | 2011-11-21 | Ether Precision Inc | The molding die of molding glasses and its recycli |
WO2012112470A1 (en) * | 2011-02-14 | 2012-08-23 | Nypro, Inc. | Method of fabricating a textured surface on a molded part |
CN111279261B (zh) * | 2017-05-09 | 2023-10-24 | 赫普塔冈微光有限公司 | 用于整修复制工具的方法和用于制造大量装置的相关方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1332177A (de) * | 1961-06-21 | 1963-12-16 | ||
DE1301462B (de) * | 1966-07-07 | 1969-08-21 | Steding Richard | Verfahren zum Herstellen eines Praege-, Press- oder Spritzwerkzeuges, dessen formgebende Oberflaeche eine galvanisch hergestellte, auf einer Versteifungsunterlage befestigte Metallschicht ist |
US3620895A (en) * | 1969-01-03 | 1971-11-16 | Polaroid Corp | Corrugated micropermeable membrane |
US3776995A (en) * | 1970-10-15 | 1973-12-04 | Xerox Corp | Method of producing x-ray diffraction grating |
JPS5711765B2 (de) * | 1973-07-03 | 1982-03-06 | ||
US4144300A (en) * | 1976-09-15 | 1979-03-13 | Joseph P. Rolles | Chemical etching of record patterns and the like |
JPS5952715B2 (ja) * | 1977-09-05 | 1984-12-21 | ソニー株式会社 | メツキ方法 |
DE2747797C2 (de) * | 1977-10-25 | 1982-04-01 | Polygram Gmbh, 2000 Hamburg | Preßvorrichtung zum Prägen plattenförmiger Informationsträger hoher Speicherdichte |
US4408319A (en) * | 1978-07-15 | 1983-10-04 | Pioneer Electronic Corporation | Optical information recording mother disc and method of producing the same |
US4262875A (en) * | 1979-08-17 | 1981-04-21 | Rca Corporation | Information record stampers |
US4297312A (en) * | 1980-02-04 | 1981-10-27 | Rca Corporation | Method for preparing stylus lapping discs |
US4470940A (en) * | 1980-09-05 | 1984-09-11 | Rca Corporation | Method for the manufacture of capacitive electronic discs |
JPS5835742A (ja) * | 1981-08-21 | 1983-03-02 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録媒体円盤の製作に用いられるスタンパの製作法 |
JPS5850635A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-25 | Hitachi Ltd | スタンパとその製造方法 |
JPS58158225A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-20 | Toshiba Corp | 情報記録用基板の製造方法 |
JPS59186154A (ja) * | 1983-04-08 | 1984-10-22 | Hitachi Ltd | ビデオデイスク用原盤の製造方法 |
JPS60182532A (ja) * | 1984-03-01 | 1985-09-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 平板状情報記録担体複製金型 |
JPS6185649A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-05-01 | Fujitsu Ltd | スタンパの製造方法 |
JPS6186221A (ja) * | 1984-10-04 | 1986-05-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光デイスク用基板の製造方法 |
JPS61136928A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学ガラス素子のプレス成形用型 |
US4619804A (en) * | 1985-04-15 | 1986-10-28 | Eastman Kodak Company | Fabricating optical record media |
JPS62122714A (ja) * | 1985-11-25 | 1987-06-04 | Canon Inc | 精密成形用複製金型 |
US4876042A (en) * | 1987-12-28 | 1989-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Molding processing using a reproducible molding die |
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