JPS5932907Y2 - 温度測定装置 - Google Patents

温度測定装置

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Publication number
JPS5932907Y2
JPS5932907Y2 JP4038879U JP4038879U JPS5932907Y2 JP S5932907 Y2 JPS5932907 Y2 JP S5932907Y2 JP 4038879 U JP4038879 U JP 4038879U JP 4038879 U JP4038879 U JP 4038879U JP S5932907 Y2 JPS5932907 Y2 JP S5932907Y2
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JP
Japan
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temperature
reaction tube
quartz
measuring device
tube
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JP4038879U
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JPS55139435U (ja
Inventor
雅春 野上
純次 米野
修 青木
潭二 大川
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富士通株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は拡散炉、エピタキシャル成長装置等の反応管内
部の反応管の長さ方向に垂直な面内の温度分布を正確且
つ迅速に測定し得る温度測定装置に関する。
半導体工業においては拡散炉、エピタキシャル成長装置
等が多く使用されている。
これらの装置を用いて半導体基板を加熱処理するには、
第1図に示すように予かじめ石英等よりなる反応管1内
に所定のガスを流し温度調節器(図示せず)を備えた加
熱機構2により反応管1内を加熱し、該反応管内に挿入
されてスタンド3等により保持された石英細管4の中に
、温度記録計5に一端を接続した熱電対6を挿入して、
該熱電対6を前記石英細管4内を移動させることにより
前記反応管1内の長さ方向の温度分布を測定する。
しかしこのような方法は次のような欠点を有する。
第1に近年に至り半導体基板が直径75〜1 o o
Cmrnl)と大型化して来たので、半導体基板の面内
温度分布、即ち前記反応管の長さ方向に垂直な断面(以
下単に断面と略す)の温度分布を正確に測定する必要が
あるが、上述の方法では熱電対6の先端を断面内で移動
させるのは手間がかかり、しかも位置を正確に調節する
ことが困難なため、断面内温度分布を測定することは容
易ではない。
第2に上述の方法では反応管のガス流の下流端は開放せ
ざるを得ないが、半導体基板を加熱処理する際にはキャ
ップをかぶせた状態でキャリアガスや反応ガス、或いは
雰囲気ガスを流すことが多い。
そのため反応管1内部の温度測定の時と、半導体基板の
加熱処理の時とではガスの流れが異なるため当然反応管
1内部の温度分布も異なり、半導体基板の加熱処理時の
温度分布を測定することができない。
本考案は上記問題点を解消するためになされたものであ
って、半導体基板を加熱処理する際と同じ状態において
断面内温度分布を正確かつ容易に測定し得る温度測定装
置を提供しようとするものである。
本考案の特徴は温度測定装置において、反応管を嵌挿せ
しめ、ガス導出口を有する石英よりなるキャップと、該
キャップ頂面を貫通して反応管内部に突出するごとく前
記キャップ頂面に互いに隔りを有して植設された複数本
の石英細管と、該石英細管に挿設された複数本の温度検
出体と、該温度検出体に接続され、前記石英細管の外に
配設されて測定温度を明示する温度計を具備することに
ある。
以下本考案の温度測定装置の一実施例を図面により説明
する。
第2図は本考案の温度測定装置を示す図面であって、同
図aは要部断面図、同図すは側面図である。
第2図a、bにおいて、7は反応管1が嵌挿される石英
よりなるキャップであって図に示すようにその下部にガ
ス導出口を有し端部8は反応管1のガス流の下流端とな
る端部9と密接するよう摺り合せにより加工されている
4は一端10を封止された石英細管であって、前記一端
10が前記反応管1の中に突出するごとく前記キャップ
7の頂面11を貫通して、頂面11に密封的に固着され
ている。
6は白金−白金ロジウム熱電対またはクロメル・アルメ
ル熱電対のごとき温度検出体であって、温度検出端12
を内部に、温度計接続端13を外に導出するごとく前記
石英細管4に挿設されている。
以上述べた温度測定装置を用いて反応管1内部の断面温
度分布を測定する方法を次に説明する。
まず反応管1の端部9にキャップ7の端部8が密着する
ようキャップ7を反応管1にかぶせる。
次いで所定のガスを反応管1内に流し、加熱機構(図示
せず)を働かせて反応管内を加熱する。
熱電対6の温度検出端13は回路切換器14を介して温
度記録計15に接続する。
以上のようにして反応管1内の温度が定常状態になった
後、回路切換器14を切換えて各熱電対6の示す温度を
温度記録計に記録させれば、反応管1断面内温度分布を
容易に測定し得る。
以上説明した方法によれば、温度測定時にも半導体基板
の加熱処理時と同一形状のキャップを反応管1に装着で
きるのでガスの流れも同一状態にすることができ、従っ
て実作業時の温度分布を正しく測定することが可能とな
る。
また反応管1の長さ方向の温度分布を測定することも、
熱電対6を長さ方向に移動せしめることにより従来と同
様に可能である。
以上説明したごとく、本考案の温度測定装置を用いるこ
とにより、反応管断面内及び長さ方向の温度分布を実作
業時と同じ状態で正確且つ迅速に測定することが可能と
なり、半導体基板の加熱処理の精度の向上のみならず作
業時間を短縮させることができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の反応管内温度の測定方法を示す要部断面
図、第2図は本考案に係る温度測定装置の一実施例を示
す要部断面図及び側面図である。 1・・・反応管、4・・・石英細管、6・・・温度検出
体、7・・・キャップ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 反応管を嵌挿せしめ、ガス導出口を有する石英よりなる
    キャップと、 該キャップ頂面を貫通して反応管内部に突出するごとく
    前記キャップ頂面に互いに隔りを有して植設された複数
    本の石英細管と、 該石英細管に挿設きれた複数本の温度検出体と、該温度
    検出体に接続され、前記石英細管の外に配設されて測定
    温度を明示する温度計を具備したことを特徴とする反応
    管内部温度測定装置。
JP4038879U 1979-03-28 1979-03-28 温度測定装置 Expired JPS5932907Y2 (ja)

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JP4038879U JPS5932907Y2 (ja) 1979-03-28 1979-03-28 温度測定装置

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JP4038879U JPS5932907Y2 (ja) 1979-03-28 1979-03-28 温度測定装置

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JPS55139435U JPS55139435U (ja) 1980-10-04
JPS5932907Y2 true JPS5932907Y2 (ja) 1984-09-14

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ID=28909015

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JPS5960454U (ja) * 1982-10-15 1984-04-20 三菱電機株式会社 真空管集熱器

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JPS55139435U (ja) 1980-10-04

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