JPS58158225A - 情報記録用基板の製造方法 - Google Patents
情報記録用基板の製造方法Info
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- JPS58158225A JPS58158225A JP57039432A JP3943282A JPS58158225A JP S58158225 A JPS58158225 A JP S58158225A JP 57039432 A JP57039432 A JP 57039432A JP 3943282 A JP3943282 A JP 3943282A JP S58158225 A JPS58158225 A JP S58158225A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/243—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising inorganic materials only, e.g. ablative layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0045—Recording
- G11B7/00452—Recording involving bubble or bump forming
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/165—Thermal imaging composition
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本楯明は記録装置を高め、記録トラックの追跡を容易に
する連続スパイラル状の凹部ないし凸部を有する光学的
情報記−用基板の製造方法１：係り、籍に基板の全面に
おいて安定なトラックの追跡を可能１：する凹部ないし
凸部の形状を有する基板の製造方法（−関する。
する連続スパイラル状の凹部ないし凸部を有する光学的
情報記−用基板の製造方法１：係り、籍に基板の全面に
おいて安定なトラックの追跡を可能１：する凹部ないし
凸部の形状を有する基板の製造方法（−関する。
基板に連続スパイラル状の凹部ないし凸部を形成してト
ラック追跡を行なうことが知られている。
ラック追跡を行なうことが知られている。
籐１１ＥＩはかかる基板を用いて製作した記録媒体の記
録層と記録され九ピットを示したものである。
録層と記録され九ピットを示したものである。
記録層１には基板２の凹部ないし凸部６二対応した同様
な形状の凹部ないし凸部３が形成されている。
な形状の凹部ないし凸部３が形成されている。
凹部ないし凸部の部分とそうでない平坦な部分とでは光
の反射する方向が異なるため、記録再生用レーザヘッド
で反射光の強度変化を検出すれば、ヘッドが凹部ないし
凸部上にあるのか、そうでない平坦な部分の上ｃＴｏる
のか判定することができる。即ち、記録トラックの追跡
ができるととミニなる。ヘッドがトラック上にあること
を確認し、記録用のパルス変調されたレーダビームを照
射すれは、記録１１ａｌにビット４を形成することがで
きる。
の反射する方向が異なるため、記録再生用レーザヘッド
で反射光の強度変化を検出すれば、ヘッドが凹部ないし
凸部上にあるのか、そうでない平坦な部分の上ｃＴｏる
のか判定することができる。即ち、記録トラックの追跡
ができるととミニなる。ヘッドがトラック上にあること
を確認し、記録用のパルス変調されたレーダビームを照
射すれは、記録１１ａｌにビット４を形成することがで
きる。
記録した情報を再生するｔｉｌｌ二も記録腰上Ｃ二遅続
スパイラル状の凹部ないし凸部が形成してあれば極めて
容易５ニドラック追跡を行なうことができる。
スパイラル状の凹部ないし凸部が形成してあれば極めて
容易５ニドラック追跡を行なうことができる。
トラック追跡が容易５二かつ安定Ｃ；出来ると、トラッ
クピッチをせばめることにより記録密度も高くすること
ができる。
クピッチをせばめることにより記録密度も高くすること
ができる。
ところで基板Ｃ二連続スパイラル状の凹部ないし凸部を
形成する際トラック追跡の容易さ即ちトラック糾差信号
を大きくすると同時６：情報再生信号も大きくなるよう
凹部ないし凸部形状を制御しなければならない。記脅換
の凹部ないし凸部状の部分−二第１図の如く記録ビット
４が形成されている場合、記−ビットの有無を検出する
情報再生信号の大小に凹１ｉ１１にいし凸部形状の如何
が影響するからである。
形成する際トラック追跡の容易さ即ちトラック糾差信号
を大きくすると同時６：情報再生信号も大きくなるよう
凹部ないし凸部形状を制御しなければならない。記脅換
の凹部ないし凸部状の部分−二第１図の如く記録ビット
４が形成されている場合、記−ビットの有無を検出する
情報再生信号の大小に凹１ｉ１１にいし凸部形状の如何
が影響するからである。
連続スパイラル状の凹部ないし凸部を有する基板は従来
法の方法で製作されている。謔ｌ工程として円板状のガ
ラス基板ＣＯｒ換を形成、帛２工程でフォトレジストを
スピンナで塗布する。第３工糧としてフォトレジストの
塗布されたガラ１基板を一転し、所定の送り速腹で半径
方向へ１μｍ−謹直にしほつ友レーザビームを移動させ
ながら照射する。 ＩＩ４工横で挽象、エツチングを行
ない連続スパイラル状の凹凸部の形成された原盤を製作
する。第５工楊として電極付け、第６エ楊として電鋳を
行ない、ｌＡｌ１１から剥離して凹凸部形状の転写され
たスタンバを製作する。このスタンパを用いて樹脂を成
形すれば連続スパイラル状の凹凸部の転写された基板が
製作できる。
法の方法で製作されている。謔ｌ工程として円板状のガ
ラス基板ＣＯｒ換を形成、帛２工程でフォトレジストを
スピンナで塗布する。第３工糧としてフォトレジストの
塗布されたガラ１基板を一転し、所定の送り速腹で半径
方向へ１μｍ−謹直にしほつ友レーザビームを移動させ
ながら照射する。 ＩＩ４工横で挽象、エツチングを行
ない連続スパイラル状の凹凸部の形成された原盤を製作
する。第５工楊として電極付け、第６エ楊として電鋳を
行ない、ｌＡｌ１１から剥離して凹凸部形状の転写され
たスタンバを製作する。このスタンパを用いて樹脂を成
形すれば連続スパイラル状の凹凸部の転写された基板が
製作できる。
しかし、かかる従来の基板製作法には以下のような問題
点があった。即ちガラス基板全面Ｃ−均一な凹凸部を形
成することが困麹な点である。トラック誤差信号と情報
再生信号とを同時−二大きくするため例えば凹部の形状
は暢１μｍ以下、蒙さが使用するレーザビームの波長の
ξ程度即ち０．１７ｍｍ程度に制御する必要がある。従
って先Ｃ二述べた基板製作法のｊ１２工楊においてフォ
トレジストの塗布厚を０．１μｍ根度にしなければなら
ない。ところが通常の７オトレジストをスピンナで塗布
する場合。
点があった。即ちガラス基板全面Ｃ−均一な凹凸部を形
成することが困麹な点である。トラック誤差信号と情報
再生信号とを同時−二大きくするため例えば凹部の形状
は暢１μｍ以下、蒙さが使用するレーザビームの波長の
ξ程度即ち０．１７ｍｍ程度に制御する必要がある。従
って先Ｃ二述べた基板製作法のｊ１２工楊においてフォ
トレジストの塗布厚を０．１μｍ根度にしなければなら
ない。ところが通常の７オトレジストをスピンナで塗布
する場合。
塗布厚を１）ｍ以下（二した場合フォトレジストの部分
的な剥離を生じてしまうｏ＊Ｖ−塗布厚を０．ｉｐ！＋
１１に制御するため、フォトレジストを希釈して皇布す
ることが多いがこの場合均一性は更−二劣化し、時とし
て塊像ムラ、エラテンダム２等を生じてしまう。基板製
作工程の初期ζ：生じ九不均−性は最終工機迄改良され
ることなく持込まれ、ｆｇ＆全面にわ良り均一なスパイ
ラル状の凹凸部を有する基板を製作することが出来ない
。
的な剥離を生じてしまうｏ＊Ｖ−塗布厚を０．ｉｐ！＋
１１に制御するため、フォトレジストを希釈して皇布す
ることが多いがこの場合均一性は更−二劣化し、時とし
て塊像ムラ、エラテンダム２等を生じてしまう。基板製
作工程の初期ζ：生じ九不均−性は最終工機迄改良され
ることなく持込まれ、ｆｇ＆全面にわ良り均一なスパイ
ラル状の凹凸部を有する基板を製作することが出来ない
。
本発明の目的はががる従来の基板製作法の欠点を除去し
、塗布ムラの様な不均一性のない、しかも形状の制御さ
れた連続スパイラル状の凹凸部を有する基板の製作法を
提供することにある〇〔発−０＠＊’Ｊ 本尭−の基＠ＩＩ作法でＦｉガラス板５ニエネルギー吸
収性とガス放出性の両者の％黴を合わせ持つ農を形成し
、ついでレーザビームを照射し、孔部な形成することな
く連続スパイラル状の凸部を形成したＩＩＬ銀を用いる
。エネルギー吸収性とガス放出性の両者を合わせ持つ腰
は真空中でτ６． Ｂｉのような低融点金属のターゲッ
トなＯｔ Ｈｅ Ｎ＋ Ｏなとの成分をもつガスプラズ
マでスパッタリングすること５二より製作で−る。スパ
ッタリングで形成した躾を用いてＪＩｌ［盤を製作する
ことの利点は、ガラス板全面に均一かつ剥離部分のない
原盤が容易に製作できることである。またガラス原盤に
形成する膜の成分比、Ｓ射し−ずビームのパワーを一定
にすれば常１：同−形状の凸部を形成することができる
。
、塗布ムラの様な不均一性のない、しかも形状の制御さ
れた連続スパイラル状の凹凸部を有する基板の製作法を
提供することにある〇〔発−０＠＊’Ｊ 本尭−の基＠ＩＩ作法でＦｉガラス板５ニエネルギー吸
収性とガス放出性の両者の％黴を合わせ持つ農を形成し
、ついでレーザビームを照射し、孔部な形成することな
く連続スパイラル状の凸部を形成したＩＩＬ銀を用いる
。エネルギー吸収性とガス放出性の両者を合わせ持つ腰
は真空中でτ６． Ｂｉのような低融点金属のターゲッ
トなＯｔ Ｈｅ Ｎ＋ Ｏなとの成分をもつガスプラズ
マでスパッタリングすること５二より製作で−る。スパ
ッタリングで形成した躾を用いてＪＩｌ［盤を製作する
ことの利点は、ガラス板全面に均一かつ剥離部分のない
原盤が容易に製作できることである。またガラス原盤に
形成する膜の成分比、Ｓ射し−ずビームのパワーを一定
にすれば常１：同−形状の凸部を形成することができる
。
こうして作成された原盤から形成し次凸部形状を転与し
たスタンバを製作し、このスタンパを用いて樹脂を成形
すること６二より連続スパイラル状の凹凸部を有する情
報記録用有機樹脂基板を製造する０ 〔発明の効果〕 本発明の製造方法慕二よれば、エネルギー吸収性とガス
放出性の両者を有する膜６ニレーザビームを照射し、孔
部な形成することなく連続スパイラル状の凸部を形成し
た原盤を用いるよう（；しているので、従来のフォトレ
ジスト使用時の種々の欠点がなく、ガラス基板全面Ｃ；
均一かつ剥離部分のない原盤が得られ、その結果基板全
面Ｃ−亘り均一な凹凸部を有する情報記録用基板を製造
することができる。
たスタンバを製作し、このスタンパを用いて樹脂を成形
すること６二より連続スパイラル状の凹凸部を有する情
報記録用有機樹脂基板を製造する０ 〔発明の効果〕 本発明の製造方法慕二よれば、エネルギー吸収性とガス
放出性の両者を有する膜６ニレーザビームを照射し、孔
部な形成することなく連続スパイラル状の凸部を形成し
た原盤を用いるよう（；しているので、従来のフォトレ
ジスト使用時の種々の欠点がなく、ガラス基板全面Ｃ；
均一かつ剥離部分のない原盤が得られ、その結果基板全
面Ｃ−亘り均一な凹凸部を有する情報記録用基板を製造
することができる。
以下本発明の一実施例を図面を参照して説明する０
第２図は本発明の基板製造法における原盤の製造工程を
示す図である。
示す図である。
先ず２００諺φガラス基板ｌＯを用意し、このガラス基
板１０にＴＩ！ｌ＠ｏ０１ＧＨ１Ｇなる成分比４り１１
１１を５ｏｏｏＸ形成する（第２図（ａ））。この膜１
１Ｃ）形成は、例えばＴｏをターゲットとし、ＯＨ４ガ
スグツズ！でスパッタリングして行なわれる０ 次Ｉ：このガラス１ｗ板ｌＯを回転し、波長８００ ｏ
ＸのＧ＆ムＪム−レーずＯ連続ビームを移動させながら
照射する。照射峙の聞転遮ｍは線速か６ｍ／８・ｅｌ二
なるよう制御した０またＧａＡｊＡ−レーザのパワーは
１０１！ＩＷとした。このよう６；シてレーザビームを
半径方向−二移動させると、ガラス基板上のＴｅ６ｇ０
８０ＨＩＧなる鵬ｌｌ＆；は６１１７ｍ高さ０．１ｐｍ
の連続スパイラル状の凸部臣が形成される（１１１１２
図（ｂ） ） ｏ凸部形状は膜の全面１二おいて一様で
かつ隣り合う凸部中央における間隔は約２μｍであった
。
板１０にＴＩ！ｌ＠ｏ０１ＧＨ１Ｇなる成分比４り１１
１１を５ｏｏｏＸ形成する（第２図（ａ））。この膜１
１Ｃ）形成は、例えばＴｏをターゲットとし、ＯＨ４ガ
スグツズ！でスパッタリングして行なわれる０ 次Ｉ：このガラス１ｗ板ｌＯを回転し、波長８００ ｏ
ＸのＧ＆ムＪム−レーずＯ連続ビームを移動させながら
照射する。照射峙の聞転遮ｍは線速か６ｍ／８・ｅｌ二
なるよう制御した０またＧａＡｊＡ−レーザのパワーは
１０１！ＩＷとした。このよう６；シてレーザビームを
半径方向−二移動させると、ガラス基板上のＴｅ６ｇ０
８０ＨＩＧなる鵬ｌｌ＆；は６１１７ｍ高さ０．１ｐｍ
の連続スパイラル状の凸部臣が形成される（１１１１２
図（ｂ） ） ｏ凸部形状は膜の全面１二おいて一様で
かつ隣り合う凸部中央における間隔は約２μｍであった
。
次１：、この連続スパイラル状の凸部の形成されている
Ｍ！向１： ＊ｕ ｍ １３を約２００Ｘ形成する（纂
２図（ｃ））ｏｉｕ展１３の形成は真空蒸着で行うこと
ができる。ただしとのＡｕ ｍｌ １３は後のメツキエ
根を箒易Ｃ二する九めに用いられるもので、メッキ法Ｃ
二よっては奉賛の場合もおる。このようにして形成され
たＡｕ ＩＩ １３の凸１１１４も、その下層の１１１
１の凸部形状と＃１ぼ同様である０尚、このＡｕ換１】
を形成し九後ｇニレ−ずビームを照射しても略同−結果
が得られる。
Ｍ！向１： ＊ｕ ｍ １３を約２００Ｘ形成する（纂
２図（ｃ））ｏｉｕ展１３の形成は真空蒸着で行うこと
ができる。ただしとのＡｕ ｍｌ １３は後のメツキエ
根を箒易Ｃ二する九めに用いられるもので、メッキ法Ｃ
二よっては奉賛の場合もおる。このようにして形成され
たＡｕ ＩＩ １３の凸１１１４も、その下層の１１１
１の凸部形状と＃１ぼ同様である０尚、このＡｕ換１】
を形成し九後ｇニレ−ずビームを照射しても略同−結果
が得られる。
こうして製作され九鳳盤が本発明の特徴であるが、この
原盤を製作し友後は次のステップＣ：よって記録用基板
が製造される。
原盤を製作し友後は次のステップＣ：よって記録用基板
が製造される。
すなわち、上記Ａｕ ＃ １３を電極としてムｕ ｌｌ
ｋ １３上１ｎＮｉ電鋳を行なう。電鋳するＭｌの厚さ
は例えば３００μｍである。次に電鋳し九Ｍ１板を原盤
より剥離し、スタンパを製作する０そしてこのスタンパ
を用いて例えばアクリル樹脂などの有楡［ｉを射出成形
して情報記録用の基板を製造する。
ｋ １３上１ｎＮｉ電鋳を行なう。電鋳するＭｌの厚さ
は例えば３００μｍである。次に電鋳し九Ｍ１板を原盤
より剥離し、スタンパを製作する０そしてこのスタンパ
を用いて例えばアクリル樹脂などの有楡［ｉを射出成形
して情報記録用の基板を製造する。
この基板−一例えば真空Ａ着ミニよってＴ・記録層を形
成して記録媒体を構成し、との配置媒体のトラッキング
誤差ｇｉ号（即ち記録層の凸部上に記録貴生用レーザヘ
ッドがあると自と平坦部上≦二あるときの反射光光強度
信号の差）の変１＃友を欄定したところ２０−でめった
。ｔた情報６二対応し次パルス変調レーダビームでＴ＠
ｊｌｌ＋ｎビット形成を行ない情報を再生したところ情
報再生信号の変調度は７０ｇ６であった。
成して記録媒体を構成し、との配置媒体のトラッキング
誤差ｇｉ号（即ち記録層の凸部上に記録貴生用レーザヘ
ッドがあると自と平坦部上≦二あるときの反射光光強度
信号の差）の変１＃友を欄定したところ２０−でめった
。ｔた情報６二対応し次パルス変調レーダビームでＴ＠
ｊｌｌ＋ｎビット形成を行ない情報を再生したところ情
報再生信号の変調度は７０ｇ６であった。
（１） ２００ｍφのガラス基板にＴｅ１００ＳＯＮ
ＩＯＨＩ＠なる成分比の膜を３０００ Ｘ形成した。形
成はＴ・をターゲットとしＯＨ４とＭＨＩとＯＳ合ガス
プラズマでスパッタリングして行なり九◎次にＴｅｈＯ
ｃｓｏ Ｎｌ０ＨＩＧなるｇｏ上Ｃ二ムｕＪＩを８００
Ｘ積層した。ムＵ換の形成はムＵターゲットなムｒガ
スグツズ！でスパッタリングして行なり九。次−二この
ガラス基板を回転しｌ、１１ＩＩＥ１φ程１７Ｌにしぼ
ったＡｒレーザの連続ビームを夢動させながら照射した
。ビームはＡｕＪｉ！側から照射した。同転速度は線速
４ｍ／ｓｅａとした。Ａｒレーザのパワーは１５ｍＷと
した。このよう５ニしてレーザビームを半径方向感−移
動させ、ガラス基板上のムｕＪｌｉ１面Ｉ：はｓ ’１
１１％ｍ １高さ０．１ ｐ ｍの遅ＩＦｃスパイラル
状の凸部を形成し良。凸部形状は全面にわたり一様で６
つ友。次にムｕａを電極としてＮ１電鋳を行なった後ガ
ラス板ｅ Ｔｅ５ｏ Ｃａｏ Ｎｌｏ Ｈｔｏｌｌを剥
離シテスタンパを製作した。スタンパのＪｌ サｔｉ
ｇｏ。
ＩＯＨＩ＠なる成分比の膜を３０００ Ｘ形成した。形
成はＴ・をターゲットとしＯＨ４とＭＨＩとＯＳ合ガス
プラズマでスパッタリングして行なり九◎次にＴｅｈＯ
ｃｓｏ Ｎｌ０ＨＩＧなるｇｏ上Ｃ二ムｕＪＩを８００
Ｘ積層した。ムＵ換の形成はムＵターゲットなムｒガ
スグツズ！でスパッタリングして行なり九。次−二この
ガラス基板を回転しｌ、１１ＩＩＥ１φ程１７Ｌにしぼ
ったＡｒレーザの連続ビームを夢動させながら照射した
。ビームはＡｕＪｉ！側から照射した。同転速度は線速
４ｍ／ｓｅａとした。Ａｒレーザのパワーは１５ｍＷと
した。このよう５ニしてレーザビームを半径方向感−移
動させ、ガラス基板上のムｕＪｌｉ１面Ｉ：はｓ ’１
１１％ｍ １高さ０．１ ｐ ｍの遅ＩＦｃスパイラル
状の凸部を形成し良。凸部形状は全面にわたり一様で６
つ友。次にムｕａを電極としてＮ１電鋳を行なった後ガ
ラス板ｅ Ｔｅ５ｏ Ｃａｏ Ｎｌｏ Ｈｔｏｌｌを剥
離シテスタンパを製作した。スタンパのＪｌ サｔｉ
ｇｏ。
μｍであった。次Ｉ：Ｔｏらかじめ注形法で製作したア
クリル板Ｃ；紫外線硬化樹脂を塗布し、製作したスタン
パを押え付け、アクリル１＃Ｌ＠から８０ｗ／、ａｍの
ＩＪＩＩＩＫの高圧水銀灯を３秒間照射して樹脂を硬化
させた後スタンバを剥離し次。このよう５二して基板全
ｆｆ１ＣニーＩｌｌニスタンパの連続スパイラル状凹部
を転写し、紫外線硬化樹脂の付着したアクリル基板を製
作した。このアクリル基板に’Ｔｏを真空蒸着で形成し
、記録媒体を製作した。この記録媒体のトラッキング誤
差信号の変＊ｔは２５嚢、情報再生信号の輩調度はＳＯ
Ｓであった０ （２） ２００−φのガラス基板ＣＴ＠Ｂ・Ｃ４０Ｈ
ＩＯなる成分比の膜を３５００ Ｘ形成した０誤の形成
はＴ・ターゲットをＯＨ４ガスプラズ！でスパッタリン
グして行なった。ついでＡｕ換をｓｏｏ Ｘ積層した０
ムｕｊｌはムＵターゲットなＡｒガスプラズマでスパ
ッタリングして行なった。次（−このガラス基板を回転
させＡｒレーザの連続ビームを半径方向に移動させなが
ら、連続スパイラル状凸部を形成した０ビ一ムｔｆＡｕ
ｇ側から照射した。回転速ｔＦｉビームの照射されてい
る部分で３ｍ／５ｅａ（二なるよう制御した。
クリル板Ｃ；紫外線硬化樹脂を塗布し、製作したスタン
パを押え付け、アクリル１＃Ｌ＠から８０ｗ／、ａｍの
ＩＪＩＩＩＫの高圧水銀灯を３秒間照射して樹脂を硬化
させた後スタンバを剥離し次。このよう５二して基板全
ｆｆ１ＣニーＩｌｌニスタンパの連続スパイラル状凹部
を転写し、紫外線硬化樹脂の付着したアクリル基板を製
作した。このアクリル基板に’Ｔｏを真空蒸着で形成し
、記録媒体を製作した。この記録媒体のトラッキング誤
差信号の変＊ｔは２５嚢、情報再生信号の輩調度はＳＯ
Ｓであった０ （２） ２００−φのガラス基板ＣＴ＠Ｂ・Ｃ４０Ｈ
ＩＯなる成分比の膜を３５００ Ｘ形成した０誤の形成
はＴ・ターゲットをＯＨ４ガスプラズ！でスパッタリン
グして行なった。ついでＡｕ換をｓｏｏ Ｘ積層した０
ムｕｊｌはムＵターゲットなＡｒガスプラズマでスパ
ッタリングして行なった。次（−このガラス基板を回転
させＡｒレーザの連続ビームを半径方向に移動させなが
ら、連続スパイラル状凸部を形成した０ビ一ムｔｆＡｕ
ｇ側から照射した。回転速ｔＦｉビームの照射されてい
る部分で３ｍ／５ｅａ（二なるよう制御した。
Ａｒレーザビームのパワーは半径方向の小領域ごとに変
化させて照射し、凸Ｓ形状の異なる小領域を作成し友。
化させて照射し、凸Ｓ形状の異なる小領域を作成し友。
次に＊ｕｌｉｌｌＩを電極としてＮ１電餉を行なった後
ガラス板及びＴ＠６６Ｃ錦ＪＯＩＥ剥離してスタンパを
製作した。このスタンパを用いてアクリル樹脂を射出ｉ
ｉｔ形して基板を製作した。この基板ｇ二Ｔ。
ガラス板及びＴ＠６６Ｃ錦ＪＯＩＥ剥離してスタンパを
製作した。このスタンパを用いてアクリル樹脂を射出ｉ
ｉｔ形して基板を製作した。この基板ｇ二Ｔ。
展を真空蒸着して形成し、記録媒体を製作した。
この記ａｍ体５二Ｇ１ん１−レーザを光源として記録・
再生を行なった。記録・杏生は凸部形成用ＣＡｒガスレ
ーずのパワーを変えて照射し友小領域とと（１行なった
。蝋射ムｒレーザパワーがある程度以上ｃ二人きい場合
、凸部の中央は破壊されてガス放出が進行する。そこで
凸部中央が破壊される鍛小のパワーなｈとして照射Ａｒ
レーザパワーＰを規格化すると、ｐ／ｙ、ｍα４以下の
Ａｒレーザを照射した基板の領域Ｉ：お社るトラッキン
グ誤差信号の変調度は２％以下であった。Ｐ／ＦＷ＝
０．９５以上の釘レーザを照射し九基板の小領域におい
ては５ｏ−のトラッキング誤差信号の変ｌｌＩ度が得ら
れたが、情報再生信号の変調度Ｆｉ５０参以下に低下し
た。０．４〈Ｆ／ＦＷ＜ ０．９の小領域においては約
２０−のトラッキング誤差信号の変□調度と６０５ｂ以
上の情報再生信号の変調度が得られた。
再生を行なった。記録・杏生は凸部形成用ＣＡｒガスレ
ーずのパワーを変えて照射し友小領域とと（１行なった
。蝋射ムｒレーザパワーがある程度以上ｃ二人きい場合
、凸部の中央は破壊されてガス放出が進行する。そこで
凸部中央が破壊される鍛小のパワーなｈとして照射Ａｒ
レーザパワーＰを規格化すると、ｐ／ｙ、ｍα４以下の
Ａｒレーザを照射した基板の領域Ｉ：お社るトラッキン
グ誤差信号の変調度は２％以下であった。Ｐ／ＦＷ＝
０．９５以上の釘レーザを照射し九基板の小領域におい
ては５ｏ−のトラッキング誤差信号の変ｌｌＩ度が得ら
れたが、情報再生信号の変調度Ｆｉ５０参以下に低下し
た。０．４〈Ｆ／ＦＷ＜ ０．９の小領域においては約
２０−のトラッキング誤差信号の変□調度と６０５ｂ以
上の情報再生信号の変調度が得られた。
エネルギー徴収性とガス放出性との両者の特徴を有する
農は本実施例記載の成分比のものに限定されないｏ Ｔ
６８０町００１０ ｍ Ｔｏ６ｇ工１０によっても良し
）結果を得ることができた。被檀する金属績も笑施例Ｃ
；挙げたＡｕ換の他のものを使用することができる′０
例えばＴｅ５ｏ Ｎｌｏ Ｏｌｏ ＩＩＩにテＬ ＭＬ
Ｃｒ膜を被橿した原盤から実施例と同一の方法で製作
した基板１：も全面ζ二わたって均一な形状の凸部が転
写され、この基板から製作した記録媒体においてトラッ
キング誤差信号の変ｌ１Ｉｊ度としてａｃｔｓ’、 ｔ
ｏ９６． ｔ。
農は本実施例記載の成分比のものに限定されないｏ Ｔ
６８０町００１０ ｍ Ｔｏ６ｇ工１０によっても良し
）結果を得ることができた。被檀する金属績も笑施例Ｃ
；挙げたＡｕ換の他のものを使用することができる′０
例えばＴｅ５ｏ Ｎｌｏ Ｏｌｏ ＩＩＩにテＬ ＭＬ
Ｃｒ膜を被橿した原盤から実施例と同一の方法で製作
した基板１：も全面ζ二わたって均一な形状の凸部が転
写され、この基板から製作した記録媒体においてトラッ
キング誤差信号の変ｌ１Ｉｊ度としてａｃｔｓ’、 ｔ
ｏ９６． ｔ。
−なる値が得られた。連続スパイラル状の凸部を転写し
た基板は本実施例の他、ポリカーｌネイト６二おいても
良い結果を得た。
た基板は本実施例の他、ポリカーｌネイト６二おいても
良い結果を得た。
また実施例では情報記鍮用の基板４二連続スパイラル状
の凹形状のトラックを形成する場合について述べ九が、
同心円状のトラックでおってもよく、また凸形状のトラ
ックであってもよいことは言うまで吃ない。
の凹形状のトラックを形成する場合について述べ九が、
同心円状のトラックでおってもよく、また凸形状のトラ
ックであってもよいことは言うまで吃ない。
このようｇ二本発明の基板製法で製作した基板に記録膜
を形成し記録媒体とすれば、一様なトラックＩＩＩ４差
信号、情報再生信号を得ることができる。
を形成し記録媒体とすれば、一様なトラックＩＩＩ４差
信号、情報再生信号を得ることができる。
ま九より良いトラック誤差信号、情報再生信号を得るた
め、基板の凹部ないし凸部の形状を変史する必ｌＩＯ生
じ九場合、ガラス＆５二形成するエネルギー吸収性とガ
ス放出性の両省を合わせもつ膜の上に更に別の金属績を
被扱層として形成し、レーザビームの照射礁−より形成
される凸部形状を制御することもできる。凸部の形状は
中間層として設けるエネルギー吸収性とガス放出性との
両者の特徴を合わせもつ膜の如何と被榎する金属績の延
性などの機械的性質とから決定されるからである。
め、基板の凹部ないし凸部の形状を変史する必ｌＩＯ生
じ九場合、ガラス＆５二形成するエネルギー吸収性とガ
ス放出性の両省を合わせもつ膜の上に更に別の金属績を
被扱層として形成し、レーザビームの照射礁−より形成
される凸部形状を制御することもできる。凸部の形状は
中間層として設けるエネルギー吸収性とガス放出性との
両者の特徴を合わせもつ膜の如何と被榎する金属績の延
性などの機械的性質とから決定されるからである。
また凸部の形状は照射するレーザビームのパワーを変化
させることで制御することもできる。照射レーザビーム
のパワーを変化させた場合、あるパワーから凸部が形成
され始め、パワーの増加（１伴ない凸部高さが増加し、
あるパワー以上で凸部がＭｌＩＩｓされ、ガスが放出さ
れるからでおる。
させることで制御することもできる。照射レーザビーム
のパワーを変化させた場合、あるパワーから凸部が形成
され始め、パワーの増加（１伴ない凸部高さが増加し、
あるパワー以上で凸部がＭｌＩＩｓされ、ガスが放出さ
れるからでおる。
Claims (1)
- （１） 原盤用基板上５；エネルギー徴収性とガス放
出性の両者の性質を有する膜を形成し、この膜にエネル
ギービームを照射して孔部な形成することなく連続スパ
イフル状もしくは同心円状Ｏ凸部あるいは凹部を形成し
て原盤を構成し、ζＯＪ［１１（二形成した凸部あるい
は凹部形状を転写したスメンバーを用いて、記録用基板
を成廖Ｃ二より製造することを特徴とする情報記録用基
板の製造方法０（ｊｌ） 記録用基板は有機樹脂ミニ
よ餘形成することを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の情報記録用基板の製造方法。 （組 原盤用基板上の前記属を金属膜で被覆し、この金
属膜を電極として電鋳法により前記スタンパ用の板を形
成することを４１１１とする特許請求の範囲第１項記載
の情報記録用基板の製造方法。 （剖 照射用エネルギービームＯ鎗さを、孔ＩＩＳ成Ｃ
二畳する最小エネルギービームの０．４乃至０．９倍Ｃ
二したことを特徴とする特許請求の範囲１ｇ１項記載の
情報記―用基板の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57039432A JPS58158225A (ja) | 1982-03-15 | 1982-03-15 | 情報記録用基板の製造方法 |
| EP83301236A EP0089775B1 (en) | 1982-03-15 | 1983-03-08 | Method for manufacturing optical type recording medium |
| US06/473,244 US4478768A (en) | 1982-03-15 | 1983-03-08 | Method for manufacturing optical type recording medium |
| DE8383301236T DE3366768D1 (en) | 1982-03-15 | 1983-03-08 | Method for manufacturing optical type recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57039432A JPS58158225A (ja) | 1982-03-15 | 1982-03-15 | 情報記録用基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58158225A true JPS58158225A (ja) | 1983-09-20 |
| JPS6241451B2 JPS6241451B2 (ja) | 1987-09-03 |
Family
ID=12552831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57039432A Granted JPS58158225A (ja) | 1982-03-15 | 1982-03-15 | 情報記録用基板の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4478768A (ja) |
| EP (1) | EP0089775B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58158225A (ja) |
| DE (1) | DE3366768D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63192078A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-09 | Fujitsu Ltd | 表面レリ−フ型ホログラムの製造方法 |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0107913B1 (en) * | 1982-09-29 | 1988-06-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Radiation-sensitive carrier body utilized as stamper structure |
| US4583102A (en) * | 1983-05-04 | 1986-04-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical disc and method of manufacturing |
| US4702991A (en) * | 1984-10-30 | 1987-10-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical type information recording medium and manufacturing method thereof |
| US4735888A (en) * | 1985-02-04 | 1988-04-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information recording medium and manufacturing method thereof |
| US4619804A (en) * | 1985-04-15 | 1986-10-28 | Eastman Kodak Company | Fabricating optical record media |
| US4876042A (en) * | 1987-12-28 | 1989-10-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Molding processing using a reproducible molding die |
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1982
- 1982-03-15 JP JP57039432A patent/JPS58158225A/ja active Granted
-
1983
- 1983-03-08 US US06/473,244 patent/US4478768A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-03-08 DE DE8383301236T patent/DE3366768D1/de not_active Expired
- 1983-03-08 EP EP83301236A patent/EP0089775B1/en not_active Expired
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0089775A1 (en) | 1983-09-28 |
| US4478768A (en) | 1984-10-23 |
| DE3366768D1 (en) | 1986-11-13 |
| EP0089775B1 (en) | 1986-10-08 |
| JPS6241451B2 (ja) | 1987-09-03 |
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