JPH01172459A - チタニウムフタロシアニン化合物,その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体 - Google Patents
チタニウムフタロシアニン化合物,その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体Info
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- -1 Titanium phthalocyanine compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 55
- 239000010936 titanium Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 47
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 claims description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 9
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium(II) oxide Chemical compound [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 9
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N phthalonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1C#N XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 4
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 238000007600 charging Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 3
- 238000007613 slurry method Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=CC2=C1 NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVCEPSDYHAHLX-UHFFFAOYSA-N 3-iminoisoindol-1-amine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=NC(=N)C2=C1 RZVCEPSDYHAHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- LBGCRGLFTKVXDZ-UHFFFAOYSA-M ac1mc2aw Chemical compound [Al+3].[Cl-].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 LBGCRGLFTKVXDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 2
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- AVGQTJUPLKNPQP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloropropane Chemical compound CCC(Cl)(Cl)Cl AVGQTJUPLKNPQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFKNYYQRWMMFSM-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-9h-carbazole;formaldehyde Chemical compound O=C.N1C2=CC=CC=C2C2=C1C(CC)=CC=C2 LFKNYYQRWMMFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSZXAFXFTLXUFV-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)C1=CC=CC=C1 BSZXAFXFTLXUFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHXBXWOHQZBGFT-UHFFFAOYSA-M 19631-19-7 Chemical compound N1=C(C2=CC=CC=C2C2=NC=3C4=CC=CC=C4C(=N4)N=3)N2[In](Cl)N2C4=C(C=CC=C3)C3=C2N=C2C3=CC=CC=C3C1=N2 AHXBXWOHQZBGFT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CGYGETOMCSJHJU-UHFFFAOYSA-N 2-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(Cl)=CC=C21 CGYGETOMCSJHJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STQPCKPKAIRSEL-UHFFFAOYSA-N 2-cyanobenzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1C#N STQPCKPKAIRSEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXWVEJFXXLLAIB-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-(diethylamino)-2-methylphenyl]-phenylmethyl]-n,n-diethyl-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C(=CC(=CC=1)N(CC)CC)C)C1=CC=CC=C1 XXWVEJFXXLLAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMZJGPXZLVUMIN-UHFFFAOYSA-N 5-(2-chlorophenyl)-1,3-oxazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1=CN=CO1 DMZJGPXZLVUMIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 9-ethylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(CC)C3=CC=CC=C3C2=C1 PLAZXGNBGZYJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSZJZNNASZFXKN-UHFFFAOYSA-N 9-propan-2-ylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C(C)C)C3=CC=CC=C3C2=C1 LSZJZNNASZFXKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAHQGWAXKLQREW-UHFFFAOYSA-N Benzal chloride Chemical compound ClC(Cl)C1=CC=CC=C1 CAHQGWAXKLQREW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- HQQKMOJOCZFMSV-UHFFFAOYSA-N dilithium phthalocyanine Chemical compound [Li+].[Li+].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 HQQKMOJOCZFMSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007786 electrostatic charging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920002382 photo conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCYFOPUXRMOLQM-UHFFFAOYSA-N pyrene-1-carbaldehyde Chemical compound C1=C2C(C=O)=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 RCYFOPUXRMOLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- YALHCTUQSQRCSX-UHFFFAOYSA-N sulfane sulfuric acid Chemical compound S.OS(O)(=O)=O YALHCTUQSQRCSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrabromide Chemical compound Br[Ti](Br)(Br)Br UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0696—Phthalocyanines
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、中心金属としてチタニウムを含有するフタロ
シアニン化合物およびその製造方法に関し。
シアニン化合物およびその製造方法に関し。
さらには、それを電荷発生剤として用いた優れた露光感
度特性1分光感度を有する電子写真感光体に関する。
度特性1分光感度を有する電子写真感光体に関する。
(従来の技術)
従来、電子写真感光体の感光体としては、セレン。
セレン合金、酸化亜鉛、硫化カドミウムおよびテルルな
どの無機光導電体を用いたものが主として使用されて来
た。近年、半導体レーザーの発展は目覚ましく、小型で
安定したレーザー発振器が安価に入手出来るようになり
、電子写真用光源として用いられ始めている。しかし、
これらの装置に短波長光を発振する半導体レーザーを用
いるのは、寿命、出力等を考えれば問題が多い。従って
、従来用いられて来た短波長領域に感度を持つ材料を半
導体レーザー用に使うには不適当であり、長波長領域(
780nm以上)に高感度を持つ材料を研究する必要が
生じて来た。最近は有機系の材料、特に長波長領域に感
度を持つことが期待されるフタロシアニンを使用し、こ
れを積層した積層型有機感光体の研究が盛んに行なわれ
ている。例えば、二価のフタロシアニンとしては、ε型
銅フタロシアニン(ε−CuPc)、X型無金属フタロ
シアニン(X−H2Pc)、 τ型無金属フタロシア
ニン(τ−H2Pc)が長波長領域に感度を持つ。三価
、四価の金属フタロシアニンとしては、クロロアルミニ
ウムフタロシアニン(/IPcCjり、 クロロアルミ
ニウムフタロシアニンクロライド(CIAIPcCl)
、オキソチタニウムフタロシアニン(TiOPc)また
はクロロインジウムフタロシアニン(InPcC1)
を蒸着し1次いで可溶性溶媒の蒸気に接触させて長波長
、高感度化する方法(特開昭57−39484号、特開
昭59−166959号公報)、第■族金属としてTi
。
どの無機光導電体を用いたものが主として使用されて来
た。近年、半導体レーザーの発展は目覚ましく、小型で
安定したレーザー発振器が安価に入手出来るようになり
、電子写真用光源として用いられ始めている。しかし、
これらの装置に短波長光を発振する半導体レーザーを用
いるのは、寿命、出力等を考えれば問題が多い。従って
、従来用いられて来た短波長領域に感度を持つ材料を半
導体レーザー用に使うには不適当であり、長波長領域(
780nm以上)に高感度を持つ材料を研究する必要が
生じて来た。最近は有機系の材料、特に長波長領域に感
度を持つことが期待されるフタロシアニンを使用し、こ
れを積層した積層型有機感光体の研究が盛んに行なわれ
ている。例えば、二価のフタロシアニンとしては、ε型
銅フタロシアニン(ε−CuPc)、X型無金属フタロ
シアニン(X−H2Pc)、 τ型無金属フタロシア
ニン(τ−H2Pc)が長波長領域に感度を持つ。三価
、四価の金属フタロシアニンとしては、クロロアルミニ
ウムフタロシアニン(/IPcCjり、 クロロアルミ
ニウムフタロシアニンクロライド(CIAIPcCl)
、オキソチタニウムフタロシアニン(TiOPc)また
はクロロインジウムフタロシアニン(InPcC1)
を蒸着し1次いで可溶性溶媒の蒸気に接触させて長波長
、高感度化する方法(特開昭57−39484号、特開
昭59−166959号公報)、第■族金属としてTi
。
Snおよびpbを含有するフタロシアニンを各種の置換
基、誘導体またはクラウンエーテルなどのシフト化剤を
用いて長波長処理をする方法(特願昭59−36254
号、特願昭59−204045号)により、長波長領域
に感度を得ている。
基、誘導体またはクラウンエーテルなどのシフト化剤を
用いて長波長処理をする方法(特願昭59−36254
号、特願昭59−204045号)により、長波長領域
に感度を得ている。
特開昭59−166959号公報記載の、基板上にオキ
ソチタニウムフタロシアニンまたはインジウムクロロフ
タロシアニンを蒸着し1次いで、可溶性溶媒の蒸気に接
触させることにより作成した電荷発生層を設けた電子写
真感光体は、蒸着層を結晶化するため、膜厚が不均一に
なり電子写真緒特性低下および画像欠陥を引き起す。ま
た、特開昭59−49544号公報記載の、オキソチタ
ニウムフタロシアニンを使用して電荷発生層を作成し、
その上に2゜6−シメトキシー9.10−ジヒドロキシ
アントラセンを原料とするポリエステルを主成分する電
荷移動層を設けた電子写真感光体は、残留電位が高く。
ソチタニウムフタロシアニンまたはインジウムクロロフ
タロシアニンを蒸着し1次いで、可溶性溶媒の蒸気に接
触させることにより作成した電荷発生層を設けた電子写
真感光体は、蒸着層を結晶化するため、膜厚が不均一に
なり電子写真緒特性低下および画像欠陥を引き起す。ま
た、特開昭59−49544号公報記載の、オキソチタ
ニウムフタロシアニンを使用して電荷発生層を作成し、
その上に2゜6−シメトキシー9.10−ジヒドロキシ
アントラセンを原料とするポリエステルを主成分する電
荷移動層を設けた電子写真感光体は、残留電位が高く。
使用方法に制約が多い。
従来、公知のオキソチタニウムフタロシアニンは。
強固に凝集した塊状粒子であり、凝集した粒子間に含ま
れる不純物が多く、結晶化の際に必ず結晶成長するため
、また顔料粒子径が大きいなどのために。
れる不純物が多く、結晶化の際に必ず結晶成長するため
、また顔料粒子径が大きいなどのために。
それらを用いて蒸着および分散塗布された電荷発生層は
、均一性および分散安定性を欠いていた。それにより、
均質な電荷発生層を得ることが鼎しく、美しい画像を得
ることや安定性のある感光体を得ることは出来なかった
。
、均一性および分散安定性を欠いていた。それにより、
均質な電荷発生層を得ることが鼎しく、美しい画像を得
ることや安定性のある感光体を得ることは出来なかった
。
例えば特開昭59−49544号、特開昭59−166
959号公報に示されているX線回折図から明らかなよ
うに、使用されているオキソチタニウムフタロシアニン
は光吸収効率が十分でなく、電荷発4′層のキャリア発
生効率の低下、電荷移動層へのキャリアーの注入効率の
低下、さらには、長期にわたる繰り返し使用時の耐劣化
特性、耐剛性9画像安定性などの電子写真諸特性を十分
満足していない欠点があった。
959号公報に示されているX線回折図から明らかなよ
うに、使用されているオキソチタニウムフタロシアニン
は光吸収効率が十分でなく、電荷発4′層のキャリア発
生効率の低下、電荷移動層へのキャリアーの注入効率の
低下、さらには、長期にわたる繰り返し使用時の耐劣化
特性、耐剛性9画像安定性などの電子写真諸特性を十分
満足していない欠点があった。
また、特開昭61−109056号、特開昭61−17
1771号およびUSP4.664.997により、熱
水処理した後、N−メチルピロリドン処理して精製した
チタンフタロシアニン化合物とバインダポリマーを含む
電荷発生層を設けた電子写真感光体は、N−メチルピロ
リドンによる熱懸濁処理の前後に使用されるアルコール
類およびエーテル類は極性が強いため、精製工程中チタ
ンフタロシアニン化合物の結晶粒子は強固に凝集し、そ
の後の精製は困難になる。合成時に生成する酸類、中間
不純物は凝集粒子の中や表面に残りやすく、そのために
次の工程で使用されるN−メチルピロリドンは分解し1
反応を起こし電気的緒特性は低下せざるを得ない。
1771号およびUSP4.664.997により、熱
水処理した後、N−メチルピロリドン処理して精製した
チタンフタロシアニン化合物とバインダポリマーを含む
電荷発生層を設けた電子写真感光体は、N−メチルピロ
リドンによる熱懸濁処理の前後に使用されるアルコール
類およびエーテル類は極性が強いため、精製工程中チタ
ンフタロシアニン化合物の結晶粒子は強固に凝集し、そ
の後の精製は困難になる。合成時に生成する酸類、中間
不純物は凝集粒子の中や表面に残りやすく、そのために
次の工程で使用されるN−メチルピロリドンは分解し1
反応を起こし電気的緒特性は低下せざるを得ない。
これらの場合光吸収効率が十分でなく、電荷発生層のキ
ャリア発生効率の低下、電荷移動層へのキャリアーの注
入効率の低下、さらには、長期にわたる繰り返し使用時
の耐劣化特性、耐剛性9画像安定性などの電子写真諸特
性を十分満足していない欠点があった々 プリンター用のデジタル光源として、LEDも実用化さ
れている。可視光領域のLEDも使われているが、一般
に実用化されているものは、650nm以上、標準的に
は660nmの発振波長を持っている。
ャリア発生効率の低下、電荷移動層へのキャリアーの注
入効率の低下、さらには、長期にわたる繰り返し使用時
の耐劣化特性、耐剛性9画像安定性などの電子写真諸特
性を十分満足していない欠点があった々 プリンター用のデジタル光源として、LEDも実用化さ
れている。可視光領域のLEDも使われているが、一般
に実用化されているものは、650nm以上、標準的に
は660nmの発振波長を持っている。
アゾ化合物、ペリレン化合物、セレン、酸化亜鉛等は、
650nm前後で充分な光感度を有するとは言えない。
650nm前後で充分な光感度を有するとは言えない。
従来までに報告されているオキソチタニウムフタロシア
ニンを電荷発生剤に用いた電子写真感光体の最大感度波
長は780〜830(nm)のみにあり、600〜70
0(nm)の感度は低くなり。
ニンを電荷発生剤に用いた電子写真感光体の最大感度波
長は780〜830(nm)のみにあり、600〜70
0(nm)の感度は低くなり。
LED用感光感光体ては不十分であった。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は、優れた露光感度特性1分光感度に加え
て、長期にわたる繰り返し使用時の耐劣化特性、耐刷性
、および画像安定性を有する電子写真感光体を得ること
にある。
て、長期にわたる繰り返し使用時の耐劣化特性、耐刷性
、および画像安定性を有する電子写真感光体を得ること
にある。
(問題点を解決するための手段および作用)本発明は、
X線回折図において、ブラング角度(2θ±0.2’)
の26.2°のみに明確なX線回折ピークを示すチタニ
ウムフタロシアニン化合物である。さらにはチタニウム
フタロシアニン化合物を100℃以上の温度で加熱する
チタニウムフタロシアニン化合物の製造方法である。さ
らには、電荷発生剤および電荷移動剤を使用してなる電
子写真感光体において、電荷発生剤が該チタニウムフタ
ロシアニン化合物である電子写真感光体により前記の目
的を達成した。本発明で使用されるチタニウムフタロシ
アニン化合物は、いずれの置換基、置換基数を有してい
ても良い、また、前記のX線回折図を示すものであれば
単独または二種類以上の化学構造式を示すチタニウムフ
タロシアニン化合物の混合物であっても良い。
X線回折図において、ブラング角度(2θ±0.2’)
の26.2°のみに明確なX線回折ピークを示すチタニ
ウムフタロシアニン化合物である。さらにはチタニウム
フタロシアニン化合物を100℃以上の温度で加熱する
チタニウムフタロシアニン化合物の製造方法である。さ
らには、電荷発生剤および電荷移動剤を使用してなる電
子写真感光体において、電荷発生剤が該チタニウムフタ
ロシアニン化合物である電子写真感光体により前記の目
的を達成した。本発明で使用されるチタニウムフタロシ
アニン化合物は、いずれの置換基、置換基数を有してい
ても良い、また、前記のX線回折図を示すものであれば
単独または二種類以上の化学構造式を示すチタニウムフ
タロシアニン化合物の混合物であっても良い。
従来報告されている結晶性粗大粒子を電荷発生層に含有
した電子写真感光体は、光吸収効率の低下により、キャ
リア発注数が減少し光感度が低下する。
した電子写真感光体は、光吸収効率の低下により、キャ
リア発注数が減少し光感度が低下する。
また電荷発生層が不均一のため電荷輸送層に対するキャ
リアの注入効率も低下し、その結果、静電特性としては
、インダクション現象が起きたり1表面型位が低下した
り、繰り返し使用時の電位安定性が劣る等の感光体の感
度上好ましくない現象が生じる。
リアの注入効率も低下し、その結果、静電特性としては
、インダクション現象が起きたり1表面型位が低下した
り、繰り返し使用時の電位安定性が劣る等の感光体の感
度上好ましくない現象が生じる。
また1画像としても均質性を欠き、微小な欠陥を生じる
。
。
電荷発生層として使用されるオキソチタニウムフタロシ
アニンは、λ=1.5418 (A、 U、 ”)
(7)Cukαの放射線を用いて2θ(±2°)=9
.2°。
アニンは、λ=1.5418 (A、 U、 ”)
(7)Cukαの放射線を用いて2θ(±2°)=9
.2°。
13.1”、20.7”、26.2°および27.1@
(θはブラッグ角)にX線回折ピークを持つもの(特
開昭59−49544号)、2θ=7.5°、12.6
°。
(θはブラッグ角)にX線回折ピークを持つもの(特
開昭59−49544号)、2θ=7.5°、12.6
°。
13.0 ’、 25.4 @26.2 ’および2
8.6°にX線回折ピークを持つもの(特開昭59−1
66959号)、2θ=7.5’、12.3°、 1
6.3”、 25.30および28.7°にX線回折
ピークを持つα型(特開昭61−239248号)、2
θ=9.3’、10゜6°、13.2@、15.1’、
15.7°、16.1”。
8.6°にX線回折ピークを持つもの(特開昭59−1
66959号)、2θ=7.5’、12.3°、 1
6.3”、 25.30および28.7°にX線回折
ピークを持つα型(特開昭61−239248号)、2
θ=9.3’、10゜6°、13.2@、15.1’、
15.7°、16.1”。
20.8°、 23.3 ”、 26.3°および
27.1°にX線回折ピークを持つβ型(特開昭62−
67094号、 U S P 4.664.997号)
が公知であるが、これらは結晶型のオキソチタニウムフ
タロシアニンであり、それぞれの方法で合成および溶剤
で着装された材料は前記記載の理由で問題が多く、高品
位の感光体であるとは言い難い。本発明のチタニウムフ
タロシアニン化合物を電荷発生剤として用いた感光体は
1以上に示したオキソチタニウムフタロシアニンに比べ
て光露光時の感度が良い。
27.1°にX線回折ピークを持つβ型(特開昭62−
67094号、 U S P 4.664.997号)
が公知であるが、これらは結晶型のオキソチタニウムフ
タロシアニンであり、それぞれの方法で合成および溶剤
で着装された材料は前記記載の理由で問題が多く、高品
位の感光体であるとは言い難い。本発明のチタニウムフ
タロシアニン化合物を電荷発生剤として用いた感光体は
1以上に示したオキソチタニウムフタロシアニンに比べ
て光露光時の感度が良い。
以下に本発明のチタニウムフタロシアニン化合物の製造
方法を示す。
方法を示す。
一般的にフタロシアニンは、フタロジニトリルと金属塩
化物とを加熱融解または有機溶媒存在下で加熱するフタ
ロジニトリル法、無水フタル酸を尿素および金属塩化物
と加熱融解または有機溶媒存在下で加熱するワイラー法
、シアノベンズアミドと金属塩とを高温で反応させる方
法、ジリチウムフタロシアニンと金属塩を反応させる方
法があるが、これらに限定されるものではない。また有
機溶媒としては。
化物とを加熱融解または有機溶媒存在下で加熱するフタ
ロジニトリル法、無水フタル酸を尿素および金属塩化物
と加熱融解または有機溶媒存在下で加熱するワイラー法
、シアノベンズアミドと金属塩とを高温で反応させる方
法、ジリチウムフタロシアニンと金属塩を反応させる方
法があるが、これらに限定されるものではない。また有
機溶媒としては。
α−クロロナフタレン、β−クロロナフタレン、α−メ
チルナフタレン、メトキシナフタレン、ジフェニルエタ
ン、エチレングリコール、ジアルキルエーテル、キノリ
ン、スルホラン、ジクロロベンゼン。
チルナフタレン、メトキシナフタレン、ジフェニルエタ
ン、エチレングリコール、ジアルキルエーテル、キノリ
ン、スルホラン、ジクロロベンゼン。
ジクロロトルエンなどの反応不活性な高沸点の溶媒が望
ましい、すなわち2本発明のチタニウムフタロシアニン
化合物は1例えばフタロジニトリルとチタニウム化合物
(望ましくは副生成物が少なく低価格である四塩化チタ
ンを)上記の有i溶媒中、150〜300℃の温度範囲
で加熱攪拌して合成することが出来る。また、フタロジ
ニトリルの代りに、ジイミノイソインドリンなどのイン
ドリン系化合物、もしくは、1−アミノ−3−イミノイ
ソインドレニンなどのインドレニン系化合物を使用する
ことも出来。
ましい、すなわち2本発明のチタニウムフタロシアニン
化合物は1例えばフタロジニトリルとチタニウム化合物
(望ましくは副生成物が少なく低価格である四塩化チタ
ンを)上記の有i溶媒中、150〜300℃の温度範囲
で加熱攪拌して合成することが出来る。また、フタロジ
ニトリルの代りに、ジイミノイソインドリンなどのイン
ドリン系化合物、もしくは、1−アミノ−3−イミノイ
ソインドレニンなどのインドレニン系化合物を使用する
ことも出来。
チタニウム化合物も、四塩化チタンに限らず、三塩化チ
タン、四臭化チタンなどであっても良い。
タン、四臭化チタンなどであっても良い。
本発明で使用するチタニウムを含有するフタロシアニン
は、モーザーおよびトーマスの[フタロシアニン化合物
J (Moser and Thomas“Ph
thalocyanine Compounds”)
等の公知方法および前記の適切な方法によって得られた
合成物を酸、アルカリ、アセトン、メチルエチルケトン
、テトラヒドロフラン、ピリジン。
は、モーザーおよびトーマスの[フタロシアニン化合物
J (Moser and Thomas“Ph
thalocyanine Compounds”)
等の公知方法および前記の適切な方法によって得られた
合成物を酸、アルカリ、アセトン、メチルエチルケトン
、テトラヒドロフラン、ピリジン。
キノリン、スルホラン、α−゛クロロナフタレン、トル
エン、ジオキサン、キシレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロプロ
パン、N、N’ −ジメチルアセトアミド。
エン、ジオキサン、キシレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロプロ
パン、N、N’ −ジメチルアセトアミド。
N−メチルピロリドン、N、N’ −ジメチルホルム
アミド等により精製して得られる。精製法としては洗浄
法、再結晶法、ソックスレー等の抽出法、および熱懸濁
法などがある。また、昇華精製することも可能である。
アミド等により精製して得られる。精製法としては洗浄
法、再結晶法、ソックスレー等の抽出法、および熱懸濁
法などがある。また、昇華精製することも可能である。
精製方法は、これらに限られるものではなく、未反応物
1反応副生成物および不純物を取り除く作用であればい
ずれでも良い。
1反応副生成物および不純物を取り除く作用であればい
ずれでも良い。
なお9本発明に係わるチタニウムフタロシアニン化合物
とは、主としてTiOを中心核とするフタロシアニン化
合物である。但し、T i CI F I T 1Br
2等を中心核とするものを出発材料として使用すること
ができるが1種々の処理によって簡単に中心核がTiO
となるためにT t C1z 、 T i B r を
等を中心核とするものは安定して得にくい。また、チタ
ニウムフタロシアニン化合物として、低ハロゲン化チタ
ニウムフタロシアニン化合物であってもよい。
とは、主としてTiOを中心核とするフタロシアニン化
合物である。但し、T i CI F I T 1Br
2等を中心核とするものを出発材料として使用すること
ができるが1種々の処理によって簡単に中心核がTiO
となるためにT t C1z 、 T i B r を
等を中心核とするものは安定して得にくい。また、チタ
ニウムフタロシアニン化合物として、低ハロゲン化チタ
ニウムフタロシアニン化合物であってもよい。
−以上の方法で得られたチタニウムフタロシアニン化合
物は、充分な感度および緒特性を有するものではない。
物は、充分な感度および緒特性を有するものではない。
従って、さらには、チタニウムフタロシアニン化合物に
、フタロシアニン分子に置換基を有するフタロシアニン
誘導体(または金属酸化物)を添加した後に、または添
加することなしにアシッドペースティングまたはアシッ
ドスラリー法により処理を行う。
、フタロシアニン分子に置換基を有するフタロシアニン
誘導体(または金属酸化物)を添加した後に、または添
加することなしにアシッドペースティングまたはアシッ
ドスラリー法により処理を行う。
アシッドペースティング法、アシッドスラリー法は、従
来より知られている硫酸等の強酸を用いる顔料化法であ
る。粗顔料(crude pigment)をやや大量
の濃硫酸等に溶解して処理するのがアシッドペースティ
ング法であり、顔料を溶解するには不十分な量と濃度の
硫酸等で処理する方法がアシッドスラリー法である。
来より知られている硫酸等の強酸を用いる顔料化法であ
る。粗顔料(crude pigment)をやや大量
の濃硫酸等に溶解して処理するのがアシッドペースティ
ング法であり、顔料を溶解するには不十分な量と濃度の
硫酸等で処理する方法がアシッドスラリー法である。
上記のアシッドペースティング法、アシッドスラリー法
により得られたチタニウムフタロシアニン化合物は均一
ではない。
により得られたチタニウムフタロシアニン化合物は均一
ではない。
従って2粒子を均一にする工程が必要である。すなわち
、チタニウムフタロシアニン化合物の化学的処理直後の
粒子、または処理後にTHFやアセトン等の溶剤により
結晶を整えた粒子を機械的磨砕法により、歪力やせん断
力を加えて調整される。
、チタニウムフタロシアニン化合物の化学的処理直後の
粒子、または処理後にTHFやアセトン等の溶剤により
結晶を整えた粒子を機械的磨砕法により、歪力やせん断
力を加えて調整される。
使用される装置としては、ニーダ−、バンバリーミキサ
−、アトライター、エツジランナーミル、ロールミル、
ボールミル、サンドミル、5PEXミル。
−、アトライター、エツジランナーミル、ロールミル、
ボールミル、サンドミル、5PEXミル。
ホモミキサー、ディスパーザ−、アジター、ジジークラ
ッシャー、スタンプミル、カッターミル、マイクロナイ
ザー等あるが、これらに限られるものではない。
ッシャー、スタンプミル、カッターミル、マイクロナイ
ザー等あるが、これらに限られるものではない。
使用される分散メディアとしては9例えば、ガラスピー
ズ、スチールビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナボー
ル、ジルコニアボール、鋼球、フリント石が挙げられる
が、必ずしも必要ではない。
ズ、スチールビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナボー
ル、ジルコニアボール、鋼球、フリント石が挙げられる
が、必ずしも必要ではない。
また、必要があれば2食塩やばう硝等の磨砕助剤を使用
することも可能である。粒子の調整は歪力やせん断力が
試料に最も効率良く加わる乾式法、または粒子の均一調
整の容易な湿式法が選択される。湿式法は、磨砕時に液
状の溶剤を使用する。例えば。
することも可能である。粒子の調整は歪力やせん断力が
試料に最も効率良く加わる乾式法、または粒子の均一調
整の容易な湿式法が選択される。湿式法は、磨砕時に液
状の溶剤を使用する。例えば。
グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール等のアルコール系溶剤、カ
ルピトール系溶剤、セロソルブ系溶剤、ケトン系溶剤、
エステルケトン系溶剤等の中から1種以上選択される。
ル、ポリエチレングリコール等のアルコール系溶剤、カ
ルピトール系溶剤、セロソルブ系溶剤、ケトン系溶剤、
エステルケトン系溶剤等の中から1種以上選択される。
また、フタロシアニン分子に置換基を有するフタロシア
ニン誘導体は、アシッドペースティングやアシッドスラ
リー法などの化学的処理の前に混合しても良いし、化学
的処理後に混合して機械的磨砕しても良い。また、場合
によっては化学的処理なしに。
ニン誘導体は、アシッドペースティングやアシッドスラ
リー法などの化学的処理の前に混合しても良いし、化学
的処理後に混合して機械的磨砕しても良い。また、場合
によっては化学的処理なしに。
機械的磨砕のみで粒子の均一化を計っても良い。
さらには、前記の方法で得られたチタニウムフタロシア
ニン化合物を100℃以上の温度で加熱することにより
1本発明のチタニウムフタロシアニン化合物を得ること
が出来る。チタニウムフタロシアニン化合物を加熱する
ことにより、不純物化合物等が除去されること、X線回
折図上に、目的とするブラッグ角度26.2’のピーク
のみが得られること等の利点があり、高純度および高感
度のチタニウムフタロシアニン化合物が得られる。
ニン化合物を100℃以上の温度で加熱することにより
1本発明のチタニウムフタロシアニン化合物を得ること
が出来る。チタニウムフタロシアニン化合物を加熱する
ことにより、不純物化合物等が除去されること、X線回
折図上に、目的とするブラッグ角度26.2’のピーク
のみが得られること等の利点があり、高純度および高感
度のチタニウムフタロシアニン化合物が得られる。
本発明により得られたチタニウムフタロシアニン化合物
を用いた電荷発生層は、光吸収効率の大きな均一層であ
り、電荷発生層中の粒子間、電荷発生層と電荷移動層の
間、電荷発生層と下引き層または導電性基板の間の空隙
が少なく、繰り返し使用時での。
を用いた電荷発生層は、光吸収効率の大きな均一層であ
り、電荷発生層中の粒子間、電荷発生層と電荷移動層の
間、電荷発生層と下引き層または導電性基板の間の空隙
が少なく、繰り返し使用時での。
電位安定性、明部電位のト昇防止等の電子写真感光体と
しての特性、および1画像欠陥の減少、耐剛性等、多く
の要求を満足する電子写真感光体を得ることができる。
しての特性、および1画像欠陥の減少、耐剛性等、多く
の要求を満足する電子写真感光体を得ることができる。
n型感光体は、導電性基板上に、下引き層、電荷発生層
、電荷移動層の順に積層し作成される。またp型感光体
は、下引き層上に電荷移動層、電荷発生層の順に積層し
たもの、または、下引き層Hに電荷発生剤と電荷移動剤
とを適当な樹脂と共に分散塗工し作成されたものがある
。善感光体ともに必要があれば表面保護およびトナーに
よるフィルミング防止等の意味でオーバーコート層を設
けることも出来る。
、電荷移動層の順に積層し作成される。またp型感光体
は、下引き層上に電荷移動層、電荷発生層の順に積層し
たもの、または、下引き層Hに電荷発生剤と電荷移動剤
とを適当な樹脂と共に分散塗工し作成されたものがある
。善感光体ともに必要があれば表面保護およびトナーに
よるフィルミング防止等の意味でオーバーコート層を設
けることも出来る。
また、下引き層は、必要がなければ除くことが出来る。
本発明のチタニウムフタロシアニン化合物は、前記各種
感光体についてすべて好適に用いられる。また、電荷発
生層は、チタニウムフタロシアニン化合物と樹脂とを適
切な溶媒とで分散塗工して得られるが、必要であれば、
樹脂を除いて溶媒のみで分散塗工しても使用出来る。
感光体についてすべて好適に用いられる。また、電荷発
生層は、チタニウムフタロシアニン化合物と樹脂とを適
切な溶媒とで分散塗工して得られるが、必要であれば、
樹脂を除いて溶媒のみで分散塗工しても使用出来る。
また電荷発生層を蒸着により得ることは公知であるが9
本発明により得られた材料は、微小な一次粒芋まで処理
され、準非結晶化されているので、また粒子間に存在し
た不純物が除去されるためにきわめて効率良く蒸着する
ことが出来、蒸着用材料としても有効である。
本発明により得られた材料は、微小な一次粒芋まで処理
され、準非結晶化されているので、また粒子間に存在し
た不純物が除去されるためにきわめて効率良く蒸着する
ことが出来、蒸着用材料としても有効である。
感光体の塗工は、スピンコーター、アプリケーター、ス
プレーコーター、バーコーター、tifMコーター、ド
クターブレード、ローラーコーター、カーテンコーター
、ビードコーター装置を用いて行ない。
プレーコーター、バーコーター、tifMコーター、ド
クターブレード、ローラーコーター、カーテンコーター
、ビードコーター装置を用いて行ない。
乾燥は、40〜200℃、10分〜6時間の範囲で静止
または送風条件下で行なう。乾燥後膜厚は00O1から
5ミクロン、望ましくは0.1から1ミクロンになるよ
うに塗工される。
または送風条件下で行なう。乾燥後膜厚は00O1から
5ミクロン、望ましくは0.1から1ミクロンになるよ
うに塗工される。
電荷発生層を塗工によって形成する際に用いうるバイン
ダーとしては広範な絶縁性樹脂から選択でき。
ダーとしては広範な絶縁性樹脂から選択でき。
マタポリーN−ビニルカルバゾール、ポリビニルアント
ラセンやポリビニルピレンなどの有機光導電性ポリマー
から選択できる。好ましくは、ポリビニルブチラール、
ボリアリレート(ビスフェノールAとフタル酸の縮重合
体など)、ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキ
シ樹脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリル
アミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルピリジン、セ
ルロース系樹脂、ウレタン…脂、エポキシ樹脂、シリコ
ン樹脂、ポリスチレン、ポリケトン樹脂、ポリ塩化ビニ
ル、塩ビー酸ビ共重合体、ポリビニルアセクール、ポリ
ビニルホルマール、ポリアクリロニトリル、フェノール
樹脂、メラミン樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール
、ポリビニルピロリドン等のvA縁性樹脂を挙げること
ができる。電荷発生層中に含有する樹脂は、100重量
%以下、好ましくは40重量%以下が適している。また
これらの樹脂は、1種または2種以上組合せて用いても
良い、これらの樹脂を溶解する溶剤は樹脂の種類によっ
て異なり、後述する電荷発生層や下引き層を塗工時に影
響を与えないものから選択することが好ましい。具体的
にはベンゼン、キシレン、リグロイン、モノクロルベン
ゼン、′ジクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケ
トン類。
ラセンやポリビニルピレンなどの有機光導電性ポリマー
から選択できる。好ましくは、ポリビニルブチラール、
ボリアリレート(ビスフェノールAとフタル酸の縮重合
体など)、ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキ
シ樹脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリル
アミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルピリジン、セ
ルロース系樹脂、ウレタン…脂、エポキシ樹脂、シリコ
ン樹脂、ポリスチレン、ポリケトン樹脂、ポリ塩化ビニ
ル、塩ビー酸ビ共重合体、ポリビニルアセクール、ポリ
ビニルホルマール、ポリアクリロニトリル、フェノール
樹脂、メラミン樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール
、ポリビニルピロリドン等のvA縁性樹脂を挙げること
ができる。電荷発生層中に含有する樹脂は、100重量
%以下、好ましくは40重量%以下が適している。また
これらの樹脂は、1種または2種以上組合せて用いても
良い、これらの樹脂を溶解する溶剤は樹脂の種類によっ
て異なり、後述する電荷発生層や下引き層を塗工時に影
響を与えないものから選択することが好ましい。具体的
にはベンゼン、キシレン、リグロイン、モノクロルベン
ゼン、′ジクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素、アセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケ
トン類。
メタノール、エタノール、イソプロパツールなどのアル
コール類、酢酸エチル、メチルセロソルブ、などのエス
テル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロルメタン、
ジクロルエタン、トリクロルエチレンなどの脂肪族ハロ
ゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
エチレングリコール七ツメチルエーテルなどのエーテル
類、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類、およびジメチルスルホキ
シドなどのスルホキシド類が用いられる。蒸着法により
電荷発生層を形成することも出来、10−’〜10−’
Torr程度の真空下で蒸着し、膜厚は0.01から5
ミクロン、望ましくは0.05から0.5ミクロンが良
い。
コール類、酢酸エチル、メチルセロソルブ、などのエス
テル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロルメタン、
ジクロルエタン、トリクロルエチレンなどの脂肪族ハロ
ゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
エチレングリコール七ツメチルエーテルなどのエーテル
類、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類、およびジメチルスルホキ
シドなどのスルホキシド類が用いられる。蒸着法により
電荷発生層を形成することも出来、10−’〜10−’
Torr程度の真空下で蒸着し、膜厚は0.01から5
ミクロン、望ましくは0.05から0.5ミクロンが良
い。
電荷移動層は、電荷移動剤単体または結着剤樹脂に溶解
分散させて形成される。電荷移動物質としては電子移動
物質と正孔移動性物質があり、電子移動物質としては、
クロルアニル、ブロモアニル、テトラシアノエチレン、
テトラシアノキノジメタン、2゜4.7−ドリニトロー
9−フルオレノン、2.4.5.7−テトラニトロ−9
−フルオレノン、2.4.7−)ジニトロ−9−ジシア
ノメチレンフルオレノン、2.4.5゜7−チトラニト
ロキサントン、2.4.8−1−リニトロチオキサント
ン等の電子吸引性物質やこれら電子吸引物質を高分子化
したもの等がある。
分散させて形成される。電荷移動物質としては電子移動
物質と正孔移動性物質があり、電子移動物質としては、
クロルアニル、ブロモアニル、テトラシアノエチレン、
テトラシアノキノジメタン、2゜4.7−ドリニトロー
9−フルオレノン、2.4.5.7−テトラニトロ−9
−フルオレノン、2.4.7−)ジニトロ−9−ジシア
ノメチレンフルオレノン、2.4.5゜7−チトラニト
ロキサントン、2.4.8−1−リニトロチオキサント
ン等の電子吸引性物質やこれら電子吸引物質を高分子化
したもの等がある。
正孔移動物質がとしては、ピレン、N−エチルカルバゾ
ール、N−イソプロピルカルバゾール、N−メチル−N
−フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチルカ
ルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチ
リデン−9−エチルカルバゾール、N、N−ジフェニル
ヒドラジノ−3−メチリデン−IO−エチルフェノチア
ジン、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン
−10−エチルフェノキサジン、P−ジエチルアミノベ
ンズアルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、P−
ジエチルアミノベンズアルデヒド−N−α−ナフチル−
N−フェニルヒドラゾン、P−ピロリジノベンズアルデ
ヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、2−メチル−4
−ジベンジルアミノベンズアルデヒド−1′−エチル−
1′−ベンゾチアゾリルヒドラゾン、2−メチル−4−
ジベンジルアミノベンズアルデヒド−1′−プロピル−
1′−ベンゾチアゾリルヒドラゾン、2−メチル−4−
ジベンジルアミノベンズアルデヒド−1’、1’−ジフ
ェニルヒドラゾン、9−エチルカルバゾール−3−カル
ボキサルデヒド−1′−メチル−1′−フェニルヒドラ
ゾン、1−トリル−1,2,3,4−テトラヒドロキノ
リン−6τカルボキシアルデヒド−1’、1’−ジフェ
ニルヒドラゾン、1.3.3−)ジメチルインドレニン
−ω−アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、P
−ジエチルベンズアルデヒド−3−メチルベンズチアゾ
リノン−2−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、2゜5−ビ
ス(P−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキ
サジアゾール、l−フェニル−3−(P−ジエチルアミ
ノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン、1−〔キノリル(2))−3−(P−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2))−3−(P−
ジエチルアミノスチリル) −5−(P−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、1−(6−メドキシービリジ
ル(2)) −3−(P−ジエチルアミノスチリル)−
5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、l−
〔ピリジル(3))−3−(P−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(P−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン
、!−〔レビジル(2)〕−3−(P−ジエチルアミノ
スチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラ
ゾリン、1−〔ピリジル(2)) −3−(P−ジエチ
ルアミノスチリル)−4−メチル−5−(P−ジエチル
アミノフェニル)ピラゾリン、l−〔ピリジル!2))
−3−(α−メチル−P−ジエチルアミノスチリル)−
5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、l−
フェニル−3−(P−ジエチルアミノスチリル)−4−
メチル−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリ
ン、1−フェニル−3−(α−ベンジル−P−ジエチル
アミノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル
)−6−ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピラゾリ
ン類、2−(P−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニ
チルアミノベンズオキサゾール、2−(P−ジエチルア
ミノフェニル)−4−(P−ジエチルアミノフェニル)
−5−(2−クロロフェニル)オキサゾール等のオキサ
ゾール系化合物。4.4−ビス(2−(4−ジエチルア
ミノフェニル)ビニル〕ビフェニル、α−フェニル−4
−N。
ール、N−イソプロピルカルバゾール、N−メチル−N
−フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチルカ
ルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチ
リデン−9−エチルカルバゾール、N、N−ジフェニル
ヒドラジノ−3−メチリデン−IO−エチルフェノチア
ジン、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン
−10−エチルフェノキサジン、P−ジエチルアミノベ
ンズアルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、P−
ジエチルアミノベンズアルデヒド−N−α−ナフチル−
N−フェニルヒドラゾン、P−ピロリジノベンズアルデ
ヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、2−メチル−4
−ジベンジルアミノベンズアルデヒド−1′−エチル−
1′−ベンゾチアゾリルヒドラゾン、2−メチル−4−
ジベンジルアミノベンズアルデヒド−1′−プロピル−
1′−ベンゾチアゾリルヒドラゾン、2−メチル−4−
ジベンジルアミノベンズアルデヒド−1’、1’−ジフ
ェニルヒドラゾン、9−エチルカルバゾール−3−カル
ボキサルデヒド−1′−メチル−1′−フェニルヒドラ
ゾン、1−トリル−1,2,3,4−テトラヒドロキノ
リン−6τカルボキシアルデヒド−1’、1’−ジフェ
ニルヒドラゾン、1.3.3−)ジメチルインドレニン
−ω−アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、P
−ジエチルベンズアルデヒド−3−メチルベンズチアゾ
リノン−2−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、2゜5−ビ
ス(P−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキ
サジアゾール、l−フェニル−3−(P−ジエチルアミ
ノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン、1−〔キノリル(2))−3−(P−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2))−3−(P−
ジエチルアミノスチリル) −5−(P−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、1−(6−メドキシービリジ
ル(2)) −3−(P−ジエチルアミノスチリル)−
5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、l−
〔ピリジル(3))−3−(P−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(P−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン
、!−〔レビジル(2)〕−3−(P−ジエチルアミノ
スチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラ
ゾリン、1−〔ピリジル(2)) −3−(P−ジエチ
ルアミノスチリル)−4−メチル−5−(P−ジエチル
アミノフェニル)ピラゾリン、l−〔ピリジル!2))
−3−(α−メチル−P−ジエチルアミノスチリル)−
5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、l−
フェニル−3−(P−ジエチルアミノスチリル)−4−
メチル−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリ
ン、1−フェニル−3−(α−ベンジル−P−ジエチル
アミノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル
)−6−ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピラゾリ
ン類、2−(P−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニ
チルアミノベンズオキサゾール、2−(P−ジエチルア
ミノフェニル)−4−(P−ジエチルアミノフェニル)
−5−(2−クロロフェニル)オキサゾール等のオキサ
ゾール系化合物。4.4−ビス(2−(4−ジエチルア
ミノフェニル)ビニル〕ビフェニル、α−フェニル−4
−N。
N−ジフェニル−アミノ−スチルベン等のスチルベン系
化合物、2−(P−ジエチルアミノスチリル)−6−ジ
ニチルアミノベンゾチゾール等のチアゾール系化合物、
ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)−フ
ェニルメタン等のトリアリールメタン系化合物、1.1
−ビス(4−N、N−ジエチルアミノ−2−メチルフェ
ニル)へブタン、1.1.2.2−テトラキス(4−N
、N−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)エタン等
のボリアリールアルカン類、トリフェニルアミン、ポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン2ポリビ
ニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9−
ビニルフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒ
ド樹脂。
化合物、2−(P−ジエチルアミノスチリル)−6−ジ
ニチルアミノベンゾチゾール等のチアゾール系化合物、
ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)−フ
ェニルメタン等のトリアリールメタン系化合物、1.1
−ビス(4−N、N−ジエチルアミノ−2−メチルフェ
ニル)へブタン、1.1.2.2−テトラキス(4−N
、N−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)エタン等
のボリアリールアルカン類、トリフェニルアミン、ポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン2ポリビ
ニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9−
ビニルフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒ
ド樹脂。
エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂などの化合物
があるが、これらに限られるものではない。
があるが、これらに限られるものではない。
これらの有機電荷移動物質の他に、セレン、セレン−テ
ルル、アモルファスシリコン、硫化カドミウムなどの無
機材料も用いることができる。
ルル、アモルファスシリコン、硫化カドミウムなどの無
機材料も用いることができる。
また、これらの電荷移動物質は、1種または2種以上組
合せて用いることができる。電荷移動層に用いられる樹
脂は、シリコン樹脂、ケトン樹脂、ポリメチルメタク°
リレートポリ塩化ビニル、アクリル樹脂、ボリアリレー
ト、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、
アクリロニトリル−スチレンコポリマー、アクリロニト
リルーブタジエンコポリマー、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルア
ミド、ポリアミド、塩素化ゴムなどの絶縁性樹脂、ポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、
ポリビニルピレンなどが用いられる。
合せて用いることができる。電荷移動層に用いられる樹
脂は、シリコン樹脂、ケトン樹脂、ポリメチルメタク°
リレートポリ塩化ビニル、アクリル樹脂、ボリアリレー
ト、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、
アクリロニトリル−スチレンコポリマー、アクリロニト
リルーブタジエンコポリマー、ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルア
ミド、ポリアミド、塩素化ゴムなどの絶縁性樹脂、ポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、
ポリビニルピレンなどが用いられる。
塗工方法は、スピンコーター、アプリケーター。
スプレーコーター、バーコーター、浸漬コーター。
ドクターブレード、ローラーコーター、カーテンコータ
ー、ビードコーター装置を用いて行ない、乾燥後膜厚は
5から50ミクロン、望ましくは10から20ミクロン
になるように塗工されるものが良い。
ー、ビードコーター装置を用いて行ない、乾燥後膜厚は
5から50ミクロン、望ましくは10から20ミクロン
になるように塗工されるものが良い。
これらの各層に加えて、帯電性の低下防止、接着性向上
などの目的で下引き層を導電性基板上に設けることがで
きる。下引き層として、ナイロン6、ナイロン66、ナ
イロン11.ナイロン610.共重合ナイロン、アルコ
キシメチル化ナイロンなどのポリアミド、カゼイン、ポ
リビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−ア
クリル酸コポリマー、ゼラチン、ポリウレタン、ポリビ
ニルブチラールおよび酸化アルミニウムなどの金属酸化
物が用いられる。
などの目的で下引き層を導電性基板上に設けることがで
きる。下引き層として、ナイロン6、ナイロン66、ナ
イロン11.ナイロン610.共重合ナイロン、アルコ
キシメチル化ナイロンなどのポリアミド、カゼイン、ポ
リビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−ア
クリル酸コポリマー、ゼラチン、ポリウレタン、ポリビ
ニルブチラールおよび酸化アルミニウムなどの金属酸化
物が用いられる。
また、酸化亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物、窒化ケイ
素、炭化ケイ素やカーボンブラッグなどの導電性および
誘電性粒子を樹脂中に含有させて調整することも出来る
。
素、炭化ケイ素やカーボンブラッグなどの導電性および
誘電性粒子を樹脂中に含有させて調整することも出来る
。
本発明の材料は800鶴の波長に吸収ピークを持ち、電
子写真感光体として複写機、プリンターに用いられるだ
けでなく、太陽電池、光電変換素子および光デイスク用
吸収材料としても好適である。
子写真感光体として複写機、プリンターに用いられるだ
けでなく、太陽電池、光電変換素子および光デイスク用
吸収材料としても好適である。
(実 施 例)
以下1本発明の実施例について具体的に説明する。
例中で部とは1重量部を示す。
本発明で使用されるフタロシアニン誘導体は例えば以下
の方法で得ることが出来る。ただし、カッコ外のPcは
フタロシアニン残基を、数字は分析による平均置換基数
を示す。
の方法で得ることが出来る。ただし、カッコ外のPcは
フタロシアニン残基を、数字は分析による平均置換基数
を示す。
参考例1
オキソチタニウムフタロシアニン15部、トリクロルベ
ンゼン500部、塩化アセチルクロライド25部および
塩化アルミニウム70部の混合物を60〜80℃で8時
間攪拌し、その後水中に投入し固形分を口過、水洗、乾
燥し9次式で示される化合物を得た。なお、 Ti0P
c−はオキソチタニウムフタロシアニン残基を示す。
ンゼン500部、塩化アセチルクロライド25部および
塩化アルミニウム70部の混合物を60〜80℃で8時
間攪拌し、その後水中に投入し固形分を口過、水洗、乾
燥し9次式で示される化合物を得た。なお、 Ti0P
c−はオキソチタニウムフタロシアニン残基を示す。
Ti0Pc −(C0Cf1zCl )t、 sこれに
、アミン類を公知の方法で反応させることにより1表1
に示す種々のフタロシアニン誘導体を得た。
、アミン類を公知の方法で反応させることにより1表1
に示す種々のフタロシアニン誘導体を得た。
表 1
実施例1
フタロジニトリル20.4部、四塩化チタン7.6部を
キノリン150部中で220℃にて4時間加熱反応後、
水蒸気蒸留で溶媒を除いた。次いで、2%塩酸水溶液、
続いて2%水酸化ナトリウム水溶液で精製した後にアセ
トンで精製し、試料を乾燥してオキシチタニウムフタロ
シアニン(TiOPc)21.3部を得た。
キノリン150部中で220℃にて4時間加熱反応後、
水蒸気蒸留で溶媒を除いた。次いで、2%塩酸水溶液、
続いて2%水酸化ナトリウム水溶液で精製した後にアセ
トンで精製し、試料を乾燥してオキシチタニウムフタロ
シアニン(TiOPc)21.3部を得た。
得られたTioPclO部に参考例で作製したフタロシ
アニン誘導体等(1−a)0.2部を添加混合した後に
、2℃の97%硫酸200部中に少しずつ溶解し、その
混合物を1時間、5℃以下の温度を保ちながら攪拌する
。続いてこの硫酸溶液を高速攪拌した2000部の氷水
中にゆっくりと注水して析出した結晶を口過する。結晶
を酸が残留しなくなるまで蒸留水で洗浄した後に乾燥し
てチタニウムフタロシアニン化合物を得た。
アニン誘導体等(1−a)0.2部を添加混合した後に
、2℃の97%硫酸200部中に少しずつ溶解し、その
混合物を1時間、5℃以下の温度を保ちながら攪拌する
。続いてこの硫酸溶液を高速攪拌した2000部の氷水
中にゆっくりと注水して析出した結晶を口過する。結晶
を酸が残留しなくなるまで蒸留水で洗浄した後に乾燥し
てチタニウムフタロシアニン化合物を得た。
以上の方法で得られたチタニウムフタロシアニン化合物
1部をボールミルに入れて、8時間磨砕した後に取り出
す。さらに、120℃に調整した加熱炉に30分間放置
した後に取り出してデシケータ−中で冷却する。以上の
方法で得られたチタニウムフタロシアニン化合物のX線
回折図を図1に示す。ブラッグ角度26.2°のみにピ
ークを有していた。
1部をボールミルに入れて、8時間磨砕した後に取り出
す。さらに、120℃に調整した加熱炉に30分間放置
した後に取り出してデシケータ−中で冷却する。以上の
方法で得られたチタニウムフタロシアニン化合物のX線
回折図を図1に示す。ブラッグ角度26.2°のみにピ
ークを有していた。
次に、電子写真感光体の作成方法を述べる。
共重合ナイロン(東し製アミランCM−8000) 1
0部をエタノール190部とともにボールミルで3時間
混合し、溶解させた塗液を、ポリエチレンテレフタレー
ト(PET)フィルムヒにアルミニウムを蒸着したシー
ト上に、ワイヤーバーで塗布した後、乾燥させて膜厚0
.5ミクロンの下引き層を持つシートを得た。
0部をエタノール190部とともにボールミルで3時間
混合し、溶解させた塗液を、ポリエチレンテレフタレー
ト(PET)フィルムヒにアルミニウムを蒸着したシー
ト上に、ワイヤーバーで塗布した後、乾燥させて膜厚0
.5ミクロンの下引き層を持つシートを得た。
本実施例で得たチタニウムフタロシアニン化合物2部を
THF 97部にポリビニルブチラール樹脂1部(積
木化学製BH−3)を溶解した樹脂液とともにボールミ
ルで6時間分散した。
THF 97部にポリビニルブチラール樹脂1部(積
木化学製BH−3)を溶解した樹脂液とともにボールミ
ルで6時間分散した。
この分散液を下引き層上に塗布し、乾燥させた後。
0.2ミクロンの電荷発生層を形成1次に電荷移動剤と
して、1−フェニル−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ノリン−6−カルポキシアルデヒドー1’、1’−ジフ
ェニルヒドラゾン10部、ポリカーボネート樹脂(奇人
化成製パンライ)K1300)10部を塩化メチレン1
00重量部に溶かした液を電荷発生層上に塗布、乾燥し
、15ミクロンの電荷移動層を形成し、電子写真感光体
を得て、その特性を測定した。
して、1−フェニル−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ノリン−6−カルポキシアルデヒドー1’、1’−ジフ
ェニルヒドラゾン10部、ポリカーボネート樹脂(奇人
化成製パンライ)K1300)10部を塩化メチレン1
00重量部に溶かした液を電荷発生層上に塗布、乾燥し
、15ミクロンの電荷移動層を形成し、電子写真感光体
を得て、その特性を測定した。
実施例2
加熱炉の温度を150℃にする以外は、実施例1と同じ
方法でチタニウムフタロシアニン化合物を作製し、電子
写真感光体を得た。本実施例により得られたチタニウム
フクロシアニン化合物のX線回折図を図2に示す0図1
よりも26.2’のピーク強度は強くなっているが、そ
の他の角度にはピークは見られない。
方法でチタニウムフタロシアニン化合物を作製し、電子
写真感光体を得た。本実施例により得られたチタニウム
フクロシアニン化合物のX線回折図を図2に示す0図1
よりも26.2’のピーク強度は強くなっているが、そ
の他の角度にはピークは見られない。
実施例3
フタロジニトリル20.4部、四塩化チタン7.6部を
キノリン150部中で220℃にて4時間加熱反応後、
水蒸気蒸留で溶媒を除いた。次いで、2%塩酸水溶液、
続いて2%水酸化ナトリウム水溶液で精製した後にアセ
トンで精製し、試料を乾燥してオキシチタニウムフタロ
シアニン(TiOPc)21.3部を得た。
キノリン150部中で220℃にて4時間加熱反応後、
水蒸気蒸留で溶媒を除いた。次いで、2%塩酸水溶液、
続いて2%水酸化ナトリウム水溶液で精製した後にアセ
トンで精製し、試料を乾燥してオキシチタニウムフタロ
シアニン(TiOPc)21.3部を得た。
以上の方法で得られたチタニウムフタロシアニン化合物
1部をボールミルに入れて、8時間磨砕した後に取り出
す。さらに、120℃に調整した加熱炉に30分間放置
した後に取り出してデシケータ−中で冷却する。以上の
方法で得られたチタニウムフタロシアニン化合物のX線
回折図は図1とほぼ同じであった。
1部をボールミルに入れて、8時間磨砕した後に取り出
す。さらに、120℃に調整した加熱炉に30分間放置
した後に取り出してデシケータ−中で冷却する。以上の
方法で得られたチタニウムフタロシアニン化合物のX線
回折図は図1とほぼ同じであった。
比較例1
フタロジニトリル20.4部、四塩化チタン7.6部を
230℃で3時間α−クロロナフタレン150部中で攪
拌した後、放冷し、100〜130℃で熱時口遇し、1
00℃に加熱したα−クロロナフタレンで洗浄する。さ
らにメタノールで口過した後に水洗してp Hが6〜8
になるまで繰り返す。
230℃で3時間α−クロロナフタレン150部中で攪
拌した後、放冷し、100〜130℃で熱時口遇し、1
00℃に加熱したα−クロロナフタレンで洗浄する。さ
らにメタノールで口過した後に水洗してp Hが6〜8
になるまで繰り返す。
得られたウェットケーキをN−メチルピロリドン中で1
40〜150℃で2時間加熱攪拌した後に口過し、メタ
ノールで洗浄、そして、乾燥して15.8部のTi0P
cを得た。このTi0PcのX線回折図を測定したとこ
ろ1図3に示される強いXwA回折線を持っていた。更
にこのTi0Pcを電荷発生剤に使用して実施例1と同
様の方法で感光体を作製し電子写真特性を測定した。結
果を表2に示す。
40〜150℃で2時間加熱攪拌した後に口過し、メタ
ノールで洗浄、そして、乾燥して15.8部のTi0P
cを得た。このTi0PcのX線回折図を測定したとこ
ろ1図3に示される強いXwA回折線を持っていた。更
にこのTi0Pcを電荷発生剤に使用して実施例1と同
様の方法で感光体を作製し電子写真特性を測定した。結
果を表2に示す。
電子写真特性は以下の方法で測定した。
静電複写紙試験装置5P−428(JIILI電機製)
により、スタティックモード2.コロナ帯電は−5゜2
KVで9表面型位(Vo)および5Luxの白色光また
はlμWに調整した800部mの光を照射して帯電量が
1/2まで減少する時間から白色光半減露光量感度(E
l/2)を調べた。
により、スタティックモード2.コロナ帯電は−5゜2
KVで9表面型位(Vo)および5Luxの白色光また
はlμWに調整した800部mの光を照射して帯電量が
1/2まで減少する時間から白色光半減露光量感度(E
l/2)を調べた。
表 2
表2により実施例1〜3の感光体は、白色および800
部mの光源に対して高感度であることが確認された。
部mの光源に対して高感度であることが確認された。
また2分光感度は、静電帯電試験装置を用いて。
感光体に−5,2K Vのコロナ帯電をさせた後、50
0Wのキセノンランプを光源とし、モノクロメータ−(
ジョバンイボン製)で単色光として照射し、帯電露光時
の光減衰で測定した。
0Wのキセノンランプを光源とし、モノクロメータ−(
ジョバンイボン製)で単色光として照射し、帯電露光時
の光減衰で測定した。
結果を図4に示す。実線は実施例1.破線は比較例1の
チタニウムフタロシアニン化合物を使用した結果である
。全ての波長領域で実施例1の感度が優れている。
チタニウムフタロシアニン化合物を使用した結果である
。全ての波長領域で実施例1の感度が優れている。
さらに3本例で作成した感光体を、コロナ帯電器。
露光部、現像部、転写帯電部、除電露光部およびクリー
ナーを持つ電子写真方式の複写機のドラムに貼り付けた
。この複写機の暗部電位を−650V、明部電位を一1
50Vに設定し、5ooo枚の繰り返し耐久試験の後2
画像を比較した。
ナーを持つ電子写真方式の複写機のドラムに貼り付けた
。この複写機の暗部電位を−650V、明部電位を一1
50Vに設定し、5ooo枚の繰り返し耐久試験の後2
画像を比較した。
5ooo枚の耐久試験の結果、実施例1〜3は極めて美
しい画像が得られた。しかし、比較例1は初期画像に比
べて5000回繰り返し後の画質は、繰り返しでの帯電
性の低下に伴う印字濃度の低下および白斑点、黒斑点の
数が増加している。実施例1〜3で作成された感光体は
、5000回繰り返し後でも初期印字濃度を保ち、白斑
点、黒斑点もほとんど見とめられない美しい画像が得ら
れた。本発明で得られた電子写真感光体は、半導体レー
ザーの発振波長領域の800nn+で0.4μJ/−以
上の高感度を有していることがわかる。
しい画像が得られた。しかし、比較例1は初期画像に比
べて5000回繰り返し後の画質は、繰り返しでの帯電
性の低下に伴う印字濃度の低下および白斑点、黒斑点の
数が増加している。実施例1〜3で作成された感光体は
、5000回繰り返し後でも初期印字濃度を保ち、白斑
点、黒斑点もほとんど見とめられない美しい画像が得ら
れた。本発明で得られた電子写真感光体は、半導体レー
ザーの発振波長領域の800nn+で0.4μJ/−以
上の高感度を有していることがわかる。
本発明により得られたチタニウムフタロシアニン化合物
を電荷発生剤として使用することにより、高感度、繰り
返しでの安定性が良い電子写真感光体を得ることが出来
た。それにより、安定して美しい画像を得ることも可能
となり、750nm以上の長波長領域で高感度を有する
ことから、半導体レーザーを光源とするプリンター用感
光体として最適である。
を電荷発生剤として使用することにより、高感度、繰り
返しでの安定性が良い電子写真感光体を得ることが出来
た。それにより、安定して美しい画像を得ることも可能
となり、750nm以上の長波長領域で高感度を有する
ことから、半導体レーザーを光源とするプリンター用感
光体として最適である。
図1〜3は、それぞれ実施例1.2および比較例1で得
られた。チタニウムフタロシアニン化合物のCuKα線
を用いたX線回折図。図4は実施例】。 比較例1の分光感度をそれぞれ表す。
られた。チタニウムフタロシアニン化合物のCuKα線
を用いたX線回折図。図4は実施例】。 比較例1の分光感度をそれぞれ表す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、X線回折図において、ブラッグ角度(2θ±0. 2°)の26.2°のみに明確なX線回折ピークを示す
チタニウムフタロシアニン化合物。 2、チタニウムフタロシアニン化合物を100℃以上の
温度で加熱することを特徴とするX線回折図において、
ブラッグ角度(2θ±0.2°)の26.2°のみに明
確なX線回折ピークを示すチタニウムフタロシアニン化
合物の製造方法。 3、導電性支持体上に、電荷発生剤および電荷移動剤を
使用してなる電子写真感光体において、電荷発生剤が、
X線回折図において、ブラッグ角度(2θ±0.2°)
の26.2°のみに明確なX線回折ピークを示すチタニ
ウムフタロシアニン化合物であることを特徴とする電子
写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33280587A JPH0813941B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | チタニウムフタロシアニン化合物,その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33280587A JPH0813941B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | チタニウムフタロシアニン化合物,その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01172459A true JPH01172459A (ja) | 1989-07-07 |
JPH0813941B2 JPH0813941B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=18258999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33280587A Expired - Lifetime JPH0813941B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | チタニウムフタロシアニン化合物,その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0813941B2 (ja) |
-
1987
- 1987-12-28 JP JP33280587A patent/JPH0813941B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0813941B2 (ja) | 1996-02-14 |
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