JPH01174917U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01174917U JPH01174917U JP7230888U JP7230888U JPH01174917U JP H01174917 U JPH01174917 U JP H01174917U JP 7230888 U JP7230888 U JP 7230888U JP 7230888 U JP7230888 U JP 7230888U JP H01174917 U JPH01174917 U JP H01174917U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz tube
- boat
- tube
- furnace core
- semiconductor
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 210000004207 dermis Anatomy 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
第1図は本考案に係る半導体製造治具の概略断
面図、第2図は同じく要部拡大断面図である。第
3図は、半導体ウエーハの熱処理装置の断面図、
第4図は同装置内の温度分布を示すグラフ、第5
図乃至第7図は従来の温度測定手段の三例を示す
断面図、第8図は、炉芯管内に半導体ウエーハを
搬入したときの温度変化を示すグラフである。 2……ヒータ、3……炉芯管、5……ボート、
6……半導体ウエーハ、10……温度検出素子(
熱電対)、13……温度測定治具、14……石英
チユーブ、15……ボート、16……ダーミウエ
ーハ。
面図、第2図は同じく要部拡大断面図である。第
3図は、半導体ウエーハの熱処理装置の断面図、
第4図は同装置内の温度分布を示すグラフ、第5
図乃至第7図は従来の温度測定手段の三例を示す
断面図、第8図は、炉芯管内に半導体ウエーハを
搬入したときの温度変化を示すグラフである。 2……ヒータ、3……炉芯管、5……ボート、
6……半導体ウエーハ、10……温度検出素子(
熱電対)、13……温度測定治具、14……石英
チユーブ、15……ボート、16……ダーミウエ
ーハ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 複数の半導体ウエーハを所定の間隔で整列保持
したボートを収納し、ヒータにて加熱する炉芯管
の管内温度を測定する治具であつて、 温度検出素子を内装した石英チユーブと、 上記半導体ウエーハと略同じ熱容量をもち、か
つ、石英チユーブに嵌装したダーミウエーハと、 前記石英チユーブ及びダーミウエーハを炉芯管
内に搬入・搬出するボートとを具備したことを特
徴とする半導体製造治具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7230888U JPH01174917U (ja) | 1988-05-30 | 1988-05-30 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7230888U JPH01174917U (ja) | 1988-05-30 | 1988-05-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01174917U true JPH01174917U (ja) | 1989-12-13 |
Family
ID=31297480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7230888U Pending JPH01174917U (ja) | 1988-05-30 | 1988-05-30 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01174917U (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003282466A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-03 | Seiko Instruments Inc | 拡散炉用熱電対 |
JP2006245202A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Denso Corp | 熱処理装置 |
JP2011253986A (ja) * | 2010-06-03 | 2011-12-15 | Mitsubishi Electric Corp | 拡散炉用熱電対、温度測定方法、及び半導体装置の製造方法 |
-
1988
- 1988-05-30 JP JP7230888U patent/JPH01174917U/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003282466A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-03 | Seiko Instruments Inc | 拡散炉用熱電対 |
JP4497785B2 (ja) * | 2002-03-25 | 2010-07-07 | セイコーインスツル株式会社 | 拡散炉用熱電対 |
JP2006245202A (ja) * | 2005-03-02 | 2006-09-14 | Denso Corp | 熱処理装置 |
JP2011253986A (ja) * | 2010-06-03 | 2011-12-15 | Mitsubishi Electric Corp | 拡散炉用熱電対、温度測定方法、及び半導体装置の製造方法 |
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