JPS6273538U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6273538U JPS6273538U JP16368185U JP16368185U JPS6273538U JP S6273538 U JPS6273538 U JP S6273538U JP 16368185 U JP16368185 U JP 16368185U JP 16368185 U JP16368185 U JP 16368185U JP S6273538 U JPS6273538 U JP S6273538U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- semiconductor wafers
- tubular
- temperature distribution
- core tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 2
Description
第１図は本考案の第一実施例の断面図、第２図
は本考案の第二実施例の断面図、第３図は従来の
炉心管の断面図である。 １……炉心管、２……ヒーター、３……熱処理
室、４……温度分布測定管、５……温度分布測定
室、６……半導体ウエハー、７……ボート、８…
…温度測定器、９……管壁。
は本考案の第二実施例の断面図、第３図は従来の
炉心管の断面図である。 １……炉心管、２……ヒーター、３……熱処理
室、４……温度分布測定管、５……温度分布測定
室、６……半導体ウエハー、７……ボート、８…
…温度測定器、９……管壁。
Claims (1)
- 半導体ウエハーの熱処理管状炉炉心管において
、半導体ウエハーを中に入れて熱処理を行なう熱
処理室の長手方向軸心に平行な管状の温度分布測
定室を有することを特徴とする管状炉炉心管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16368185U JPS6273538U (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16368185U JPS6273538U (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6273538U true JPS6273538U (ja) | 1987-05-11 |
Family
ID=31092107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16368185U Pending JPS6273538U (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6273538U (ja) |
-
1985
- 1985-10-24 JP JP16368185U patent/JPS6273538U/ja active Pending